JPH09320122A - Treating device for glass master disk - Google Patents
Treating device for glass master diskInfo
- Publication number
- JPH09320122A JPH09320122A JP13230896A JP13230896A JPH09320122A JP H09320122 A JPH09320122 A JP H09320122A JP 13230896 A JP13230896 A JP 13230896A JP 13230896 A JP13230896 A JP 13230896A JP H09320122 A JPH09320122 A JP H09320122A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass master
- tank
- glass
- post
- master
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスクスタン
パーの作成に用いられたガラス原盤を再生処理するガラ
ス原盤の処理装置に関し、更に詳細には、ガラス原盤の
盤厚を減少させることなく、効率よくガラス原盤の再生
処理を行うことができるガラス原盤の処理装置に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a glass master processing apparatus for reprocessing a glass master used for producing an optical disk stamper, and more specifically, to efficiently process the glass master without reducing the thickness of the glass master. The present invention relates to a glass master processing apparatus capable of performing a glass master recycling process.
【０００２】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ディジ
タルオーディオディスクやビデオディスクなどの光ディ
スクや静電容量方式のビデオディスクなどの記録媒体
は、近年、広く利用されている。2. Description of the Related Art Recording media such as optical disks such as digital audio disks and video disks and electrostatic capacity type video disks have been widely used in recent years.
【０００３】上記記録媒体は、下記の如くして製造され
ている。即ち、平坦で正常な表面を有するガラス原盤の
表面にフォトレジストの塗れ性を良くするために、シラ
ンカップリング剤によるプライマー処理を行った後、更
にフォトレジストをスピンコートし、電気炉などで熱処
理してフォトレジスト膜を形成する。次いで、該フォト
レジスト膜にレーザービームを照射してパターンを露光
し現像を行って凹凸パターンを形成する。The recording medium is manufactured as follows. That is, in order to improve the wettability of the photoresist on the surface of the glass master having a flat and normal surface, after performing a primer treatment with a silane coupling agent, the photoresist is further spin-coated and heat-treated in an electric furnace or the like. Then, a photoresist film is formed. Then, the photoresist film is irradiated with a laser beam to expose the pattern and develop to form an uneven pattern.
【０００４】この凹凸パターンが形成されたガラス原盤
は、これをそのまま型として用いて上記記録媒体を製造
する場合もあるが、上記記録媒体は、通常、成形機を用
いて大量のプラスチック基板に凹凸パターンを複写して
製造される場合が多く、この場合には、上記の凹凸パタ
ーンが形成されたガラス原盤を母型としてニッケル製の
型（スタンパー）を製造し、該型を用いて上記基板上に
ピットやグルーブ等の凹凸パターンを複写（形成）する
ことにより上記記録媒体を製造している。また、上記型
は、上記の凹凸パターンの形成されたガラス原盤に、真
空蒸着法や無電解メッキ法を用いて金属導電層を形成
し、該導電層上に電極を押しつけて電鋳を行い、ニッケ
ルを成長させ、ニッケルの成長終了後、該ニッケルをガ
ラス原盤から剥がし、洗浄などの後加工を行うことによ
り製造されている。The glass master on which the concavo-convex pattern is formed may be used as it is as a mold to manufacture the recording medium, but the recording medium is usually concavo-convex on a large number of plastic substrates using a molding machine. In many cases, it is manufactured by copying a pattern. In this case, a mold (stamper) made of nickel is manufactured by using the glass master having the above-mentioned concavo-convex pattern as a mother mold, and the mold is used to form a pattern on the substrate. The recording medium is manufactured by copying (forming) an uneven pattern such as pits and grooves. Further, the mold is a glass master having the uneven pattern formed thereon, a metal conductive layer is formed using a vacuum deposition method or an electroless plating method, and an electrode is pressed on the conductive layer to perform electroforming. It is manufactured by growing nickel, peeling the nickel from the glass master after completion of the nickel growth, and performing post-processing such as cleaning.
【０００５】ここで、用いられる上記ガラス原盤は、高
価であるため、通常、表面を薬剤によって処理した後、
研磨して再生し、別の型を製造するために再使用され
る。The above-mentioned glass master used here is expensive, and therefore, after the surface is usually treated with a chemical,
Polished, reclaimed and reused to make another mold.
【０００６】しかし、ガラス原盤を再生するために毎回
研磨を行うと、ガラス原盤自体も削り取られ、一回の研
磨で数μの板厚の減少を伴うので、再生回数に物理的な
限界が生じる他、再生の都度、レーザービームによる記
録工程での焦点合わせが必要となる。また、一回あたり
の再生コストが割高となるほか、再生に要する時間も長
くなるという問題がある。However, when the glass master is polished every time to regenerate it, the glass master itself is also scraped off, and the plate thickness is reduced by several μ in one polishing, so that the number of times of reproduction is physically limited. In addition, it is necessary to focus in the recording process with a laser beam each time reproduction is performed. Further, there is a problem that the reproduction cost per one time becomes expensive and the time required for the reproduction becomes long.
【０００７】そこで、ガラス原盤の表面に形成された金
属導電層、フォトレジスト膜等を薬剤を用いて除去する
ことにより、研磨を行わずにガラス原盤を再生処理する
方法が提案されている。そして、かかる薬剤による処理
方法を実施するための装置としては、薬剤をガラス原盤
表面に吹きつけるスプレー機を有する処理装置が知られ
ている。しかし、このようなスプレー機により薬剤を吹
きつける形態の処理装置では、薬剤をガラス表面に物理
的に均一に塗布・接触させることができず、更には濃度
分布や温度分布も不均一になり、処理の程度が不均一に
なるという問題や、装置が大きくなってしまうという問
題があった。Therefore, a method has been proposed in which the metal conductive layer, the photoresist film and the like formed on the surface of the glass master are removed by using a chemical to regenerate the glass master without polishing. As a device for carrying out such a treatment method with a chemical, a treatment device having a sprayer for spraying the chemical onto the glass master disk surface is known. However, in such a treatment device in which the chemical is sprayed by a sprayer, the chemical cannot be applied to the glass surface physically and uniformly, and further the concentration distribution and the temperature distribution become non-uniform, There are problems that the degree of processing becomes uneven and that the device becomes large.
【０００８】従って、本発明の目的は、ガラス原盤の盤
厚を減少させることなく、効率よく且つ均一にガラス原
盤の再生処理を行うことができるガラス原盤の処理装置
を提供するものである。[0008] Therefore, an object of the present invention is to provide a glass master processing apparatus capable of efficiently and uniformly reclaiming a glass master without reducing the thickness of the glass master.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明は、表面にフォト
レジスト層及びニッケル層が形成されており、基板上に
凹凸パターンを複写する型の製造に用いられるガラス原
盤を再生処理するガラス原盤の処理装置において、内部
に上記ニッケル層を除去するニッケル層除去用薬剤を蓄
積し、ガラス原盤を該ニッケル層除去用薬剤に浸漬する
ためのニッケル層除去槽と、内部に上記フォトレジスト
層を除去するレジスト層除去用薬剤を蓄積し、ガラス原
盤を該レジスト層除去用薬剤に浸漬するためのレジスト
層除去槽と、上記レジスト層除去槽における処理の終了
後にガラス原盤の表面を処理する後処理薬剤を内部に蓄
積し、ガラス原盤を該後処理薬剤に浸漬するための後処
理槽と、ガラス原盤の表面を水洗する水洗手段と、上記
ニッケル層除去槽、上記レジスト層除去槽、上記後処理
槽及び上記水洗手段それぞれに、上記ガラス原盤を移送
するガラス原盤移送手段と、を具備することを特徴とす
るガラス原盤の処理装置を提供することにより、上記目
的を達成したものである。DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is directed to a glass master disk having a photoresist layer and a nickel layer formed on the surface thereof, which is used for remanufacturing a glass master disk used for manufacturing a mold for copying an uneven pattern on a substrate. In the processing apparatus, a nickel layer removing agent for removing the nickel layer is accumulated inside, and a nickel layer removing tank for immersing a glass master in the nickel layer removing agent, and the photoresist layer inside are removed. A resist layer removing tank for accumulating the resist layer removing agent and immersing the glass master in the resist layer removing agent, and a post-treatment agent for treating the surface of the glass master after finishing the treatment in the resist layer removing tank. A post-treatment tank for accumulating inside and immersing the glass master in the post-treatment chemical, a water washing means for washing the surface of the glass master with water, and the nickel layer removing tank By providing a glass master processing device for transporting the glass master to each of the resist layer removing tank, the post-treatment tank, and the water washing means, a glass master processing apparatus is provided, which has the above-mentioned object. Has been achieved.
