JPH0943669A

JPH0943669A - 画像撮影装置

Info

Publication number: JPH0943669A
Application number: JP7193356A
Authority: JP
Inventors: Tsutomu Honda; 努本田; Toshihiro Hamamura; 俊宏濱村; Hideki Osada; 英喜長田
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 1995-07-28
Filing date: 1995-07-28
Publication date: 1997-02-14

Abstract

(57)【要約】【課題】１眼レフカメラ、ビデオカメラ付きスチルカ
メラ等の画像撮影装置において、簡単な構成で測光精度
を大きく改善する。【解決手段】ミラーボックス２内でハーフミラー３を
シャッター幕５から離して配設して、定常測光時に測光
素子１４の測光範囲としてカバーされるシャッター幕５
上の領域の中心と測光素子１４とを結ぶ直線がシャッタ
ー幕５となす角が垂直に近くなる位置に測光素子１４を
配置することにより、測光素子１４からシャッター幕５
上の測光範囲を見たときに、その各部位で単位面積当た
り同じ光量が当たっているときには、各部位毎が同じ明
るさが均一に近くなるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、１眼レフカメラ、
及びビデオカメラ、スチルカメラ双方の機能を備えた画
像撮影装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】図１１は、従来の１眼レフカメラのミラ
ーボックス２を中心とした部分の光学系の概略構成図で
ある。この図に示すように、従来の１眼レフカメラの光
学系は、主光学系としての交換レンズ１と、この交換レ
ンズ１を通して被写体からの光束が入射するミラーボッ
クス２と、ミラーボックス２内に支点２０ｂを中心に回
転可能に支持されたミラー２０と、ミラー２０がＸ方向
に移動したとき被写体からの光束が結像するフィルム露
光面６と、ミラー２０がＹ方向に移動したときミラー面
２０ａで反射された被写体からの光束が導かれるファイ
ンダー光学系とにより構成されている。

【０００３】ここで、ミラー２０は、シャッターがレリ
ーズされた時以外はＹ方向に移動している。通常、この
とき、ミラー２０は主光学系の光軸に対して４５゜の角
度で支持されるようになっており、その角度を正確に出
すため位置出し具２１が設けられている。一方、シャッ
ターがレリーズされた時、ミラー２０はＸ方向に跳ね上
げられる。

【０００４】また、フィルム露光面６のミラー２０側に
はシャッター幕５が配設されており、シャッターがレリ
ーズされた時、このシャッター幕５がミラー２０と同期
して動作することにより、主光学系から入射した光束が
フィルム露光面６上に導かれる。また、フィルム露光面
６を所定位置に配置するため、フィルムは圧板７とフィ
ルムレール８とにより位置決めされる。そして、これら
フィルム露光面６、シャッター幕５等により銀塩写真撮
像部が構成されている。

【０００５】なお、交換レンズ１を収容する鏡筒の後側
フランジ面１３からフィルム露光面６までの距離ＦBLは
フランジバックと呼ばれ、通常、交換レンズ１を共用で
きるように同じシリーズの１眼レフカメラでは同じ値に
設定されている。

【０００６】この従来の１眼レフカメラでは、ミラーボ
ックス２内でミラー２０が回転するための空間を交換レ
ンズ１の鏡筒の後側に確保する必要があるので、ミラー
２０は交換レンズ１の鏡筒の後側フランジ面１３から可
能な限り離して配置されている。この場合、フランジバ
ックＦBLを一定とすると、ミラー２０はシャッター幕５
に近付けて配置されることになる。

【０００７】また、別の従来例として、可動式のミラー
２０に代えて固定式のハーフミラーを搭載した１眼レフ
カメラがある。このタイプのカメラでは、主光学系から
入射した被写体からの光束はハーフミラーで２分割され
て、一方の光束は銀塩写真撮像部に至り、他方の光束は
ファインダー光学系に導かれるようになっている。この
場合、ハーフミラーは回転しないので交換レンズの鏡筒
の後側フランジ面に接近させて配置することができる
が、同じシリーズ内の可動式ミラーを用いたカメラと部
品を共用化する目的から、一般に、ハーフミラーはシャ
ッター幕に近付けて配置されている。

【０００８】そして、これらの１眼レフカメラでは、定
常測光あるいはフラッシュ調光を行うために、一次像面
（フィルム露光面であるが、定常測光時には近似的にシ
ャッター幕が一次像面となる）を測光範囲として直接カ
バーできる位置、すなわちミラーあるいはハーフミラー
とシャッター幕との間に測光素子を配置したものが多
い。この場合、ミラー、ハーフミラーのどちらを用いた
ものでも、フラッシュ使用時には測光素子がフィルム露
光面で反射された光を受光することによりフラッシュ調
光が行われる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記１
眼レフカメラにおいて、ミラーボックスの壁面上でミラ
ーあるいはハーフミラーとシャッター幕の間に測光素子
や測距素子を配設する場合には、それらの素子を配置す
るための空間が狭く、無理をして配置しなければならな
かった。

【００１０】そのため、測光素子の測光範囲としてカバ
ーされる一次像面（フィルム露光面あるいはシャッター
幕）上の領域に対して、測光素子は斜めから（すなわ
ち、一次像面に近い位置から）臨むことになる。この場
合、図１２に示すように、測光素子をミラーボックス２
の壁面上で一次像面１６に点Ｐ1よりも近い点Ｐ2に配置
したとき、一次像面１６に至る光束の光軸ＡＸと一次像
面１６との交点をＯとすると、直線ＯＰ2と一次像面１
６とがなす角θ2は、直線ＯＰ1と一次像面１６とがなす
角θ1に比べて小さくなり、一次像面１６上の領域Ａ1内
の点と領域Ａ2内の点から測光素子に至るそれぞれの直
線が一次像面１６となす角度の差が、測光素子が点Ｐ1
にある場合に比べて大きくなる。

【００１１】ここで、一次像面（フィルム露光面あるい
はシャッター幕）１６に入射した光は乱反射されるが、
その乱反射される光の強さの分布は非等方的であり、こ
の場合、一次像面１６に対して垂直に近い方向により大
きい光量を反射する。したがって、点Ｐ2に測光素子を
配置したとき、たとえ一次像面１６の領域Ａ1内の点と
領域Ａ2内の点に同じ強度の光が入射した場合でも、領
域Ａ2内の点から測光素子の方向に反射される光量の方
が、領域Ａ1内の点からの光量よりも大きい。そして、
その差は、測光素子を点Ｐ2に配置すると、点Ｐ1に配置
したときに比べて大きくなる。

