JPH09300207A - Abrasive cloth dressing method and device thereof - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve flatness of an abrasive cloth after dressing by rotationally moving the abrasive cloth in the same direction as a dresser grinding wheel and at fixed rotating speed. SOLUTION: At dressing an abrasive cloth 1, a dresser rotation head 5 is rotated while holding a dresser grinding wheel 2, the dresser grinding wheel 2 is positioned directly on the used territory of the abrasive cloth 1, and it is pressed against the abrasive cloth 1 at proper surface pressure. Further the abrasive cloth 1 is rotated in the same direction as that of the dresser grinding wheel 2, and hence dressing of the abrasive is performed so that the sliding distance distribution of the dresser grinding wheel 2 is uniform on the respective positions in the radial direction in the used territory of the abrasive cloth 1.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、回転定盤上に取り
付けた研磨布に工作物を押し付けながら研磨して工作物
に平面を創成する加工を行なうための研磨加工に用いる
研磨布のドレッシング方法およびその装置に係り、特
に、平面度を維持するために、リング状の砥石を用いて
研磨布を形状修正する研磨布ドレッシング方法およびそ
の装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of dressing a polishing cloth used for polishing for polishing a polishing cloth mounted on a rotating surface plate while pressing the workpiece to create a flat surface on the workpiece. The present invention relates to a polishing cloth dressing method and a polishing pad dressing method for correcting the shape of a polishing cloth by using a ring-shaped grindstone in order to maintain flatness.

【０００２】[0002]

【従来の技術】最近では、たとえば、半導体ウェハのポ
リッシングプロセスをはじめとして、高度な平坦性を保
ってウェーハのポリッシング加工を実施することが特に
要求されるようになってきている。このような超精密研
磨加工に用いられる研磨装置によって、加工物に平面を
創成する場合、加工物の加工面に平行に対向する定盤の
平面度が優れていることが、工作物の平面精度を高める
ために必要である。2. Description of the Related Art Recently, it has been particularly required to carry out a polishing process for a wafer while maintaining a high degree of flatness, including a polishing process for a semiconductor wafer. When a flat surface is created on a workpiece by a polishing apparatus used for such ultra-precision polishing, the flatness of the platen facing in parallel with the processing surface of the workpiece is excellent, and the flatness of the workpiece is high. It is necessary to increase.

【０００３】この種の研磨加工では、定盤自身も研磨材
により研磨作用を受けるために、定盤の平面度も徐々に
劣化することになる。このため、定盤の平面度を維持す
るため、適宜に砥石を用いて形状修正を行なう必要があ
る。In this type of polishing, the flatness of the surface plate gradually deteriorates because the surface plate itself is also polished by the abrasive. For this reason, in order to maintain the flatness of the surface plate, it is necessary to appropriately correct the shape using a grindstone.

【０００４】定盤の平面度を修正するドレッシングの重
要性は、従来から認識されていながら、この定盤の形状
修正は経験的な方法によっているのが現状である。例え
ば、研磨加工の一種であるラップ加工に用いる定盤につ
いては、その形状劣化に対処するため、定盤上に工作物
を入れた修正リングを載せて、この修正リングをラップ
の摩耗の状態によって、定盤の半径方向に適切に移動し
ながら取り付け、ラップの平面度を加工しがら矯正する
ことが行なわれている（「精密仕上げと特殊加工」明現
社 １９８７年、９８頁〜９０頁）。[0004] Although the importance of dressing for correcting the flatness of the surface plate has been conventionally recognized, the shape of the surface plate is currently corrected by an empirical method. For example, with respect to the surface plate used for lapping, which is a type of polishing, a correction ring containing a workpiece is placed on the surface plate in order to cope with its shape deterioration, and this correction ring is used depending on the state of lap wear. The lap is mounted while being appropriately moved in the radial direction of the platen to correct the flatness of the lap while processing ("Precision finishing and special processing", Meijisha, 1987, pp. 98-90). .

【０００５】[0005]

【発明が解決しようとする課題】研磨装置のなかでも、
エラストマ、軟質プラスチック、繊維を規則的に編み込
んだ織物、または、不織布などからなる研磨布を定盤上
に張り付けて研磨を行なう研磨装置では、研磨布につい
てもドレッシングを適宜行ない、形状を修正する必要が
ある。ところが、現在のところ、この種の研磨布につい
ては、形状修正の条件を試行錯誤を重ねて見出している
段階であり、現在のところ、形状修正の方法についての
確立した技術がないのが現状である。Among the polishing devices,
In a polishing machine that polishes by attaching a polishing cloth made of elastomer, soft plastics, woven fabrics that regularly woven fibers, or non-woven fabrics to a surface plate, it is necessary to dress the polishing cloth appropriately and correct the shape. There is. However, for this type of polishing cloth, at this stage, the conditions for shape correction are being found through trial and error, and at the present time, there is no established technique for shape correction. is there.

【０００６】そこで、本発明の目的は、前記従来技術の
有する問題点を解消し、研磨布とドレッサ砥石の回転数
比等の最良の条件を見出し、ドレッシングした後の研磨
布の平坦性を向上させることを可能とする研磨布ドレッ
シング方法およびその装置を提供することにある。Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of the prior art, find out the best conditions such as the rotational speed ratio of the polishing cloth and the dresser grindstone, and improve the flatness of the polishing cloth after dressing. It is an object of the present invention to provide a polishing cloth dressing method and an apparatus therefor capable of performing the above.

【０００７】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明によるドレッシン
グ方法のように、リング状の砥石に回転を与え、回転定
盤上の研磨布にも砥石と同一方向の回転運動を与えなが
ら、研磨布をドレッシングする加工では、その加工のメ
カニズムは、同じように砥石を使用する金属・硬脆材料
の研削加工とは基本的に異なるものと考えられる。金属
・硬脆材料の研削加工では、砥石の切り込み量により加
工量や加工形状が決まるのに対して、研磨布の場合は柔
らかく、砥石が押し付けられることにより弾性変形して
しまうため、砥石の切り込み量に加工量・加工形状が対
応しないためである。As in the dressing method according to the present invention, a ring-shaped grindstone is rotated, and the polishing cloth on the rotating platen is also rotated in the same direction as that of the grindstone to form a polishing cloth. In the dressing process, it is considered that the mechanism of the process is basically different from the grinding process of a metal / hard brittle material using a grindstone. In the grinding of metals and hard and brittle materials, the amount of processing and the shape of the grinding wheel are determined by the amount of cutting of the grindstone, whereas the abrasive cloth is soft and elastically deformed by the pressing of the grindstone. This is because the processing amount and the processing shape do not correspond to the amount.

【０００８】従来、研磨布のドレッシングに関しては、
試行錯誤により経験的に加工条件を決定せざるを得なか
ったのは、この研磨布加工の特質に基づくものと考えら
れる。Conventionally, regarding dressing of a polishing cloth,
The fact that the processing conditions had to be determined empirically by trial and error is considered to be based on the characteristics of this polishing cloth processing.

【０００９】本発明による研磨布のドレッシング方法
は、従来のドレッシング加工とは基本的な着眼点を異に
し、研削加工よりむしろ研磨加工に類似の加工特性をも
つものと想定して、最適な加工条件を見出したものであ
る。The dressing method of the polishing cloth according to the present invention is different from the conventional dressing in the basic point of view, and is assumed to have a processing characteristic similar to that of polishing rather than grinding, which is the optimum processing. The conditions are found.