【００１０】また、本発明は、更に、上記ニッケル層除
去槽、上記レジスト層除去槽及び上記後処理槽内で上記
ガラス原盤を揺動させる揺動手段が設けられている上記
ガラス原盤の処理装置を提供するものである。また、本
発明は、上記レジスト層除去用薬剤が、アルカリ化合物
の水溶液である上記ガラス原盤の処理装置を提供するも
のである。また、本発明は、上記レジスト層除去槽及び
上記後処理槽に、それぞれ、超音波発生器が設けられて
いる上記ガラス原盤の処理装置を提供するものである。
また、本発明は、上記レジスト層除去槽及び上記後処理
槽に、それぞれ、レジスト層除去用薬剤及び後処理薬剤
を加熱する加熱手段が設けられている上記ガラス原盤の
処理装置を提供するものである。Further, according to the present invention, the glass master processing apparatus is further provided with rocking means for rocking the glass master in the nickel layer removing tank, the resist layer removing tank and the post-treatment tank. Is provided. The present invention also provides the above glass master processing apparatus, wherein the resist layer removing agent is an aqueous solution of an alkali compound. Further, the present invention provides the processing apparatus for the glass master, in which an ultrasonic wave generator is provided in each of the resist layer removing tank and the post-processing tank.
The present invention also provides a processing apparatus for the above glass master, in which the resist layer removing tank and the post-processing tank are provided with heating means for heating the resist layer removing chemical and the post-processing chemical, respectively. is there.
【００１１】また、本発明は、更に、ガラス原盤を乾燥
させる乾燥手段が設けられている上記ガラス原盤の処理
装置を提供するものである。また、本発明は、更に、ガ
ラス原盤の表面から上記フォトレジスト層及び上記ニッ
ケル層が除去されているか否かを確認する観察手段が設
けられている上記ガラス原盤の処理装置を提供するもの
である。また、本発明は、上記ガラス原盤移送手段は、
ガラス原盤を保持する原盤保持部を有するガラス原盤移
送部であり、該原盤保持部は、取り替え可能になされて
おり、また、該原盤保持部は、その長さが調節可能とな
されている上記ガラス原盤の処理装置を提供するもので
ある。また、本発明は、上記水洗手段は、内部に純水が
蓄積される純水槽であり、該純水槽には、超音波発生器
及び該純水を加熱する加熱手段が設けられている上記ガ
ラス原盤の処理装置を提供するものである。Further, the present invention further provides the above-mentioned glass master processing apparatus, which is provided with a drying means for drying the glass master. Further, the present invention further provides a processing apparatus for the glass master disk, which is provided with an observation means for confirming whether or not the photoresist layer and the nickel layer are removed from the surface of the glass master disk. . Further, the present invention is, the glass master transfer means,
A glass master transfer unit having a master holding unit for holding a glass master, wherein the master holding unit is replaceable, and the master holding unit has an adjustable length. A processing device for a master is provided. Further, in the present invention, the water washing means is a pure water tank in which pure water is accumulated, and the pure water tank is provided with an ultrasonic generator and a heating means for heating the pure water. A processing device for a master is provided.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明のガラス原盤の処理
装置について詳細に説明する。本発明における処理対象
であるガラス原盤は、その表面にフォトレジストを塗布
して露光・現像し凹凸パターンを有するフォトレジスト
層を形成した後、電気メッキ（電鋳）によりニッケル層
が形成されたものであり、基板上に凹凸パターンを複写
する型（スタンパー）の製造に用いられるものである。
尚、上記ガラス原盤は、フォトレジスト層を形成する前
に表面にシランカップリング剤を塗布してプライマー処
理するのが通常であり、再生処理に際しては該シランカ
ップリング剤により形成されたプライマー層をも除去す
るのが好ましい。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The glass master processing apparatus of the present invention will be described in detail below. The glass master disk to be treated in the present invention has a nickel layer formed by electroplating (electroforming) after forming a photoresist layer having a concavo-convex pattern by applying a photoresist on the surface thereof, exposing and developing the same. And is used for manufacturing a mold (stamper) for copying a concave-convex pattern on a substrate.
Incidentally, the glass master is usually subjected to a primer treatment by applying a silane coupling agent on the surface before forming a photoresist layer, and during the regeneration treatment, a primer layer formed by the silane coupling agent is applied. Is also preferably removed.
【００１３】上記ガラス原盤としては、具体的には、ソ
ーダライムガラス、ホワイトクラウンガラス、低膨張ガ
ラス、無アルカリガラス、合成石英ガラス、低アルカリ
ガラス、化学強化ガラス製のガラス原盤等が好ましく挙
げられる。Preferred examples of the glass master include soda lime glass, white crown glass, low expansion glass, alkali-free glass, synthetic quartz glass, low alkali glass, and chemically strengthened glass master. .
【００１４】また、上記凹凸パターンが複写される上記
基板としては、通常、記録媒体の材料として用いられる
プラスチック製の基板等が挙げられる。また、上記凹凸
パターンとは、信号を記録するピットやグルーブ等が形
成されてなるパターンを意味する。上記型によって上記
基板上に上記凹凸パターンを複写することにより製造さ
れる記録媒体としては、ディジタルオーディオディスク
やビデオディスクなどの光ディスクや静電容量方式のビ
デオディスク等が挙げられる。As the substrate on which the concavo-convex pattern is copied, a plastic substrate or the like usually used as a material for a recording medium can be cited. The uneven pattern means a pattern formed with pits or grooves for recording signals. Examples of the recording medium manufactured by copying the concavo-convex pattern on the substrate with the mold include optical disks such as digital audio disks and video disks, and electrostatic capacity type video disks.
【００１５】上記ニッケル層除去槽に蓄えられるニッケ
ル層除去用薬剤としては、通常ニッケル層を除去するた
めに用いられている薬剤で有れば特に制限なく用いるこ
とができるが、具体的には、ＨＮＯ3 、ＨＣｌ、Ｈ2 Ｓ
Ｏ4 等の強酸の一種以上を含む水溶液；ＦｅＣｌ3 、Ｃ
ｕＣｌ2 、Ｆｅ2(ＳＯ4)3 、ＣｕＳＯ4 、ロシェル塩等
の塩を一種以上含有する水溶液；又は該強酸の一種以上
と該塩の一種以上とを組み合わせた水溶液等が挙げられ
る。As the chemical agent for removing the nickel layer stored in the nickel layer removing tank, any chemical agent usually used for removing the nickel layer can be used without any particular limitation. HNO 3 , HCl, H 2 S
Aqueous solution containing one or more strong acids such as O 4 ; FeCl 3 , C
An aqueous solution containing one or more salts such as uCl 2 , Fe 2 (SO 4 ) 3 , CuSO 4 , and Rochelle salt; or an aqueous solution in which one or more of the strong acid and one or more of the salt are combined.