【００１２】また同時に、点Ｐ2に測光素子を配置する
と、領域Ａ1内の点から測光素子までの距離は、領域Ａ2
内の点から測光素子までの距離よりも長くなり、その差
は、点Ｐ1に測光素子を配置したときに比べて大きい。
このため、たとえ領域Ａ1内の微小領域と領域Ａ2内の微
小領域とが、点Ｐ2に位置する測光素子に向かって単位
面積当たり同量の光を反射した場合でも、測光素子が領
域Ａ2内の微小領域から受光する光量の方が、領域Ａ1内
の微小領域から受光する光量よりも大きくなる。そし
て、その差は、測光素子を点Ｐ2に配置した場合の方
が、点Ｐ1に配置した場合よりも大きい。

【００１３】これらの理由から、点Ｐ2に測光素子を配
置した場合、一次像面１６上の領域Ａ1と領域Ａ2にたと
え単位面積当たり同じ光量が当たっても、それらが反射
して測光素子に達する光量は、領域Ａ2からの方が領域
Ａ1からよりも大きい。つまり、この場合、測光素子か
ら見ると、領域Ａ2は領域Ａ1よりも明るく見える。そし
て、それらの光量の差は、点Ｐ1に測光素子を配置した
ときよりも大きくなる。

【００１４】したがって、従来の１眼レフカメラのよう
に、ミラーボックス内でミラーあるいはハーフミラーを
シャッター幕に接近させて配設し、しかもミラーあるい
はハーフミラーとシャッター幕との間に測光素子を配置
した場合には、一次像面（フィルム露光面あるいはシャ
ッター幕）全体に亙る正確な測光が行えないという問題
があった。

【００１５】また、一次像面に対して多分割測光を行う
場合には、上記と同じ理由から、一次像面上の各領域に
対する測光精度のばらつきが生じることになり、このば
らつきを解消するためには、一次像面上の各領域に対応
して測光素子の測光面上の各領域毎の検知出力に重み付
けするという補正が必要であった。

【００１６】さらに、図１３に示すように、交換レンズ
１から入射した光束を２分割するためにハーフミラー３
を備えた従来の１眼レフカメラでは、通常、ハーフミラ
ー３の一次像面１６側に、ハーフミラー３を透過した光
束の一部を反射し、結像用の凸レンズ１５ａを通して測
距素子１５に導くためのミラー（以下、ＡＦミラーと呼
ぶ）４が配設されているので、一次像面１６上にはこの
ＡＦミラー４に遮られた陰Ｓ1ができる。

【００１７】すなわち、図１４に示すように、測光素子
１４が測光範囲としてカバーする一次像面１６上に、Ａ
Ｆミラー４の陰Ｓ1が生じる。しかも、図１３に示すよ
うに、ハーフミラー３を透過して一次像面１６に至る光
束は次第に拡がる形となるため、従来の１眼レフカメラ
のように、ハーフミラー３をシャッター幕に接近させて
配置すると、その分、ＡＦミラー４は大きくなり、凸レ
ンズ１４ａを通して測光素子１４の測光面上に結像され
る一次像面１６上で測光に有効に利用できる面積が小さ
くなるので、測光精度が下がるという問題があった。

【００１８】また同時に、図１５に示すように、このよ
うなミラーボックス２内にハーフミラー３とＡＦミラー
４を備えた従来の画像撮影装置では、ハーフミラー３を
シャッター幕に接近させて配置しており、測光素子１４
と測距素子１５をその間の狭い空間に配置することとな
るため、一次像面１６で反射された光の一部が測光素子
１４に至る途中でＡＦミラー４に遮られてしまう。この
ため、測光素子１４から一次像面１６を眺めたとき、そ
の中にＡＦミラー４の陰Ｓ2が生じ、一次像面１６上で
測光に有効に利用できる面積が小さくなるので、その
分、測光精度が低下するという問題があった。

【００１９】本発明は、このような問題点を解決するた
めになされたものであって、１眼レフカメラ、及びビデ
オカメラ、スチルカメラ双方の機能を備えた画像撮影装
置において、簡単な構成で測光精度を大きく改善するこ
とを目的とする。

【００２０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明では、主光学系と、主光学系を通して被写体から
の光束が入射する箱形の室と、箱形の室内に固定的に支
持され被写体からの光束を第１の光束と第２の光束に分
割する光分割器と、箱形の室の一側面に配設され第１の
光束が結像する感光部材及び感光部材の光分割器側に配
設されたシャッター幕を有する銀塩写真方式の第１撮像
手段と、箱形の室の壁面上で光分割器とシャッター幕の
間に配設され第１の光束が感光部材あるいはシャッター
幕で反射された光量を検知することにより測光する測光
手段とを備えた画像撮影装置において、光分割器を、主
光学系の光軸に対して所定の角度をなすように配置され
たハーフミラーとし、感光部材とシャッター幕を、とも
に第１の光束の光軸に対して垂直に配置し、測光手段の
測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の領域の中
心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕となす角が垂
直に近くなる位置に測光手段を配置できるように、光分
割器を第１の光束の光軸方向にシャッター幕から離して
配置する。

【００２１】このように構成すると、例えば第１の光束
としてシャッター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光
量が当たった場合、測光素子から見ると、シャッター幕
の各部位の明るさが均一に近くなる。

【００２２】また、上記画像撮影装置は以下の条件を満
たすことが好ましい。ａ≧３^1/2・Ｆ_SL／２，但し、ａ：上記光分割器の光分割面と上記第１の光束の光
軸の交点と、上記シャッター幕との間の距離、Ｆ_SL：上記第１の光束の光軸と上記第２の光束の光軸
とに平行な平面で切断したときの上記シャッター幕の長
さである。

【００２３】この場合、確実に光分割器とシャッター幕
との間の距離を広くすることができ、測光手段の測光範
囲としてカバーされるシャッター幕上の領域の中心と測
光手段とを結ぶ直線がシャッター幕となす角が垂直に近
くなる位置に測光手段を配置できるので、例えば第１の
光束としてシャッター幕全域に亙って単位面積当たり同
じ光量が当たった場合、測光素子から見ると、シャッタ
ー幕の各部位の明るさが均一に近くなる。

