JPH09501673A - ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶変態 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 本発明は２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶変態、前記変態の製造方法および酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化するための前記変態の使用に関する。

Description

【発明の詳細な説明】２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テト ラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］ のガンマ結晶変態 本発明は新規な２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’ ，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル ）ホスフィット］の結晶変態、前記変態の製造方法および酸化、熱もしくは光誘 発の崩壊に対して有機材料を安定化するための前記変態の用途に関する。 ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テ トラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット ］は次式Ｉ で表される化合物である。 この式Ｉの化合物は、米国特許発明明細書第４３１８８４５号および同第４３ ７４２１９号において教示されているように有機ポリマーのための加工安定剤と して有用である。式Ｉの化合物は１２１ないし１３４℃で溶融する白色粉末であ ると開示されている。粉末状の生成物は、それ自体、取扱いおよび見かけ密度の 点で欠点を有し、不十分な流動性、メテラビリティー（meterability）、貯蔵安 定性、加水分解安定度並びにポリマー基材および潤滑油との相溶性を示す。 式Ｉの化合物は、取扱性、見かけ密度、流動性、メテラビリティー、貯蔵安定 性、加水分解安定度並びにポリマー基材および潤滑油中での相溶性に関して満足 な特性を示す純粋な結晶粒子として異なる結晶変態にて得られることが今見いだ された。 新しい変態は、示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により記録された吸熱のピーク温 度により与えられるように１７８ないし１８５℃の範囲内で溶融する新規な結晶 変態により、およびＣｕ−Ｋαを使用して得られる以下の回折角（２θ）を示す Ｘ線回折図により特徴づけられる。 ピークＮｏ． 回折角 １ ５．４ ２ ６．３ ３ ８．８ ４ ９．９ ５ １０．３ ６ １０．８ ７ １１．７ ８ １３．８ ９ １４．８ １０ １５．５ １１ １６．１ １２ １７．０ １３ １７．７ １４ １８．４ １５ ２０．２ 本発明はまた、この新規な式Ｉの化合物の新規なガンマ結晶変態の製造方法に も関する。 本発明はのガンマ結晶変態の製造方法は、炭素原子数４ないし８のアルカノー ルより前記化合物を結晶化もしくは再結晶させることよりなる。 本発明の方法において有用な炭素原子数４ないし８のアルカノールの例は、１ −ブタノール、２−ブタノール、第三ブチルアルコール、イソブタノール、アミ ルアルコール、１−ヘキサノール、２−エチルヘキサノール、１−オクタノール およびこれらアルカノールの混合物である。 新規なガンマ結晶変態の好ましい製造方法は、炭素原子数４ないし８のｎ−ア ルカノールからの式Ｉの化合物を結晶化もしくは再結晶させることよりなる。 新規のガンマ結晶変態の特に好ましい製造方法は、１ −ブタノールもしくは１−オクタノールまたはそれらの混合物から式Ｉの化合物 を結晶化もしくは再結晶させることよりなる。 本発明はまた、１７８ないし１８５℃の範囲内で溶融することおよびＣｕ−Ｋ αを用いて得られた以下の回折角（２θ）を示すＸ線回折図を特徴とし、炭素原 子数４ないし８のアルカノールから化合物２，２’，２”−ニトリロ［トリエチ ル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェ ニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］を結晶化もしくは再結晶させることよ り得られる２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５， ５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホス フィット］のガンマ結晶態にも関する。 ピークＮｏ． 回折角 １ ５．４ ２ ６．３ ３ ８．８ ４ ９．９ ５ １０．３ ６ １０．８ ７ １１．７ ８ １３．８ ９ １４．８ １０ １５．５ １２ １７．０ １３ １７．７ １４ １８．４ １５ ２０．２ 本発明の式Ｉのガンマ結晶態は、酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対して有機 材料を安定化するのに非常に適している。 安定化され得る有機材料の例は以下のようなものである： １．モノオレフィンおよびジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポ リイソブチレン、ポリブテ−１−エン、ポリ−４−メチルペンテ−１−エン、ポ リイソプレンまたはポリブタジエン、ならびにシクロオレフィン例えばシクロペ ンテンまたはノルボルネンのポリマー、（所望により架橋結合できる）ポリエチ レン、例えば高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）、低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ ）および線状低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）、枝分れ低密度ポリエチレン（ ＢＬＤＰＥ）。 ポリオレフィン、すなわち先の段落中で例示したようなモノオレフィンのポリ マー、好ましくはポリエチレンおよびポリプロピレンは種々の方法、特に以下の 方法により製造できる： ａ）（通常、高圧かつ高められた温度においての）ラジカル重合 ｂ）通常１個または１個より多くの周期表のIVｂ、Ｖ ｂ、VIｂまたはVIII族の金属を含む触媒を使用する接触重合。これらの金属は通 常、１個または１個より多い配位子、典型的にはπ−配位またはσ−配位するこ とができる、酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミ ン、アルキル、アルケニルおよび／またはアリールを有する。これら金属錯体は 遊離形態にあるか支持体上に典型的には、活性化塩化マグネシウム、塩化チタン （III）、アルミナまたは酸化珪素上に固定されていてよい。これらの触媒は重 合媒体中に可溶または不溶であってよい。触媒はそれ自体だけで重合において使 用でき、または、別の活性剤、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属ア ルキルハライド、金属アルキルオキシドまたは金属アルキルオキサンを使用する ことができ、前記金属は周期表のIa、IIa および／またはIIIa族の元素である。 活性剤は都合良くは、他のエステル、エーテル、アミンもしくはシリルエーテル 基により変性され得る。 これら触媒系は通常フィリップス(Phi1lips)、スタンダードオイルインディアナ (Standard Oil Indiana)、チグラー（−ナッタ）〔Ziegler-(Natta)〕、ＴＮＺ 〔デュポン社(Dupont)〕、メタロセンまたはシングルサイト触媒（ＳＳＣ）と称 されるものである。 ２．１．に記載したポリマーの混合物、例えばポリプロピレンとポリイソブチ レンとの混合物、ポリプロピレンとポリエチレンとの混合物（例えばＰＰ／ＨＤ ＰＥ、 ＰＰ／ＬＤＰＥ）およびポリエチレンの種々のタイプの混合物（例えば、ＬＤＰ Ｅ／ＨＤＰＥ）。 ３．モノオレフィンおよびジオレフィン相互または他のビニルモノマーとのコ ポリマー、例えばエチレン／プロピレンコポリマー、線状低密度ポリエチレン（ ＬＬＤＰＥ）およびその低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）との混合物、プロピレ ン／ブテ−１−エンコポリマー、プロピレン／イソブチレンコポリマー、エチレ ン／ブテ−１−エンコポリマー、エチレン／ヘキセンコポリマー、エチレン／メ チルペンテンコポリマー、エチレン／ヘプテンコポリマー、エチレン／オクテン コポリマー、プロピレン／ブタジエンコポリマー、イソブチレン／イソプレンコ ポリマー、エチレン／アルキルアクリレートコポリマー、エチレン／アルキルメ タクリレートコポリマー、エチレン／ビニルアセテートコポリマーおよびそれら コポリマーと一酸化炭素のコポリマーまたはエチレン／アクリル酸コポリマーお よびそれらの塩類（アイオノマー）およびエチレンとプロピレンとジエン例えば ヘキサジエン、ジシクロペンタジエンまたはエチリデン−ノルボルネンのような ものとのターポリマー；ならびに前記コポリマー相互の混合物および１．に記載 したポリマーとの混合物、例えばポリプロピレン／エチレン−プロピレン−コポ リマー、ＬＤＰＥ／エチレン−ビニルアセテート（ＥＶＡ）コポリマー、ＬＤＰ Ｅ／エチレンアクリル酸（ＥＡＡ）コポリマー、ＬＬＤＰＥ／ＥＶＡ、 ＬＬＤＰＥ／ＥＡＡおよび交互またはランダムポリアルキレン／一酸化炭素−コ ポリマー；ならびに他のポリマー、例えばポリアミドとこれらの混合物。 ４．それらの水素化変性物（例えば粘着付与剤）およびポリアルキレンとデン プンの混合物を含む炭化水素樹脂（例えば炭素原子数５ないし９）。 ５．ポリスチレン、ポリ−（ｐ−メチルスチレン）、ポリ−（α−メチルスチ レン）。 ６．スチレンまたは、α−メチルスチレンとジエンもしくはアクリル誘導体と のコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン、スチレン／アクリロニトリル、ス チレン／アルキルメタクリレート、スチレン／ブタジエン／アルキルアクリレー ト、スチレン／ブタジエン／アルキルメタクリレート、スチレン／無水マレイン 酸、スチレン／アクリロニトリル／メチルアクリレート；スチレンコポリマーと 他のポリマー、例えばポリアクリレート、ジエンポリマーまたはエチレン／プロ ピレン／ジエンターポリマーとの高衝撃強度の混合物；およびスチレンのブロッ クコポリマー、例えばスチレン／ブタジエン／スチレン、スチレン／イソプレン ／スチレン、スチレン／エチレン／ブチレン／スチレン、又はスチレン／エチレ ン／プロピレン／スチレン。 ７．スチレンまたはα−メチルスチレンのグラフトコポリマー、例えばポリブ タジエンにスチレン、ポリブタジエン−スチレンまたはポリブタジエン−アクリ ロニト リルにスチレンのようなもの；ポリブタジエンにスチレンおよびアクリロニトリ ル（またはメタアクリロニトリル）；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニト リルおよびメチルメタクリレート；ポリブタジエンにスチレンおよび無水マレイ ン酸；ポリブタジエンにスチレン、アクリロニトリルおよび無水マレイン酸また はマレインイミド；ポリブタジエンにスチレンおよびマレインイミド；ポリブタ ジエンにスチレンおよびアルキルアクリレートまたはメタクリレート、エチレン ／プロピレン／ジエンターポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ポリア クリレートまたはポリメタクリレートにスチレンおよびアクリロニトリル、アク リレート／ブタジエンコポリマーにスチレンおよびアクリロニトリル、ならびに これらと６．に列挙したコポリマーとの混合物、例えばＡＢＳ、ＭＢＳ、ＡＳＡ およびＡＥＳポリマーとして知られているコポリマー混合物。 ８．ハロゲン含有ポリマー、例えばポリクロロプレン、塩素化ゴム、塩素化も しくはクロロスルホン化ポリエチレン、エチレンおよび塩素化エチレンのコポリ マー、エピクロロヒドリンホモ−およびコポリマー、特にハロゲン含有ビニル化 合物からのポリマー、例えばポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリフッ化 ビニル、およびポリフッ化ビニリデンならびにこれらのコポリマー、例えば塩化 ビニル／塩化ビニリデン、塩化ビニル／酢酸ビニルまたは塩化ビニリデン／酢酸 ビニルコポ リマー。 ９．α，β−不飽和酸、およびその誘導体から誘導されたポリマー、例えばポ リアクリレートおよびポリメタクリレート；ブチルアクリレートを用いて耐衝撃 性の改良されたポリメチルメタクリレート、ポリアクリルアミドおよびポリアク リロニトリル。 10．上記９に挙げたモノマーの相互または他の不飽和モノマーとのコポリマー 、例えばアクリロニトリル／ブタジエンコポリマー、アクリロニトリル／アルキ ルアクリレートコポリマー、アクリロニトリル／アルコキシアルキルアクリレー トまたはアクリロニトリル／ハロゲン化ビニルコポリマー、又はアクリロニトリ ル／アルキルメタクリレート／ブタジエンターポリマー。 11．不飽和アルコールおよびアミンまたはそれらのアシル誘導体またはそれら のアセタールから誘導されたポリマー、例えばポリビニルアルコール、ポリ酢酸 ビニル、ポリビニルステアレート、ポリビニルベンゾエート、ポリビニルマレエ ート、ポリビニルブチラール、ポリアリルフタレートまたはポリアリルメラミン ；ならびにそれらと上記１．に記載したオレフィンとのコポリマー。 12．環状エーテルのホモポリマーおよびコポリマー、例えばポリアルキレング リコール、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシドまたはそれらとビス グリシジルエーテルとのコポリマー。 13．ポリアセタール、例えばポリオキシメチレンおよびエチレンオキシドをコ モノマーとして含むポリオキシメチレン；熱可塑性ポリウレタン、アクリレート またはＭＢＳで変性させたポリアセタール。 14．ポリフェニレンオキシドおよびスルフィド、ならびにポリフェニレンオキ シドとポリスチレンまたはポリアミドとの混合物。 15．一方の成分としてヒドロキシ末端基を含むポリエーテル、ポリエステルま たはポリブタジエンと他方の成分として脂肪族または芳香族ポリイソシアネート とから誘導されたポリウレタンならびにその前駆物質。 16．ジアミンおよびジカルボン酸および／またはアミノカルボン酸または相当 するラクタムから誘導されたポリアミドおよびコポリアミド。例えばポリアミド ４、ポリアミド６、ポリアミド６／６、ポリアミド６／１０、ポリアミド６／９ 、ポリアミド６／１２、ポリアミド４／６およびポリアミド１２／１２、ポリア ミド１１、ポリアミド１２、ｍ−キシレンジアミン、およびアジピン酸の縮合に よって得られる芳香族ポリアミド；ヘキサメチレンジアミンおよびイソフタル酸 および／またはテレフタル酸および所望により変性剤としてのエラストマーから 製造されるポリアミド、例えはポリ−２，４，４−（トリメチルヘキサメチレン ）テレフタルアミドまたはポリ−ｍ−フェニレンイソフタルアミド；さらに、前 記ポリアミドとポリオレフィン、オレフィンコポリ マー、アイオノマーまたは化学的に結合またはグラフトしたエラストマーとのコ ポリマー；またはこれらとポリエーテル、例えばポリエチレングリコール、ポリ プロピレングリコールまたはポリテトラメチレングリコールとのコポリマー；な らびにＥＰＤＭまたはＡＢＳで変性させたポリアミドまたはコポリアミド；加工 の間に縮合させたポリアミド（ＲＩＭ−ポリアミド系）。 