【００１６】また、上記レジスト層除去槽に蓄えられる
レジスト層除去用薬剤としては、通常フォトレジストを
除去するために用いられている薬剤で有れば特に制限な
く用いることができるが、具体的には、ＮａＯＨ、Ｃａ
（ＯＨ）2 ，ＫＯＨ、Ｎａ2ＰＯ4 、Ｎａ4 Ｐ2 Ｏ7 、
Ｎａ2 ＳｉＯ3 、エタノールアミンなどのアルカリ化合
物の一種以上を含有する水溶液が好ましく用いられる。The resist layer removing agent stored in the resist layer removing tank can be used without particular limitation as long as it is an agent usually used for removing photoresist. Is NaOH, Ca
(OH) 2 , KOH, Na 2 PO 4 , Na 4 P 2 O 7 ,
An aqueous solution containing at least one alkali compound such as Na 2 SiO 3 and ethanolamine is preferably used.
【００１７】更に、上記後処理槽に蓄えられる後処理薬
剤としては、上記レジスト層除去用薬剤として上記のア
ルカリ化合物を含有する水溶液を用いた場合には、該ア
ルカリ化合物の水溶液を中和するために、クエン酸等の
有機酸や、塩酸等の無機酸を含有する水溶液が好ましく
用いられる。Further, as the post-treatment agent stored in the post-treatment tank, when an aqueous solution containing the above-mentioned alkali compound is used as the above-mentioned resist layer removing agent, it neutralizes the aqueous solution of the alkali compound. In addition, an aqueous solution containing an organic acid such as citric acid or an inorganic acid such as hydrochloric acid is preferably used.
【００１８】次いで、図面を参照して本発明のガラス原
盤の処理装置について更に具体的に説明する。ここで、
図１は、本発明のガラス原盤の処理装置の一形態として
の装置の正面側をその内部を透視して示す透視正面図で
あり、図２は、図１のII−II断面図であり、図３は、図
１のIII −III 断面図である。Next, the glass master processing apparatus of the present invention will be described more specifically with reference to the drawings. here,
FIG. 1 is a perspective front view showing a front side of an apparatus as one form of a glass master processing apparatus of the present invention, as seen through the inside thereof, and FIG. 2 is a II-II sectional view of FIG. FIG. 3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.
【００１９】本発明のガラス原盤の処理装置１は、図１
〜３に示すように、表面にフォトレジスト層及びニッケ
ル層が形成されており（図示せず）、基板上に凹凸パタ
ーンを複写する型の製造に用いられるガラス原盤を再生
処理するガラス原盤１１の処理装置であり、内部に上記
ニッケル層を除去するニッケル層除去用薬剤を蓄積し
（本形態においては該ニッケル層除去用薬剤としての３
３重量％硝酸水溶液が蓄えられている）、ガラス原盤１
１を該硝酸水溶液に浸漬するためのニッケル層除去槽２
と、内部に上記フォトレジスト層を除去するレジスト層
除去用薬剤を蓄積し（本形態においては該レジスト層除
去用薬剤としての５重量％水酸化ナトリウム水溶液が蓄
えられている）、ガラス原盤１１を該水酸化ナトリウム
水溶液に浸漬するためのレジスト層除去槽３と、上記レ
ジスト層除去槽３における処理の終了後にガラス原盤１
１の表面を処理する後処理薬剤を内部に蓄積し（本形態
においては該後処理薬剤としての１Ｎクエン酸水溶液が
内部に蓄えられている）、ガラス原盤１１を該クエン酸
水溶液に浸漬するための後処理槽４と、ガラス原盤１１
の表面を水洗する水洗手段５と、上記ニッケル層除去槽
２、上記レジスト層除去槽３、上記後処理槽４及び上記
水洗手段５それぞれに、上記ガラス原盤１１を移送する
ガラス原盤移送手段６とを具備する。The apparatus 1 for processing a glass master according to the present invention is shown in FIG.
As shown in FIGS. 3 to 3, a photoresist layer and a nickel layer are formed on the surface (not shown) of the glass master 11 for reprocessing the glass master used for manufacturing the mold for copying the uneven pattern on the substrate. It is a processing device, and stores a nickel layer removing agent for removing the nickel layer therein (in the present embodiment, it is used as a nickel layer removing agent).
3 wt% nitric acid aqueous solution is stored), glass master 1
Nickel layer removing tank 2 for immersing 1 into the nitric acid aqueous solution
And a resist layer removing agent for removing the photoresist layer is accumulated therein (in the present embodiment, a 5 wt% sodium hydroxide aqueous solution as the resist layer removing agent is stored), and the glass master 11 is stored. A resist layer removing tank 3 for immersing in the aqueous sodium hydroxide solution, and a glass master 1 after the treatment in the resist layer removing tank 3 is completed.
For accumulating a post-treatment chemical for treating the surface of No. 1 inside (in this embodiment, a 1N citric acid aqueous solution as the post-treatment chemical is stored inside), and immersing the glass master 11 in the citric acid aqueous solution. Post-treatment tank 4 and glass master 11
And a glass master transfer means 6 for transferring the glass master 11 to the nickel layer removal tank 2, the resist layer removal tank 3, the post-treatment tank 4 and the water cleaning means 5, respectively. It is equipped with.
【００２０】更に詳述すると、図１に示すように、上記
処理装置１は、全体が密閉可能な箱体となされており、
その上面にはファン（図示せず）を有する排気口１２及
びフィルタ（図示せず）とファン（図示せず）とを有す
る吸気口１３が設けられている。また、下面には処理装
置全体を移動可能にするキャスター１４が設けられてい
る。また、図３に示すように、作業者が装置内に手を入
れて、作業ができるように、上記吸気口１３側に開閉自
在な作業窓１８が設けられている。More specifically, as shown in FIG. 1, the processing apparatus 1 is a box which can be hermetically sealed as a whole.
An exhaust port 12 having a fan (not shown) and an intake port 13 having a filter (not shown) and a fan (not shown) are provided on the upper surface thereof. Further, a caster 14 is provided on the lower surface so that the entire processing apparatus can be moved. Further, as shown in FIG. 3, a work window 18 that can be opened and closed is provided on the side of the intake port 13 so that a worker can put his / her hand into the apparatus and work.
【００２１】上記ニッケル層除去槽２は、処理装置１の
一側面側（上記排気口１２が設けられている側）に設け
られており、上面が開閉自在の蓋となされており（図示
せず）、内部が空洞であり且つ縦長の長方体形状の槽で
ある。また、材質は、塩化ビニル、テフロン、ステンレ
スなど薬剤による腐食を受けないものであれば特に制限
なく用いることができるが、本形態においては塩化ビニ
ル製のものを用いている。また、上記ニッケル層除去槽
２には、通常のヒーターが設けられており（図示せ
ず）、内部の温度を調節できるようになしてある。The nickel layer removing tank 2 is provided on one side surface of the processing apparatus 1 (on the side where the exhaust port 12 is provided), and the upper surface thereof is a lid that can be opened and closed (not shown). ), The inside is hollow and is a vertically long rectangular parallelepiped-shaped tank. Further, as the material, vinyl chloride, Teflon, stainless steel, etc. can be used without particular limitation as long as they are not corroded by chemicals, but in the present embodiment, vinyl chloride is used. Further, the nickel layer removing tank 2 is provided with an ordinary heater (not shown) so that the internal temperature can be adjusted.