【００２４】さらに、第２の光束は、リレー光学系によ
り第２撮像手段に導かれて撮像に用いられるようにする
とよい。

【００２５】この場合、主光学系から入射した光が分割
された後、２つの撮像手段に導かれて独立に撮像に用い
られる。

【００２６】また、第２撮像手段を電子写真方式とする
ことができる。

【００２７】この場合、第２撮像手段で、例えばビデオ
撮影が行われる。

【００２８】また、シャッター幕の光分割器側の表面の
反射率を、感光部材の表面の反射率と略等価にすること
が好ましい。

【００２９】そうすると、定常測光時にシャッター幕で
反射される光量と、仮にシャッター幕を置かずフィルム
露光面で反射されたときの光量とが略等しくなる。

【００３０】さらに、第１撮像手段のフィルムのフォー
マットを、１３５システムとすることができる。

【００３１】この場合、第１撮像手段によるフィルムの
フォーマットは広く用いられているものとなる。

【００３２】また、光分割器のシャッター幕側に配設さ
れ第１の光束の一部を反射するミラーと、箱形の室の壁
面上に配設されミラーで反射された光を受けて測距を行
う測距手段とを備えることができる。

【００３３】この場合、光分割器により得られた第１の
光束を用いて、測光とともに測距が行われる。また、光
分割器をシャッター幕から離して配置しているので、従
来技術の場合よりもミラーをシャッター幕から離して配
置することができる。

【００３４】また、測光手段は、箱形の室の第２の光束
の伝搬方向と反対側の壁面上に配設することができる。

【００３５】この場合、光分割器をシャッター幕から離
しているので、測光手段の測光範囲としてカバーされる
シャッター幕上の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線が
シャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に測光手段
を配置するのが、従来技術の場合よりも容易である。

【００３６】さらに、測光手段は、箱形の室の第２の光
束の伝搬方向側の壁面上に配設してもよい。

【００３７】この場合も、光分割器をシャッター幕から
離しているので、測光手段の測光範囲としてカバーされ
るシャッター幕上の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線
がシャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に測光手
段を配置するのが、従来技術の場合よりも容易である。
しかも、この場合には、シャッター幕から測光手段に至
る光束がミラーに遮られることのない位置に、測光手段
が配設されることになる。

【００３８】また、測光手段は、箱形の室の第１の光束
の光軸と第２の光束の光軸とに平行な壁面上に配設して
もよい。

【００３９】この場合も、光分割器をシャッター幕から
離しているので、測光手段の測光範囲としてカバーされ
るシャッター幕上の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線
がシャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に測光手
段を配置するのが、従来技術の場合よりも容易である。

【００４０】また、測光手段は、箱形の室の第１の光束
の光軸と第２の光束の光軸とに平行な２つの壁面上に一
対配設してもよい。

【００４１】この場合、それぞれの測光素子は、第２の
光束の光軸方向から眺めたとき第１の光束の光軸によっ
て分けられるシャッター幕の２つの領域の内それぞれに
近い方全域と、遠い方の領域の一部とを、測光範囲とし
てカバーするようにすれば、２つの壁面の内のいずれか
の上に測光手段を１つ配設する場合に比べて、それぞれ
の測光素子の測光範囲の中心と測光素子とを結ぶ直線
が、シャッター幕に対して、より垂直に近い角度で交わ
ることになる。

【００４２】また、測光手段と測距手段とは、ともに箱
形の室の第２の光束の伝搬方向と反対側の壁面上に配設
され、かつ第２の光束の光軸方向から眺めたとき、とも
に上記第１の光束の光軸の近傍に配置されるようにして
もよい。

【００４３】この場合、第２の光束の光軸方向から眺め
たとき、測光手段は、第１の光束の光軸の両側の領域に
対して同じ角度で臨むことになる。

【００４４】さらに、このとき、第２の光束の光軸方向
から眺めたとき、光分割器からシャッター幕に向かっ
て、測距手段、測光手段の順に配列されているのが好ま
しい。

【００４５】この場合、シャッター幕から測光手段に至
る光束がミラーに遮られるのを容易かつ確実に避けるこ
とができる。

【００４６】

【発明の実施の形態】以下、本発明をビデオカメラ、ス
チルカメラ双方の機能を備えた画像撮影装置に適用した
実施の形態を図面を参照しながら説明する。なお、図１
１〜図１６に示した従来技術に係る構成要素と同じもの
には同じ符号を付ける。図１〜図４は、第１実施形態を
示している。図１は、本実施形態の光学系全体の概略構
成図である。主光学系としての交換レンズ１を通してミ
ラーボックス２内に入射した被写体からの光束は、ミラ
ーボックス２内に配設されたハーフミラー３により、シ
ャッター幕５を経てフィルム露光面６に至る第１の光束
と、コンデンサレンズ９、反射ミラー１０、リレーレン
ズ１１を経てＣＣＤイメージセンサ１２に至る第２の光
束とに分割される。

【００４７】なお、ハーフミラー３は、ガラスの表面に
金属酸化物を蒸着して薄い皮膜を形成したものであり、
本実施形態では、ミラーボックス２内に交換レンズ１の
光軸に対して４５゜の角度をもって固定的に支持されて
いる。

【００４８】ここで、第１の光束は、銀塩写真方式のフ
ィルムを用いたスチル撮影に用いられるものであり、そ
のための銀塩写真撮像部は、シャッター幕５、フィルム
露光面６等により構成されている。この場合、シャッタ
ー幕５とフィルム露光面６は、ともに第１の光束の光軸
に対して垂直に配置されており、また、フィルム露光面
６を所定位置に配置するため、フィルムは圧板７とフィ
ルムレール８とにより位置決めされる。

【００４９】また第１実施形態では、従来技術とは異な
り、ハーフミラー３を、交換レンズ１を収容する鏡筒の
後側フランジ面１３に接近させて配置している。ここ
で、鏡筒の後側フランジ面１３からフィルム露光面６ま
での距離、すなわちフランジバックＦBLは、通常、交換
レンズ１を共用できるように同じシリーズの１眼レフカ
メラでは同じ値に設定されるので、この場合、ハーフミ
ラー３はシャッター幕５から離れた位置に配置されるこ
とになる。