【００１０】一般に研磨加工では、加工量と強い相関関
係があるとされているのは、加工物と研磨定盤との面圧
および研磨布の表面を砥石が摺動する距離である。実際
には、研磨材の破砕や劣化のために面圧・摺動距離と加
工量とは、通常、比例しないものとされているが、本発
明のように砥石を適用する研磨布のドレッシングでは、
加工作用が研磨材と比較して、破砕や劣化の生じにくい
砥石により与えられるため、面圧と加工量、および摺動
距離と加工量は、それぞれほぼ比例することが予測され
る。さらに本発明では、砥石が一定の面圧で研磨布に押
し付けられていると仮定できるので、ドレッシング後の
研磨布の形状は、主に、研磨布各点におけるドレッサの
摺動距離分布により決まるものと考えられる。Generally, in polishing, it is the surface pressure between the workpiece and the polishing surface plate and the distance that the grindstone slides on the surface of the polishing cloth that are considered to have a strong correlation with the processing amount. Actually, the contact pressure and the sliding distance and the processing amount are usually not proportional to the crushing or deterioration of the abrasive, but in the dressing of a polishing cloth to which a grindstone is applied as in the present invention, ,
Since the processing action is given by a grindstone that is less likely to be crushed or deteriorated than the abrasive, it is expected that the surface pressure and the processing amount, and the sliding distance and the processing amount are almost proportional to each other. Further, in the present invention, since it can be assumed that the grindstone is pressed against the polishing cloth with a constant surface pressure, the shape of the polishing cloth after dressing is mainly determined by the sliding distance distribution of the dresser at each point of the polishing cloth. it is conceivable that.

【００１１】ここで、図４は、リング状の砥石に回転を
与え、回転定盤上の研磨布にも砥石と同一方向の回転運
動を与えながら、研磨布をドレッシングするときの、運
動の位置関係を表わした模式説明図である。この図で、
１は研磨布、２は、砥石である。研磨布１は、その回転
中心がＯ1 で、定盤上に貼着されて回転数Ｎ1 で回転す
る。砥石２はその回転中心をＯ2 として回転数Ｎ2 で同
一方向に回転させる。Here, FIG. 4 shows the position of the movement when dressing the polishing cloth while the ring-shaped grinding stone is rotated and the polishing cloth on the rotary platen is also rotated in the same direction as the grinding stone. It is a schematic explanatory view showing the relationship. In this figure,
Reference numeral 1 is a polishing cloth, and 2 is a grindstone. The polishing cloth 1 has a center of rotation of O1 and is attached to a surface plate and rotated at a rotation speed of N1. The grindstone 2 is rotated in the same direction at a rotation speed N2 with its rotation center being O2.

【００１２】研磨布１は、その半径がＲで、そのうち、
図４で網目で示した領域が実際に研磨で使用される領域
であり、幅Ｗの同心領域である。本発明のドレッシング
では、この使用領域を整形する。Ａは、研磨布１の中心
Ｏ1 から使用領域の中心位置までの距離である。なお、
Ｄo はドレッサの外径で、Ｄi はドレッサの内径であ
り、研磨布１の使用領域をこの寸法のドレッサで整形す
る場合、 Ｗ≦Ｄi ＜Ｄo ≦Ｒ、Ａ≧Ｄo ／２ の関係がある。The polishing cloth 1 has a radius R, of which
The area indicated by the mesh in FIG. 4 is the area actually used for polishing, and is the concentric area having the width W. In the dressing of the present invention, this used area is shaped. A is the distance from the center O1 of the polishing pad 1 to the center position of the use area. In addition,
Do is the outer diameter of the dresser, Di is the inner diameter of the dresser, and when shaping the use area of the polishing pad 1 with the dresser of this size, there is a relationship of W≤Di <Do≤R, A≥Do / 2.

【００１３】次に、図５は、研磨布１の各点における砥
石２の摺動距離分布を計算機シミュレーションによって
求めた例を表わした図である。Next, FIG. 5 is a diagram showing an example in which the sliding distance distribution of the grindstone 2 at each point of the polishing cloth 1 is obtained by computer simulation.

【００１４】加工条件としては、研磨布１とドレッサ砥
石２の回転数を同一として、研磨布１とドレッサ砥石２
がドレッシング開始時と同一の位置関係に戻るまでの１
周期分について、回転中心Ｏ1 回りの０゜、＋９０゜、
＋１８０゜、−９０゜の４方向の断面について、摺動距
離分布をシミュレーションした結果を示す。この場合、
ドレッシング時間が研磨布１とドレッサ砥石２の位置関
係の変化の周期に対して整数倍となるときに、上記の４
方向で代表されるような研磨布回転中心回りの各断面に
おける摺動距離分布は同一となる。As the processing conditions, the polishing cloth 1 and the dresser grindstone 2 are set to have the same rotational speed, and the polishing cloth 1 and the dresser grindstone 2 are rotated.
Until 1 returns to the same positional relationship as when dressing started
About the cycle, 0 ° around the rotation center O1, + 90 °,
The results of simulating the sliding distance distribution are shown for cross sections in four directions of + 180 ° and -90 °. in this case,
When the dressing time becomes an integral multiple of the cycle of change in the positional relationship between the polishing cloth 1 and the dresser grindstone 2,
The distribution of the sliding distance in each cross section around the center of rotation of the polishing pad, which is represented by the direction, is the same.

【００１５】この摺動距離分布からドレッシング後の研
磨布１の形状を予測評価することができる。これを示す
のが図６である。図５の研磨布１の断面のうち、研磨布
１の使用領域の部分について、最大摺動距離を１とし
て、横軸に使用領域の半径方向の各位置をとり、各位置
での摺動距離の比をグラフ化したものである。この図６
では、縦軸を上下反転させて表わすことによって、摺動
距離がドレッシング量に比例すると仮定して、摺動距離
の分布がドレッシング後の研磨布の断面形状に対応する
ようにしている。実際の研磨装置を用いて、同等の条件
下で研磨布のドレッシングを行なった結果、ドレッシン
グ後の実際の研磨布の形状は、図６のグラフの形状と特
徴がよく一致することが確認され、ドレッシング形状の
予測評価において、摺動距離分布を求めることが有効で
あることがわかった。なお、実際のドレッシング量は、
面圧の効果を考慮して摺動距離から変換する必要があ
り、実験の結果、研磨布の各点でのドレッシング量の差
は、摺動距離分布の差よりも緩和されることがわかっ
た。From this sliding distance distribution, the shape of the polishing cloth 1 after dressing can be predicted and evaluated. This is shown in FIG. Of the cross section of the polishing cloth 1 in FIG. 5, with respect to the use area portion of the polishing cloth 1, the maximum sliding distance is 1, and each position in the radial direction of the use area is set on the horizontal axis. The sliding distance at each position Is a graph of the ratio of. This figure 6
In the above, the vertical axis is inverted so that the sliding distance is assumed to be proportional to the dressing amount, and the distribution of the sliding distance corresponds to the cross-sectional shape of the dressing cloth after dressing. As a result of dressing the polishing cloth under the same conditions using an actual polishing apparatus, it was confirmed that the shape of the actual polishing cloth after dressing had the characteristics well matched with the shape of the graph of FIG. It was found that it is effective to obtain the sliding distance distribution in the predictive evaluation of the dressing shape. The actual dressing amount is
It is necessary to convert the sliding distance in consideration of the effect of surface pressure, and as a result of the experiment, it was found that the difference in the dressing amount at each point of the polishing cloth was less than the difference in the sliding distance distribution. .