【００２２】上記レジスト層除去槽３は、処理装置１の
略中央部分に設けられており、上面が開閉自在の蓋とな
されており（図示せず）、内部が空洞であり且つ縦長の
長方体形状の槽である。また、材質は、塩化ビニル、テ
フロン、ステンレスなど薬剤による腐食を受けないもの
であれば特に制限なく用いることができるが、本形態に
おいてはステンレス製のものを用いている。The resist layer removing tank 3 is provided at a substantially central portion of the processing apparatus 1 and has an upper surface which is a lid which can be freely opened and closed (not shown). The inside is hollow and is vertically long. It is a body-shaped tank. Further, as the material, any material such as vinyl chloride, Teflon, and stainless steel which is not corroded by a chemical can be used without particular limitation, but in the present embodiment, a stainless steel material is used.
【００２３】上記後処理槽４は、処理装置１の略中央部
分において上記レジスト層除去槽３に隣接されている。
そして、上面が開閉自在の蓋となされており（図示せ
ず）、内部が空洞であり且つ縦長の長方体形状の槽であ
る。また、材質は、塩化ビニル、テフロン、ステンレス
など薬剤による腐食を受けないものであれば特に制限な
く用いることができるが、本形態においては塩化ビニル
製のものを用いている。The post-treatment bath 4 is adjacent to the resist layer removal bath 3 at a substantially central portion of the processing apparatus 1.
Further, the upper surface is a lid that can be opened and closed (not shown), and the inside is hollow and is a vertically long rectangular parallelepiped-shaped tank. Further, as the material, vinyl chloride, Teflon, stainless steel, etc. can be used without particular limitation as long as they are not corroded by chemicals, but in the present embodiment, vinyl chloride is used.
【００２４】また、上記レジスト層除去槽３及び上記後
処理槽４には、それぞれ、超音波発生器が設けられてお
り（図示せず）、また、それぞれ、内部に蓄えられたレ
ジスト層除去用薬剤及び後処理薬剤を加熱する加熱手段
としてのヒーター（図示せず）が設けられている。これ
により、洗浄効果がより向上するようになされている。
上記超音波発生器としては、通常の超音波発生器（２８
〜１００ｋＨｚの音波を発生するもの）を特に制限なく
用いることができる。また、上記ヒーターとしては、通
常の液体加熱用のヒーターを特に制限なく用いることが
できる。An ultrasonic wave generator is provided in each of the resist layer removing tank 3 and the post-treatment tank 4 (not shown), and each of them is used for removing the resist layer stored therein. A heater (not shown) is provided as a heating means for heating the medicine and the post-treatment medicine. As a result, the cleaning effect is further improved.
As the ultrasonic wave generator, an ordinary ultrasonic wave generator (28
Those which generate a sound wave of up to 100 kHz) can be used without particular limitation. Further, as the heater, an ordinary heater for heating a liquid can be used without particular limitation.
【００２５】本形態において、上記水洗手段５は、内部
に純水が蓄積され（本形態においては純水が蓄えられて
いる）、ガラス原盤を該純水に浸漬するための純水槽５
１である。また、本形態においては、上記純水槽５１と
して、上記ニッケル層除去槽２と上記レジスト層除去槽
３との間に設けられた第１純水槽５１ａと、処理装置１
の略中央部分において上記後処理槽４に隣設された第２
純水槽５１ｂとが設けられている。そして、上記第１純
水槽５１ａと上記第２純水槽５１ｂとは、それぞれ、上
面が開閉自在の蓋となされており（図示せず）、内部が
空洞であり且つ縦長の長方体形状の槽である。また、材
質は、塩化ビニル、テフロン、ステンレスなど薬剤によ
る腐食を受けないものであれば特に制限なく用いること
ができるが、本形態においてはステンレス製のものを用
いている。また、上記第１及び第２純水槽５１ａ，５１
ｂには、通常の超音波発生器（２８〜１００ｋＨｚの音
波を発生するもの）が設けられており（図示せず）、洗
浄効果をより向上させるようになしてあり、また、内部
に蓄えられた純水を加熱する加熱手段としての通常のヒ
ーターが設けられており（図示せず）、該純水の温度を
調節できるようになしてある。In the present embodiment, the water washing means 5 has pure water stored therein (pure water is stored in the present embodiment), and a pure water tank 5 for immersing the glass master in the pure water.
It is one. Further, in the present embodiment, as the pure water tank 51, a first pure water tank 51a provided between the nickel layer removing tank 2 and the resist layer removing tank 3 and the processing apparatus 1 are provided.
The second adjacent to the post-treatment tank 4 in the substantially central portion of
A pure water tank 51b is provided. The first pure water tank 51a and the second pure water tank 51b each have a lid whose upper surface is openable and closable (not shown), and have a hollow interior and a vertically long rectangular tank. Is. Further, as the material, any material such as vinyl chloride, Teflon, and stainless steel which is not corroded by a chemical can be used without particular limitation, but in the present embodiment, a stainless steel material is used. Further, the first and second pure water tanks 51a, 51
In b, a normal ultrasonic wave generator (which generates a sound wave of 28 to 100 kHz) is provided (not shown) so as to further improve the cleaning effect, and stored inside. An ordinary heater (not shown) as a heating means for heating the pure water is provided so that the temperature of the pure water can be adjusted.
【００２６】また、上記ガラス原盤移送手段６は、ガラ
ス原盤１１を保持する原盤保持部６２を有するガラス原
盤移送部６０である。具体的には、該ガラス原盤移送部
６０は、図１及び図２に示すように、処理装置１の背面
に上記の各槽に対応して設けられた案内溝６１と、先端
にガラス原盤１１を保持する原盤保持部６２が取り付け
られており、基端が該案内溝６１内に収容されており、
Ｌ字状に折り曲げられているアーム６３と、該案内溝６
１の内部において該案内溝６１に沿って設けられたガイ
ドバー６４と、該ガイドバー６４及び該アーム６３の基
端を連結し、該ガイドバー６４（該案内溝６１）に沿っ
て該アーム６３を移動させる駆動部６５とからなってい
る。Further, the glass master disk transfer means 6 is a glass master disk transfer section 60 having a master disk holder 62 for holding the glass master disk 11. Specifically, as shown in FIGS. 1 and 2, the glass master transfer unit 60 includes a guide groove 61 provided on the back surface of the processing apparatus 1 corresponding to each of the above-mentioned tanks, and a glass master 11 at the tip. A master holding portion 62 for holding is attached, and the base end is housed in the guide groove 61.
The arm 63 bent into an L shape and the guide groove 6
The guide bar 64 provided along the guide groove 61 in the inside of 1 and the base ends of the guide bar 64 and the arm 63 are connected to each other, and the arm 63 along the guide bar 64 (the guide groove 61). And a drive unit 65 for moving the.
