JPH09320952A - 露光装置 - Google Patents

露光装置

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JPH09320952A
JPH09320952A JP8158945A JP15894596A JPH09320952A JP H09320952 A JPH09320952 A JP H09320952A JP 8158945 A JP8158945 A JP 8158945A JP 15894596 A JP15894596 A JP 15894596A JP H09320952 A JPH09320952 A JP H09320952A
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optical axis
eye lens
fly
aperture stop
optical element
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JP8158945A
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Kazu Nojima
和 野島
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Original Assignee
Nikon Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】露光精度を向上させ得る簡易な構成の露光装置
を実現し難かつた。 【解決手段】照明光学系から発射された露光光をマスク
に照射すると共に、露光光がマスクを通過することによ
り得られるマスクのパターン像を投影光学系を介して感
光基板上に投影結像するようにして感光基板を露光する
露光装置において、照明光学系は、光源から発射された
露光光の強度分布を均一化する光学素子と、光学素子の
後段に交換可能に配置された開口絞りと、光学素子及び
開口絞りを順次通過する露光光の光軸方向、光軸と垂直
な方向及び光軸との傾きのそれぞれに対する光学素子及
び開口絞りの位置及び状態を調整するための調整機構と
を設けるようにしたことにより、光学素子と開口絞りと
の位置関係を常に一定にすることができ、かくして露光
精度を向上させ得る簡易な構成の露光装置を実現でき
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は露光装置に関し、例
えば投影露光装置に適用して好適なものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、例えば半導体集積回路や液晶基板
をリソングラフイ技術を用いて製造する際に、試料基板
上に設けられたレジスト膜を所望するパターンに応じて
露光する工程では、通常、投影露光装置と呼ばれる露光
装置が用いられている。
【０００３】投影露光装置は、光源から発射された照明
光を所望パターンに応じて作成されたレチクル（マス
ク）に照射すると共に、当該照明光がレチクルを通過す
ることにより得られるレチクルパターン像を投影光学系
を介して試料基板のレジスト膜に結像投影し得るように
なされ、これにより当該レジスト膜を所望する回路パタ
ーンに応じて露光し得ようになされている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年、この
ような投影露光装置では、レチクルに照射される照明光
の強度分布を均一化するために、光源からレチクルまで
の照射光の光路上にフライアイレンズと呼ばれる光学素
子を配設することや、レチクルに照射される照明光の照
射状態を必要に応じて変化させ得るようにするため、フ
ライアイレンズの直ぐ後段に開口絞りを交換自在に配置
することが提案されている（例えば特開平5-175100号公
報）。
【０００５】ところが従来では、光源からレチクルまで
の光学系（以下、これを照明光学系と呼ぶ）内にフライ
アイレンズと、その後段に交換自在に開口絞りを配置す
るに際して、当該フライアイレンズと開口絞りとの位置
関係については何の考慮もなされてなかつた。しかしな