【００１６】本発明による研磨布ドレッシング方法は、
以上のような知見を基礎として、摺動距離分布の均一性
および対称性が良好となる条件を求めることにより、ド
レッシング形状の平坦性を向上させて最適な研磨布形状
を得ようとするもので、研磨布の円環状の使用領域の幅
以上の内径を有するリング状のドレッサ砥石を前記研磨
布に回転させながら押し付け、回転定盤上に固定した前
記研磨布に前記ドレッサ砥石と同一の方向で所定の回転
数の回転運動を与えながら、前記研磨布の使用領域内の
半径方向各位置における前記ドレッサ砥石の摺動距離分
布が均一となるように研磨布のドレッシングを行なうこ
とを特徴とするものである。The polishing cloth dressing method according to the present invention comprises:
Based on the above knowledge, we seek to obtain the optimum polishing cloth shape by improving the flatness of the dressing shape by determining the conditions that make the sliding distance distribution even and symmetrical. ,, while pressing the ring-shaped dresser grindstone having an inner diameter greater than the width of the annular use area of the polishing cloth against the polishing cloth, in the same direction as the dresser grindstone to the polishing cloth fixed on a rotating surface plate Dressing the polishing cloth so that the sliding distance distribution of the dresser grindstone at each position in the radial direction within the use area of the polishing cloth is uniform while giving a rotational motion of a predetermined rotation speed. Is.

【００１７】本発明の研磨布ドレッシング方法の好適な
実施形態によれば、前記研磨布の回転数と、ドレッサの
回転数との比が１．５〜４の範囲の回転数比にて研磨布
のドレッシングが行なわれることが好ましく、また、前
記研磨布の使用領域幅に対する前記ドレッサ砥石の内径
の比または前記ドレッサ砥石の内径に対する外径の比を
大きく設定するようにして、ドレッサ砥石の摺動距離分
布が均一となるようにしてもよい。According to a preferred embodiment of the polishing cloth dressing method of the present invention, the polishing cloth is provided at a rotation speed ratio of the rotation speed of the polishing cloth and the rotation speed of the dresser in the range of 1.5 to 4. It is preferable that the dressing is performed, and the ratio of the inner diameter of the dresser grindstone to the use area width of the polishing cloth or the ratio of the outer diameter to the inner diameter of the dresser grindstone is set to be large, so that the dresser grindstone slides. The distance distribution may be uniform.

【００１８】また、研磨布あるいは装置の大きさに制限
がある場合は、ドレッサ砥石の外径が研磨布の使用領域
幅の１．５〜１．８倍の範囲内にあるドレッサ砥石を用
いて研磨布のドレッシングを行なうようにすると、研磨
布の使用率の低下を招くことなく、研磨布のドレッシン
グ形状の平坦性を向上させることができる。When the size of the polishing cloth or the apparatus is limited, a dresser grinding stone whose outer diameter is within the range of 1.5 to 1.8 times the use area width of the polishing cloth is used. When the dressing of the polishing cloth is performed, the flatness of the dressing shape of the polishing cloth can be improved without lowering the usage rate of the polishing cloth.

【００１９】さらに、前記研磨布の中心と研磨布の円環
状の使用領域の中心位置との距離を前記ドレッサ砥石の
外径の０．５倍の値から、ドレッサ外径の０．５倍の値
に使用領域の幅の０．５倍の値を加えた値までの範囲内
に設定することが望ましい。Further, the distance between the center of the polishing cloth and the center position of the annular use area of the polishing cloth is 0.5 times the outer diameter of the dresser grindstone and 0.5 times the outer diameter of the dresser. It is desirable to set the value within the range up to a value obtained by adding 0.5 times the width of the used area.

【００２０】このような本発明の研磨布ドレッシング方
法を実施するための装置は、ドレッシング対象の研磨布
が取り付けられ一定の回転数で自転する回転定盤と、前
記研磨布の円環状の使用領域の幅以上の内径を有するリ
ング状のドレッサ砥石と、前記ドレッサ砥石を保持する
とともに所定の回転数で回転運動を与えるドレッサ回転
手段と、前記ドレッサ砥石を前記研磨布上の任意の位置
に位置決めをするとともに、所定の面圧で前記研磨布に
押し付けるドレッサ移動手段と、前記研磨布の回転数
と、ドレッサ砥石の回転数の比を任意の値に制御する回
転数制御手段とを具備することを特徴とするものであ
る。An apparatus for carrying out the polishing cloth dressing method of the present invention comprises a rotary platen to which a polishing cloth to be dressed is attached and which rotates at a constant rotation speed, and an annular usage area of the polishing cloth. A ring-shaped dresser grindstone having an inner diameter equal to or larger than the width of the dresser, a dresser rotating means for holding the dresser grindstone and giving rotational motion at a predetermined rotation speed, and positioning the dresser grindstone at an arbitrary position on the polishing cloth. In addition, a dresser moving unit that presses against the polishing cloth with a predetermined surface pressure, a rotation speed of the polishing cloth, and a rotation speed control unit that controls the ratio of the rotation speed of the dresser grindstone to an arbitrary value are provided. It is a feature.

【００２１】[0021]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て、添付の図面を参照して説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS One embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.

【００２２】図１は、本発明による研磨布ドレッシング
方法を実施するための装置を示す。この図１において、
１は研磨布、２はドレッサ砥石を表わしている。FIG. 1 shows an apparatus for carrying out the polishing cloth dressing method according to the present invention. In this FIG.
1 denotes a polishing cloth and 2 denotes a dresser whetstone.

【００２３】研磨布１は、例えば、エラストマ、軟質プ
ラスチック、繊維を規則的に編み込んだ織物あるいは不
織布からなる研磨布で、回転定盤３の上面の同心的な位
置に接着剤等を用いて貼り付けられるものである。回転
定盤３は、機台４に組み込まれている図示しない回転駆
動機構に連結されている。The polishing cloth 1 is, for example, a polishing cloth made of elastomer, soft plastic, woven fabric or non-woven fabric in which fibers are regularly woven, and is attached to the upper surface of the rotary platen 3 at a concentric position with an adhesive or the like. It is attached. The rotary platen 3 is connected to a rotary drive mechanism (not shown) incorporated in the machine base 4.

【００２４】一方、劣化した研磨布１の形状修正を行な
うためのドレッサ砥石２は、リング状の砥石を用いたも
ので、ドレッサ回転手段を構成するドレッサ回転ヘッド
５に保持されている。この場合、回転定盤１とドレッサ
砥石２の回転数は、図示されない制御装置によって任意
の回転数に設定・制御することができるようになってい
る。On the other hand, the dresser grindstone 2 for correcting the shape of the deteriorated polishing cloth 1 is a ring-shaped grindstone and is held by a dresser rotary head 5 which constitutes a dresser rotating means. In this case, the rotational speeds of the rotary platen 1 and the dresser grindstone 2 can be set and controlled to an arbitrary rotational speed by a control device (not shown).