17．ポリ尿素、ポリイミド、ポリアミド−イミドおよびポリベンズイミタゾー ル。 18．ジカルボン酸およびジオールから、および/ またはヒドロキシカルボン酸 または相当するラクトンから誘導されたポリエステル、例えばポリエチレンテレ フタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリ−１，４−ジメチロール−シク ロヘキサンテレフタレート、およびポリヒドロキシベンゾエートならびにヒドロ キシ末端基を含有するポリエーテルから誘導されたブロック−コポリエーテル− エステル；およびまたポリカーボネートまたはＭＢＳにより改良されたポリエス テル。 19．ポリカーボネートおよびポリエステル−カーボネート。 20．ポリスルホン、ポリエーテルスルホンおよびポリエーテルケトン。 21．一方でアルデヒドから、および他方でフェノール、尿素またはメラミンか ら誘導された架橋ポリマー、例えばフェノール／ホルムアルデヒド樹脂、尿素／ ホル ムアルデヒド樹脂およびメラミン／ホルムアルデヒド樹脂。 22．乾性もしくは非乾性アルキド樹脂。 23．飽和および不飽和ジカルボン酸と多価アルコールおよび架橋剤としてビニ ル化合物とのコポリエステルから誘導された不飽和ポリエステル樹脂および燃焼 性の低いそれらのハロゲン含有変成物。 24．置換アクリル酸エステル、例えばエポキシアクリレート、ウレタンアクリ レートまたはポリエステル−アクリレートから誘導された架橋性アクリル樹脂。 25．メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリイソシアネートまたはエポキシ樹脂で架橋 させたアルキド樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリレート樹脂。 26．ポリエポキシド、例えばビスグリシジルエーテルから、または環状脂肪族 ジエポキシドから誘導された架橋エポキシ樹脂。 27．天然ポリマー、例えば、セルロース、ゴム、ゼラチンおよびそれらを化学 変性した同族誘導体、例えば酢酸セルロース、プロピオン酸セルロースおよび酪 酸セルロース、およびセルロースエーテル、例えばメチルセルロース；ならびに ロジンおよびそれらの誘導体。 28．前述のポリマーの混合物（ポリブレンド）、例えばＰＰ／ＥＰＤＭ、ポリ アミド／ＥＰＤＭまたはＡＢＳ、ＰＶＣ／ＥＶＡ、ＰＶＣ／ＡＢＳ、ＰＶＣ／Ｍ ＢＳ、ＰＣ／ＡＢＳ、ＰＢＴＰ／ＡＢＳ、ＰＣ／ＡＳＡ、 ＰＣ／ＰＢＴ、ＰＶＣ／ＣＰＥ、ＰＶＣ／アクリレート、ＰＯＭ／熱可塑性ＰＵ Ｒ、ＰＣ／熱可塑性ＰＵＲ、ＰＯＭ／アクリレート、ＰＯＭ／ＭＢＳ、ＰＰＯ／ ＨＩＰＳ、ＰＰＯ／ＰＡ６．６およびコポリマー、ＰＡ／ＨＤＰＥ、ＰＡ／ＰＰ 、ＰＡ／ＰＰＯ。 29．純粋なモノマー化合物またはそれらの混合物からなる天然および合成有機 材料、例えば鉱油、動物または植物脂肪、オイルおよびワックスまたは合成エス テル（例えばフタレート、アジペート、ホスフェートまたはトリメリテート）に 基づいたオイル、脂肪およびワックス、ならびにポリマー用可塑剤として、また は紡糸製剤油として用いられているいかなる重量比での合成エステルと鉱油との 混合物、ならびにそれら材料の水性エマルジョン。 30．天然または合成ゴムの水性エマルジョン、例えば天然ラテックス、または カルボキシル化スチレン／ブタジエンコポリマーのラテックス。 31．ポリシロキサン、例えば、米国特許明細書第４２５９４６７号において記 載されている、軟質、親水性のポリシロキサン、および例えば、米国特許明細書 第４３５５１４７号において記載されている、硬質ポリオルガノシロキサン。 32．不飽和アクリル性ポリアセトアセテート樹脂もしくは不飽和アクリル樹脂 と組み合わさったポリケチミン。 不飽和アクリル樹脂にはウレタンアクリレート、ポリ エーテルアクリレート、不飽和側基を持つビニルもしくはアクリルコポリマーお よびアクリル化メラミンが含まれる。ポリケチミンは酸触媒の存在下においでポ リアミンおよびケトンより製造される。 33．エチレン性不飽和モノマーもしくはオリゴマーおよびポリ不飽和脂肪族オ リゴマーを含有する放射線硬化組成物。 34．エポキシメラミン樹脂、例えばエポキシ反応性コエーテル化ハイソリッド メラミン樹脂例えばＬＳＥ−４１０３（モンサント）により架橋されている光安 定性エポキシ樹脂。 従って、本発明はまた（ａ）酸化、熱もしくは光により誘発された崩壊を受け やすい有機材料および（ｂ）２，２’，２”−ニトリロ［リエチル−トリス−（ ３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’ −ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態よりなる組成物にも関する。 好ましくは、保護されるべき有機材料は、天然、半合成もしくは、好ましくは 合成有機材料である。熱可塑性プラスチックポリマー、特にＰＶＣもしくはポリ オレフィン、特にポリエチレンおよびポリプロピレンが特に好ましくは与えられ る。 好ましい有機材料はまた、滑剤、潤滑油、天然脂肪もしくはワックス、または 合成エステルをベースとした脂肪もしくはワックスである。 特に、例えば熱可塑性プラスチックの加工中に生じるような熱応力下の、熱お よび酸化的崩壊に対する本発明の化合物の作用は特に注目すべきである。従って 、本発明の化合物は加工安定剤としての使用に非常に適している。 好ましくは、本発明の２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３ ，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’− ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態は、安定化される有機材料の重量に関し て、０．０１ないし１０重量％、例えば０．０１ないし５重量％、好ましくは０ ．０５ないし３重量％、特に０．０５ないし１重量％の量で安定化される材料に 添加される。 本発明の組成物は、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３， ３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジ イル）ホスフィット］のガンマ結晶態に加えて、他の補助安定剤、例えば以下の ものを含有する。１．抗酸化剤 １．１ アルキル化モノフェノール 、例えば ２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 ２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 ２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、 ２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メ チル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′− メチル−ヘプタデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１ ′−メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそれらの混合物。１．２．アルキルチオメチルフェノール、 例えば ２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オ クチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル− ６−エチルフェノールおよび２，６−ジ−ドデシルヂオメチル−４−ノニルフェ ノール。１．３．ハイドロキノンとアルキル化ハイドロキノン、 例えば ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 ２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、 ２，５−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、 ２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノー ル、２，６−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４− ヒドロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、 ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５ −ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。１．４．ヒドロキシル化チオジフェニルエーデル、 例えば ２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２′−チ オビス（４−オクチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３ −メチルフェノール）、４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェ ノール）、４，４′−チオ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４ ，４′−ビス（２，６−ジメチル−４−ヒドロキシフェニール）−ジスルフィド 。１．５．アルキリデンビスフェノール 、例えば ２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、２，２ ′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、２，２′−メ チレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フェノール］、 ２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェノール）、２ ，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノ−ル）、２，２′−メ チレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフ ェノール）、２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール ）、２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール ）、２，２′−メチレン−ビス［６−（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェ ノール］、２，２′−メチレン−ビス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４ −ノニルフェノール］、４，４′−メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフ ェノール）、４，４′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノー ル）、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル） ブタン、２，６−ビス（３−第三ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル ）−４−メチルフェノール、１，１，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロ キシ−２−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒド ロキシ−２−メチルフェニル）−３−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、エチレン グリコールビス［３，３−ビス（３′−第三ブチル−４′−ヒドロキシフェニル ）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル ）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒドロキシ− ５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレフタレー ト、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタン、２， ２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２， ２−ビス（４ −ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロ キシ−２−メチルフェニル）−４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、および１， １，５，５−テトラ−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル ）ペンタン。１．６．Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、 例えば ３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジル エーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカ プトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル ）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ ル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ ベンジル）−スルフィドおよびイソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンジル−メルカプトアセテート。１．７．ヒドロキシベンジル化マロネート、 例えば ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベン ジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキ シ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２， ２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、 およびビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２ ，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４− ヒドロキシベンジル）−マロネート。１．８．ヒドロキシベンジル芳香族化合物、 例えば １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２ ，４，６−トリメヂルベンゼン、１，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４− ヒドロキシベンジル）−２，３，５，６−テトラメチルベンゼンおよび２，４， ６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール 。