【００５０】また、第２の光束は、ＣＣＤイメージセン
サ１２に到達して電子写真方式のビデオ撮影に用いられ
る。第２の光束は、その光路上において、コンデンサレ
ンズ９の近傍で一旦空中像を結ぶ。ここで、一般的な１
眼レフカメラ（本実施形態のコンデンサレンズ９以降の
光学系をファインダー光学系に置き替えたカメラ）の場
合には、その位置に焦点板を設けてその上に像を結ばせ
るため、第２の光束の光路上において焦点板の後側に測
光素子を配置し、焦点板に映る像を測光素子の測光面上
に映し出せるように光学系を設ければ、多分割測光を行
うことができる。

【００５１】しかし、本実施形態では、第２の光束の光
路上に焦点板を配置するとそこで第２の光束が拡散光と
なってＣＣＤイメージセンサ１２で明瞭な撮影が行えな
くなるため、焦点板は設けない。したがって、多分割測
光を行うためには、第２の光束を用いるのではなく、第
１の光束が結像する一次像面（フィルム露光面６である
が、定常測光時には近似的にシャッター幕５が一次像面
となる）を測光範囲としてカバーできる位置に多分割測
光用の測光素子を配設することになる。

【００５２】なお、特に図示しないが、第２の光束の光
路上においてリレーレンズ１１の近傍には、ＣＣＤイメ
ージセンサ１２に達する光量を調節するために、ＮＤフ
ィルターとリレー絞りが配設されている。

【００５３】また、第１実施形態では、ミラーボックス
２の壁面上においてハーフミラー３とシャッター幕５の
間に測光素子１４を配設しているので、定常測光時には
シャッター幕５を、また、フラッシュ調光時にはフィル
ム露光面６を測光範囲としてカバーすることにより、多
分割測光を行うことができる（もちろん、平均測光ある
いはスポット測光を行うことも可能である）。また、ハ
ーフミラー３のシャッター幕５側にはＡＦミラー４が設
けられており、第１の光束の一部を反射して測距素子１
５に導くことにより測距が行われる。なお、測光素子１
４、測距素子１５の前には、それぞれ導かれた光束を測
光面上、測距面上に結像させるために、凸レンズ１４
ａ、１５ａが設けられている。

【００５４】このような構成において、ＡＦミラー４を
固定的に支持しておくと、第１の光束によるフィルム露
光面６上への実撮影に際して、第１の光束の一部がＡＦ
ミラー４に遮られて、フィルム露光面６上に映る像（第
１の光束による一次像）にＡＦミラー６の陰が生じるこ
とになる。そのため、第１実施形態では、シャッターが
レリーズされたとき（すなわち、シャッター幕５が開い
てフィルム露光面６が露出したとき）、図示しない手段
によってＡＦミラー４を第１の光束が通る範囲から退避
させるように構成する。

【００５５】図２に、多分割測光用の測光素子１４の測
光面の一例を示す。このように、測光面は多数の領域１
４１に分割されており、その一つ一つの領域１４１がそ
れぞれ受光した光量に応じた電圧を出力する構成となっ
ている。そのため、上記第１の光束による一次像（フィ
ルム露光面６あるいはシャッター幕５に映った像）をこ
の測光面上に映し出すようにすれば、一次像の各部位毎
に（すなわち、被写体の各部位毎に）、例えば作画的に
重み付けをした測光を容易に行うことができる。

【００５６】図３に、第１実施形態の光学系のミラーボ
ックス２を中心とした部分を取り出して示す。本実施形
態では、測光素子１４をミラーボックス２内の第２の光
束の伝搬方向と反対側の壁面上に配設している。なお同
図は、測光素子１４がシャッター幕５を測光範囲として
カバーしている状態を示している。

【００５７】このとき、フィルム露光面６は隠れてお
り、測光素子１４が受けるのはシャッター幕５で反射さ
れた光であるが、実撮影時にはフィルム露光面６が（さ
らに詳しく言えば、シャッタースピード時間内にフィル
ム露光面６の前でシャッター幕５が動作するため、フィ
ルム露光面６とシャッター幕５とがそれぞれ部分的に）
第１の光束に露光される。

【００５８】そこで、第１実施形態では、シャッター幕
５のハーフミラー３側の反射率をフィルム露光面６の反
射率を略等価にする。これにより、シャッター幕５で反
射される光量と、仮にシャッター幕５を置かずフィルム
露光面６で反射されたときの光量とが略等しくなるの
で、定常測光時にシャッター幕５で反射され測光素子１
４で受光された光量から、なんら補正をしなくても実撮
影時のフィルム露光面６の露光量が正確に分かり、簡単
な構成でより精度の高い測光を行うことができる。

【００５９】第１実施形態では、ハーフミラー３をシャ
ッター幕５から離して配置しているので、測光素子１４
と測距素子１５をハーフミラー３とシャッター幕５の間
の広い空間に余裕を持って配置することができる。特
に、測光素子１４を、第１の光束による一次像面（フィ
ルム露光面６あるいはシャッター幕５）から離して配置
することができる。

【００６０】すなわち、図１２において、従来技術に係
る１眼レフカメラの場合の測光素子１４の配置位置をＰ
2とすると、第１実施形態の場合の測光素子１４の配置
位置は（Ｐ2よりも一次像面１６から離れた位置）Ｐ1と
なる。このため、測光素子１４の測光範囲としてカバー
される一次像面１６上の領域の中心Ｏ（第１の光束の光
軸ＡＸと一次像面１６との交点）と、測光素子１４とを
結ぶ直線が一次像面１６となす角θ1が、（従来技術の
場合の角θ2と比べて）垂直に近くなる位置に、測光素
子１４を配置できる。

【００６１】したがって、図１２の説明で述べた理由か
ら、一次像面１６上の領域Ａ1と領域Ａ2に単位面積当た
り同じ光量が当たった場合、それらが反射して測光素子
１４に達する光量の差は、従来技術の場合よりも小さ
い。つまり、この場合、測光素子１４から見ると、（従
来技術の場合に比べて）領域Ａ1と領域Ａ2の明るさは、
より均一となり、簡単な構成で一次像面１６全体に亙る
より正確な測光を行うことができる。

【００６２】なお、一次像面１６に対して多分割測光を
行う場合、従来技術では、一次像面１６上の各領域に対
する測光精度のばらつきを解消するために、測光素子の
測光面上の各領域毎の検知出力に重み付けするという補
正が必要であったが、本実施形態によれば、上記と同じ
理由から、ばらつきそのものが小さくなるので、そのよ
うな補正は極めてやり易くなり、場合によっては補正す
る必要がない。