【００２７】また、上記原盤保持部６２は、取り替え可
能になされており、また、該原盤保持部６２は、その長
さが調節可能となされている。具体的には、該原盤保持
部６２は、通常の締結部材（図示せず）を介して上記ア
ーム６３に取り付けられているので、汚れたり、破損し
た場合に適宜取り外すことができ、交換等できるように
なされている。また、上記原盤保持部６２には、通常の
長さ調節機構が設けられており（図示せず）、その長さ
方向（図１の矢印Ｄ方向）に伸縮自在となされている。
これにより、ガラス原盤１１の枚数やガラス原盤１１の
厚みに応じて、原盤保持部６２の長さを調整でき、ま
た、大きさの異なる（直径等のサイズの異なる）ガラス
原盤１１に応じて大きさの異なる原盤保持部６２に取り
替えて、ガラス原盤の所望の保持枚数や保持するガラス
原盤のサイズ等に対応できるようになされている。The master holding part 62 is replaceable, and the length of the master holding part 62 is adjustable. Specifically, since the master holding portion 62 is attached to the arm 63 via an ordinary fastening member (not shown), it can be removed or replaced when it becomes dirty or damaged. It is done like this. Further, the master holding portion 62 is provided with a normal length adjusting mechanism (not shown), and is extendable / contractible in the length direction (direction of arrow D in FIG. 1).
Accordingly, the length of the master holding portion 62 can be adjusted according to the number of glass masters 11 and the thickness of the glass masters 11, and the size of the glass masters 11 having different sizes (different sizes such as diameter) can be adjusted. By replacing the master holding unit 62 with a different size, the desired number of glass masters to be held, the size of the glass masters to be held, etc. can be dealt with.
【００２８】また、上記ガラス原盤移送部６０における
上記の各部材の材質は、上述した各薬剤による腐食を受
けないものであれば特に制限なく用いることができる。
また、上記駆動部６５の駆動機構は通常の駆動機構を特
に制限なく採用して構成することができる。The material of each member in the glass master transfer unit 60 can be used without particular limitation as long as it is not corroded by the above chemicals.
Further, the drive mechanism of the drive unit 65 can be configured by adopting a normal drive mechanism without particular limitation.
【００２９】また、上記処理装置１には、更に、上記ニ
ッケル層除去槽２、上記レジスト層除去槽３及び上記後
処理槽４並びに上記第１及び第２純水槽５１ａ，５１ｂ
内で、上記ガラス原盤１１を揺動させる揺動手段が設け
られている（図示せず）。上記揺動手段は、ガラス原盤
１１を保持している上記ガラス原盤保持部６２を上下及
び／又は左右に揺動させる公知の揺動機構を上記駆動部
６５に配することにより、設けられている。In the processing apparatus 1, the nickel layer removing tank 2, the resist layer removing tank 3, the post-processing tank 4 and the first and second pure water tanks 51a and 51b are further provided.
Inside, a swinging means for swinging the glass master 11 is provided (not shown). The swinging means is provided by disposing a known swinging mechanism for swinging the glass master disk holding portion 62 holding the glass master disk 11 up and down and / or left and right in the drive portion 65. .
【００３０】また、上記処理装置１には、図１及び３に
示すように、ガラス原盤１１を乾燥させる乾燥手段とし
て、上記処理装置１の他側面側に、乾燥機としての公知
のリンサードライヤー１５（リンスするための液体の供
給も可能な、スピン方式のドライヤー）が設けられてお
り、再生処理終了後（ニッケル層やフォトレジスト層の
除去が終了した後）のガラス原盤を乾燥できるようにな
されている。As shown in FIGS. 1 and 3, the processing apparatus 1 has a known rinser dryer 15 as a dryer on the other side of the processing apparatus 1 as a drying means for drying the glass master 11. A spin-type dryer that can supply a liquid for rinsing is provided so that the glass master after drying (after the nickel layer or photoresist layer has been removed) can be dried. ing.
【００３１】更に、上記処理装置１には、図１及び図３
に示すように、ガラス原盤１１の表面から上記フォトレ
ジスト層及び上記ニッケル層が除去されているか否かを
確認する観察手段が設けられている。具体的には、上記
観察手段は、上記リンサードライヤー１５上に設けられ
ており処理終了後のガラス原盤を載置して目視により観
察できるようになされた目視台１７、及び該目視台１７
上に設けられており且つ下方に向けて光を照射できるよ
うになされた照射ランプ１６により構成されている。こ
こで、上記照射ランプ１６としては、光度の高いもの
（例えば、ハロゲンランプやメタルハライドランプ等）
であれば特に制限なく用いることができるが、本形態に
おいてはハロゲンランプを用いている。Further, the processing apparatus 1 includes the processing apparatus shown in FIGS.
As shown in FIG. 5, observation means for confirming whether or not the photoresist layer and the nickel layer have been removed from the surface of the glass master 11 is provided. Specifically, the observing means is provided on the rinser dryer 15, and a visual stand 17 is provided on which the glass master after the treatment is placed so as to be visually observed, and the visual stand 17.
The illumination lamp 16 is provided above and is adapted to emit light downward. Here, the irradiation lamp 16 has a high luminous intensity (for example, a halogen lamp or a metal halide lamp).
If it is possible to use it without any particular limitation, a halogen lamp is used in this embodiment.
【００３２】また、上記の各槽には、それぞれ、液面セ
ンサー（図示せず）が設けられており、必要に応じて薬
剤及び純水を、予備タンク（図示せず）からポンプ（図
示せず）を介して供給できるようになされている。A liquid level sensor (not shown) is provided in each of the above-mentioned tanks, and chemicals and pure water are pumped from a spare tank (not shown) from a spare tank (not shown) as needed. It is designed to be able to be supplied via
【００３３】次に、本形態の処理装置を用いたガラス原
盤の再生処理方法の要部について説明する。本発明の処
理装置を用いてガラス原盤の再生処理を行うには、ガラ
ス原盤をニッケル層除去槽のニッケル層除去用薬剤に浸
漬させてニッケル層の除去を行うニッケル層除去工程
と、上記ニッケル層除去工程の終了後、ガラス原盤を水
洗手段により水洗する第１水洗工程と、上記第１水洗工
程の終了後、レジスト層除去槽のレジスト層除去用薬剤
に浸漬させてレジスト層の除去を行うレジスト層除去工
程（該レジスト層除去用薬剤として上記のアルカリ化合
物の水溶液を用いた場合には、プライマー層をも同時に
除去することができる）と、上記レジスト層除去工程の
終了後、ガラス原盤を水洗手段により水洗する第２水洗
工程と、上記第２水洗工程の終了後、上記後処理槽４中
の後処理用薬剤に浸漬させて後処理を行う後処理工程
と、上記後処理工程の終了後、水洗手段により水洗する
第３水洗工程と、を行うことにより再処理することがで
きる。Next, the essential parts of the method for processing the recycling of the glass master using the processing apparatus of this embodiment will be described. In order to perform the reprocessing of the glass master using the processing apparatus of the present invention, a nickel layer removing step of removing the nickel layer by immersing the glass master in a nickel layer removing chemical in a nickel layer removing tank, and the nickel layer After completion of the removing step, a first rinsing step of rinsing the glass master with rinsing means, and after completion of the first rinsing step, the resist layer is removed by immersing it in a resist layer removing agent in a resist layer removing tank. A layer removing step (when the aqueous solution of the above alkaline compound is used as the resist layer removing agent, the primer layer can also be removed at the same time), and after completion of the resist layer removing step, the glass master is washed with water. A second washing step of washing with water by means, and a post-treatment step of performing a post-treatment by immersing it in the post-treatment chemical in the post-treatment tank 4 after the completion of the second water washing step. After physical process ends, a third water washing step of washing with water washing unit, can be reprocessed by performing.