１．９．トリアジン化合物、 例えば、 ２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド ロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２−オクチルメルカプト−４，６ −ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−１，３，５−ト リアジン、２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル− ４−ヒドロキシフェノキシ）-１，３，５−トリアジン、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）− １，２，３−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イ ソシアヌレート、 １，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン ジル）−イソシアヌレート、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル ）−１，３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１，３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）− イソシアヌレート。１．１０．ベンジルホスホネート、 例えば、 ２，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸＝ジメチル、３ ，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸＝ジエチル、３， ５−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホン酸＝ジオクタ デシル、５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホン 酸ジオクタデシル、３，５−ジ−第三−ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホ ン酸モノエチルエステルのカルシウム塩。１．１１． アシルアミノフェノール 、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチ ルエステル。１．１２． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ オン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレング リコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキ シエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジ アミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキ サンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ −２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１３． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プ ロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト リメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１４． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プ ロピオン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６− ヘキサンジオール、１，９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プ ロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチ レングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒ ドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュ ウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチ ルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホ スファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１５． ３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一 価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト リメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１．１６．β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ キシフェニル）プロピオン酸のアミド 、 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ ピオニル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル −４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ′−ビ ス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジ ン。２． 紫外線吸収剤および光安定剤 ２．１ ２−（２′−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール 、例えば、 ２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（ ３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール 、 ２−（５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２ −（２’−ヒドロキシ−５’−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェニ ル）ベンゾトリアゾール、２−（３’，５’−ジ−第三ブチル−２’−ヒドロキ シフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’ −ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２− （３’−第二ブチル−５’−第三ブチル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾト リアゾール、 ２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２ −（３’，５’−ジ−第三アミル−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾ ール、 ２−（３’，５’−ビス（α，α−ジメチルベンジル）−２’−ヒドロキシフェ ニル）ベンゾトリアゾール； ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２’−オクチルオキシカ ルボニルエチル）フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第 三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カルボニルエチル］−２ ’−ヒドロキシフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（３’−第三 ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニルエチル）フェニル ）−５−クロロベンゾトリアゾール、 ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−メトキシカルボニル エチル）フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３’−第三ブチル−２’−ヒド ロキシ−５’−（２−オクトキシカルボニルエチル）フェニル）ベンゾトリアゾ ール、２−（３’−第三ブチル−５’−［２−（２−エチルヘキシルオキシ）カ ルボニルエチル］−２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（３ −ドデシル−２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、 および ２−（３’−第三ブチル−２’−ヒドロキシ−５’−（２−イソオクチルオキシ カルボニルエチル）フェニルベンゾトリアゾールの混合物、２，２’−メチレン −ビス［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−ベンゾトリアゾー ル−２−イルフェノール］；２−［３’−第三ブチル−５’−（２−メトキシカ ルボニルエ チル）−２’−ヒドロキシフェニル］ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコ ール３００とのエステル交換生成物；［Ｒ−ＣＨ₂ＣＨ₂−ＣＯＯ（ＣＨ₂）₃−］₂ −（式中，Ｒ＝３’−第三ブチル−４’−ヒドロキシ−５’−２Ｈ−ベンゾト リアゾール−２−イル−フェニルである。）。２．２．２−ヒドロキシ−ベンゾフェノン 、例えば ４−ヒドロキシ−、４−メトキシ−、４−オクトキシ−、４−デシルオキシ−、 ４−ドデシルオキシ−、４−ベンジルオキシ−、４，２′，４′−トリヒドロキ シ−または２′−ヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ誘導体。２．３． 置換されたおよび非置換安息香酸のエステル 、例えば ４−第三ブチルフェニル＝サリチレート、フェニル＝サリチレート、オクチルフ ェニル＝サリチレート、ジベンゾイルレゾルシノール、ビス（４−第三ブチルベ ンゾイル）レゾルシノール、ベンゾイルレゾルシノール、 ２，４−ジ−第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベ ンゾエート、ヘキサデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエ ート、オクタデシル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、 ２−メチル−４，６−ジ第三ブチルフェニル＝３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンゾエート。２．４． アクリレート 、例えば エチルα−シアノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、イソオクチルα−シア ノ−β，β−ジフェニル−アクリレート、メチルα−カルボメトキシ−シンナメ ート、メチルα−シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、ブチルα −シアノ−β−メチル−ｐ−メトキシ−シンナメート、メチルα−カルボメトキ シ−ｐ−メトキシシンナメート、および Ｎ−（β−カルボメトキシ−β−シアノビニル）−２−メチルインドリン。２．５． ニッケル化合物 ，例えば ２，２′−チオビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェノ ール］のニッケル錯体，例えば１：１または１：２錯体であって，ｎ−ブチルア ミン、トリエタノールアミンもしくはＮ−シクロヘキシル−ジ−エタノールアミ ンのような他の配位子を伴うものおよび伴わないもの、ニッケルジブチルジチオ カルバメート、４−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチルベンジルホスホン酸モ ノアルキルエステル例えばメチルもしくはエチルエステルのニッケル塩、ケトキ シム例えば、２−ヒドロキシ−４−メチル−フェニルウンデシルケトキシムのニ ッケル錯体、１−フェニル−４−ラウロイル−５−ヒドロキシピラゾールのニッ ケル錯体であって，所望により他の配位子を伴うもの。２．６．立体障害性アミン 、例えば ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（２，２， ６，６−テトラメチルピペリジル）サクシネート、ビス（１，２，２，６，６− ペンタメチルピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチ ルピペリジル）ｎ−ブチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル− ４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との縮合生成物、Ｎ，Ｎ′−ビス（２，２ ，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミンと４−第三 オクチルアミノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−ｓ−トリアジンとの縮合生成 物、トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ニトリロトリア セテート、テトラキス（２，２，６，６−デトラメチル−４−ピペリジル）−１ ，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、１，１′−（１，２−エタンジ イル）−ビス（３，３，５，５−テトラメチルピペラジノン）、４−ベンゾイル −２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ステアリルオキシ−２，２， ６，６−テトラメチルピペリジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピ ペリジル）−２−ｎ−ブチル−２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−第三ブチル −ベンジル）マロネート、３−ｎ−オクチル−７，７，９，９−テトラメチル− １，３，８−トリアザスピロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、ビス（１−オ クチルオキシ−２， ２，６，６−テトラメチルピペリジル）セバケート、ビス（１−オクチルオキシ −２，２，６，６−デトラメチルピペリジル）サクシネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（ ２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−ヘキサメチレンジアミンと ４−モルホリノ−２，６−ジクロロ−１，３，５−トリアジンとの縮合生成物、 ２−クロロ−４，６−ジ（４−ｎ−ブチルアミノ−２，２，６，６−テトラメチ ルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと１，２−ビス（３−アミノプロピル アミノ）エタンの縮合生成物、２−クロロ−４，６−ジ（４，６−ブチルアミノ −１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）−１，３，５−トリアジンと １，２−ビス（３−アミノプロピルアミノ）エタンとの縮合生成物、８−アセチ ル−３−ドデシル−７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザスピ ロ［４．