【００６３】図４に、第１実施形態において第１の光束
による一次像面１６上にＡＦミラー４の陰が生じる様子
を示す。従来技術と同じように第１実施形態でも、ハー
フミラー３の一次像面１６側に、ハーフミラー３を透過
した光束の一部を反射して測距素子１５に導くＡＦミラ
ー４が配設されているので、一次像面１６上にはこのＡ
Ｆミラー４に遮られた陰Ｓ1ができる。

【００６４】しかしこの場合、ハーフミラー３を透過し
て一次像面１６に至る光束は次第に拡がる形となってお
り、第１実施形態では従来技術に比べて、ハーフミラー
３を一次像面１６から離して配置しているので、ＡＦミ
ラー４を一次像面１６から離して配置することができ
る。したがって、その分、ＡＦミラー４を小さくするこ
とができ、測光素子１４により測光範囲としてカバーさ
れる面積のうちＡＦミラー４によって蹴られる部分が小
さくなるので、測光精度は改善される。

【００６５】以上のような構成において、第１実施形態
の銀塩写真撮像部のフィルムのフォーマットには、広く
用いられている１３５システムを採用している。１３５
システムのフィルムの露光エリアは、通常撮影時は３
６．０ｍｍ×２４．０ｍｍであり、パノラマ撮影時は３
６．０ｍｍ×１５．０ｍｍである。

【００６６】また、フィルムフォーマットとして、特開
平７−８４３０９号公報で提案されている１６：９，
２：３，１：３の３つのフォーマットを持つフィルムシ
ステムを用いることもできる。これは、１３５システム
のフィルムと比べて露光エリアが小さいものであり、こ
れに対応したカメラではミラーボックスのサイズが小さ
くなるため、本実施形態のようにハーフミラーをシャッ
ター幕から離して配置することによりハーフミラーとシ
ャッター幕の間を広くすると、測光素子や測距素子を余
裕を持って配置できるので有利である。

【００６７】ここで、ハーフミラー３をどの程度シャッ
ター幕５から離すことができるかを説明する。図５は、
ミラーボックス２内でハーフミラー３をどの程度動かせ
るかを示すために、ミラーボックス２を第１の光束の光
軸と第２の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた概略図
である。この場合、ハーフミラー３は、第１の光束に対
して４５゜傾けて配置されている。

【００６８】ここで、Ｆ_BLはフランジバック（すなわ
ち、フランジ面１３とフィルム露光面６との距離）、κ
はフランジ面１３とシャッター幕５の対物側面との距
離、Ｆ_SLはフィルム露光面の紙面に平行な平面内での距
離（一般には、フィルム露光面の短辺長）、Ｓ_Lはフィ
ルム露光面６とシャッター幕５の対物側面との距離であ
る。なお、以下図５の説明で言及する上下左右の方向
は、同図における上下左右の方向を指すものとする。ま
た、シャッター幕５の対物側面の中心、下端をそれぞれ
Ｏ、Ｐとする。

【００６９】そうすると、ハーフミラー３をその下端が
フランジ面１３に接触するまで近付けたとき、ハーフミ
ラー３の下端、中心及び上端は、それぞれＫ₁、Ｌ₁及び
Ｍ₁となる。このとき、第２の光束による一次像１７の
左端、右端は、それぞれＩ₁、Ｊ₁となる。また、ハーフ
ミラー３をその上端がシャッター幕５に接触するまで近
付けたとき、ハーフミラー３の下端、中心及び上端は、
それぞれＫ₂、Ｌ₂及びＭ₂となり、第２の光束による一
次像面の左端、右端は、それぞれＩ₂、Ｊ₂となる。

【００７０】したがって、ハーフミラー３の光分割面と
第１の光束の光軸の交点と、シャッター幕５の対物側面
との間の距離（すなわち図５では、ハーフミラー３の中
心と点Ｏとの間の距離）をａとした場合、ａの可動量は
距離Ｌ₁Ｌ₂すなわち距離Ｋ₁Ｋ₂となり、距離Ｋ₂ＰがＦ
_SLに等しいことを考慮すると、（ａの可動量）＝κ−Ｆ_SL ……(1) となる。この範囲で、ハーフミラー３の下端がＫ₁から
Ｋ₂まで、また同時に、上端がＭ₁からＭ₂まで移動する
と、第２の光束による一次像１７の左端はＩ₁からＩ₂ま
で、またその右端はＪ₁からＪ₂まで移動する。

【００７１】また、ａの最小値ａmin、最大値ａmaxは、
それぞれ以下のようになる；ａmin＝（距離ＯＬ2）＝Ｆ_SL／２ ……(2)，ａmax＝ａmin＋（ａの可動量）＝κ−Ｆ_SL／２ ……(3)．

【００７２】ところで、ａを余り大きくしてａmaxに近
付けると、ハーフミラー３の下端がフランジ面１３に近
付き過ぎ、例えばフランジ面１３のシャッター幕５側に
レンズ等が飛び出して設けられている場合、第２の光束
による一次像１７にその陰が生じ、その結果、第２の光
束による撮像に際して映らない部分ができるので好まし
くない。一方、ａを小さくすると、ハーフミラー３とシ
ャッター幕５との間に配設される測光素子の配置位置が
シャッター幕５に近付くこととなり、既に述べたように
測光精度に支障が生じる。

【００７３】実際、従来技術ではａを大きくしたものは
なく、その結果、測光素子の測光精度に問題が生じ易い
構成となっていた。そこで、本発明の第１実施形態で
は、ａの範囲として、具体的に、以下の範囲を設定す
る；３^1/2・Ｆ_SL／２＜ａ＜κ−Ｆ_SL／２（＝ａmax） ……(4)．

【００７４】ａをこの範囲に設定することにより、より
確実にハーフミラー３とシャッター幕５との間を広くす
ることができ、測光素子をシャッター幕５から離して配
置することができることになり、測光素子と点Ｏを結ぶ
直線がシャッター幕５となす角が垂直に近くなるので、
既に述べた理由から、シャッター幕５全域に亙る正確な
測光が行える。

【００７５】なお、ａを式(4)の下限値としたときのハ
ーフミラー３の下端、中心及び上端をそれぞれＫ₃、Ｌ₃
及びＭ₃とすると、（距離ＰＬ₃）＝（距離Ｌ₃Ｍ₂）＝（距離ＰＭ₂）＝Ｆ_SL ……(5) である。また、式(4)によるハーフミラー３の可在範囲
は斜線で示した平行四辺形Ｋ₁Ｋ₃Ｍ₃Ｍ₁であり、これに
対応して、第２の光束による一次像１７の可在範囲は、
斜線で示した平行四辺形Ｉ₁Ｉ₃Ｊ₃Ｊ₁となる。