【００２５】ドレッサ回転ヘッド５は、アーム６の一端
に取り付けられるもので、このアーム６の他端で旋回用
のモータを内蔵するドレッサ移動機構部７に連結されて
いる。従って、研磨布１のドレッシング時には、ドレッ
サ回転ヘッド５がドレッサ砥石２を保持したまま旋回し
て、ドレッサ砥石２を、研磨布１の使用領域の直上に位
置決めするとともに、適当な面圧を持って研磨布１に押
し付けることができるように構成されている。ドレッサ
砥石２は、ドレッサ回転ヘッド５により回転運動を与え
られながら、研磨布１上を摺動し、その上面を研磨する
ことができる。The dresser rotary head 5 is attached to one end of an arm 6, and the other end of the arm 6 is connected to a dresser moving mechanism 7 having a built-in motor for turning. Therefore, at the time of dressing the polishing cloth 1, the dresser rotary head 5 turns while holding the dresser grindstone 2 to position the dresser grindstone 2 directly above the use area of the polishing cloth 1 and with an appropriate surface pressure. It is constructed so that it can be pressed against the polishing cloth 1. The dresser grindstone 2 can slide on the polishing cloth 1 and polish the upper surface thereof while being given rotational motion by the dresser rotary head 5.

【００２６】ドレッシング時には、通常、研磨布１にド
レッサ砥石２と同方向の回転運動が与えられる。また、
ドレッサ移動機構部７は、ドレッサ砥石２を使用してい
ない間は、アーム６を回転定盤２から離れる方向に旋回
させて、ドレッサ砥石２が研磨布１に接触しないように
これを退避させるようになっている。At the time of dressing, the polishing cloth 1 is usually given a rotational motion in the same direction as the dresser grindstone 2. Also,
While not using the dresser grindstone 2, the dresser moving mechanism section 7 pivots the arm 6 in a direction away from the rotary surface plate 2 and retracts the dresser grindstone 2 so that the dresser grindstone 2 does not contact the polishing cloth 1. It has become.

【００２７】図２、図３は、ドレッサ砥石２を示すもの
で、本実施形態では、図２（ａ）、図３（ａ）に示すよ
うなドレッサ砥石が用いられる。このリング状のドレッ
サ砥石２は、取り付け板８を介してドレッサ回転機構部
７の回転軸９に連結されている。このようなドレッサ砥
石２は、その内径Ｄi は、研磨布１の使用領域（図５に
網目で示す領域）の幅Ｗよりも大きい大径のドレッサを
対象としている。2 and 3 show a dresser grindstone 2. In this embodiment, a dresser grindstone as shown in FIGS. 2A and 3A is used. The ring-shaped dresser grindstone 2 is connected to a rotating shaft 9 of a dresser rotating mechanism section 7 via a mounting plate 8. The dresser grindstone 2 as described above is intended for a dresser having a large diameter whose inner diameter Di is larger than the width W of the usage area (area shown by mesh in FIG. 5) of the polishing cloth 1.

【００２８】なお、ドレッサ砥石２としては、図２
（ｂ）、図３（ｂ）に示すように、微小な間隙１０を置
くようにして複数の円弧状砥石１１をリング状に配した
ものを用いてもよい。このような砥石によれば、間隙１
０からドレッシング液を供給したり、切屑を排除するこ
とができる。The dresser grindstone 2 is shown in FIG.
As shown in (b) and FIG. 3 (b), a plurality of arc-shaped grindstones 11 arranged in a ring shape with a minute gap 10 may be used. According to such a grindstone, the gap 1
It is possible to supply the dressing liquid from 0 and remove chips.

【００２９】次に、本発明のドレッシング方法の実施形
態として、以上のような装置により、種々の加工条件を
いろいろと変えて、研磨布をドレッシングした場合につ
いてシミュレーションした結果を挙げ、本発明をより詳
細に説明する。Next, as an embodiment of the dressing method of the present invention, the results of simulating the case of dressing a polishing cloth by variously changing various processing conditions by the above-mentioned apparatus will be given to further illustrate the present invention. The details will be described.

【００３０】研磨布のドレッシング形状の平坦性に影響
を与える加工条件としては、次のようなものがある。The following processing conditions affect the flatness of the dressing shape of the polishing cloth.

【００３１】[0031]

【表１】 次に、加工条件を変えてシミュレーションしたデータか
ら摺動距離分布を評価するための指標となるものとして
は、均一性指数δと対称性指数λがある。[Table 1] Next, there are the uniformity index δ and the symmetry index λ as indexes for evaluating the sliding distance distribution from the data simulated by changing the processing conditions.

【００３２】ここで、図７は、摺動距離分布の特徴的な
パターンを示す図で、この図７において、 Ｌ ； 最大摺動距離 Ｓ ； 最小摺動距離 Ｌｉ； 内側最大摺動距離 Ｌｏ； 外側最大摺動距離 とする。なお、本発明におけるように内径が使用領域幅
よりも大きなリング状砥石２を用いた場合は、 Ｌ ＝ Ｌｉ または、 Ｌ ＝ Ｌｏ である。Here, FIG. 7 is a diagram showing a characteristic pattern of the sliding distance distribution. In this FIG. 7, L; maximum sliding distance S; minimum sliding distance Li; inner maximum sliding distance Lo; The outer maximum sliding distance. When the ring-shaped grindstone 2 having an inner diameter larger than the width of the used region is used as in the present invention, L = Li or L = Lo.

【００３３】均一性指数δは、 δ ＝（Ｌ−Ｓ）／Ｌ …（１） で算出されるもので、摺動距離の最大値と最小値の差の
比率を表わしている。摺動距離とドレッシング量とがほ
ぼ比例するものとすれば、この均一性指数δの値が小さ
いほど、均一にドレッシングされていることを示す。The uniformity index δ is calculated by δ = (L−S) / L (1) and represents the ratio of the difference between the maximum value and the minimum value of the sliding distance. If the sliding distance and the dressing amount are substantially proportional to each other, the smaller the value of the uniformity index δ, the more uniform the dressing.

【００３４】研磨布の場合、使用領域の内側と外側で均
一にドレッシングされなければ、ドレッシングされた結
果が平坦であるとはいえないため、その評価のための指
標として対称性指数λを λ ＝｜Ｌｉ−Ｌｏ｜／Ｌｏ …（２） として、使用領域内の内側摺動距離Ｌｉと、外側摺動距
離Ｌｏの差の絶対値の比率によって定義する。従って、
均一性指数δとともに、対称性指数λの値が小さいほ
ど、研磨布のドレッシング形状は良好であることを示し
ている。In the case of the polishing cloth, the dressing result cannot be said to be flat unless the dressing is uniformly dressed inside and outside the use area. Therefore, the symmetry index λ is λ = | Li−Lo | / Lo (2) is defined by the ratio of the absolute value of the difference between the inner sliding distance Li and the outer sliding distance Lo in the use area. Therefore,
The smaller the value of the symmetry index λ along with the uniformity index δ, the better the dressing shape of the polishing cloth.