５］デカン−２，４−ジオン、３−ドデシル−１−（２，２，６，６− テトラメチル−４−ピペリジル）ピロリジン−２，５−ジオン、３−ドデシル− １−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−ピロリジン−２ ，５−ジオン。２．７． オキサミド 、例えば ４，４′−ジオクチルオキシオキサニリド、 ２，２′−ジオクチルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２，２′− ジドデシルオキシ−５，５′−ジ−第三ブトキサニリド、２−エトキシ−２′− エトキ サニリド、Ｎ，Ｎ′−ビス（３−ジメチルアミノプロピル）オキサミド、２−エ トキシ−５−第三ブチル−２′−エチルオキサニリドおよび該化合物と２−エト キシ−２′−エチル−５，４′−ジ−第三ブトキサニリドとの混合物、ｏ−およ びｐ−メトキシ−二置換オキサニリドの混合物およびｏ−およびｐ−エトキシ− 二置換オキサニリドの混合物。２．８．２−（２−ヒドロキシフェニル）−１，３，５−トリアジン 、例えば ２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３ ，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４ ，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２ ，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）− １，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−プロピルオキシ フェニル）−６−（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２ −（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−４，６−ビス（４−メチ ルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−ドデシル オキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５− トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−ブチルオキシ −プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）− １，３， ５−トリアジン、２−［２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−オクチル オキシ−プロピルオキシ）フェニル］−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニ ル）−１，３，５−トリアジン。３． 金属不活性化剤 ，例えば Ｎ，Ｎ′−ジフェニルシュウ酸ジアミド、Ｎ−サリチラル−Ｎ′−サリチロイル ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（サリチロイル）ヒドラジン、Ｎ，Ｎ′−ビス（３ ，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）ヒドラジン、３ −サリチロイルアミノ−１，２，４−トリアゾール、ビス（ベンジリデン）シュ ウ酸ジヒドラジド、オキサニリド、イソフタル酸ジヒドラジド、セバシン酸−ビ ス−フェニルヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ジアセタール−アジピン酸ジヒドラジド、 Ｎ，Ｎ’−ビス−サリチロイル−シュウ酸ジヒドラジド、Ｎ，Ｎ’−ビス−サリ チロイル−チオプロピオン酸ジヒドラジド。４． ホスフィットおよびホスホナイト 、例えば トリフェニルホスフィット、ジフェニルアルギルホスフィット、フェニルジアル キルホスフィット、トリス（ノニルフェニル）ホスフィット、トリラウリルホス フィット、トリオクタデシルホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトール ジホスフィット、トリス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）ホスフィット、ジ イソデシルペンタエリトリトールジホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチ ルフェニル）−ペンタエリトリトールジホス フィット、ビス（２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェニル）−ペンタエリ トリトールジホスフィット、ビス−イソデシルオキシ−ペンタエリトリトールジ ホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三ブチル−６−メチルフェニル）−ペンタ エリトリトールジホスフィットビス（２，４，６−トリ−第三ブチル−ブチルフ ェニル）−ペンタエリトリトールジホスフィット、トリスデアリルソルビトール トリホスフィット、テトラキス（２，４−ジ−第三ブチルフェニル）４，４′− ビフェニレンジホスホナイト、６−イソオクチルオキシ−２，４，８，１０−テ トラ−第三ブチル−１２Ｈ−ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホ シン、６−フルオロ−２，４，８，１０−テトラ−第三ブチル−１２−メチル− ジベンズ［ｄ，ｇ］−１，３，２−ジオキサホスホシン、ビス（２，４−ジ−第 三ブチル−６−メチルフェニル）メチルホスフィット、ビス（２，４−ジ−第三 ブチル−６−メチルフェニル）エチルホスフィット。５． 過酸化物スカベンジャー 、例えば β−チオジプロピオン酸のエステル、例えばラウリル、ステアリル、ミリスチル またはトリデシルエステル、メルカプトベンズイミダゾール、または２−メルカ プトベンズイミダゾールの亜鉛塩、ジブチルジチオカルバミン酸亜鉛、ジオクタ デシルジスルフィド、ペンタエリトリトールテトラキス（β−ドデシルメルカプ ト）プロピオネート。６．ヒドロキシルアミン、 例えば Ｎ，Ｎ−ジベンジルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルヒドロキシルアミン 、Ｎ，Ｎ−ジオクチルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジラウリルヒドロキシルア ミン、Ｎ，Ｎ−ジテトラデシルヒドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジヘキサデシルヒ ドロキシルアミン、Ｎ，Ｎ−ジオクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘキサデ シル−Ｎ−オクタデシルヒドロキシルアミン、Ｎ−ヘプタデシル−Ｎ−オクタデ シルヒドロキシルアミン、水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキル ヒドロキシルアミン７． ニトロン、 例えば Ｎ−ベンジル−アルファ−フェニルニトロン、Ｎ−エチル−アルファ−メチルニ トロン、Ｎ−オクチル−アルファ−ヘプチルニトロン、Ｎ−ラウリル−アルファ −ウンデシルニトロン、Ｎ−テトラデシル−アルファ−トリデシル−ニトロン、 Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アル ファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−ヘキサデシル−アルファ−ヘプタデシルニト ロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ペンタデシルニトロン、Ｎ−ヘプタデシル −アルファ−ヘプタデシルニトロン、Ｎ−オクタデシル−アルファ−ヘキサデシ ルニトロン、水素化牛脂アミンより誘導されたＮ，Ｎ−ジアルキルヒドロキシル アミンより誘導されたニトロン８． ポリアミド安定剤 、例えば ヨウ化物および／またはリン化合物と組合せた銅塩、および二価マンガンの塩。９． 塩基性補助安定剤 、例えば メラミン、ポリビニルピロリドン、ジシアンジアミド、トリアリルシアヌレート 、尿素誘導体、ヒドラジン誘導体、アミン、ポリアミド、ポリウレタン、高級脂 肪酸のアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、例えばステアリン酸Ｃａ塩、 ステアリン酸Ｚｎ塩、ベヘン酸Ｍｇ塩、ステアリン酸Ｍｇ塩、リシノール酸Ｎａ 塩およびパルミチン酸Ｋ塩、カテコールアンチモン塩およびカテコール錫塩。１０．核剤 、例えば ４−第三ブチル安息香酸、アジピン酸、ジフェニル酢酸。１１．充填剤および強化剤 、例えば 炭酸カルシウム、ケイ酸塩、ガラス繊維、アスベスト、タルク、カオリン、雲母 、硫酸バリウム、金属酸化物および水酸化物、カーボンブラック、グラファイト 。１２．その他の添加剤 、例えば 可塑剤、滑剤、乳化剤、顔料、蛍光増白剤、難燃剤、静電防止剤および発泡剤。１３．ベンゾフラノンまたはインドリノン 、例えば 米国特許発明明細書４３２５８６３号、同第４３３８２４４号または同第５１ ７５３１２号に記載されているものまたは３−［４−（２−アセトキシエトキシ ）フェ ニル］−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン、５，７−ジ−第三 ブチル−３−［４−（２−ステアロイルオキシエトキシ）フェニル］ベンゾフラ ノ−２−オン、３，３’−ビス［５，７−ジ−第三ブチル−３−（４−［２−ヒ ドロキシエトキシ］フェニル）ベンゾフラノ−２−オン］、５，７−ジ−第三ブ チル−３−（４−エトキシフェニル）ベンゾフラノ−２−オン、３−（４−アセ トキシ−３，５−ジメチルフェニル）−５，７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ −２−オン、３−（３，５−ジメチル−４−ピバロイルオキシフェニル）−５， ７−ジ−第三ブチル−ベンゾフラノ−２−オン。 項１３おいて記載されたベンゾフラノンを除いて、補助安定剤は例えば安定化 されるべき材料の全重量に対して、０．０１ないし１０％の濃度において添加さ れる。 他の好ましい組成物は、成分（ａ）および（ｂ）に加えて他の添加剤に、特に フェノール系抗酸化剤、光安定剤もしくは加工安定剤を含む。 特に好ましい添加剤は、フェノール系抗酸化剤（項１）、立体障害アミン（項 ２．６）、ホスフィットおよびホスホナイト（項４）および過酸化物分解化合物 （項５）である。 また特に好ましい付加的な添加剤（安定剤）は、ベンゾフラン−２−オン、例 えば米国特許発明明細書第４３２５８６３号、同第４３３８２４４号もしくは同 第５１７５３１２号において記載されている。 ベンゾフラン−２−オンの例は次式 ［式中、Ｒ₁₁はフェニル基もしくは一緒になって多くとも１８個の炭素原子を有 する１ないし３個のアルキル基、１ないし１２個の炭素原子を有するアルコキシ 基、２ないし１８個の炭素原子を有するアルコキシカルボニル基もしくは塩素原 子により置換されたフェニル基を表し； Ｒ₁₂は水素原子を表し； Ｒ₁₄は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチ ル基、シクロヘキシル基もしくは塩素原子を表し； Ｒ₁₃はＲ₁₂もしくはＲ₁₄の意味を有するかもしくは次式 で表される基を表し； Ｒ₁₆は水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、酸素原子もし くは硫黄原子により中断された２ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、 全部で３ないし１６個の炭素原子を有するジアルキルアミノアルキル基、シクロ ペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基もしくは一緒になって多くとも１８ 個の炭素原子を有する１ないし３個のアルキル基により置換されたフェニル基を 表し； ｎは０、１もしくは２を表し； 置換基Ｒ₁₇は互いに独立して水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアル キル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、一緒になって多く とも１６個の炭素原子を有する１もしくは２個のアルキル基により置換されたフ ェニル基、−Ｃ₂Ｈ₄ＯＨ、−Ｃ₂Ｈ₄−Ｏ−Ｃ_mＨ_2m+1もしくは次式 で表される基またはそれらが結合する窒素原子と一緒になってピペリジンもしく はモルホリン基を形成し； ｍは１ないし１８を表し； Ｒ₂₀は水素原子、１ないし２２個の炭素原子を有するアルキル基もしくは５ない し１２個の炭素原子を有するシクロアルキル基を表し； Ａは窒素原子、酸素原子もしくは硫黄原子により中断された２ないし２２個の炭 素原子を有するアルキレン基を表し； Ｒ₁₈は水素原子、１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチ ル基、シクロヘキシル基、フェニル基、一緒になって多くとも１６個の炭素原子 を有する１もしくは２個のアルキル基により置換されたフェニル基、もしくはベ ンジル基を表し； Ｒ₁₉は１ないし１８個の炭素原子を有するアルキル基を表し； Ｄは−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、−ＳＯ₂−もしくは−Ｃ（Ｒ₂₁）₂−を表し； 置換基Ｒ₂₁は互いに独立して、水素原子、炭素原子数１ないし１６のアルキル基 を表すかまたは２個のＲ₂₁が一緒になって１ないし１６個の炭素原子を含有し、 Ｒ₂₁はさらにフェニル基もしくは次式 （式中、ｎ、Ｒ₁₆およびＲ₁₇は前記の意味を表す。）で表される基を表し、 Ｅは次式 （式中、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂およびＲ₁₄は前記の意味を表す。）で表される基を表し；お よび Ｒ₁₅は水素原子、１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチ ル基、シクロヘキシル基、塩素原子もしくは次式 （式中、Ｒ₁₆およびＲ₁₇は前記の意味を表す。）で表される基を表し、もしくは Ｒ₁₅はＲ₁₄と一緒になってテトラメチレン基を形成する。］で表される化合物で ある。 好ましいものは、Ｒ₁₃は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキ ル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、塩素原子もしくは次式 もしくは−Ｄ−Ｅ（式中、ｎ、Ｒ₁₆、Ｒ₁₇、Ｄおよび Ｅは前記の意味を表す。）