がら、近年では露光パターンの微細化に伴つて露光精度
の向上が望まれてきており、このためにはフライアイレ
ンズと開口絞りとの位置関係を常に一定にする必要が生
じてきた。
【０００６】本発明は以上の点を考慮してなされたもの
で、露光精度を向上させ得る簡易な構成の露光装置を提
案しようとするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め本発明においては、照明光学系２から発射された露光
光Ｌ１をマスクＲに照射すると共に、露光光Ｌ１がマス
クＲを通過することにより得られるマスクＲのパターン
像ＰＡを投影光学系４を介して感光基板Ｗ上に投影結像
するようにして感光基板Ｗを露光する露光装置１におい
て、照明光学系２は、光源１０から発射された露光光Ｌ
１の強度分布を均一化する光学素子１４と、光学素子１
４の後段に交換可能に配置された開口絞り２１〜２５又
は２６と、光学素子１４及び開口絞り２１〜２５又は２
６を順次通過する露光光Ｌ１の光軸方向（Ｚ方向）、光
軸Ｋ１と垂直な方向（Ｘ方向及びＹ方向）及び光軸Ｋ１
との傾きのそれぞれに対する光学素子１４及び開口絞り
２１〜２５又は２６の位置及び状態を調整するための調
整機構４０、６０とを設けるようにした。
【０００８】このようにすることによつて、光学素子１
４及び開口絞り２１〜２５又は２６を順次通過する露光
光Ｌ１の光軸方向（Ｚ方向）、光軸Ｋ１と垂直な方向
（Ｘ方向及びＹ方向）及び光軸Ｋ１との傾きのそれぞれ
に対する光学素子１４及び開口絞り２１〜２５又は２６
の位置関係を常に一定にすることができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】以下図面について、本発明の一実
施例を詳述する。
【００１０】（１）第１実施例 図１において、１は全体として本発明を適用した投影露
光装置を示し、照明光学系２から発射された露光光Ｌ１
をレチクルホルダ３に保持されたレチクルＲに照射する
と共に、当該露光光Ｌ１がレチクルＲのレチクルパター
ンＰＡを通過することにより得られる当該レチクルパタ
ーンＰＡのパターン像を投影光学系４を介してウエハホ
ルダ５上に載置されたウエハＷ上のレジスト膜に結像す
ることにより、当該ウエハＷ上に形成されたレジスト膜
をレチクルパターンＰＡに応じて露光し得るようになさ
れている。
【００１１】実際上この投影露光装置１では、照明光学
系２の光源（例えば水銀ランプ）１０から発射された露
光光Ｌ１を楕円鏡１１により１度集束した後、ミラー１
２を介してインプツトレンズ１３に入射させ、これをイ
ンプツトレンズ１３において平行光束に変換した後、こ
の露光光Ｌ１の強度分布をフライアイレンズ１４を通し
て均一化させるようになされている。
【００１２】この場合、楕円鏡１１により集光される露
光光Ｌ１の集光位置には、図１からも明らかなように、
モータ３８により回転自在に保持されるようにして遮蔽
板３９が配置されており、かくして必要に応じてモータ
３８を駆動し、遮蔽板３９を露光光Ｌ１の集光位置に位
置させることにより、ウエハＷへの露光光Ｌ１の照射を
停止させ得るようになされている。
【００１３】またフライアイレンズ１４の後側焦点面
（照明光学系２におけるレチクルパターンＰＡのフーリ
エ変換面に相当）上には、図２に示すように、それぞれ
異なる開口（２１Ａ）、（２２Ａ、２３Ａ）、（２３
Ｂ）、（２４Ａ〜２４Ｄ）、（２５Ａ、２５Ｂ）又は
（２６Ａ）を有する複数種類の開口絞り２１〜２６が同
心円上に等間隔で設けられた回転板２０が、これら開口
絞り２１〜２６のうちの１つがフライアイレンズ１４の
出射面と対向するように配置されている。また回転板２
０は、モータ３１（図１）により必要量回転駆動させ得
るようになされている。
【００１４】これによりこの投影露光装置１では、モー
タ３０を駆動させて回転板２０を所定量回転させること
によつてフライアイレンズ１４の出射面と対向する開口
絞り２１〜２５又は２６を変えることができ、かくして
必要に応じてウエハＷ上のレジスト膜に対する露光条件
を変えることができるようになされている。
【００１５】この回転板２０から出射した露光光Ｌ１