【００３５】以下、表１に挙げた加工条件について、シ
ミュレーションして解析した実施例の結果を図８乃至図
１３に示す。図８は、研磨布の回転数Ｎ1 と砥石の回転
数Ｎ2 の比κ（以下、回転数比κという）が摺動距離分
布の均一性指数δに与える影響を示し、図９は、回転数
比κが摺動距離分布の対称性指数λに与える影響を示
す。この場合、使用するドレッサ砥石について、その内
径・使用領域幅の比αと、ドレッサ砥石の外径・内径の
比βを種々組み合わせ、各組合せについて、回転数比κ
を変化させてシミュレーションを行なっている。The results of the examples of simulations and analyzes under the processing conditions listed in Table 1 are shown in FIGS. 8 to 13. FIG. 8 shows the effect of the ratio κ of the rotation speed N1 of the polishing cloth and the rotation speed N2 of the grindstone (hereinafter referred to as the rotation speed ratio κ) on the uniformity index δ of the sliding distance distribution, and FIG. 9 shows the rotation speed. The effect of the ratio κ on the symmetry index λ of the sliding distance distribution is shown. In this case, for the dresser grindstone to be used, the ratio α of the inner diameter / use area width and the ratio β of the outer diameter / inner diameter of the dresser grindstone are variously combined, and for each combination, the rotation speed ratio κ
Is being changed to perform the simulation.

【００３６】まず、図８からはっきりと見て取れるよう
に、回転数比κの増加（κ＞１）とともに、均一性指数
δの減少が始まり、これは言い換えれば、均一性の向上
がはっきりとしてくる。均一性指数δの値は、κが１．
５から４の範囲で小さい値になり、特に、２≦κ≦３の
範囲が、内径・使用領域幅比α、外径・内径比βの各組
合せともに小さくなっている。First, as can be clearly seen from FIG. 8, the uniformity index δ begins to decrease with an increase in the rotation speed ratio κ (κ> 1), which in other words, the improvement in uniformity becomes clear. The value of the uniformity index δ is such that κ is 1.
The value becomes small in the range of 5 to 4, and particularly the range of 2 ≦ κ ≦ 3 becomes small for each combination of the inner diameter / usage area width ratio α and the outer diameter / inner diameter ratio β.

【００３７】回転数比κの変化が対称性に及ぼす影響に
ついても、図９からわかるように、均一性の場合と同様
に、回転数比κにして１．５から４の範囲で対称性指数
λが低くなって対称性の向上が見られる範囲であり、特
に、２≦κ≦３の範囲では、各α・βの組合せとも、対
称性が最も良好な範囲であることがわかる。As can be seen from FIG. 9, the influence of the change in the rotation speed ratio κ on the symmetry is the same as in the case of uniformity, and the symmetry index is set in the range of 1.5 to 4 in the rotation speed ratio κ. It is found that λ is low and the symmetry is improved. Particularly, in the range of 2 ≦ κ ≦ 3, it is found that the symmetry is the best range for each combination of α and β.

【００３８】したがって、ドレッシング条件としては、
研磨布をドレッサ回転数Ｎ2 の１．５倍から４倍の範囲
の回転数Ｎ1 で同方向に回転することにより、ドレッシ
ング形状の均一性、対称性をともに向上できること、特
に、回転数比の望ましい範囲として２倍から３倍とする
ことでドレッシング形状を最適とすることができる。Therefore, the dressing conditions are as follows:
By rotating the polishing cloth in the same direction at a rotation speed N1 in the range of 1.5 times to 4 times the dresser rotation speed N2, both the uniformity and symmetry of the dressing shape can be improved, and particularly, the rotation speed ratio is desirable. The dressing shape can be optimized by setting the range to 2 to 3 times.

【００３９】また、図９からは、対称性指数λは回転数
比κの増加とともに０まで減少し、その後増加するパタ
ーンを示すことがわかる。図９では、対称性指数λの定
義式で絶対値をもって表わしているため図には現われて
いないが、実際は、このパターンの変化は、回転数比κ
が小さい場合に研磨布の内周側の摺動距離が大きくな
り、回転数比κが大きい場合には、逆に、外周側の摺動
距離が大きくなることを示している。従って、実際に行
なったドレッシング形状が内周側、外周側のどちらかに
偏っている場合には、回転数比κの値を微調整すること
により、研磨布形状の対称性を向上させることができ
る。Further, it can be seen from FIG. 9 that the symmetry index λ shows a pattern in which it decreases to 0 as the rotation speed ratio κ increases and then increases. In FIG. 9, the symmetry index λ is shown as an absolute value in the definition formula, so that it does not appear in the figure. However, in reality, the change in this pattern is caused by the rotation speed ratio κ.
It is shown that the sliding distance on the inner peripheral side of the polishing cloth becomes large when is small, and the sliding distance on the outer peripheral side becomes large when the rotation speed ratio κ is large. Therefore, when the dressing shape actually performed is biased toward the inner circumference side or the outer circumference side, the symmetry of the polishing cloth shape can be improved by finely adjusting the value of the rotation speed ratio κ. it can.

【００４０】例えば、研磨布の内周側が深くドレッシン
グされる場合には、回転数比κを大きくするように、研
磨布およびドレッサ砥石の回転数を調整することによ
り、研磨布内周でのドレッシング量を小さくするように
すればよい。For example, when the inner peripheral side of the polishing cloth is deeply dressed, the dressing on the inner peripheral surface of the polishing cloth is adjusted by adjusting the rotational speeds of the polishing cloth and the dresser grindstone so that the rotation speed ratio κ is increased. The amount should be reduced.

【００４１】以上は、回転数比κがドレッシング形状の
均一性、対称性に与える影響であるが、次に、ドレッサ
砥石の内径・使用領域幅の比αと、ドレッサ砥石の外径
・内径の比βとドレッシング形状の均一性、対称性との
関係について説明する。The above is the influence of the rotation speed ratio κ on the uniformity and symmetry of the dressing shape. Next, the ratio α of the inner diameter of the dresser grindstone to the use area width and the outer diameter / inner diameter of the dresser grindstone. The relationship between the ratio β and the uniformity and symmetry of the dressing shape will be described.

【００４２】図８、図９において、ドレッサ砥石の内径
・使用領域幅比α、外径・内径の比βの各組合せのシミ
ュレーション結果から、α、βの値が大きくなるに従っ
て、摺動距離分布の均一性指数δ、対称性指数λともに
値が小さくなる傾向にあることがわかり、従って、α、
βともにその値が大きいほど摺動距離分布の均一性、対
称性の向上に寄与することが定性的にわかる。8 and 9, the sliding distance distribution increases as the values of α and β increase from the simulation results of each combination of the inner diameter / use area width ratio α and the outer diameter / inner diameter ratio β of the dresser grindstone. It can be seen that the values of both the homogeneity index δ and the symmetry index λ tend to be small, and therefore α,
It is qualitatively understood that the larger the value of β, the more contributes to the uniformity and symmetry of the sliding distance distribution.