で表される基を表し、Ｒ₁₆は特に水素原子、１ないし １８個の炭素原子を有するアルキル基、シクロペンチル基もしくはシクロヘキシ ル基を表すところのベンゾフラン−２−オンにより与えられる。 さらに好ましいものは、Ｒ₁₁はフェニル基もしくは一緒になって多くとも１２ 個の炭素原子を有する１もしくは２個のアルキル基により置換されたフェニル基 を表し；Ｒ₁₂は水素原子を表し； Ｒ₁₄は水素原子もしくは１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基を表し； Ｒ₁₃は水素原子、１ないし１２個の炭素原子を有するアルキル基、次式 もしくは−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ₁₅は水素原子もしくは１ないし２０個の炭素原子を 有するアルキル基、次式 を表し、もしくはＲ₁₅はＲ₁₄と一緒になってテトラメチレン基を表し、ｎ、Ｒ₁₆ 、Ｒ₁₇、ＤおよびＥは前記の意味を表すところのベンゾフラン−２−オンにより 与え られる。 特に興味のあるものは、Ｒ₁₁はフェニル基を表し；Ｒ₁₃は水素原子、１ないし １２個の炭素原子を有するアルキル基もしくは−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ₁₂およびＲ₁₄ は互いに独立して、水素原子もしくは１ないし４個の炭素原子を有するアルキル 基を表し；およびＲ₁₅は１ないし２０個の炭素原子を有するアルキル基を表し； ＤおよびＥは前記の意味を表すところのベンゾフラン−２−オンである。 最後にとりわけ興味のあるものは、Ｒ₁₁はフェニル基を表し；Ｒ₁₃は１ないし ４個の炭素原子を有するアルキル基もしくは−Ｄ−Ｅを表し；Ｒ₁₂およびＲ₁₄は 水素原子を表し；およびＲ₁₅は１ないし４個の炭素原子を有するアルキル基、シ クロペンチル基もしくはシクロヘキシル基を表し；Ｄは−Ｃ（Ｒ₂₁）₂−で表さ れる基を表し、およびＥは次式 で表される基を表し、置換基Ｒ₂₁は互いに同一もしくは異なりかつ各々１ないし ４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、およびＲ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₄およびＲ₁₅ は前記 の意味を表すところのベンゾフラン−２−オンである。 付加的な添加剤、特に安定剤、例えば上述のベンゾフラン−２−オンの量は、 幅広く変化し得る。例えば、その０．０００５ないし１０、好ましくは０．００ １ないし５、特に０．０１ないし２重量％が本発明の組成物中に存在し得る。 ２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’− テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィッ ト］のガンマ結晶態および所望により、他の添加剤の有機ポリマー化合物への混 和は、例えば成形前もしくは成形中に知られている方法により行われるかまたは 溶解もしくは分散した化合物をポリマー有機材料に塗布し、適当ならば続いて溶 媒をゆっくりと蒸発することにより行われ得る。本発明のガンマ結晶態はまたそ れらを例えば２．５ないし２５重量％の濃度で含有するマスターバッチの形態に おいて、安定化されるべき材料にもまた添加され得る。 本発明のガンマ結晶変態は重合前もしくは重合中、または架橋の前に添加でき る。 本発明のガンマ結晶変態は純粋な形態またはワックス、油もしくはポリマー中 に封入された形態で安定化されるべき材料中に混和できる。 本発明のガンマ結晶変態はまた安定化されるべきポリマーに噴霧され得る。そ れらは他の添加剤（例えば、上 記の慣用の添加剤）もしくは溶融体を希釈し得るので、安定化されるべきポリマ ー上にこれらの添加剤と共に噴霧され得る。重合触媒の失活中における噴霧によ る添加が特に有利であり、例えば失活のために使用された蒸気を噴霧に使用する ことも可能である。 ビーズ重合化ポリオレフィンの場合においで、本発明のガンマ結晶変態を、所 望により他の添加剤と一緒に噴霧により塗布することが都合良い。従って安定化 された材料は広範囲の形態において、例えばフィルムとして、繊維として、テー プとして、成形品組成物として、形材としてもしくはペイント、接着剤もしくは セメントの結合剤として使用される。 すでに前記したように、保護されるべき有機材料は好ましくは有機、特に合成 ポリマーである。これらの中で、保護される材料は特に都合良くは熱可塑性材料 、特にポリオレフィンである。加工安定剤（熱安定剤）としての２，２’，２’ ’−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブ チル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶 態の良好な効果は特に注目されるべきである。このために、その加工前もしくは 最中にポリマーに添加することが都合良い。しかしながら他のポリマー（例えば 、エラストマー）もしくは滑剤もしくは作動液を崩壊、例えば光誘発の崩壊もし くは熱−酸化崩壊に対して安定化することも可能である。エラストマーについて は可能な有機材料の上記リストを参照されたい。 適当な滑剤および作動液は、例えば鉱油もしくは合成油もしくはそれらの混合 物をベースとするものである。滑剤は当業者に知られており、そして関連する技 術文献、例えばDieter Klamann，"Schmierstoffe und verwandte Produktｅ"(Ve rlag Chemie,Weinheim 1982)、Schewe- Kobek，"Das Schmier-mittｅl-Taschenb uch"(Dr.Alfred 85-94(Verlag Chemie,Weinheim,1977) 中において記載されている。 従って、本発明の好ましい態様は２，２’，２’’−ニトリロ［トリエチル− トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル −２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態の酸化、熱もしくは光誘発 の崩壊に対する有機材料の安定化のための使用である。 本発明のガンマ結晶変態は、好ましくは熱可塑性ポリマーの加工安定剤（熱安 定剤）として使用される。 本発明はまた、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’ ，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル ）ホスフィット］のガンマ結晶態を有機材料に混和するかもしくは塗布すること よりなる酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化する方法を提 供する。 特に興味深いフェノール系酸化防止剤は以下の群から選択される： ｎ−オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、 ネオペンタンテトライルテトラキス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒ ドロシンナメート）、ジ−ｎ−オクタデシル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ キシベンジルホスホネート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４− ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、チオジエチレンビス（３，５−ジ第三 ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、１，３，５−トリメチル−２， ４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、 ３，６−ジオキサオクタメチレンビス（３−メチル−５−第三ブチル−４−ヒド ロキシヒドロシンナメート）、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，２ ’−エチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（ ２，６−ジメチル−４−第三ブチル−３−ヒドロキシベンジテル）イソシアヌレ ート、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェ ニル）ブタン、１，３，５−トリス〔２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ キシヒドロシンナモイルオキシ）エチル〕イソシアヌレート、３，５−ジ（３， ５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）メシトール、ヘキサメチレンビス （３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、 １−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシアニリノ）−３，５−ジ（オクチ ルチオ）−ｓ−トリアジン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレン−ビス（３，５−ジ第三 ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナムアミド）、カルウシムビス（エチル３， ５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート）、エチレンビス〔３ ，３−ジ（３−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブチレート〕、オクチル ３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルメルカプトアセテート、ビス（ ３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナモイル）ヒドラジド、およ びＮ，Ｎ’−ビス〔２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナ モイルオキシ）−エチル〕オキサミド。 最も好ましいフェノール系酸化防止剤はネオペンタンテトライルテトラキス（ ３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート）、ｎ−オクタデシ ル３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナメート、１，３，５−ト リメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジ ル）ベンゼン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ ンジル）イソシアヌレート、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾールまたは２， ２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）である。 特に興味深いヒンダードアミン化合物は以下の群から選択される：ビス（２， ２，６，６−テトラメチルピペ リジン−４−イル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペ リジン−４−イル）セバケート、ジ（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリ ジン−４−イル）（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ブチルマ ロネート、４−ベンゾイル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、４−ス テアリルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、３−ｎ−オクチル −７，７，９，９−テトラメチル−１，３，８−トリアザ−スピロ〔４．５］デ カン−２，４−ジオン、トリス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４ −イル）ニトリロトリアセテート、１，２−ビス（２，２，６，６−テトラメチ ル−３−オキソピペラジン−４−イル）エタン、２，２，４，４−デトラメチル −７−オキサ−３，２０−ジアザ−２１−オキソジスピロ〔５．１．１１．２〕 ヘンエイコサン、２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン と４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペ リジン）との重縮合物、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テト ラメチル−４−ヒドロキシピペリジンとコハク酸との重縮合物、４，４’−ヘキ サメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン）と１，２ −ジブロモエタンとの重縮合物、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチルピ ペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラ キス（１，２，２， ６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル）１，２，３，４−ブタンテトラカ ルボキシレート、２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリアジンと４，４ ’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン） と重縮合物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’−テトラキス〔（４，６−ビス（ブチル− ２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）−アミノ−ｓ−トリアジ ン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ−４，７−ジアザデカン、混合された〔２ ，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル／β，β，β’，β’−テト ラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕−ウン デカン）ジエチル〕１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、混合され た〔１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン−４−イル／β，β，β’， β’−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５． ５〕−ウンデカン）ジエチル〕１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート 、オクタメチレンビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−カルボ キシレート）、４，４’−エチレンビス（２，２，６，６−テトラメチルピペラ ジン−３−オン）、およびビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラ メチルピペリジン−４−イル）セバケート。 