【００３４】更に、本形態の処理装置を用いたガラス原
盤の再生処理の一形態について図１を参照して具体的に
説明する。先ず、上記原盤保持部６２に複数枚（５〜３
０枚）のガラス原盤１１を載置し、該ガラス原盤１１を
上記ニッケル層除去槽２の硝酸水溶液中に３０分間浸漬
させてニッケル層の除去を行う（上記ニッケル層除去工
程）。この際、該硝酸水溶液の温度は、常温であり、ま
た、上記ニッケル層除去槽２中で上記ガラス原盤を揺動
させる。上記ニッケル層除去槽２への浸漬終了後、ガラ
ス原盤１１を引き上げ、上記ニッケル層除去槽２上にて
３０秒間放置して液きりを行った後、第１純水槽５１ａ
に３０秒間浸漬させて水洗を行う（上記第１水洗工
程）。この際、該第１純水槽５１ａ中の純水の温度は、
常温であり、超音波を発生させると共にガラス原盤１１
を揺動させる。Further, one embodiment of the recycling process of the glass master disk using the processing apparatus of this embodiment will be specifically described with reference to FIG. First, a plurality of sheets (5-3
0 glass masters 11 are placed, and the glass masters 11 are immersed in the nitric acid aqueous solution in the nickel layer removing tank 2 for 30 minutes to remove the nickel layers (the nickel layer removing step). At this time, the temperature of the nitric acid aqueous solution is room temperature, and the glass master is swung in the nickel layer removing tank 2. After the immersion in the nickel layer removing tank 2, the glass master 11 is pulled up and left on the nickel layer removing tank 2 for 30 seconds to drain the liquid, and then the first pure water tank 51a.
It is immersed for 30 seconds in water and washed with water (the above first washing step). At this time, the temperature of the pure water in the first pure water tank 51a is
It is at room temperature, generates ultrasonic waves, and is a glass master 11.
Rock.
【００３５】上記第１純水槽５１ａへの浸漬終了後、ガ
ラス原盤１１を引き上げ、上記第１純水槽５１ａ上にて
３０秒間放置して液きりを行った後、上記レジスト層除
去槽３に１０分間浸漬させてレジスト層の除去（同時に
プライマー層の除去）を行う（上記レジスト層除去工
程）。この際、該レジスト層除去槽３中の水酸化ナトリ
ウム水溶液の温度は、５０℃であり、超音波を発生させ
ると共にガラス原盤１１を揺動させる。上記レジスト層
除去槽３への浸漬終了後、ガラス原盤１１を引き上げ、
該レジスト層除去槽３上にて３０秒間放置して液きりを
行った後、第１純水槽５１ａに３０秒間浸漬させて水洗
を行う（上記第２水洗工程）。この際、該第１純水槽５
１ａ中の純水の温度は、常温であり、超音波を発生させ
ると共にガラス原盤１１を揺動させる。After the completion of the immersion in the first pure water tank 51a, the glass master 11 is pulled up and left on the first pure water tank 51a for 30 seconds to drain the liquid, and then to the resist layer removing tank 3 The resist layer is removed by immersing it for a minute (at the same time, the primer layer is removed) (the above-mentioned resist layer removing step). At this time, the temperature of the aqueous sodium hydroxide solution in the resist layer removing tank 3 is 50 ° C., and ultrasonic waves are generated and the glass master 11 is swung. After completion of the immersion in the resist layer removing tank 3, the glass master 11 is pulled up,
After being left on the resist layer removing tank 3 for 30 seconds to drain the liquid, it is immersed in the first pure water tank 51a for 30 seconds for water washing (second water washing step). At this time, the first pure water tank 5
The temperature of pure water in 1a is room temperature, and ultrasonic waves are generated and the glass master 11 is swung.
【００３６】上記第１純水槽５１ａへの浸漬終了後、ガ
ラス原盤１１を引き上げ、上記第１純水槽５１ａ上にて
３０秒間放置して液きりを行った後、上記後処理槽４に
１０秒間浸漬させて後処理を行う（上記後処理工程）。
この際、該後処理槽４中のクエン酸水溶液の温度は、常
温であり、超音波を発生させると共に該後処理槽４中に
てガラス原盤を揺動させる。上記後処理槽４への浸漬終
了後、ガラス原盤１１を引き上げ、上記後処理槽４上に
て３０秒間放置して液きりを行った後、第１純水槽５１
ａに３０秒間浸漬させて水洗を行う（上記第３水洗工
程）。この際、該第１純水槽５１ａ中の純水の温度は、
常温であり、超音波を発生させると共にガラス原盤を揺
動させる。更に、該第１純水槽５１ａへの浸漬終了後、
ガラス原盤を引き上げ、上記第１純水槽５１ａ上にて３
０秒間放置して液きりを行った後、第２純水槽５１ｂに
１分間浸漬させる（第４水洗工程）。この際、該第２純
水槽５１ｂ中の純水の温度は、５０℃であり、超音波を
発生させると共にガラス原盤を揺動させる。After the completion of the immersion in the first pure water tank 51a, the glass master 11 is pulled up and left on the first pure water tank 51a for 30 seconds to drain the liquid, and then in the post-treatment tank 4 for 10 seconds. Post-treatment is carried out by immersion (post-treatment step described above).
At this time, the temperature of the citric acid aqueous solution in the post-treatment tank 4 is room temperature, ultrasonic waves are generated, and the glass master is swung in the post-treatment tank 4. After the completion of the immersion in the post-treatment tank 4, the glass master 11 is pulled up and left on the post-treatment tank 4 for 30 seconds to remove the liquid, and then the first pure water tank 51.
It is immersed in a for 30 seconds and washed with water (the above third washing step). At this time, the temperature of the pure water in the first pure water tank 51a is
At room temperature, it generates ultrasonic waves and rocks the glass master. Further, after completion of the immersion in the first pure water tank 51a,
Pull up the glass master and place 3 on the first pure water tank 51a.
After leaving it for 0 seconds to drain the liquid, it is immersed in the second pure water tank 51b for 1 minute (fourth water washing step). At this time, the temperature of the pure water in the second pure water tank 51b is 50 ° C., which generates ultrasonic waves and rocks the glass master.
【００３７】尚、上記のガラス原盤１１の移送及び浸漬
動作は、図１（図１の２点鎖線）に示すように、上記ガ
ラス原盤１１を上記アーム６３ごと、上記案内溝６１に
沿って上下左右に移動させることにより、行っている。
このため、各槽への浸漬は、全て上記ガラス原盤移送手
段６により、人の手を介することなく自動で行うことで
きる。As shown in FIG. 1 (two-dot chain line in FIG. 1), the glass master 11 is moved up and down along the guide groove 61 along with the arm 63 as shown in FIG. 1 (two-dot chain line in FIG. 1). It is done by moving it to the left and right.
For this reason, all the dipping in each tank can be automatically performed by the glass master disk transfer means 6 without human intervention.
【００３８】次いで、上記の各層における処理が終了
し、表面のニッケル層、フォトレジスト層及びプライマ
ー層が除去されたガラス原盤（即ち再生処理されたガラ
ス原盤）を、リンサードライヤー１５中に装填し、１０
〜２０分間乾燥処理する（乾燥工程）。以上の各操作を
行うことにより、使用済みのガラス原盤を再生処理する
ことができる。Then, the treatment of each of the above layers is completed, and the glass master having the surface nickel layer, the photoresist layer and the primer layer removed (that is, the regenerated glass master) is loaded into the rinser dryer 15. 10
Dry for 20 minutes (drying step). By performing each of the above operations, the used glass master can be recycled.