は、この後アウトプツトレンズ３１によつてほぼ平行光
束に変換された後、レチクルＲのレチクルパターンＰＡ
とほぼ共役な位置に配置された視野絞り３２を介してリ
レーレンズ３３に入射し、当該リレーレンズ３３により
回転板２０の開口絞り２１〜２５又は２６と共役な平面
Ｐ１上に集光される。
【００１６】またこの露光光Ｌ１は、この後この平面Ｐ
１上に配置された可変開口絞り３４を介してコンデンサ
レンズ３５に入射し、当該コンデンサレンズ３５により
平行光束に変換された後、ミラー３６を介してレチクル
Ｒに入射する。さらにこの露光光Ｌ１がレチクルＲのパ
ターン面を通過することにより得られるレチクルパター
ンＰＡの投影像は、この後投影光学系４の瞳面Ｐ２に集
光された後、ウエハステージ５上に載置されたウエハＷ
のレジスト膜上に結像投影される。
【００１７】この場合ウエハステージ５は、駆動モータ
３７によつて、載置されたウエハＷを入射する露光光Ｌ
１の光軸方向と、当該光軸と垂直な方向とに必要に応じ
て移動させ得るようになされている。これによりこの投
影露光装置１では、ウエハＷのレジスト膜をレチクルパ
ターンＰＡに応じて露光し得、かくして当該レジスト膜
にレチクルパターンＰＡに応じた潜像を形成し得るよう
になされている。
【００１８】かかる構成に加えこの投影露光装置１の場
合、フライアイレンズ１４及び回転板２０は、図３に示
す可調整保持機構４０により一体に保持されている。す
なわち可調整保持機構４０においては、この図３からも
明らかなように、投影露光装置１の所定位置に固定する
ためのベース４１を有し、当該ベース４１に第１のＸＹ
Ｚ機構４２を介してステージ４３が取り付けられてい
る。
【００１９】またステージ４３にはピエゾ素子でなる第
１の煽り機構４４を介してフライアイレンズホルダ４５
が取り付けられていると共に、このフライアイレンズホ
ルダ４５によつてその光学軸が矢印ａで示す露光光Ｌ１
の光軸方向と平行に位置するようにフライアイレンズ１
４（図１）が保持されている。この場合第１のＸＹＺ機
構４２は、図示しない制御系から第１の駆動部４７に供
給される制御信号に応じた当該第１の駆動部４７の駆動
力に基づいて、ステージ４３を露光光Ｌ１の光軸Ｋ１と
平行なＺ方向（矢印ｚ1 ）と、当該光軸Ｋ１と垂直な互
いに直交するＸ方向及びＹ方向（矢印ｙ1 ）とにそれぞ
れ必要量移動させ得るようになされている。
【００２０】また第１の煽り調整機構４５は、上述の制
御系から供給される制御信号に基づいて、フライアイレ
ンズホルダ４６の露光光Ｌ１の光軸Ｋ１に対する傾き状
態（煽り状態）を変化させ得るようになされている。こ
れによりこの可調整保持機構４０では、フライアイレン
ズホルダ４６のＸ、Ｙ及びＺ方向の位置を第１のＸＹＺ
機構４２を介して変化させ得る一方、当該フライアイレ
ンズホルダ４６の煽り状態を第１の煽り調整機構４５を
介して変化させ得るようになされ、かくしてフライアイ
レンズ１４（図１）のＸ、Ｙ及びＺ方向の位置調整並び
に煽り調整を自在に行い得るようになされている。
【００２１】一方ベース４１には、断面Ｌ字状の連結板
５０を介して第２のＸＹＺ機構５１が取り付けられると
共に、当該第２のＸＹＺ機構５１にはステージ５２を介
してエピゾ素子でなる第２の煽り調整機構５３が取り付
けられている。また第２の煽り調整機構５３にはモータ
取付けブロツク５４を介して上述のモータ３１がその出
力軸３１ＡをＺ方向と平行にして固定されると共に、当
該モータ５３の出力軸３１Ａには上述のように複数の開
口絞り２１〜２６（図２）が設けられてなる回転板２０
が固定されている。
【００２２】この場合第２のＸＹＺ機構５１は、上述の
制御系から第２の駆動部５５に供給される制御信号に応
じた当該第２の駆動部５５の駆動出力に基づいて、ステ
ージ５２を露光光Ｌ１の光軸Ｋ１と平行な方向（Ｚ方
向）と、当該光軸Ｋ１と垂直な互いに直交するＸ方向及
びＹ方向とにそれぞれ必要量移動させ得る一方、第２の
煽り調整機構５３は、制御系から供給される制御信号に
基づいてモータ取付けブロツク５４の露光光Ｌ１の光軸
Ｋ１に対する傾き状態（煽り状態）を変化させ得るよう
になされている。
【００２３】これによりこの可調整保持機構４０では、