【００７６】次に、図６を参照しながら第２実施形態を
説明する。同図は、本実施形態におけるミラーボックス
２を中心とした部分の光学系の構成図であり、測光素子
１４がシャッター幕５を測光範囲としてカバーしている
状態を示している。なお、本実施形態に係る光学系全体
の構成は、測距素子の配置位置を除いて、図１に示した
第１実施形態の場合と同じなので、その説明は省略す
る。また、図２及び図５も第１実施形態と同様に用いら
れるが、その説明も省略する。

【００７７】図６に示すように、第２実施形態では、測
光素子１４と、第１の光束による一次像をその測光面上
に映し出す凸レンズ１４ａとを、ミラーボックス２の第
２の光束の伝搬方向側の壁面上に配設している。また、
ハーフミラー３をシャッター幕５から離して配置してい
る。但し、この場合、第１実施形態と比べて、シャッタ
ー幕５から測光素子１４に至る光束がＡＦミラー４に遮
られるのを容易かつ確実に避けることができるので、そ
の分、測光精度を改善することができる。

【００７８】次に、図７及び図８を参照しながら第３実
施形態を説明する。なお、本実施形態に係る光学系全体
の構成は、測距素子と測光素子の配置位置を除いて、図
１に示した第１実施形態の場合と同じなので、その説明
は省略する。また、図２及び図５も第１実施形態と同様
に用いられるが、その説明も省略する。ここで、図７及
び図８は、それぞれ、本実施形態におけるミラーボック
ス２を中心とした部分の光学系を第１の光束の光軸と第
２の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた構成図、及び
同じ部分を第２の光束の光軸方向から眺めた構成図であ
り、ともに測光素子１４がシャッター幕５を測光範囲と
してカバーしている状態を示している。

【００７９】図７に示すように、第３実施形態では第１
実施形態と同じく、測光素子１４と測距素子１５とを、
ともにミラーボックス２の第２の光束の伝搬方向と反対
側の壁面上に配設している。但し、第１実施形態とは異
なり、第２の光束の光軸方向から眺めたとき、ハーフミ
ラー３からシャッター幕５に向かって、測距素子１５、
測光素子１４の順に配列している。この配列により、第
１実施形態と比べて、シャッター幕５から測光素子１４
に至る光束がＡＦミラー４に遮られるのを容易かつ確実
に避けることができるので、その分、測光精度を改善す
ることができる。

【００８０】この場合、測光素子１４をシャッター幕５
から離して配置すると、第２の光束の光軸方向から眺め
たとき測距素子１５の配置位置がＡＦミラー４よりも交
換レンズ１側となるので、ＡＦミラー４は、第１の光束
を第２の光束の光軸よりも交換レンズ１側に傾いた方向
に反射するように構成する。同時に、測距素子１５を配
置する場所が狭くなるので、ＡＦミラー４で反射した光
束が凸レンズ１５ａを通った後、反射ミラー１５ｂで反
射されて測距素子１５の測距面に至るようにしている。

【００８１】またこのとき、図８に示すように、測光素
子１４と測距素子１５（同図では、測光素子１４、測距
素子１５のそれぞれの前に置かれる凸レンズ１４ａ、１
５ａを示している）を、第２の光束の光軸方向から眺め
たとき、ともに第１の光束の光軸の近傍となるように配
置している。これにより、第２の光束の光軸方向から眺
めたとき、測光素子１４は、第１の光束の光軸の両側の
領域に対して同じ角度で臨むことになるので、例えばそ
れぞれの領域に単位面積当たり同じ光量が当たった場
合、それらが反射して測光素子１４に達する光量は等し
くなる。したがって、シャッター幕５全体に亙るより正
確な測光を行うことができる。

【００８２】最後に、図９及び図１０を参照しながら第
４実施形態を説明する。なお、本実施形態に係る光学系
全体の構成は、測距素子と測光素子の配置位置を除い
て、図１に示した第１実施形態の場合と同じなので、そ
の説明は省略する。また、図２及び図５も第１実施形態
と同様に用いられるが、その説明も省略する。ここで、
図９及び図１０は、それぞれ、本実施形態におけるミラ
ーボックス２を中心とした部分の光学系を第１の光束の
光軸と第２の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた構成
図、及び同じ部分を第２の光束の光軸方向から眺めた構
成図であり、ともに測光素子１４がシャッター幕５を測
光範囲としてカバーしている状態を示している。

【００８３】図９及び図１０に示すように、第４実施形
態では、測距素子１５はミラーボックス２の第２の光束
の伝搬方向と反対側の壁面上に配設しているが、測光素
子１４、１４は第１の光束の光軸と第２の光束の光軸と
に平行な２つの壁面上に１対配設している。そして、そ
れぞれの測光素子１４、１４は、第２の光束の光軸方向
から眺めたとき第１の光束の光軸によって分けられるシ
ャッター幕５の２つの領域の内それぞれに近い方全域
と、遠い方の領域の一部とを、測光範囲としてカバーし
ている。

【００８４】測光素子１４、１４をこのように構成、配
置することにより、それぞれの測光素子１４の測光範囲
の中心と測光素子１４とを結ぶ直線が、シャッター幕５
に対して、（従来技術や第１〜第３実施形態の場合と比
べて）垂直に近い角度で交わることになるので、例えば
各測光素子１４の測光範囲全域に亙って単位面積当たり
同じ光量が当たったとき、その測光素子１４から見ると
測光範囲の各部位の明るさがより均一となる。したがっ
て、２つの測光素子１４、１４を協働させることによ
り、シャッター幕５全域に亙るより正確な測光を行うこ
とができる。

【００８５】なお、第４実施形態では、測光素子を第１
の光束の光軸と第２の光束の光軸とに平行な２つの壁面
上に１対配設しているが、その数を１つとし、前記２つ
の壁面のいずれかの上に配設することもできる。その場
合、測光範囲の中心はシャッター幕の中心となり、測光
範囲の中心と測光素子とを結ぶ直線が、シャッター幕に
対して、上記測光素子を２つ配設した場合よりも小さい
角度で交わることになるが、ハーフミラーをシャッター
幕から離して配置することにより、従来技術の場合より
は、その角度が垂直に近くなるので、上記と同じ理由か
ら、従来技術に比べるとシャッター幕全域に亙るより正
確な測光を行うことができる。