【００４３】そこで、さらに、回転数比κが２である場
合について、外径・内径比βが１．１、１．２、１．
４、１．６の各ドレッサ砥石について内径・使用領域幅
比αを１．０から２．０の範囲で変化させたシミュレー
ションによって解析した結果を図１０に、内径・使用領
域幅比αが１．２、１．４、１．６、１．８の各ドレッ
サ砥石について、外径・内径比βを１．０から２．０の
範囲で変化させたシミュレーションによって解析した結
果を図１１に示す。Therefore, when the rotation speed ratio κ is 2, the outer diameter / inner diameter ratio β is 1.1, 1.2, 1.
For each dresser grindstone of 4 and 1.6, the results of analysis by simulation in which the inner diameter / usage area width ratio α is changed in the range of 1.0 to 2.0 are shown in FIG. Fig. 11 shows the results of analysis of the dresser grindstones of 1.2, 1.4, 1.6, and 1.8 by a simulation in which the outer diameter / inner diameter ratio β was changed in the range of 1.0 to 2.0. .

【００４４】この図１０および図１１からはっきりと、
α、βともにその値が大きいほど摺動距離分布の均一
性、対称性が向上することがわかる。Clearly from FIG. 10 and FIG.
It can be seen that the larger the values of α and β are, the more the uniformity and symmetry of the sliding distance distribution are improved.

【００４５】しかしながら、実際問題としては、表１の
α、βの定義、図４から明らかなように、研磨布の半径
Ｒ、研磨布の使用領域幅Ｗとα、βとの間には、 Ｒ ≧ Ｄｏ ＝ α・β・Ｗ …（３） の関係が成り立つので、α、βの値を大きくするという
ことは、同一の使用領域幅Ｗに対してドレッサ砥石の外
径Ｄｏが大きくなり、それとともに、研磨布自体をより
大きな半径のものにしなければならなくなる。言い換え
れば、装置自体が大きくなることになり、設置面積や装
置重量の増加を招来し、この観点からは望ましい条件と
はなりえない。However, as a practical problem, as is clear from the definitions of α and β in Table 1 and FIG. 4, between the radius R of the polishing cloth and the used region width W of the polishing cloth and α and β, Since the relationship of R ≧ Do = α · β · W (3) holds, increasing the values of α and β means that the outer diameter Do of the dresser grindstone increases with respect to the same width W of use. At the same time, the polishing cloth itself has to have a larger radius. In other words, the size of the device itself becomes large, resulting in an increase in installation area and device weight, which is not a desirable condition from this point of view.

【００４６】そこで、ドレッサ砥石の大きさを適正な大
きさに抑えるとともに、ドレッシング形状の均一性、対
称性の向上に寄与するα、βの条件を探るには、実質的
に有効なドレッシングという観点から、研磨布の大きさ
に加えて、実際のドレッシング作用を行なう使用領域幅
と研磨布半径の比である研磨布利用率γが関係してく
る。Therefore, in order to suppress the size of the dresser grindstone to an appropriate size and to search for the conditions of α and β that contribute to the improvement of the uniformity and symmetry of the dressing shape, a substantially effective dressing is considered. Therefore, in addition to the size of the polishing cloth, the polishing cloth utilization factor γ, which is the ratio of the width of the used area where the actual dressing action is performed and the radius of the polishing cloth, is related.

【００４７】そこで、図１２に、研磨布の半径Ｒが最小
であるＲ＝Ｄｏの場合に、ドレッサ砥石の外径・内径比
βを変化させながら、研磨布の利用率γと、摺動距離分
布の均一性指数δとがどう変るかについてシミュレーシ
ョンした結果を示す。Therefore, in FIG. 12, when the radius R of the polishing cloth is the minimum R = Do, the utilization factor γ of the polishing cloth and the sliding distance are changed while changing the outer diameter / inner diameter ratio β of the dresser grindstone. The simulation result about how the uniformity index δ of the distribution changes is shown.

【００４８】この図１２では、内径・使用領域幅比αが
１．２、１．４、１．６、１．８の各ドレッサ砥石につ
いて、外径・内径比βを変化させて、摺動距離分布の均
一性指数δの向上率Δδと、と研磨布利用率γの減少率
Δγとの比をグラフに表わしたものである。グラフの縦
軸をΔδ／Δγとしているので、縦軸の値が１以上の時
は、研磨布の利用率低下よりも、摺動距離分布の均一性
向上の効果の方が大きいことを示しており、この値が１
未満のときは、研磨布の利用率が低下する反面で、摺動
距離分布の均一性向上の効果が小さいことを示してい
る。In FIG. 12, the outer diameter / inner diameter ratio β is changed for each dresser grindstone having an inner diameter / used area width ratio α of 1.2, 1.4, 1.6, 1.8, and sliding is performed. 6 is a graph showing the ratio of the improvement rate Δδ of the uniformity index δ of the distance distribution and the reduction rate Δγ of the polishing cloth utilization rate γ. Since the vertical axis of the graph is Δδ / Δγ, it is shown that when the value of the vertical axis is 1 or more, the effect of improving the uniformity of the sliding distance distribution is greater than the reduction of the utilization factor of the polishing cloth. And this value is 1
When it is less than 1, the utilization factor of the polishing pad decreases, but the effect of improving the uniformity of the sliding distance distribution is small.

【００４９】各曲線がΔδ／Δγ＝１と交わる点Ａ、
Ｂ、Ｃを考えると、これらの点Ａ、Ｂ、Ｃの近傍では、
均一性向上効果と、利用率向上効果とが均衡しているも
のと考えられる。各点Ａ、Ｂ、Ｃについて、αとβの値
の積（α・β）を計算すると、それぞれ１．７６、１．
６５、１．５６である。図１２から、α、βの値が増加
すると、均一性向上の効果が働かなくなる傾向にあるこ
とがみてとれるから、（α・β）は、最大でも１．８程
度で、おおよそ１．５から１．８の範囲にあれば、均一
性向上効果と、利用率向上効果とが均衡するとしてよ
い。Point A where each curve intersects Δδ / Δγ = 1,
Considering B and C, in the vicinity of these points A, B and C,
It is considered that the uniformity improvement effect and the utilization rate improvement effect are in balance. When the product (α · β) of the values of α and β is calculated for each point A, B, and C, 1.76 and 1.
65 and 1.56. It can be seen from FIG. 12 that as the values of α and β increase, the effect of improving the uniformity tends to fail, so (α · β) is about 1.8 at the maximum, which is about 1.5 to 1 Within the range of 0.8, the uniformity improvement effect and the utilization rate improvement effect may be balanced.

【００５０】そうすると、（α・β）がこの範囲にある
ときには、（３）式の関係から、ドレッサ外径Ｄｏは、
使用領域幅Ｗの１．８倍以下で、好ましくは１．５以上
で１．８倍以下の範囲にあることになる。従って、ドレ
ッサ外径Ｄｏがこの範囲にあれば、研磨布の利用率の極
端な低下を招くことなく、研磨布のドレッシング形状の
平坦性を向上させることが期待できる。Then, when (α · β) is in this range, the outer diameter Do of the dresser is, from the relation of the equation (3),
The width W is 1.8 times or less, preferably 1.5 or more and 1.8 times or less the width W of the used area. Therefore, if the dresser outer diameter Do is in this range, it can be expected that the flatness of the dressing shape of the polishing cloth is improved without causing a drastic decrease in the utilization rate of the polishing cloth.