回転板２０のＸ、Ｙ及びＺ方向の位置を第２のＸＹＺ機
構５１を介して変化させ得る一方、当該回転板２０の煽
り状態を第２の煽り調整機構５３を介して変化させ得る
ようになされ、かくして当該回転板２０に設けられた各
開口絞り２１〜２６のＸ、Ｙ及びＺ方向の位置調整並び
に煽り調整を自在に行い得るようになされている。さら
にこの可調整保持機構４０の場合、モータ３１は、制御
系から供給される駆動制御信号に基づいて回転板２０を
回転させるようになされ、これによりフライアイレンズ
１４の出射面と対向させる、使用する開口絞り２１〜２
５又は２６を自在に交換し得るようになされている。
【００２４】以上の構成において、この投影露光装置１
では、可調整保持機構４０の第１のＸＹＺ機構４２及び
第１の煽り調整機構４５を駆動させることによりフライ
アイレンズ１４のＸ、Ｙ及びＺ方向の位置調整と、煽り
調整とを行うことができる一方、当該可調整保持機構４
０の第２のＸＹＺ機構５１及び第２の煽り調整機構５３
を駆動させることにより回転板２０に設けられた各開口
絞り２１〜２６のＸ、Ｙ及びＺ方向の位置調整と、煽り
調整とを行うことができる。
【００２５】従つてこの投影露光装置１では、第１のＸ
ＹＺ機構４２及び第１の煽り調整機構４５を駆動させる
ことによりフライアイレンズ１４の位置調整及び煽り調
整を行つた後、第２のＸＹＺ機構５１及び第２の煽り調
整機構５３を駆動させることによつてフライアイレンズ
１４に対する使用する開口絞り２１〜２５又は２６の位
置調整及び煽り調整を行うことができるため、フライア
イレンズ１４と使用する開口絞り２１〜２５又は２６と
の相対的な位置関係を常に一定にすることができる。
【００２６】以上の構成によれば、ベース４１に第１の
ＸＹＺ機構４２及び第１の煽り調整機構４５を介してフ
ライアイレンズ１４を取り付けると共に、当該ベース４
１に第２のＸＹＺ機構５１及び第２の煽り調整機構５３
を介して複数の開口絞り２１〜２６が設けられてなる回
転板２０を回転自在に取り付けるようにしたことによ
り、開口絞り２１〜２６を交換自在に、かつフライアイ
レンズ１４と使用する開口絞り２１〜２５又は２６との
相対的な位置関係を常に一定にすることができ、かくし
て露光精度を向上させ得る簡易な構成の露光装置を実現
できる。
【００２７】（２）第２実施例 図３との対応部分に同一符号を付して示す図４は、第１
実施例の可調整保持機構４０に代えて投影露光装置１に
適用するための第２実施例による可調整保持機構６０を
示すものであり、ベース４１に第１のＸＹＺ機構４２を
介して板状のブロツク６１が取り付けられている。この
ブロツク６１の一端側には、第１の煽り調整機構４５を
介してフライアイレンズホルダ４６が取り付けられてい
ると共に、当該フライアイレンズホルダ４６内には上述
のようにフライアイレンズ１４が配設されている。
【００２８】またブロツク６１の他端側には、第２の煽
り調整機構５３を介してモータ取付けブロツク５４が取
り付けられていると共に、モータ取付けブロツク５４に
はモータ３１がその出力軸３１ＡがＺ方向と平行になる
ように固定され、かつ当該モータ３１の出力軸３１Ａに
は回転板２０が固定されている。
【００２９】この場合第１のＸＹＺ機構４２は、図示し
ない制御系から第１の駆動部４７に供給される制御信号
に応じた当該第１の駆動部４７の駆動出力に基づいて、
ブロツク６１を露光光Ｌ１の光軸Ｋ１と平行なＺ方向
と、当該光軸Ｋ１と垂直な互いに直交するＸ方向及びＹ
方向とに自在に移動させ得るようになされている。
【００３０】これによりこの可調整保持機構６０では、
第１のＸＹＺ機構４２を駆動することによつてフライア
イレンズホルダ４６及び回転板２０を一体にＸ、Ｙ及び
Ｚ方向に移動させ得ることができ、かくしてフライアイ
レンズ１４及び各開口絞り２１〜２６のＸ、Ｙ及びＺ方
向の位置調整を一体に行い得るようになされている。
【００３１】また第１の煽り調整機構４５は、制御系か
ら供給される制御信号に基づいてフライアイレンズホル
ダ４６の露光光Ｌ１の光軸Ｋ１に対する傾き状態を（煽
り状態）を変化させる一方、第２の煽り調整機構５３
は、制御系から供給される制御信号に基づいてブロツク
５４のＺ方向に対する傾き状態を（煽り状態）を変化さ