【００３９】更に、再生処理が終了したガラス原盤１１
を上記目視台１７上に図１に示すように斜めに載置し、
上記照射ランプ（ハロゲンランプ）１６によりガラス原
盤１１に光を照射して、ガラス原盤の表面状態（汚れや
傷があるか否か等）について、作業者が目視により観察
する。ここで、所定のレベルにまで再生されたと確認さ
れた場合には、再使用され、所定のレベルにまで再生さ
れていないと確認された場合には、再度再生処理あるい
は廃棄される。この際には、作業者が上記目視台１７の
正面側に設けられた作業窓１８から装置内に手を入れ
て、確認作業を行う。Further, the glass master 11 for which the recycling process has been completed
1 is placed diagonally on the viewing table 17 as shown in FIG.
The glass master 11 is irradiated with light by the irradiation lamp (halogen lamp) 16, and the operator visually observes the surface condition of the glass master (whether there is dirt or scratches). Here, when it is confirmed that it has been reproduced to a predetermined level, it is reused, and when it is confirmed that it has not been reproduced to a predetermined level, it is regenerated or discarded again. At this time, a worker puts his / her hand into the apparatus through a work window 18 provided on the front side of the visual inspection stand 17 to perform a confirmation work.
【００４０】本形態の処理装置１は、図１〜３に示すよ
うに、研磨装置を要しないものであるため、ガラス原盤
の盤厚を損ねることがなく、更には、薬剤による処理を
浸漬により行うことができるようになされたものである
ため、均一にガラス原盤の再生処理を行えるものであ
る。特に、上記ガラス原盤移送手段を有しているので、
危険な薬剤に作業者が触れることなく再生処理を行うこ
とができるため、安全性にも優れている。また、近年に
おいては、ガラス原盤の厚みが薄くなっているため、研
磨装置を有しない本発明の処理装置は、再生回数の面か
ら特に有用である。更に、上記揺動手段を有する場合に
は、特に、洗浄効果（各層の除去効果）を高めることが
できる。As shown in FIGS. 1 to 3, the processing apparatus 1 of the present embodiment does not require a polishing apparatus, so that it does not impair the plate thickness of the glass master disk, and further, the processing with chemicals is performed by dipping. Since it is designed so that it can be performed, it is possible to uniformly regenerate the glass master. In particular, since it has the glass master transfer means,
Since the regeneration treatment can be performed without the operator touching the dangerous drug, the safety is excellent. Further, in recent years, since the thickness of the glass master is thin, the processing apparatus of the present invention having no polishing apparatus is particularly useful in terms of the number of times of reproduction. Further, when the swinging means is included, the cleaning effect (removal effect of each layer) can be particularly enhanced.
【００４１】尚、本発明の処理装置は、上述した図１〜
３に示す形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨
を逸脱しない範囲で適宜変更可能である。例えば、上記
水洗手段５は、上記純水槽５１でなくともよく、ガラス
原盤に対して純水を吹きつける純水シャワーを用いるこ
ともできる。また、上述した形態においては、ガラス原
盤移送手段６として、ガラス原盤を移動させる形態のも
のを例示して説明したが、ガラス原盤を固定して各槽を
移動させる形態とすることもできる。具体的には、例え
ば、円盤状の載置台の外周縁部上に上述の各槽をそれぞ
れ配置し、この外周縁に対応する所定位置にガラス原盤
保持部６２を固定し、該載置台を回転させることによ
り、各槽を移動し、ガラス原盤を各槽に浸漬させる形態
とすることもできる。尚、このような載置台を用いる場
合において、載置台を固定しておき、固定された各槽に
上述した形態のガラス原盤移送部６０を用いてガラス原
盤を移動させる形態とすることも可能である。The processing apparatus of the present invention is similar to that shown in FIGS.
The present invention is not limited to the form shown in FIG. 3, and can be appropriately changed without departing from the gist of the present invention. For example, the water washing means 5 does not have to be the pure water tank 51, and a pure water shower for spraying pure water onto the glass master can be used. Further, in the above-described embodiment, the glass master disk transfer means 6 has been described as an example in which the glass master disk is moved, but it is also possible to fix the glass master disk and move each tank. Specifically, for example, each of the above-mentioned tanks is arranged on the outer peripheral edge of a disk-shaped mounting table, the glass master holding portion 62 is fixed at a predetermined position corresponding to the outer peripheral edge, and the mounting table is rotated. By doing so, it is also possible to move each tank and immerse the glass master in each tank. In the case of using such a mounting table, it is also possible to fix the mounting table and move the glass master disk to each of the fixed tanks by using the glass master disk transfer unit 60 having the above-described configuration. is there.
【００４２】また、乾燥手段としては、通常の温風乾燥
機や真空乾燥機を用いることもできる。また、上記加熱
手段としては、ヒーターを用いる必要はなく、上記レジ
スト層除去槽３、上記後処理槽４及び上記第２純水槽５
１ｂを、一つの湯せん中に設置することにより、各槽の
加熱を行うようにしてもよい。更に、上記揺動手段に代
えて、各槽に薬剤を循環させるための循環ポンプを備え
付けたり、通常の攪拌機構を備え付けるなどして洗浄効
果を向上させてもよい。また、上記原盤保持部６２は、
取り替え可能であり且つその長さが調節可能である必要
はなく、何れか一方の機能のみを有するように構成して
も良く、更には何れも有しないように構成してもよい。
更に、上述の各槽を配置する位置も上述の形態には制限
されず任意である。Further, as the drying means, an ordinary warm air dryer or a vacuum dryer can be used. Further, it is not necessary to use a heater as the heating means, and the resist layer removal tank 3, the post-treatment tank 4, and the second pure water tank 5 are used.
You may make it heat each tank by installing 1b in one hot water bath. Further, instead of the swinging means, a circulation pump for circulating the medicine in each tank or a normal stirring mechanism may be provided to improve the cleaning effect. Further, the master holding portion 62 is
It is not necessary to be replaceable and the length thereof to be adjustable, and it may be configured to have only one of the functions, or it may be configured not to have any of the functions.
Further, the position where each of the above-mentioned tanks is arranged is not limited to the above-mentioned form and is arbitrary.
【００４３】[0043]
【発明の効果】本発明のガラス原盤の処理装置は、ガラ
ス原盤の盤厚を減少させることなく、効率よく且つ均一
にガラス原盤の再生処理を行うことができるものであ
る。The glass master processing apparatus of the present invention is capable of efficiently and uniformly reclaiming a glass master without reducing the thickness of the glass master.
【図１】図１は、本発明のガラス原盤の処理装置の一形
態としての装置の正面側をその内部を透視して示す透視
正面図である。FIG. 1 is a perspective front view showing a front side of an apparatus as one form of a glass master processing apparatus of the present invention, as seen through the inside thereof.
【図２】図２は、図１のII−II断面図である。FIG. 2 is a sectional view taken along line II-II of FIG.
【図３】図３は、図１のIII −III 断面図である。3 is a sectional view taken along line III-III in FIG.