【００５１】以上のことから、半径Ｒのあまり大きくな
い研磨布のドレッシングに関しては、ドレッサ砥石の外
径Ｄｏを使用領域幅Ｗの１．８倍以下、特に、望ましい
範囲としては使用領域幅Ｗに対して１．５〜１．８倍と
なるように設定し、これに応じた半径Ｒをもつ研磨布を
用いることにより、研磨装置の大型化を防止しつつ、ド
レッシングについて最良の効果をあげることができる。From the above, with respect to dressing of a polishing cloth having a radius R that is not so large, the outer diameter Do of the dresser grindstone is 1.8 times or less of the use area width W, and particularly, the use area width W is preferable. On the other hand, by setting it to be 1.5 to 1.8 times, and by using a polishing cloth having a radius R corresponding to this, to prevent the size of the polishing apparatus from increasing and to achieve the best effect on dressing. You can

【００５２】なお、研磨布あるいは装置本体の大きさに
余裕がある場合は、このようなドレッサ砥石の外径Ｄｏ
と、使用領域幅Ｗとの関係にとらわれることなく、可能
な限り大きな外径を有するドレッサ砥石を用いてドレッ
シングを行なうことで、摺動距離分布の均一性を向上さ
せ、かつ、研磨布のドレッシング形状の平坦性を最適化
することができる。If the size of the polishing cloth or the apparatus body is large, the outer diameter Do of such a dresser grindstone is Do.
And dressing area width W, dressing is performed using a dresser grindstone having an outer diameter as large as possible to improve the uniformity of the sliding distance distribution and to dress the polishing cloth. The flatness of the shape can be optimized.

【００５３】ところで、研磨布の使用領域が研磨布の内
側かあるいは外側にどの程度偏っている位置にあるかど
うかによっても、ドレッシング形状の均一性、平坦性に
影響してくるものと考えられる。By the way, it is considered that the uniformity and flatness of the dressing shape are influenced by how much the use area of the polishing cloth is located inside or outside the polishing cloth.

【００５４】そこで、次に、表１のドレッシング条件の
うち、使用領域中心位置の偏差量εとの関係をシミュレ
ーションした結果を図１３に示す。この場合、使用領域
中心位置の偏差量εは、図４において、ドレッサ砥石の
回転中心であるとともに、研磨布の使用領域の中心でも
あるＯ2 をもっとも半径方向内側に配置した場合を０と
して、使用領域をこの位置から外側にずらして設定した
場合の外側への偏差量を使用領域幅Ｗに対する比として
表わしたものである。このシミュレーションでは、ドレ
ッサ砥石の寸法比α、βの異なる３種類のドレッサにつ
いて、偏差量εに応じた摺動距離分布の変化を調べたも
のである。Then, next, of the dressing conditions of Table 1, the result of simulating the relationship with the deviation amount ε of the use area center position is shown in FIG. In this case, the deviation amount ε of the center position of the use area is set to 0 when the O2 which is the center of rotation of the dresser grindstone and the center of the use area of the polishing cloth in FIG. The amount of deviation to the outside when the region is set outward from this position is expressed as a ratio to the used region width W. In this simulation, changes in the sliding distance distribution according to the deviation amount ε were examined for three types of dressers having different dresser grindstone size ratios α and β.

【００５５】この図１２からは、偏差量εが約０．２ま
では均一性指数δがはっきりと減少して、均一性向上の
効果が大きいが、偏差量εの値が０．２から０．５の範
囲では、均一性指数δは漸減し、０．５を越えると、均
一性の改善は認められないことがわかる。From FIG. 12, the uniformity index δ is clearly reduced until the deviation amount ε is about 0.2, and the effect of improving the uniformity is great, but the value of the deviation amount ε is 0.2 to 0. In the range of 0.5, the uniformity index δ gradually decreases, and when it exceeds 0.5, it is understood that the improvement of uniformity is not observed.

【００５６】従って、ドレッシング形状の均一性向上の
ために最も好ましい使用領域中心位置の偏差量εの範囲
は、０．２以下である。よって、研磨布の使用領域を、
最も内側に配した位置から外側に向って使用領域幅の
０．２倍程度、最大でも０．５倍程度に偏らせて設定し
ておくことにより、研磨布のドレッシング形状をより均
一化させることができる。Therefore, the range of the deviation amount ε of the center position of the used area which is most preferable for improving the uniformity of the dressing shape is 0.2 or less. Therefore, the use area of the polishing cloth is
To make the dressing shape of the polishing cloth more uniform by setting it so as to deviate from the innermost position toward the outside by about 0.2 times the use area width, and about 0.5 times at the maximum. You can

【００５７】なお、偏差量εが０．２から０．５の範囲
では、均一性改善効果の度合いが少ないため、むしろ、
ドレッサ砥石の内径・使用領域幅比αまたは外径・内径
の比βを大きくする方が効果的であることもわかる。When the deviation amount ε is in the range of 0.2 to 0.5, the degree of the uniformity improving effect is small.
It can also be seen that it is more effective to increase the inner diameter / use area width ratio α or the outer diameter / inner diameter ratio β of the dresser grindstone.

【００５８】以上、本発明について、研磨布が円板形状
で、ドレッサ砥石の外径以上の半径をもったものを実施
形態および実施例として挙げて説明したが、ドレッサ機
構により発生する研磨布・ドレッサ砥石間の面圧を著し
く不均一にしない範囲において、使用領域以外の部分を
切り詰めた寸法、形状を有する研磨布でも同様の効果を
得ることができる。The present invention has been described above with reference to the embodiments and examples in which the polishing cloth has a disk shape and has a radius equal to or larger than the outer diameter of the dresser grindstone. However, the polishing cloth generated by the dresser mechanism The same effect can be obtained with a polishing cloth having a size and shape in which portions other than the used area are cut down within a range in which the surface pressure between the dresser grindstones is not significantly nonuniform.

【００５９】[0059]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、研磨布の最終形状の平坦性を向上させるよう
に最良の条件の下で研磨布にドレッシングを行なえるの
で、超精密研磨加工の精度向上に大いに寄与するもので
ある。As is apparent from the above description, according to the present invention, the polishing cloth can be dressed under the best conditions so as to improve the flatness of the final shape of the polishing cloth. It greatly contributes to the improvement of the accuracy of polishing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】本発明による研磨布ドレッシング装置の一実施
形態を示す斜視図である。FIG. 1 is a perspective view showing an embodiment of a polishing pad dressing device according to the present invention.

【図２】本発明によるドレッシング方法に用いるドレッ
サ砥石を示す側面図。FIG. 2 is a side view showing a dresser grindstone used in the dressing method according to the present invention.

【図３】同ドレッサ砥石の底面図[Fig. 3] Bottom view of the dresser whetstone

【図４】ドレッサ砥石と、研磨布の運動の相対関係を示
す模式図。FIG. 4 is a schematic diagram showing a relative relationship between the dresser grindstone and the movement of the polishing cloth.

【図５】研磨布におけるドレッサ砥石の摺動距離分布を
シミュレーションした結果を示す図。FIG. 5 is a view showing a result of simulating a sliding distance distribution of a dresser grindstone on a polishing cloth.

【図６】摺動距離分布からドレッシング後の研磨布の形
状を予測する図。FIG. 6 is a diagram for predicting the shape of a polishing cloth after dressing from a sliding distance distribution.

【図７】摺動距離分布のパターンの特徴を表わした図。FIG. 7 is a diagram showing characteristics of a sliding distance distribution pattern.

【図８】研磨布とドレッサ砥石の回転数比が摺動距離分
布の均一性に与える影響をシミュレーションした結果を
示す図。FIG. 8 is a diagram showing a result of simulating the effect of the rotation speed ratio of the polishing cloth and the dresser grindstone on the uniformity of the sliding distance distribution.

【図９】研磨布とドレッサ砥石の回転数比が摺動距離分
布の対称性指数に与える影響をシミュレーションした結
果を示す図。FIG. 9 is a view showing a result of simulating the effect of the rotation speed ratio of the polishing cloth and the dresser grindstone on the symmetry index of the sliding distance distribution.

【図１０】ドレッサ砥石の内径・使用領域比が摺動距離
分布の均一性に与える影響をシミュレーションした結果
を示す図。FIG. 10 is a view showing a result of simulating the influence of the inner diameter / use area ratio of the dresser grindstone on the uniformity of the sliding distance distribution.

【図１１】ドレッサ砥石の外径・内径比が摺動距離分布
の均一性に与える影響をシミュレーションした結果を示
す図。FIG. 11 is a view showing a result of simulating the influence of the outer diameter / inner diameter ratio of the dresser grindstone on the uniformity of the sliding distance distribution.

【図１２】ドレッサ砥石の外径・内径比を変化させた場
合に、摺動距離分布の均一性の向上と、研磨布利用率の
減少との関係をシミュレーションした結果を示す図。FIG. 12 is a view showing a result of simulating a relationship between improvement of uniformity of sliding distance distribution and decrease of polishing cloth utilization rate when the outer diameter / inner diameter ratio of the dresser grindstone is changed.

【図１３】研磨布の使用領域の中心位置の偏差量を変化
させて摺動距離分布の均一性向上についてシミュレーシ
ョンした結果を示す図。FIG. 13 is a view showing a result of simulation for improving the uniformity of the sliding distance distribution by changing the deviation amount of the center position of the use area of the polishing cloth.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ 研磨布 ２ ドレッサ砥石 ３ 回転定盤 ５ ドレッサ回転ヘッド（ドレッサ回転手段） ６ アーム ７ ドレッサ移動機構部 1 polishing cloth 2 dresser grindstone 3 rotating surface plate 5 dresser rotating head (dresser rotating means) 6 arm 7 dresser moving mechanism section

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】研磨布の円環状の使用領域の幅以上の内径
を有するリング状のドレッサ砥石を回転定盤上に固定し
た前記研磨布に回転させながら押し付け、前記研磨布に
前記ドレッサ砥石と同一の方向で所定の回転数の回転運
動を与えながら、前記研磨布の使用領域内の半径方向各
位置における前記ドレッサ砥石の摺動距離分布が均一と
なるように研磨布のドレッシングを行なうことを特徴と
する研磨布ドレッシング方法。1. A ring-shaped dresser grindstone having an inner diameter equal to or larger than the width of an annular usage area of the polishing cloth is pressed against the polishing cloth fixed on a rotating surface plate while rotating, and the dresser grinding stone is attached to the polishing cloth. Dressing the polishing cloth so that the sliding distance distribution of the dresser grindstone at each position in the radial direction within the use area of the polishing cloth is uniform while applying a rotational motion of a predetermined number of rotations in the same direction. A characteristic polishing cloth dressing method. 【請求項２】前記研磨布の回転数とドレッサの回転数と
の比が１．５〜４の範囲の回転数比にて研磨布のドレッ
シングを行なうことを特徴とする請求項１に記載の研磨
布ドレッシング方法。2. The dressing of the polishing cloth is performed at a rotation speed ratio of the rotation speed of the polishing cloth and the rotation speed of the dresser in the range of 1.5 to 4. Polishing cloth dressing method. 【請求項３】前記研磨布の使用領域幅に対する前記ドレ
ッサ砥石の内径の比または前記ドレッサ砥石の内径に対
する外径の比を大きく設定することにより、ドレッサ砥
石の摺動距離分布が均一となるように研磨布のドレッシ
ングを行なうことを特徴とする請求項２に記載の研磨布
ドレッシング方法。3. The distribution of the sliding distance of the dresser whetstone is made uniform by setting a large ratio of the inner diameter of the dresser whetstone to the use area width of the polishing cloth or the outer diameter to the inner diameter of the dresser whetstone. The polishing cloth dressing method according to claim 2, wherein dressing of the polishing cloth is performed. 【請求項４】外径が使用領域幅の１．５〜１．８倍の範
囲内にあるドレッサ砥石を用いて研磨布のドレッシング
を行なうことを特徴とする請求項２に記載の研磨布ドレ
ッシング方法。4. The dressing cloth dressing according to claim 2, wherein dressing of the dressing cloth is performed by using a dresser grindstone having an outer diameter within a range of 1.5 to 1.8 times the width of the used area. Method. 【請求項５】前記研磨布の中心と研磨布の円環状の使用
領域の中心位置との距離を前記ドレッサ砥石の外径の
０．５倍の値から、ドレッサ外径の０．５倍の値に使用
領域の幅の０．５倍の値を加えた値までの範囲内に設定
し、研磨布のドレッシングを行なうことを特徴とする請
求項１乃至４のいずれかの項に記載の研磨布ドレッシン
グ方法。5. The distance between the center of the polishing cloth and the center position of the annular use area of the polishing cloth is 0.5 times the outer diameter of the dresser grindstone and 0.5 times the outer diameter of the dresser. 5. The polishing according to claim 1, wherein the polishing cloth is dressed by setting the value within a range obtained by adding 0.5 times the width of the used area to the value. Cloth dressing method. 【請求項６】ドレッシング対象の研磨布が取り付けられ
一定の回転数で自転する回転定盤と、 前記研磨布の円環状の使用領域の幅以上の内径を有する
リング状のドレッサ砥石と、 前記ドレッサ砥石を保持するとともに所定の回転数で回
転運動を与えるドレッサ回転手段と、 前記ドレッサ砥石を前記研磨布上の任意の位置に位置決
めをするとともに、所定の面圧で前記研磨布に押し付け
るドレッサ移動手段と、 前記研磨布の回転数と、ドレッサ砥石の回転数の比を任
意の値に制御する回転数制御手段とを具備することを特
徴とする研磨布ドレッシング装置。6. A rotary surface plate to which a polishing cloth to be dressed is attached and which rotates at a constant rotation speed, a ring-shaped dresser grindstone having an inner diameter equal to or larger than the width of an annular usage area of the polishing cloth, and the dresser. A dresser rotating means for holding a grindstone and giving a rotational motion at a predetermined number of revolutions, and a dresser moving means for positioning the dresser grindstone at an arbitrary position on the polishing cloth and pressing it against the polishing cloth with a predetermined surface pressure. And a rotation speed control means for controlling the ratio of the rotation speed of the polishing cloth and the rotation speed of the dresser grindstone to an arbitrary value. 【請求項７】前記研磨布は、エラストマ、軟質プラスチ
ック、繊維を規則的に編み込んだ織物、または不織布か
らなる研磨布であることを特徴とする請求項６に記載の
研磨布ドレッシング装置。7. The polishing cloth dressing device according to claim 6, wherein the polishing cloth is a polishing cloth made of elastomer, soft plastic, woven fabric in which fibers are regularly knitted, or non-woven fabric.