最も好ましいヒンダードアミン化合物はビス（２，２，６，６−テトラメチル ピペリジン−４−イル）セバ ケート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４− ヒドロキシピペリジンとコハク酸との重縮合物、２，４−ジクロロ−６−第三オ クチルアミノ−ｓ−トリアジンと４，４’−ヘキサメチレンビス（アミノ−２， ２，６，６−テトラメチルピペリジン）と重縮合物、Ｎ，Ｎ’，Ｎ”，Ｎ”’− デトラキス〔（４，６−ビス（ブチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジ ン−４−イル−アミノ）−ｓ−トリアジン−２−イル〕−１，１０−ジアミノ− ４，７−ジアザデカン、またはビス（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テ トラメチルピペリジン−４−イル）セバケートである。 潤滑油は鉱油、合成油またはそのような油のあらゆる混合物であってよい。鉱 油が好ましく、そしてこれらの例はパラフィン系炭化水素油、例えば４０℃で４ ６ｍｍ² ／ｓの粘度を有する鉱油； "150 Solvent Neutral" ４０℃で３２ｍｍ² ／ｓの粘度を有する溶媒精製された中性鉱油；および"solvent bright-stocks" 鉱油の精製過程から得られ、そして４０℃で４６ｍｍ² ／ｓの粘度を有する高沸 点残留物を包含する。 存在し得る合成潤滑油は合成炭化水素、例えばポリブテン、アルキルベンゼン およびポリα−オレフィンならびに単純なジ−、トリ−およびテトラ−エステル 、複合エステルおよび次式：Ｇ₁−ＯＣＣ−アルキレン−ＣＯＯＧ₂ （式中、「 アルキレン」は炭素原子数２ないし１ ４のアルキレン残基を意味し、そしてＧ₁およびＧ₂は同一または異なって炭素原 子数６ないし１８のアルキル基を表す）で表されるカルボン酸エステルから誘導 されるポリエステルであってよい。潤滑油ベースストックとして使用されるトリ エステルはトリメチロールプロパンと炭素原子数６ないし１８のモノカルボン酸 またはその混合物から誘導されるものであり、一方、適当なテトラエステルはペ ンタエリトリトールと炭素原子数６ないし１８のモノカルボン酸またはその混合 物から誘導されるものを包含する。 本発明の組成物の成分としての使用に適当な複合エステルは一塩基性酸、二塩 基性酸および多価アルコールから誘導されるもの、例えばトリメチロールプロパ ン、カプリル酸およびセバシン酸から誘導される複合エステルである。 適当なポリエステルは炭素原子数４ないし１４の脂肪族ジカルボン酸と少なく とも１種の炭素原子数３ないし１２の２価脂肪族アルコールとから誘導されるも のであり、例えばアゼライン酸またはセバシン酸と２，２，４−トリメチルヘキ サン−１，６−ジオールとから誘導されるものである。 他の潤滑剤は当業者に知られており、また例えば、Schewe-Kobek，"Schminerm ittel-Taschenbuch"，(Huethig Verlag,Heidelberg 1974)およびD.Klamann，"Sc hmierstoff und verwandte Produkte"，(Verlag Chemie,Weinheim 1982) において記載されている。 潤滑油はまた、滑剤の基本的特性を改良するために添加され得るその他の添加 剤、例えば酸化防止剤、金属奪活剤、防錆剤、粘度指数向上剤、流動点降下剤、 分散剤、洗剤、付加的な防錆剤、極圧添加剤および磨耗防止剤を含有してもよい 。フェノール系抗酸化剤の例 １ アルキル化モノフェノール 、 例えば ２，６−ジ−第三ブチル−４−メチルフェノール、 ２−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−エチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−ｎ−ブチルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−イソブチルフェノール、 ２，６−ジ−シクロペンチル−４−メチルフェノール、 ２−（α−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、 ２，６−ジオクタデシル−４−メチルフェノール、 ２，４，６−トリシクロヘキシルフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシメチルフェノール、 ２，６−ジノニル−４−メチルフェノール、２，４−ジメチル−６−（１′−メ チル−ウンデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジメチル−６−（１′− メチル−ヘプタデシ−１′−イル）−フェノール、２，４−ジ メチル−６−（１′−メチル−トリデシ−１′−イル）−フェノールおよびそれ らの混合物。２．アルキルチオメチルフェノール、 例えば ２，４−ジ−オクチルチオメチル−６−第三ブチルフェノール、２，４−ジ−オ クチルチオメチル−６−メチルフェノール、２，４−ジ−オクチルチオメチル− ６−エチルフェノールおよび２，６−ジ−ドデシルチオメチル−４−ノニルフェ ノール。３ ハイドロキノンとアルキル化ハイドロキノン 、 例えば ２，６−ジ−第三ブチル−４−メトキシフェノール、 ２，５−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、 ２，５−ジ−第三−アミル−ハイドロキノン、 ２，６−ジフェニル−４−オクタデシルオキシフェノール、 ２，６−ジ−第三ブチル−ハイドロキノン、２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド ロキシアニソール、３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシアニソール、３， ５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルステアレート、ビス（３，５−ジ −第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）アジペート。４．トコフェノール、 例えば α−トコフェノール、β−トコフェノール、γ−トコフェノール、δ−トコフェ ノールおよびこれらの混合物である（ビタミンＥ）。５．ヒドロキシル化チオジフェニルエーテル 、例えば ２，２′−チオビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、 ２，２′−チオビス（４−オクチルフェノール）、 ４，４′−チオビス（６−第三ブチル−３−メチルフェノール）、 ４，４′−チオビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、４，４′−チ オ−ビス（３，６−ジ−第二−アミルフェノール）、４，４′−ビス（２，６− ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−ジスルフィド。６．アルキリデンビスフェノール 、例えば ２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−メチルフェノール）、 ２，２′−メチレン−ビス（６−第三ブチル−４−エチルフェノール）、 ２，２′−メチレン−ビス［４−メチル−６−（α−メチルシクロヘキシル）フ ェノール］、２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−シクロヘキシルフェ ノール）、２，２′−メチレン−ビス（６−ノニル−４−メチルフェノール）、 ２，２′−メチレン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、 ２，２′−エチリデン−ビス（４，６−ジ−第三ブチルフェノール）、 ２，２′−エチリデン−ビス（６−第三ブチル−４−イソブチルフェノール）、 ２，２′−メチレン−ビス［６ −（α−メチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、２，２′−メチレン−ビ ス［６−（α，α−ジメチルベンジル）−４−ノニルフェノール］、４，４′− メチレン−ビス（２，６−ジ−第三ブチルフェノール）、４，４′−メチレン− ビス（６−第三ブチル−２−メチルフェノール）、１，１−ビス（５−第三ブチ ル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン、２，６−ビス（３−第三ブ チル−５−メチル−２−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェノール、１，１ ，３−トリス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）ブタン 、１，１−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）−３ −ｎ−ドデシルメルカプトブタン、 エチレングリコールビス［３，３−ビス（３′一第三ブチル−４′−ヒドロキシ フェニル）ブチレート］、ビス（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチル フェニル）ジシクロペンタジエン、ビス［２−（３′−第三ブチル−２′−ヒド ロキシ−５′−メチルベンジル）−６−第三ブチル−４−メチルフェニル］テレ フタレート、１，１−ビス（３，５−ジメチル−２−ヒドロキシフェニル）ブタ ン、２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパ ン、２，２−ビス（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−２−メチルフェニル）− ４−ｎ−ドデシルメルカプトブタン、および１，１，５，５−テトラ−（５−第 三ブチル−４−ヒドロキ シ−２−メチルフェニル）ペンタン。７． Ｏ−、Ｎ−およびＳ−ベンジル化合物、 例えば ３，５，３′，５′−テトラ−第三ブチル−４，４′−ジヒドロキシジベンジル エーテル、オクタデシル−４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルベンジル−メルカ プトアセテート、トリス−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル ）−アミン、ビス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジ ル）−ジチオテレフタレート、ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシ ベンジル）−スルフィドおよびイソオクチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒ ドロキシベンジル−メルカプトアセテート。８．ヒドロキシベンジル化マロネート、 例えば ジオクタデシル−２，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−２−ヒドロキシベン ジル）−マロネート、ジ−オクタデシル−２−（３−第三ブチル−４−ヒドロキ シ−５−メチルベンジル）−マロネート、ジ−ドデシルメルカプトエチル−２， ２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート、 およびビス−［４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−フェニル］−２ ，２−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−マロネート 。９．ヒドロキシベンジル芳香族化合物、 例えば １，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２ ，４，６−トリメチルベンゼ ン、 １，４−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，３， ５，６−テトラメチルベンゼンおよび２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブ チル−４−ヒドロキシベンジル）−フェノール。１０．トリアジン化合物、 例えば、 ２，４−ビス−オクチルメルカプト−６−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒド ロキシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、 ２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ キシアニリノ）−１，３，５−トリアジン、 ２−オクチルメルカプト−４，６−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロ キシフェノキシ）−１，３，５−トリアジン、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェノキシ）− １，２，３−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４− ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、 １，３，５−トリス（４−第三ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベン ジル）−イソシアヌレート、 ２，４，６−トリス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルエチル ）−１，３，５−トリアジン、１，３，５−トリス（３，５−ジ−第三ブチル− ４−ヒドロキシフェニルプロピオニル）−ヘキサヒドロ−１， ３，５−トリアジン、 １，３，５−トリス（３，５−ジシクロヘキシル−４−ヒドロキシベンジル）− イソシアヌレート。１１． ベンジルホスホネート、 例えば ジメチル−２，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジ エチル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、ジオ クタデシル−３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホネート、 ジオクタデシル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルベンジルホスホ ネートおよび３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシベンジルホスホン酸モノ エチルエステルのＣａ塩。１２． アシルアミノフェノール 、例えば ラウリン酸４−ヒドロキシアニリド、 ステアリン酸４−ヒドロキシアニリド、 カルバミン酸Ｎ−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）オクチ ルエステル。１３． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン 酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリト ール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロ キシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペンタデカ ノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒドロキ シメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２］オク タン。１４． β−（５−第三ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）プロピ オン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト リメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１５． β−（３，５−ジ−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）プロピ オン酸の下記の一価または多価アルコールとのエステル、 例えば メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレン グリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペンチルグリコール、チオジエチ レングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ペンタエリ トリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシアヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チアウンデカノール、３−チアペン タデカノール、トリメチルヘキサンジオール、トリメチロールプロパン、４−ヒ ドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−トリオキサビシクロ［２．２．２ ］オクタン。１６． ３， ５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル酢酸の下記の一価 または多価アルコールとのエステル、 例えば、 メタノール、エタノール、オクタデカノール、１，６−ヘキサンジオール、１， ９−ノナンジオール、エチレングリコール、１，２−プロパンジオール、ネオペ ンチルグリコール、チオジエチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエ チレングリコール、ペンタエリトリトール、トリス（ヒドロキシエチル）イソシ アヌレート、Ｎ，Ｎ′−ビス（ヒドロキシエチル）シュウ酸ジアミド、３−チア ウンデカノール、３−チアペンタデカノール、トリメチルヘキサンジオール、ト リメチロールプロパン、４−ヒドロキシメチル−１−ホスファ−２，６，７−ト リオキサビシクロ［２．２．２］オクタン。１７． β−（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン 酸のアミド 、 例えばＮ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロ ピオニル）ヘキサメチレンジアミン、 Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル）トリメチレンジアミン、 Ｎ，Ｎ′−ビス（３，５−ジ−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニ ル）ヒドラジン。アミン酸化防止剤の例 Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ第二ブチル −ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１，４−ジメチルペンチル）−ｐ −フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−エチル−３−メチルペンチル）− ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（１−メチルヘプチル）−ｐ−フェニ レンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジシクロヘキシル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ ’−ジフェニル−ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジ（ナフチル−２−）− ｐ−フェニレンジアミン、Ｎ−イソプロピル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン ジアミン、Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレン ジアミン、Ｎ−（１−メチルヘプチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジア ミン、Ｎ−シクロヘキシル−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン、４−（ ｐ−トルエンスルホンアミド）ジフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ ’−ジ第二ブチル−ｐ−フェニレンジアミン、ジフェニル アミン、Ｎ−アリルジフェニルアミン、４−イソプロポキシジフェニルアミン、 Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、Ｎ−フェニル−２−ナフチルアミン、オク チル化ジフェニルアミン、例えばｐ，ｐ’−ジ第三オクチルジフェニルアミン、 ４−ｎ−ブチルアミノフェノール、４−ブチリルアミノフェノール、４−ノナノ イルアミノフェノール、４−ドデカノイルアミノフェノール、４−オクタデカノ イルアミノフェノール、ジ（４−メトシキフェニル）アミン、２，６−ジ第三ブ チル−４−ジメチルアミノメチルフェノール、２，４’−ジアミノジフェニルメ タン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチ ル−４，４’−ジアミノジフェニルメタン、１，２−ジ〔２−メチルフェニル） アミノ〕エタン、１，２−ジ（フェニルアミノ）エタン、（ｏ−トリル）ビグア ニド、ジ〔４−１’，３’−ジメチルブチル）フェニル〕アミン、第三オクチル 化Ｎ−フェニル−１−ナフチルアミン、モノーおよびジアルキル化第三ブチル− ／第三オクチルジフェニルアミンの混合物、モノ−およびジアルキル化イソプロ ピル／イソヘキシルジフェニルアミンの混合物、２，３−ジヒドロ−３，３−ジ メチル−４Ｈ−１，４−ベンゾチアジン、フェノチアゾン、Ｎ−アリルフェノチ アジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニル−１，４−ジアミノブテン−２、 Ｎ，Ｎ−ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）ヘキサメチ レンジアミン、ビス（ ２，２，６，６−テトラメチルピペリジ−４−イル）セバケート、２，２，６， ６−テトラメチルピペリジン−４−オンおよび２，２，６，６−テトラメチルピ ペリジン−４−オール。その他の酸化防止剤の例 脂肪族または芳香族ホスフィット、チオジプロピオン酸またはチオジ酢酸のエス テル、またはジチオカルバミン酸またはジチオリン酸の塩、２，２，１２，１２ −テトラメチル−５，９−ジヒドロキシ−３，７，１１−トリチアトリデカンお よび２，２，１５，１５−テトラメチル−５，１２−ジヒドロキシ−３，７，１ ０，１４−テトラチアヘキサデカン。金属奪活剤の例、例えば銅用奪活剤の例は以下のとおりである： ａ）ベンゾトリアゾールおよびそれらの誘導体、例えば４−または５−アルキル ベンゾトリアゾール（例としてトルトリアゾール）およびそれらの誘導体、４， ５，６，７−テトラヒドロベンゾトリアゾールおよび５，５’−メチレン−ビス ベンゾトリアゾール；ベンゾトリアゾールまたはトルトリアゾールのマンニッヒ 塩基、例えば１−〔ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル）トルトリアゾー ルおよび１−〔ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル）ベンゾトリアゾール ；およびアルコキシアルキルベンゾトリアゾール、例えば１−（ノニルオキシメ チル）ベンゾトリアゾール、１−（１−ブトキ シエチル）ベンゾトリアゾールおよび１−（１−シクロヘキシルオキシブチル） トルトリアゾール。 ｂ）１，２，４−トリアゾールおよびそれらの誘導体、例えば３−アルキル（ま たはアリール）−１，２，４−トリアゾールおよび１，２，４−トリアゾールの マンニッヒ塩基、例えば１−〔ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル）１， ２，４−トリアゾール；アルコキシアルキル−１，２，４−トリアゾール、例え ば１−（ブトキシエチル）−１，２，４−トリアゾール；およびアシル化３−ア ミノ−１，２，４−トリアゾール。 ｃ）イミダゾール誘導体、例えば４，４’−メチレンビス（２−ウンデシル−５ −メチルイミダゾール）およびビス〔（Ｎ−メチル）イミダゾール−２−イル〕 カルビノールオクチルエステル。 ｄ）硫黄含有複素環式化合物、例えば２−メルカプトベンゾチアゾール、２，５ −ジメルカプト−１，３，４−チアゾールおよびそれらの誘導体；および３，５ −ビス〔ジ（２−エチルヘキシル）アミノメチル〕−１，３，４−チアジアゾリ ノ−２−オン。 ｅ）アミノ化合物、例えばサリチリデンプロピレンジアミン、サリチルアミノグ アニジンおよびそれらの塩。防錆剤の例 ａ）有機酸、それらのエステル、金属酸および無水物、例えばアルキル−および アルケニルコハク酸およびアルコール、ジオールまたはヒドロキシカルボン酸と のそれ らの部分エステル、アルキル−およびアルケニルコハク酸の部分アミド、４−ノ ニルフェノキシ酢酸、アルコキシ−およびアルコキシエトキシカルボン酸、例え ばドデシルオキシ酢酸、ドデシルオキシ（エトキシ）酢酸およびそれらのアミン 塩、およびＮ−オレオイルサルコシン、ソルビタン−モノオレエート、鉛ナフテ ネート、コハク酸アルケニルおよびその無水物、例えばドデセニルコハク酸無水 物、２−カルボキシメチル−１−ドデシル−３−メチルグリセロールおよびそれ らのアミン塩。 ｂ）窒素含有化合物の例 Ｉ．第一、第二または第三脂肪族または脂環式アミンおよび有機および無機酸の アミン塩、例えば油溶性アルキルアンモニウムカルボキシレート、およびまた１ −〔Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）アミノ〕−３−（４−ノニルフェノ キシ）プロパン−２−オール。 ＩＩ．複素環式化合物、例えば置換イミダゾリンおよびオキサゾリン、および２ −ヘプタデセニル−１−（２−ヒドロキシエチル）イミダゾリン。 ｃ）リン含有化合物の例 リン酸部分エステルまたはホスホン酸部分エステルのアミン塩、および亜鉛ジア ルキルジチオホスフェート。 ｄ）硫黄含有化合物、例えばバリウムジノニルナフタレンスルホネート、カルシ ウム石油スルホネート、アルキルチオ置換脂肪族カルボン酸、脂肪族２−スルホ カルボン酸のエステルおよびそれらの塩。 ｅ）グリセロール誘導体、例えばグリセロールモノオレエート、１−（アルキル フェノキシ）−３−（２−ヒドロキシエチル）グリセロール、１−（アルキルフ ェノキシ）−３−（２，３−ジヒドロキシプロピル）グリセロールおよび２−カ ルボキシアルキル−１，３−ジアルキルグリセロール。粘度指数向上剤の例 ポリアクリレート、ポリメタクリレート、ビニルピロリドン／メタクリレート− コポリマー、ポリビニルピロリドン、ポリブテン、オレフィンコポリマー、スチ レン／−アクリレート−コポリマーおよびポリエーテル。流動点降下剤の例 ポリメタクリレートおよびアルキル化ナフタレン誘導体。分散剤／界面活性剤の例 ポリブテニルコハク酸アミドまたはイミド、ポリブテニルホスホン酸誘導体、塩 基性マグネシウム−、カルシウム−、およびバリウムスルホネートおよび−フェ ノレート。磨耗防止剤の例 硫黄−および／またはリン−および／またはハロゲン−含有化合物、例えば硫化 オレフィンおよび植物油、亜鉛ジアルキルジチオホスフェート、アルキル化トリ フェニルホスフェート、トリトリルホスフェート、トリクレシルホスフェート、 塩素化パラフィン、アルキル−および アリールジ−およびトリスルフィド、モノ−およびジアルキルホスフェートのア ミン塩、メチルホスホン酸のアミン塩、ジエタノールアミノメチルトリルトリア ゾ−ル、ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチルトリルトリアゾール、２，５ −ジメルカプト−１，３，４−チアジアゾールの誘導体、エチル３−〔（ジイソ プロポキシホスフィノチオイル）チオ〕プロピオネート、トリフェニルチオホス フェート（トリフェニルホスホロチオエート）、トリス（アルキルフェニル）ホ スホロチオエートおよびそれらの混合物（例えばトリス（イソノニルフェニルホ スホロチオエートの混合物）、ジフェニルモノノニルフェニルホスホロチオエー ト、イソブチルフェニルジフェニルホスホロチオエート、３−ヒドロキシ−１， ３−チアホスフェタン−３−オキシドのドデシルアミン塩、トリチオリン酸５， ５，５−トリス〔イソオクチル２−アセテート〕、２−メルカプトベンゾチアゾ ールの誘導体、例えば１−〔Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）アミノメチル 〕−２−メルカプト−１Ｈ−１，３−ベンゾチアゾール、およびエトキシカルボ ニル−５−オクチルジチオカルバメート。 示差走査熱量測定（ＤＳＣ）の測定値は、TA Instrument Inc.,910示差走査熱 量計において、１００ｍｌ／分で窒素パージし、アルミニウム皿を調整し、５℃ ／分で２３０℃まで温度走査することにより得られる。 Ｘ線回折図は、ニッケルフィルターとともにＣｕ−Ｋ α照射を用いて、Philips Norelco X - 線回折計装置により記録される。全試料 は４０ないし７５ミクロンの均一の粒子サイズを有していた。これは実施例３の 従来技術の化合物と同じ粒子サイズ分布であった。 以下の実施例は本発明をさらに説明する。与えられる部および百分率は重量当 たりを示す。実施例１ ： ２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テ トラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］ のガンマ結晶変態の合成 式Ｉの化合物、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’ ，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル） ホスフィット］は、米国特許発明第４３１８８４５号の実施例４の手順に従って 製造された。式（Ｉ）の化合物の試料１０ｇを１−ブタノール１００ｍｌより再 結晶させて、融点１８２℃（融点は示差走査熱量計により測定しそして吸熱にお けるピーク温度を融点として記録した。）を有しおよびＣｕ−Ｋαを用いて得ら れた以下の回折角（２θ）を示すＸ線回折図を表す新規の式（Ｉ）の化合物の結 晶変態４．８ｇを得た。 