【００８６】

【発明の効果】以上説明したように、請求項１の発明に
よれば、例えば第１の光束としてシャッター幕全域に亙
って単位面積当たり同じ光量が当たった場合、測光素子
から見ると、シャッター幕の各部位の明るさが均一に近
くなるので、簡単な構成でシャッター幕全体に亙るより
正確な測光を行うことができる。また、多分割測光を行
う場合には、シャッター幕上の各領域に対する測光精度
のばらつきを解消するために、測光素子の測光面上の各
領域毎の検知出力に重み付けするという補正が極めてや
り易くなり、場合によっては補正する必要がない。

【００８７】請求項２によるときは、確実に光分割器と
シャッター幕との間の距離を広くすることができ、測光
手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の領
域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕となす
角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置できるので、
例えば第１の光束としてシャッター幕全域に亙って単位
面積当たり同じ光量が当たった場合、測光素子から見る
と、シャッター幕の各部位の明るさが均一に近くなる。
したがって、簡単な構成でシャッター幕全体に亙ってよ
り正確な測光を確実に行うことができる。

【００８８】請求項３によるときは、１つの主光学系か
ら入射した光が分割された後、２つの撮像手段に導かれ
て独立に撮像に用いられるので、１台で銀塩写真方式の
撮像手段部と、それとは別の方式の撮像手段とを備えた
画像撮影装置を構成することができる。

【００８９】請求項４によるときは、第２撮像手段で、
例えばビデオ撮影を行うことができ、第１撮像手段とと
もに用いれば、ビデオムービーと銀塩写真が同時に撮影
できる同時撮影モード、銀塩撮影ができる銀塩撮影モー
ド、ビデオムービーが撮影できるビデオ撮影モード、ビ
デオ静止画が撮影できるスチルビデオ撮影モード等を設
定して利用することができる。

【００９０】請求項５によるときは、定常測光時にシャ
ッター幕で反射される光量と、仮にシャッター幕を置か
ずフィルム露光面で反射されたときの光量とが略等しく
なるので、定常測光時にシャッター幕で反射され測光素
子で受光された光量から、なんら補正をしなくても実撮
影時のフィルム露光面の露光量が正確に分かり、簡単な
構成でより精度の高い測光を行うことができる。

【００９１】請求項６によるときは、第１撮像手段によ
るフィルムのフォーマットは広く用いられているものと
なり、入手し易いフィルムを用いて銀塩写真撮像を行う
ことができる。

【００９２】請求項７によるときは、光分割器により得
られた第１の光束を用いて、測光とともに測距が行われ
るので、測距を行うために主光学系の外に別途光学系を
設ける必要がない。また、光分割器をシャッター幕から
離して配置しているので、従来技術の場合よりもミラー
をシャッター幕から離して配置することができる。その
場合、ミラーを小さくすることができ、測光手段により
測光範囲としてカバーされる面積のうちミラーによって
蹴られる部分が小さくなるので、測光精度が改善され
る。

【００９３】請求項８によるときは、光分割器をシャッ
ター幕から離しているので、従来技術の場合よりも、測
光手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の
領域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕とな
す角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置するのが容
易となる。したがって、例えば第１の光束としてシャッ
ター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が当たった
場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各部位の明
るさが均一に近くなるので、簡単な構成でシャッター幕
全体に亙るより正確な測光を行うことができる。

【００９４】請求項９によるときは、光分割器をシャッ
ター幕から離しているので、従来技術の場合よりも、測
光手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上の
領域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕とな
す角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置するのが容
易となる。したがって、例えば第１の光束としてシャッ
ター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が当たった
場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各部位の明
るさが均一に近くなるので、簡単な構成でシャッター幕
全体に亙るより正確な測光を行うことができる。しか
も、シャッター幕から測光手段に至る光束がミラーに遮
られることのない位置に、測光手段が配設されるので、
その分、測光精度を改善することができる。

【００９５】請求項１０によるときは、光分割器をシャ
ッター幕から離しているので、従来技術の場合よりも、
測光手段の測光範囲としてカバーされるシャッター幕上
の領域の中心と測光手段とを結ぶ直線がシャッター幕と
なす角が垂直に近くなる位置に測光手段を配置するのが
容易となる。したがって、例えば第１の光束としてシャ
ッター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が当たっ
た場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各部位の
明るさが均一に近くなるので、簡単な構成でシャッター
幕全体に亙るより正確な測光を行うことができる。

【００９６】請求項１１によるときは、それぞれの測光
素子は、第２の光束の光軸方向から眺めたとき第１の光
束の光軸によって分けられるシャッター幕の２つの領域
の内それぞれに近い方全域と、遠い方の領域の一部と
を、測光範囲としてカバーするようにすれば、請求項１
０の場合に比べて、それぞれの測光素子の測光範囲の中
心と測光素子とを結ぶ直線とシャッター幕がなす角がよ
り垂直に近くなる。したがって、例えば第１の光束とし
てシャッター幕全域に亙って単位面積当たり同じ光量が
当たった場合、測光素子から見ると、シャッター幕の各
部位の明るさがより均一に近くなるので、簡単な構成で
シャッター幕全体に亙るより正確な測光を行うことがで
きる。

【００９７】請求項１２によるときは、第２の光束の光
軸方向から眺めたとき、測光手段は、第１の光束の光軸
の両側の領域に対して同じ角度で臨むことになるので、
例えばそれぞれの領域に単位面積当たり同じ光量が当た
った場合、それらが反射して測光手段に達する光量は等
しくなる。したがって、シャッター幕全体に亙るより正
確な測光を行うことができる。

【００９８】請求項１３によるときは、シャッター幕か
ら測光手段に至る光束がミラーに遮られるのを容易かつ
確実に避けることができる。したがって、その分、シャ
ッター幕全域の内、測光範囲として有効に利用できる面
積が大きくなるので、測光精度が改善される。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１実施形態に係るビデオカメラつきスチル
カメラの光学系全体の概略構成図。