せるようになされている。
【００３２】これによりこの可調整保持機構６０では、
第１及び第２の煽り調整機構４５、５３をそれぞれ介し
てフライアイレンズ１４及び回転板２０の傾き状態を変
化させることができ、かくしてフライアイレンズ１４
と、回転板２０に形成された各開口絞り２１〜２６との
各煽り状態をそれぞれ独立に自在に調整し得るようにな
されている。
【００３３】以上の構成において、この可調整保持機構
６０では第１のＸＹＺ機構４２を駆動させることによつ
て、フライアイレンズ１４及び各開口絞り２１〜２６を
Ｘ、Ｙ及びＺ方向に一体に移動（連動）させることがで
きる。
【００３４】従つて投影露光装置１（図１）の可調整保
持機構としてこの可調整保持機構６０を採用することに
よつて、第１実施例の場合と同様にフライアイレンズ１
４と、使用する開口絞り２１〜２５又は２６との位置関
係を常に一定にすることができると共に、フライアイレ
ンズ１４及び各開口絞り２１〜２６のＸ、Ｙ及びＺ方向
の位置調整を一体に行うことができる分、可調整保持機
構として第１実施例の可調整保持機構４０（図３）を採
用した場合に比べてフライアイレンズ１４及び使用する
開口絞り２１〜２５又は２６間の位置調整作業をより容
易にすることができる。
【００３５】またこの可調整保持機構６０では、フライ
アイレンズ１４及び開口絞り２１〜２５又は２６がＸ方
向、Ｙ方向及びＺ方向の位置調整機構を共有しているた
め、第１実施例の場合に比べてより構成を簡易化させる
ことができる。
【００３６】以上の構成によれば、ベース４１に第１の
ＸＹＺ機構４２を介してブロツク６１を取り付けると共
に、当該ブロツク６１に第１又は第２の煽り調整機構４
５、５３をそれぞれ介してフライアイレンズ１４及び複
数の開口絞り２１〜２６が設けられてなる回転板２０を
取り付けるようにしたことにより、フライアイレンズ１
４に対する各開口絞り２１〜２６のＸ、Ｙ及びＺ方向の
位置調整作業を省略させながらフライアイレンズ１４と
使用する開口絞り２１〜２５又は２６との相対的な位置
関係を常に一定することができ、かくして露光精度を向
上させ得る簡易な構成の、かつ第１実施例に比べて調整
作業が容易な露光装置を実現できる。
【００３７】（３）他の実施例 なお上述の第１及び第２実施例においては、本発明をウ
エハＷを露光する投影露光装置１に適用するようにした
場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は、
照明光学系から発射された露光光をマスクに照射すると
共に、露光光がマスクを通過することにより得られるマ
スクのパターン像を投影光学系を介して感光基板上に投
影結像するようにして感光基板を露光するようになされ
た露光装置であるのならば、この他種々の構成の露光装
置に適用できる。
【００３８】また上述の第１及び第２実施例において
は、光源から発射された前記露光光の強度分布を均一化
する光学素子としてフライアイレンズを適用するように
した場合について述べたが、本発明はこれに限らず、こ
の他種々の光学素子を適用できる。
【００３９】さらに上述の第１及び第２実施例において
は、複数の開口絞り２１〜２６を回転板２０に設け、当
該回転板２０を回転自在に配置することにより開口絞り
２１〜２６を交換可能にするようにした場合について述
べたが、本発明はこれに限らず、開口絞り２１〜２６を
交換可能にする方法としては、この他種々の方法を適用
できる。
【００４０】さらに上述の第１及び第２実施例において
は、フライアイレンズ１４及び開口絞り２１〜２５又は
２６間の位置及び状態を調整するための調整機構を図３
又は図４の可調整保持機構４０、６０のように構成する
ようにした場合について述べたが、本発明はこれに限ら
ず、要は、フライアイレンズ１４及び開口絞り２１〜２
５又は２６を順次通過する露光光Ｌ１の光軸方向（Ｚ方
向）、光軸Ｋ１と垂直な方向（Ｘ方向及びＹ方向）及び
光軸Ｋ１との傾きのそれぞれに対するフライアイレンズ
１４及び開口絞り２１〜２５又は２６の位置及び状態を
調整することができるのであれば調整機構としてはこの
他種々の構成を適用できる。
【００４１】さらに上述の第２実施例においては、フラ
イアイレンズ１４及び開口絞り２１〜２５又は２６のＸ
方向、Ｙ方向及びＺ方向の全ての位置調整機構（第１の
ＸＹＺ機構４２等）を共有させるようにした場合につい
て述べたが、本発明はこれに限らず、フライアイレンズ
１４及び開口絞り２１〜２５又は２６のＸ方向、Ｙ方向
及びＺ方向の位置調整機構の一部だけを共有させたり、
又はフライアイレンズ１４及び開口絞り２１〜２５又は
２６のＸ方向、Ｙ方向及びＺ方向の全ての位置調整機構
に加えて煽り状態の状態調整機構（第１及び第２の煽り
調整機構４５、５３）をも共有させるようにしても良
い。
【００４２】
【発明の効果】上述のように本発明によれば、照明光学
系から発射された露光光をマスクに照射すると共に、露
光光がマスクを通過することにより得られるマスクのパ
ターン像を投影光学系を介して感光基板上に投影結像す
るようにして感光基板を露光する露光装置において、照
明光学系は、光源から発射された露光光の強度分布を均
一化する光学素子と、光学素子の後段に交換可能に配置
された開口絞りと、光学素子及び開口絞りを順次通過す
る露光光の光軸方向、光軸と垂直な方向及び光軸との傾
きのそれぞれに対する光学素子及び開口絞りの位置及び
状態を調整するための調整機構とを設けるようにしたこ
とにより、光学素子と開口絞りとの位置関係を常に一定
にすることができ、露光精度を向上させ得る簡易な構成
の露光装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した投影露光装置の構成を示す略
線図である。
【図２】回転板に設けられた各開口絞りの様子を示す略
線的な正面図である。
【図３】第１実施例による可調整保持機構の構成を示す
側面図である。
【図４】第２実施例による可調整保持機構の構成を示す
側面図である。
【符号の説明】
１……投影露光装置、１４……フライアイレンズ、２０
……回転板、２１〜２６……開口絞り、３１……モー
タ、４０、６０……可調整保持機構、４１……ベース、
４２、５１……ＸＹＺ機構、４５、５３……煽り調整機
構、４６……フライアイレンズホルダ、４７、５５……
駆動部、Ｌ１……露光光、Ｋ１……光軸。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】照明光学系から発射された露光光をマスク
    に照射すると共に、前記露光光が前記マスクを通過する
    ことにより得られる前記マスクのパターン像を投影光学
    系を介して感光基板上に投影結像するようにして前記感
    光基板を露光する露光装置において、 前記照明光学系は、 光源から発射された前記露光光の強度分布を均一化する
    光学素子と、 前記光学素子の後段に交換可能に配置された開口絞り
    と、 前記光学素子及び前記開口絞りを順次通過する前記露光
    光の光軸方向、前記光軸と垂直な方向及び前記光軸との
    傾きのそれぞれに対する前記光学素子及び前記開口絞り
    の位置及び状態を調整するための調整機構とを具えるこ
    とを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項２】前記光学素子の前記位置及び又は前記状態
    の調整と連動して、前記光学素子及び前記開口絞りの関
    係が一定となるように前記開口絞りの前記位置及び又は
    前記状態を調整することを特徴とする請求項１に記載の
    露光装置。
  3. 【請求項３】前記調整機構は、 前記光学素子及び前記開口絞りを順次通過する前記露光
    光の光軸方向、当該光軸と垂直な方向及び前記光軸との
    傾きのそれぞれに対する前記光学素子の位置及び状態を
    調整するための第１の調整機構と、前記光学素子及び前
    記開口絞りを順次通過する前記露光光の光軸方向、当該
    光軸と垂直な方向及び前記光軸との傾きのそれぞれに対
    する前記開口絞りの位置と及び状態を調整するための第
    ２の調整機構とが一部又は全部を共有してなることを特
    徴とする請求項１に記載の露光装置。
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