実施例２：２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５， ５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフ ィット］のガンマ結晶変態の合成 式Ｉの化合物、２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’ ，５，５’−テトラ−第三ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル） ホスフィット］は、米国特許発明第４３１８８４５号の実施例４の手順に従って 製造された。式（Ｉ）の化合物の試料５．０ｇを１−オクタノール４５ｍｌより 再結晶させて、融点１７８．６℃（融点は示差走査熱量計により測定しそして吸 熱におけるピーク温度を融点として記録し た。）を有しおよびＣｕ−Ｋαを用いて得られた実施例Ｉで製造されたガンマ結 晶変態について見出されたものと同じ回折角（２θ）（±０．２°）を示すＸ線 回折図を表す新規の式（Ｉ）の化合物の結晶変態２．４ｇを得た。 かかるデータは、実施例１および実施例２において製造されたガンマ結晶変態 が本質的に同一のものであることを示す。実施例３ ：比較例 式Ｉの化合物は、米国特許発明第４３１８８４５号の実施例４の手順に従って 製造された。この化合物はＣｕ−Ｋαを用いて得られた以下の回折角（２θ）を 示すＸ線回折図を示した。 実施例１および実施例２において製造された本発明のガンマ結晶変態のＸ線回 折図と米国特許発明第４３１８８４５号の実施例４の従来化合物のＸ線回折図の 比較より、２つの材料は同一のものではないことが明確に示される。実施例４： ２７４℃におけるポリプロピレンの加工安定性 ステアリン酸カルシウム０．０７５重量％を含有する安定化されていないポリ プロピレンを有効量の実施例１において製造された式Ｉの化合物のガンマ結晶変 態と混合しそしてその後押出し機より２７４℃において押出した。溶融流量（グ ラム／１０分間）はＡＳＴＭ法Ｄ１２３８により測定した。 本発明の式Ｉの化合物のガンマ結晶変態は、溶融流量につき最小の変化であっ たことに示されるように熱的および酸化的崩壊に対するポリプロピレンの安定化 に特に効果的であった。実施例５： ガンマ結晶変態の加水分解安定性 新しいガンマ結晶変態の優れた貯蔵安定性を証明するために、実施例２の新規 の化合物についておよび米国特許発明第４３１８８４５号の実施例４の化合物を 透明な溶融体が得られるまで２１０℃に加熱することにより製造した無定形態の 式Ｉの化合物について促進試験を行った。溶融体を急速に周囲温度まで冷却して 、Ｔｇ（ＤＳＣ）１０５ないし１１０℃の、無定形であるガラス状ソリッドを収 集した。 ２つの試験化合物を５０℃において湿度８０％に暴露し、そして加水分解率を 液体クロマトグラフィーによりモニター（監視）した。時間の関数として、与え られた湿潤暴露時間の後残留する、無定形態と比較してより多量のガンマ結晶変 態が見い出され、これはガンマ形態が式Ｉの化合物の無定形態と比較してより優 れた貯蔵安定性を有することを示している。実施例６： 不飽和エラストマーの安定化 本実施例１の化合物をＳＢＲのエマルジョン（５２のムーニー粘度を有する低 温重合された２３．５％スチレン）中で評価した。安定化されていないＳＢＲ（ ６０ｇ）を１５０℃および６０ｒｐｍに設定されたブラベンダープラスチコーダ ーの混合チャンバー中に加えた。３０秒後、０．５重量％の本実施例１の化合物 をチャンバー中に加えた。トルク曲線の上昇により示されるゴムの架橋が開始さ れるまでの時間により、ＳＢＲの安定性を 測定した。本発明の化合物により安定化された試料は、安定化されていないＳＢ Ｒよりも架橋が生じるまでにより長い誘導時間を有していた。実施例７： ポリオールの安定化 水１０ｇ、トリエチレンテトラミン０．２５ｇ、Ｌ−５７４０（シリコン界面 活性剤、ユニオンカーバイト社）２ｇおよび登録商標ANTIBLAZE AB-100（塩素化 芳香族難燃剤、Albright & Wilson）２０ｇを、以下に掲げた安定剤パッケージ^* を含有する分子量３０００のポリエーテルポリオール２００ｇに加えた。混合 物を５分間高速軽量化ミキサーで攪拌した。その後オクタン酸第一錫０．４ｇを 加えそして混合物を５秒間攪拌した。最終的にトルエンジイソシアネート（８０ ％の２，６−異性体；２０％の２，４−異性体）１２５ｇを加えた。混合物を７ 秒間高速混合で攪拌しそしてその後２５．４ｃｍ×２５．４ｃｍ×１２．７ｃｍ のボール箱に流し込んだ。フォームを完全に泡立たせた。５分間放置した後、箱 を取り除きそして試料を電子オーブン中で５分間にわたって５０％の出力で硬化 させた。フォームをその後即座に１２５℃で３分間空気オーブン硬化させた。フ ォームをその後変色および焼けの視覚評価のために半分に切り取った。 ＊安定剤パッケージ：対照は２，６−ジ−第三−ブチル−４−メチルフェノール （ＢＨＴ）２０００ｐｐｍ、および登録商標NAUGARD445（ジフェニルアミン抗酸 化剤、 Uniroyal）２０００ｐｐｍである。 本発明のパッケージは上記パッケージに実施例１の化合物１０００ｐｐｍを加 えたものである。 ２つのフォームの視覚検査は、実施例１の化合物と一緒に本発明の安定剤パッ ケージを含有するフォームが、対照の安定剤パッケージにより安定化されたフォ ームよりもより変色しないことを示した。実施例８： ポリカーボネートの安定化 添加剤を含んでいないビスフェノールＡポリカーボネート (登録商標LEXAN 14 1-111N,General Electric)を乾燥させそしてベンゾトリアゾール紫外線吸収剤（ 登録商標TINUVIN 329、Ciba-Geigy）０．３重量％および実施例１の本化合物０ ．０８重量％と混合した。混合物を２８８℃で２．５４ｃｍの一軸押出し機によ り押出しそしてペレット状にした。５．０８ｃｍ×５．０８ｃｍ×３．１７５ｍ ｍの射出成形プラックをＢＯＹ３０Ｍ射出成形機で２９３℃において金型温度１ ５０℃で以て製造した。得られるプラックの黄色度指数（ＹＩ）をＡＳＴＭ Ｄ １９２５−７０を使用して測定した。実施例１の本発明化合物を含有しているプ ラックは紫外線吸収剤のみを含有しているものよりもより低い黄色度指数を有し ており、これは本発明のホスフィットの併存により、より良好な特性が達成され ることを立証している。実施例９： ポリ（エチレンテレフタレート）の安定化 ポリ（エチレンテレフタレート）、ＰＥＴ（登録商標 KODAPAR 7352、Eastman Chemical）を本発明の実施例１の化合物０．５重量％ とタンブルブレンドした。ポリマーをその後２６０℃において２．５４ｃｍの一 軸押出し機で押出しそしてペレット状にした。ペレットを集め、再乾燥しそして 再び５回押し出した。各押出しパスからのペレットを集め、そしてポリマーの極 限粘度数を測定した。実施例１の本発明化合物を含有しているＰＥＴは、安定剤 を含有していないＰＥＴよりも、５回の押出しパスの後も、初期の極限粘度数の より高い保持を示した。実施例１０： ポリ（ブチレンテレフタレート）の安定化 ポリ（ブチレンテレフタレート）、ＰＢＴ（登録商標RYNITE 9160，DuPont） を本実施例１の化合物０．３重量％とタンブルブレンドした。ポリマーをその後 ２６０℃において押出しそしてペレット状にした。集めたペレットの一部を２回 目の押出しパスのために同じ条件下で再び押し出した。一回目の押出しからの残 留物を金型温度１００℃で以てＢＯＹ３０Ｍ射出成形機で２８２℃において５． ０８ｃｍ×５．０８ｃｍ×３．１７５ｍｍのプラックに射出成形した。２回目の パスの押出物および射出成形プラックの極限粘度数を測定した。実施例１の本発 明化合物を含有するＰＢＴは、安定剤を含有していないＰＢＴよりも極限粘度数 のより良好な保留を示した。 黄色度指数（ＹＩ）についてプラックをＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０を使用し て測定した。実施例１の本化合 物を含有しているプラックは安定化されていない対照ＰＢＴより製造されたプラ ックよりもより低い黄色度指数を有していた（より少ない変色）。実施例１１： ６，６−ナイロンの安定化 ６，６−ナイロン（登録商標ZYTEL 101，DuPont）を真空炉中で完全に乾燥さ せそして本実施例１の化合物０．５重量％とタンブルブレンドした。ポリアミド を２．５４ｃｍのＭＰＭ押出し機で３０２℃で押し出した。集めたペレットを金 型温度１５０℃で以てＢＯＹ３０Ｍ射出成形機で３０２℃において射出成形した 。得られたプラックを黄色度指数（ＹＩ）についてＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０ を使用して測定した。本実施例１の化合物を含有しているプラックは安定化され ていない対照よりもより低い黄色度指数（より少ない変色）を示した。実施例１２： ＡＢＳの安定化 ヘキサン／メタノール４０ｍｌ中の本実施例１の化合物０．２５ｇの溶液を、 水６００ｇ中のＡＢＳ（アクリロニトリル／ブタジエン／スチレンターポリマー ）１００ｇの素早く攪拌された懸濁液に加えた。懸濁液をろ過しそして真空下に おいて４０℃において４０時間乾燥させた。乾燥した粉末に、二酸化チタン２重 量％およびＮ，Ｎ’−エチレンビスステアリン酸アミド１重量％を二本ロールミ ル上で１８０℃で４分間に渡って加えた。圧縮成形されたプラック（０．８ｍｍ ）を１７５℃にお いて製造しそして１８０℃の空気炉中に４５分間置いた。前記プラックの色を、 ＡＳＴＭ Ｄ１９２５−７０を使用して黄色度指数として測定した。本実施例１ の化合物を含有しているプラックは、安定化されていないＡＢＳ樹脂からの対照 プラックよりもより低い黄色度指数（より少ない変色）を示した。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ // Ｃ０７Ｂ 63/00 7419−4Ｈ Ｃ０７Ｂ 63/00 Ｅ (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＭ，ＡＵ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ， ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＦＩ，ＧＥ，ＨＵ，ＪＰ，ＫＥ，Ｋ Ｇ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ ，ＭＮ，ＭＷ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ， ＳＩ，ＳＫ，ＴＪ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者 オドリスト ポール エー. アメリカ合衆国，07605ニュージャージー 州 レオニア ムーア アベニュー 319

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．１７８ないし１８５℃の範囲で溶融することおよびＣｕ−Ｋａを用いて得ら れた以下の回折角（２θ）を示すＸ線回折図を特徴とする２，２’，２”−ニト リロ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１ ，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態。 ピークＮｏ． 回折角 １ ５．４ ２ ６．３ ３ ８．８ ４ ９．９ ５ １０．３ ６ １０．８ ７ １１．７ ８ １３．８ ９ １４．８ １０ １５．５ １１ １６．１ １２ １７．０ １３ １７．７ １４ １８．４ １５ ２０．２ ２．炭素原子数４ないし８のアルカノールより化合物２，２’，２”−ニトリロ ［トリエチル−［トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１， １’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］を結晶化もしくは再結晶 させることよりなる、化合物２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス− （３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２ ’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態の製造方法。 ３．アルカノールはｎ−アルカノールであるところの請求項２記載の製造方法。 ４．ｎ−アルカノールは１−ブタノールもしくは１−オクタノールであるところ の請求項３記載の製造方法。 ５．請求項２記載の製造方法により得られるところの２，２’，２”−ニトリロ ［トリエチル−トリス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１ ’−ビフェニル−２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態。 ６．ａ）酸化、熱もしくは光誘発の崩壊を受けやすい有機材料、および ｂ）請求項１および５記載の２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス− （３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２ ’−ジイル）ホスフィット］よりなる組成物。 ７．成分（ａ）および（ｂ）の他に他の添加剤を付加的 に含むところの請求項６記載の組成物。 ８．他の添加剤としてフェノール系抗酸化剤、光安定剤もしくは加工安定剤を含 むところの請求項７記載の組成物。 ９．他の添加剤として少なくとも１つのベンゾフラン−２−オン型の化合物を含 むところの請求項７記載の組成物。 １０．成分（ａ）として、天然ポリマー、半合成ポリマーもしくは合成ポリマー よりなるところの請求項６記載の組成物。 １１．成分（ａ）として、熱可塑性ポリマーよりなるところの請求項６記載の組 成物。 １２．成分（ａ）として、ポリオレフィンよりなるところの請求項６記載の組成 物。 １３．成分（ａ）として、ポリエチレンもしくはポリプロピレンよりなるところ の請求項６記載の組成物。 １４．成分（ａ）として、滑剤、潤滑油、天然脂肪もしくはワックス、または合 成エステルをベースとした脂肪もしくはワックスよりなるところの請求頂６記載 の組成物。 １５．酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対する有機材料の安定剤として、請求項 １および５記載の２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス−（３，３’ ，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２，２’−ジイル ）ホスフィット］のガンマ結晶態 を使用する方法。 １６．請求項１および５記載の２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−トリス −（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル−２， ２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態が、熱可塑性ポリマーにおける加 工安定剤（熱安定剤）として使用されるところの請求項１５記載の使用方法。 １７．酸化、熱もしくは光誘発の崩壊に対して有機材料を安定化するための方法 であって、請求項１および５記載の２，２’，２”−ニトリロ［トリエチル−ト リス−（３，３’，５，５’−テトラ−第三−ブチル−１，１’−ビフェニル− ２，２’−ジイル）ホスフィット］のガンマ結晶態を前記有機材料中に混和する こともしくは該有機材料に塗布することよりなる有機材料の安定化方法。