【図２】多分割測光用の測光素子の測光面の一例を示
す図。

【図３】第１実施形態の光学系のミラーボックス２を
中心とした部分の概略構成図。

【図４】第１実施形態において第１の光束による一次
像面上にＡＦミラーの陰が生じる様子を示す図。

【図５】ミラーボックス内でハーフミラーをどの程度
動かせるかを示すために、ミラーボックスを第１の光束
の光軸と第２の光束の光軸とに垂直な方向から眺めた概
略図。

【図６】第２実施形態の光学系のミラーボックス２を
中心とした部分の概略構成図。

【図７】第３実施形態におけるミラーボックスを中心
とした部分の光学系を第１の光束の光軸と第２の光束の
光軸とに垂直な方向から眺めた概略構成図。

【図８】図７と同じ部分を第２の光束の光軸方向から
眺めた概略構成図。

【図９】第４実施形態におけるミラーボックスを中心
とした部分の光学系を第１の光束の光軸と第２の光束の
光軸とに垂直な方向から眺めた概略構成図。

【図１０】図９と同じ部分を第２の光束の光軸方向か
ら眺めた概略構成図。

【図１１】従来の１眼レフカメラのミラーボックスを
中心とした部分の光学系の概略構成図。

【図１２】ミラーボックス内における測光素子の配置
位置に応じて、第１の光束の光軸と一次像面の交点と測
光素子とを結ぶ直線が一次像面となす角度が変化する様
子を示す図。

【図１３】従来の画像撮影装置において第１の光束に
よる一次像面上にＡＦミラーの陰が生じる様子を示す
図。

【図１４】図１３の作用により第１の光束による一次
像面上に生じるＡＦミラーの陰を示す図。

【図１５】従来の画像撮影装置において第１の光束に
よる一次像面で反射され測光素子に至る光がＡＦミラー
により遮られる様子を示す図。

【図１６】図１５の作用により測光素子が眺める一次
像面内に生じるＡＦミラーの陰を示す図。

【符号の説明】

１交換レンズ（主光学系）２ミラーボックス（箱形の室）３ハーフミラー（光分割器）４ＡＦミラー５シャッター幕（第１撮像手段の一部）６フィルム露光面（第１撮像手段の一部、感光部
材）７圧板（第１撮像手段の一部）８フィルムレール（第１撮像手段の一部）９コンデンサレンズ（第２撮像手段の一部）１０反射ミラー（第２撮像手段の一部）１１リレーレンズ（第２撮像手段の一部）１２ＣＣＤイメージセンサ（第２撮像手段の一部）１３フランジ面１４測光素子（測光手段）１５測距素子（測距手段）１６第１の光束による一次像面１７第２の光束による一次像面

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】主光学系と、該主光学系を通して被写体
からの光束が入射する箱形の室と、該箱形の室内に固定
的に支持され前記被写体からの光束を第１の光束と第２
の光束に分割する光分割器と、前記箱形の室の一側面に
配設され前記第１の光束が結像する感光部材及び該感光
部材の前記光分割器側に配設されたシャッター幕を有す
る銀塩写真方式の第１撮像手段と、前記箱形の室の壁面
上で前記光分割器と前記シャッター幕の間に配設され前
記第１の光束が前記感光部材あるいは前記シャッター幕
で反射された光量を検知することにより測光する測光手
段とを備えた画像撮影装置において、前記光分割器は、前記主光学系の光軸に対して所定の角
度をなすように配置されたハーフミラーであり、前記感光部材と前記シャッター幕は、ともに前記第１の
光束の光軸に対して垂直に配置され、前記測光手段の測光範囲としてカバーされる前記シャッ
ター幕上の領域の中心と前記測光手段とを結ぶ直線が前
記シャッター幕となす角が垂直に近くなる位置に前記測
光手段を配置できるように、前記光分割器を前記第１の
光束の光軸方向に前記シャッター幕から離して配置した
ことを特徴とする画像撮影装置。
【請求項２】以下の条件を満たす請求項１に記載の画
像撮影装置；ａ≧３^1/2・Ｆ_SL／２，但し、ａ：上記光分割器の光分割面と上記第１の光束の光
軸の交点と、上記シャッター幕との間の距離、Ｆ_SL：上記第１の光束の光軸と上記第２の光束の光軸
とに平行な平面で切断したときの上記シャッター幕の長
さである。
【請求項３】上記第２の光束は、リレー光学系により
第２撮像手段に導かれて撮像に用いられる請求項１また
は請求項２に記載の画像撮影装置。
【請求項４】上記第２撮像手段は電子写真方式である
請求項３に記載の画像撮影装置。
【請求項５】上記シャッター幕の上記光分割器側の表
面の反射率を、上記感光部材の表面の反射率と略等価に
した請求項１ないし請求項４のいずれかに記載の画像撮
影装置。
【請求項６】上記第１撮像手段のフィルムのフォーマ
ットは、１３５システムである請求項１ないし請求項５
のいずれかに記載の画像撮影装置。
【請求項７】上記光分割器の上記シャッター幕側に配
設され上記第１の光束の一部を反射するミラーと、上記
箱形の室の壁面上に配設され前記ミラーで反射された光
を受けて測距を行う測距手段とを備えた請求項１ないし
請求項６のいずれかに記載の画像撮影装置。
【請求項８】上記測光手段は、上記箱形の室の上記第
２の光束の伝搬方向と反対側の壁面上に配設されている
請求項１ないし請求項７のいずれかに記載の画像撮影装
置。
【請求項９】上記測光手段は、上記箱形の室の上記第
２の光束の伝搬方向側の壁面上に配設されている請求項
１ないし請求項７のいずれかに記載の画像撮影装置。
【請求項１０】上記測光手段は、上記箱形の室の上記
第１の光束の光軸と上記第２の光束の光軸とに平行な壁
面上に配設されている請求項１ないし請求項７のいずれ
かに記載の画像撮影装置。
【請求項１１】上記測光手段は、上記箱形の室の上記
第１の光束の光軸と上記第２の光束の光軸とに平行な２
つの壁面上に一対配設されている請求項１ないし請求項
７のいずれかに記載の画像撮影装置。
【請求項１２】上記測光手段と上記測距手段とは、と
もに上記箱形の室の上記第２の光束の伝搬方向と反対側
の壁面上に配設され、かつ前記第２の光束の光軸方向か
ら眺めたとき、ともに上記第１の光束の光軸の近傍に配
置されている請求項７に記載の画像撮影装置。
【請求項１３】上記第２の光束の光軸方向から眺めた
とき、上記光分割器から上記シャッター幕に向かって、
上記測距手段、上記測光手段の順に配列されている請求
項１２に記載の画像撮影装置。