１ 処理装置 １１ ガラス原盤 １２ 排気口 １３ 吸気口 １４ キャスター １５ リンサードライヤー １６ 照射ランプ １７ 目視台 ２ ニッケル層除去槽 ３ レジスト槽除去槽 ４ 後処理槽 ５ 水洗手段 ５１ 純水槽 ５１ａ 第１純水槽 ５１ｂ 第２純水槽 ６ ガラス原盤移送手段 ６０ ガラス原盤移送部 ６１ 案内溝 ６２ 原盤保持部 ６３ アーム ６４ ガイドバー ６５ 駆動部 1 Processing Equipment 11 Glass Master Disk 12 Exhaust Port 13 Inlet Port 14 Caster 15 Rinser Dryer 16 Irradiation Lamp 17 Visual Stand 2 Nickel Layer Removal Tank 3 Resist Tank Removal Tank 4 Post-Treatment Tank 5 Water Washing Means 51 Pure Water Tank 51a First Pure Water Tank 51b 1st 2 pure water tank 6 glass master transfer means 60 glass master transfer section 61 guide groove 62 master holding section 63 arm 64 guide bar 65 drive section
Claims (9)
が形成されており、基板上に凹凸パターンを複写する型
の製造に用いられるガラス原盤を再生処理するガラス原
盤の処理装置において、 内部に上記ニッケル層を除去するニッケル層除去用薬剤
を蓄積し、ガラス原盤を該ニッケル層除去用薬剤に浸漬
するためのニッケル層除去槽と、 内部に上記フォトレジスト層を除去するレジスト層除去
用薬剤を蓄積し、ガラス原盤を該レジスト層除去用薬剤
に浸漬するためのレジスト層除去槽と、 上記レジスト層除去槽における処理の終了後にガラス原
盤の表面を処理する後処理薬剤を内部に蓄積し、ガラス
原盤を該後処理薬剤に浸漬するための後処理槽と、 ガラス原盤の表面を水洗する水洗手段と、 上記ニッケル層除去槽、上記レジスト層除去槽、上記後
処理槽及び上記水洗手段それぞれに、上記ガラス原盤を
移送するガラス原盤移送手段と、 を具備することを特徴とするガラス原盤の処理装置。1. A processing apparatus for a glass master, which has a photoresist layer and a nickel layer formed on the surface thereof, and which is used to regenerate a glass master used for manufacturing a mold for copying an uneven pattern on a substrate. A nickel layer removing agent for removing the layer is accumulated, a nickel layer removing tank for immersing the glass master in the nickel layer removing agent, and a resist layer removing agent for removing the photoresist layer are accumulated therein. , A resist layer removing tank for immersing the glass master in the resist layer removing chemical, and a post-treatment chemical for treating the surface of the glass master after the completion of the treatment in the resist layer removing tank are accumulated inside, A post-treatment bath for immersing in the post-treatment chemical, a water washing means for washing the surface of the glass master with water, the nickel layer removal bath, and the resist layer removal bath Each said post-treatment tank and said washing means, the processing apparatus for a glass master which is characterized by comprising a glass master transfer means for transferring the glass master.
スト層除去槽及び上記後処理槽内で上記ガラス原盤を揺
動させる揺動手段が設けられていることを特徴とする請
求項１記載のガラス原盤の処理装置。2. The swinging means for swinging the glass master in the nickel layer removing tank, the resist layer removing tank, and the post-treatment tank is further provided. Glass master processing equipment.
化合物の水溶液であることを特徴とする請求項１記載の
ガラス原盤の処理装置。3. The apparatus for treating a glass master according to claim 1, wherein the chemical agent for removing the resist layer is an aqueous solution of an alkali compound.
に、それぞれ、超音波発生器が設けられていることを特
徴とする請求項１記載のガラス原盤の処理装置。4. The apparatus for processing a glass master according to claim 1, wherein an ultrasonic wave generator is provided in each of the resist layer removing tank and the post-processing tank.
に、それぞれ、レジスト層除去用薬剤及び後処理薬剤を
加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とする請
求項１記載のガラス原盤の処理装置。5. The glass master according to claim 1, wherein the resist layer removing tank and the post-treatment tank are provided with heating means for heating the resist layer removing agent and the post-treatment agent, respectively. Processing equipment.
が設けられていることを特徴とする請求項１記載のガラ
ス原盤の処理装置。6. The apparatus for processing a glass master according to claim 1, further comprising a drying means for drying the glass master.
レジスト層及び上記ニッケル層が除去されているか否か
を確認する観察手段が設けられていることを特徴とする
請求項１記載のガラス原盤の処理装置。7. The glass master according to claim 1, further comprising an observation means for confirming whether or not the photoresist layer and the nickel layer are removed from the surface of the glass master. Processing equipment.
を保持する原盤保持部を有するガラス原盤移送部であ
り、該原盤保持部は、取り替え可能になされており、ま
た、該原盤保持部は、その長さが調節可能となされてい
ることを特徴とする請求項１記載のガラス原盤の処理装
置。8. The glass master transfer means is a glass master transfer part having a master holding part for holding a glass master, the master holding part being replaceable, and the master holding part comprising: The glass master processing apparatus according to claim 1, wherein the length is adjustable.
る純水槽であり、該純水槽には、超音波発生器及び該純
水を加熱する加熱手段が設けられていることを特徴とす
る請求項１記載のガラス原盤の処理装置。9. The water washing means is a pure water tank in which pure water is accumulated, and the pure water tank is provided with an ultrasonic generator and a heating means for heating the pure water. The apparatus for processing a glass master according to claim 1.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8132308A JP2989144B2 (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Glass master disk processing equipment |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8132308A JP2989144B2 (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Glass master disk processing equipment |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09320122A true JPH09320122A (en) | 1997-12-12 |
| JP2989144B2 JP2989144B2 (en) | 1999-12-13 |
Family
ID=15078280
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8132308A Expired - Fee Related JP2989144B2 (en) | 1996-05-27 | 1996-05-27 | Glass master disk processing equipment |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2989144B2 (en) |
-
1996
- 1996-05-27 JP JP8132308A patent/JP2989144B2/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2989144B2 (en) | 1999-12-13 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2006205601A (en) | Mold cleaning device | |
| JPH01130771A (en) | Method and apparatus for washing process | |
| JP2989144B2 (en) | Glass master disk processing equipment | |
| JP4436212B2 (en) | Die coater coating method and pellicle for photolithography produced by this method | |
| JP2003141718A (en) | Method of manufacturing glass substrate for information recording medium | |
| JPH0364510A (en) | Cleaning soiled spinneret parts | |
| JP2001046991A (en) | Method for washing glass substrate | |
| JPH0429151A (en) | Method and device for unit moving type developing | |
| US2680697A (en) | Art of cleansing lens mounting blocks | |
| JP3879827B2 (en) | Photomask blank manufacturing method | |
| JPH08273219A (en) | Apparatus for producing optical disk | |
| JP2845172B2 (en) | Electroforming equipment | |
| JPH08258090A (en) | Method and apparatus for washing stamper | |
| JPH05259144A (en) | Cleaning method for substrate | |
| JPS63274792A (en) | Production of stamper for optical disk | |
| JP4207205B2 (en) | Lift-off method and apparatus | |
| JPH10134425A (en) | Surface treatment of stamper and device | |
| JPH06312163A (en) | Mold cleaning method | |
| KR100816465B1 (en) | Method for reutilizing waste pipe of opc drum | |
| JPH0764296A (en) | Method for developing photosensitive polymer | |
| JPH05144797A (en) | Cleaning and drying method | |
| JPS5837173A (en) | Manufacture of electrophotographic photosensitive body | |
| JPH04290587A (en) | Washing method and washing device by ultraviolet ray | |
| JPH04186351A (en) | Cleaning of reticle | |
| JP2005109423A (en) | Photoresist stripper, master disc for optical disk and its manufacturing method, stamper for optical disk and its manufacturing method, and optical disk substrate |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081008 Year of fee payment: 9 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Year of fee payment: 10 Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091008 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (prs date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101008 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |