JPH09299947A - 逆浸透膜スパイラルエレメントおよびそれを用いた処理システム - Google Patents

逆浸透膜スパイラルエレメントおよびそれを用いた処理システム

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JPH09299947A JP12440696A JP12440696A JPH09299947A JP H09299947 A JPH09299947 A JP H09299947A JP 12440696 A JP12440696 A JP 12440696A JP 12440696 A JP12440696 A JP 12440696A JP H09299947 A JPH09299947 A JP H09299947A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 前処理が不要でかつ低操作圧力で運転可能な
逆浸透膜スパイラルエレメントおよびそれを用いた処理
システムを提供することである。 【解決手段】 逆浸透膜スパイラルエレメント1は、合
成樹脂のネットからなる透過水スペーサ3の両面に逆浸
透膜2を重ね合わせて3辺を接着することにより封筒状
膜4を形成し、その封筒状膜4の開口部を集水管5に取
付け、厚さ2mm以上5mm以下の合成樹脂のネットか
らなる原水スペーサ6とともに集水管5の外周面にスパ
イラル状に巻回することにより構成される。逆浸透膜2
は、NaCl濃度500ppmの水溶液を供給液として
操作圧力7.5kgf/cm2 で運転した場合に25℃
で透過流束0.8m3 /m2 ・日以上およびNaCl除
去率99%以上となる性能を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、原水中の成分を分
離する逆浸透膜スパイラルエレメントおよびそれを用い
た処理システムに関する。
【0002】
【従来の技術】脱塩処理や各種製造プロセス等に、原水
中のイオン成分や低分子成分を分離するための逆浸透膜
スパイラルエレメントが用いられている。図3は従来の
逆浸透膜スパイラルエレメントの一部切欠き斜視図であ
る。
【0003】図3に示す逆浸透膜スパイラルエレメント
1は、透過水スペーサ3の両面に逆浸透膜2を重ね合わ
せて3辺を接着することにより封筒状膜(袋状膜)4を
形成し、その封筒状膜4の開口部を集水管5に取り付
け、ネット状(網状)の原水スペーサ6とともに集水管
5の外周面にスパイラル状に巻回することにより構成さ
れる。
【0004】図3に示すように、原水7は逆浸透膜スパ
イラルエレメント1の一方の端面側から供給される。こ
の原水7は原水スペーサ6に沿って流れ、逆浸透膜スパ
イラルエレメント1の他方の端面側から濃縮水9として
排出される。このように、原水スペーサ6により原水流
路が形成される。原水7が原水スペーサ6に沿って流れ
る過程で逆浸透膜2を透過した透過水8が透過水スペー
サ3に沿って集水管5の内部に流れ込み、集水管5の端
部から排出される。
【0005】通常、原水スペーサ6の厚さは、1mm以
下であり、逆浸透膜スパイラルエレメント1の端面の原
水流入部のクリアランス(隙間)は1mm以下となって
いる。そのため、原水を逆浸透膜スパイラルエレメント
1に供給する際には、予め原水中の濁質を除去すること
が必要である。
【0006】図4は図3の逆浸透膜スパイラルエレメン
ト1を用いた従来の処理システムの構成を示す図であ
る。図4において、原水7中の微生物の殺菌および有機
物の酸化のために、原水7に次亜塩素酸ナトリウム水溶
液で代表される酸化剤12が注入される。酸化剤12が
注入された原水7は、原水供給装置14により前処理装
置10に供給される。前処理装置10は、原水7に凝集
および沈殿処理、濾過処理、膜処理等の前処理を行な
う。前処理装置10により前処理された原水には、酸化
剤の残留による逆浸透膜の劣化を防止するために、重亜
硫酸ナトリウム水溶液で代表される還元剤13が注入さ
れる。還元剤13が注入された原水は、原水高圧供給装
置15に導入される。
【0007】原水高圧供給装置15は、所定の操作圧力
で原水を保安フィルタ11を介して逆浸透膜スパイラル
エレメント1に供給する。逆浸透膜スパイラルエレメン
ト1は、供給された原水を透過水8および濃縮水9に分
離する。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
逆浸透膜スパイラルエレメントを使用する際には、図4
に示した前処理装置10により予め原水中の濁質を除去
することが必要である。また、逆浸透膜は、一般に10
kgf/cm2 以上の高い操作圧力を必要とするため、
逆浸透膜スパイラルエレメントの使用の際には、図4に
示した原水高圧供給装置15が必要となる。このよう
に、前処理装置10および原水高圧供給装置15が必要
となるので、初期コストおよび運転コストの高い処理シ
ステムとなる。そのため、従来の処理システムは、例え
ば、超純水製造システム、有機物の分離プロセス等の高
いコストが許容される用途に限定されていた。
【0009】一方、近年、飲料水の原水となる河川水、
湖沼水、地下水等が生活排水、産業排水等で汚染され、
安全な飲料水の提供が重要な検討課題となってきた。こ
れらの汚染物質の中で除濁処理では除去できない溶解成
分、特に人体に有害な有機塩素化合物、農薬等の除去が
不可欠である。これらの有害物質を除去するためには、
高い分離性能を有する逆浸透膜が必要となる。しかしな
がら、逆浸透膜スパイラルエレメントを用いた処理シス
テムでは、上記のように、前処理装置10および原水高
圧供給装置15が必要となり、コストが高くなるため、
低コストが要求される飲料水への適用は困難であった。
【0010】そのため、前処理が不要でかつ低操作圧力
で運転可能な逆浸透膜スパイラルエレメントおよびそれ
を用いた処理システムが強く要望されていた。本発明の
目的は、前処理が不要でかつ低操作圧力で運転可能な逆
浸透膜スパイラルエレメントおよびそれを用いた処理シ
ステムを提供することである。
【0011】
【課題を解決するための手段および発明の効果】本発明
に係る逆浸透膜スパイラルエレメントは、集水管の外周
面に袋状の逆浸透膜を原水スペーサとともに巻回してな
る逆浸透膜スパイラルエレメントにおいて、原水スペー
サにより逆浸透膜間に形成される原水流路の厚さが2m
m以上であり、逆浸透膜が、NaCl濃度500ppm
の水溶液を供給液として操作圧力7.5kgf/cm2
で運転した場合に25℃で透過流束0.8m3 /m2
日およびNaCl除去率99%以上となる性能を有する
ものである。
【0012】本発明に係る逆浸透膜スパイラルエレメン
トにおいては、原水流路の厚さが2mm以上となるの
で、濁質による原水流路の閉塞が防止される。また、逆
浸透膜が、NaCl濃度500ppmの水溶液を供給液
として操作圧力7.5kgf/cm2 で運転した場合に
25℃における透過流束が0.8m3 /m2 ・日以上と
なり、NaCl除去率が99%以上となる性能を有する
ので、従来の分離性能を保持しながら10kgf/cm
2 以下の低い操作圧力で運転することができる。
【0013】それにより、前処理および低い操作圧力で
の逆浸透膜処理を逆浸透膜スパイラルエレメントで同時
に行なうことが可能となる。したがって、前処理装置お
よび原水高圧供給装置が不要となり、初期コストおよび
運転コストの低い処理システムが提供される。
【0014】特に、原水スペーサが、合成樹脂からなる
ネット状のスペーサであり、2mm以上の厚さを有する
ことが好ましい。これにより、圧力損失を低減しつつ2
mm以上の厚さを有する原水流路を確保することができ
るため、濁質による原水流路の閉塞を確実に防止するこ
とができる。また、原水スペーサが2mm以上5mm以
下の厚さを有することがさらに好ましい。これにより、
大きな膜面積を確保しつつ濁質による原水流路の閉塞を
防止することができる。
【0015】また、逆浸透膜が、2つ以上の反応性のア
ミノ基を有する化合物と2つ以上の反応性の酸ハライド
基を有する多官能性酸ハロゲン化合物とからなる負荷電
性架橋ポリアミド系スキン層を微多孔性支持体で支持
し、そのポリアミド系スキン層の表面を正荷電性基を有
する有機重合体の架橋層で被覆してなる複合逆浸透膜で
あり、ポリアミド系スキン層の比表面積が3以上である
ことが好ましい。これにより、NaCl濃度500pp
mの水溶液を供給液として操作圧力7.5kgf/cm
2 で運転した場合に25℃における透過流束が0.8m
3 /m2 ・日以上となり、NaCl除去率が99%以上
となる性能が得られる。
【0016】本発明に係る処理システムは、原水に酸化
剤を注入する酸化剤注入手段と、酸化剤注入手段により
酸化剤が注入された原水に還元剤を注入する還元剤注入
手段と、還元剤注入手段により還元剤が注入された原水
が供給される上記の逆浸透膜スパイラルエレメントとを
備えるものである。
【0017】この処理システムでは、逆浸透膜スパイラ
ルエレメントにおいて濁質による原水流路の閉塞が防止
され、かつ従来の分離性能を保持しながら10kgf/
cm 2 以下の低い操作圧力で運転可能となる。そのた
め、前処理および低い操作圧力での逆浸透膜処理が逆浸
透膜スパイラルエレメントで同時に行なわれる。したが
って、前処理装置および原水高圧供給装置が不要とな
り、初期コストおよび運転コストが低減される。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明に係る逆浸透膜スパ
イラルエレメントおよびそれを用いた処理システムの一
例について説明する。本発明の逆浸透膜スパイラルエレ
メントの全体の構造は、図3に示した従来の逆浸透膜ス
パイラルエレメントの構造と同様であるが、原水スペー
サおよび逆浸透膜が異なる。まず、図3を参照しながら
本発明に係る逆浸透膜スパイラルエレメントの一例につ
いて説明する。
【0019】本発明の逆浸透膜スパイラルエレメント1
は、合成樹脂のネットからなる透過水スペーサ3の両面
に逆浸透膜2を重ね合わせて3辺を接着することにより
封筒状膜(袋状膜)4を形成し、その封筒状膜4の開口
部を集水管5に取付け、合成樹脂のネットからなる原水
スペーサ6とともに集水管5の外周面にスパイラル状に
巻回することにより構成される。
【0020】原水流路は、原水スペーサ6により形成さ
れる。したがって、原水スペーサ6の厚さを厚くするこ
とにより、濁質の流入に対しても原水流路の閉塞を防止
することができる。一方、原水スペーサ6の厚さが厚す
ぎると、同一径において巻回することができる逆浸透膜
2の量が少なくなるため、膜面積が減少する。したがっ
て、原水スペーサ6の厚さは2mm以上5mm以下が好
ましい。
【0021】封筒状膜4を構成する逆浸透膜2として
は、2つ以上の反応性のアミノ基を有する化合物と2つ
以上の反応性の酸ハライド基を有する多官能性酸ハロゲ
ン化合物とからなる負荷電性架橋ポリアミド系スキン層
およびこれを支持する微多孔性支持体からなり、ポリア
ミド系スキン層の比表面積が3以上で、かつポリアミド
系スキン層の表面を正荷電性基を有する有機重合体の架
橋層で被覆してなる複合逆浸透膜を用いる。
【0022】複合逆浸透膜の表面におけるポリアミド系
スキン層の比表面積は次式で定義される。 スキン層の比表面積=(スキン層の表面積)/(微多孔
性支持体の表面積) ここで、スキン層の表面積は、微多孔性支持体と接触し
ている面と反対側の面、すなわち、供給液と接触する側
の面の表面積である。また、微多孔性支持体の表面積
は、スキン層と接触している面の表面積である。
【0023】これらの表面積および比表面積は、一般に
表面粗さを求める手法を用いて求めることができ、例え
ば、表面積測定装置、比表面積測定装置、走査型電子顕
微鏡(SEMまたはFE−SEM)、透過型電子顕微鏡
(TEM)等を用いて測定することができる。なお、表
面積および比表面積の測定手法はこれらに限定されるも
のではない。
【0024】本発明の逆浸透膜スパイラルエレメント1
において用いられる逆浸透膜2は、NaCl濃度500
ppmの水溶液を供給液として操作圧力7.5kgf/
cm 2 で運転した場合に25℃における透過流束が0.
8m3 /m2 ・日以上となり、NaCl除去率が99%
以上となる基本性能を有する。これにより、本発明の逆
浸透膜2では、従来の逆浸透膜に比べて、同じNaCl
除去率を保持しながら操作圧力が半分以下となる。すな
わち、本発明の逆浸透膜2を従来の逆浸透膜と同様の操
作圧力で運転した場合には、2倍以上の透過流束が得ら
れる。
【0025】さらに、逆浸透膜スパイラルエレメント1
を原水7の側でクロスフロー濾過、適宜フラッシング洗
浄または気泡流洗浄を行い、透過水8の側で透過水逆圧
洗浄を行うことにより、濁質を逆浸透膜2の膜面から剥
離することができる。それにより、安定した前処理およ
び逆浸透膜処理を実現することができる。
【0026】図1は本発明に係る逆浸透膜スパイラルエ
レメント1を用いた処理システムの構成を示す図であ
る。原水中の微生物の殺菌および有機物の酸化のため
に、原水7に例えば次亜塩素酸ナトリウム水溶液等の酸
化剤12が注入される。また、酸化剤の残留による逆浸
透膜2の劣化を防止するために、酸化剤12が注入され
た原水7に、重亜硫酸ナトリウム水溶液等の還元剤13
が注入される。還元剤13が注入された原水7は、原水
供給装置16に供給される。原水供給装置16は、その
原水7を保安用フィルタ11を介して本発明の逆浸透膜
スパイラルエレメント1に供給する。逆浸透膜スパイラ
ルエレメント1は、原水7を透過水8と濃縮水9とに分
離する。
【0027】図1の処理システムでは、本発明の逆浸透
膜スパイラルエレメント1において前処理および低操作
圧力での逆浸透膜処理が同時に行なわれる。したがっ
て、原水中の濁質を除去するために、凝集および沈殿処
理、濾過処理、膜処理等の前処理を行なう前処理装置お
よび原水高圧供給装置が不要となり、初期コストおよび
運転コストが低減される。
【0028】
【実施例】上記の構造を有する実施例の逆浸透膜スパイ
ラルエレメント1を作製し、図1に示した処理システム
に用いて運転を行った。
【0029】本実施例では、次の方法により逆浸透膜2
を作製した。なお、微多孔性支持体としては、ポリスル
ホン系限外濾過膜を用いた。3.0重量%のm−フェニ
レンジアミン、0.15重量%のラウリル硫酸ナトリウ
ム、3.0重量%のトリエチルアミン、6.0重量%の
カンファースルホン酸および5重量%のイソプロピルア
ルコールを含有した水溶液を、多孔性ポリスルホン支持
膜に数秒間接触させて、余分の溶液を除去して支持膜上
に前記溶液の層を形成した。
【0030】次いで、この支持膜の表面に、0.20重
量%のトリメシン酸クロライドおよび0.05重量%の
イソプロピルアルコールを含むIP1016(出光化学
株式会社製イソパラフィン系炭化水素油)溶液を接触さ
せ、その後120℃の熱風乾燥機の中で3分間保持し
て、支持膜上に重合体薄膜を形成させ、複合逆浸透膜を
得た。
【0031】また、本実施例では、原水スペーサ6とし
て、厚さ2mmの合成樹脂のネット(網)を使用した。
図1の処理システムの運転条件としては、原水として濁
度10度以下の河川水を使用し、操作圧力を5kgf/
cm2 とし、クロスフロー濾過で回収率を80%とし
た。また、1時間に1回フラッシング洗浄を行ない、透
過水逆圧洗浄を行なった。
【0032】図2に本実施例の逆浸透膜スパイラルエレ
メント1を用いた処理システムの運転結果を示す。図2
に示すように、約6か月の長期に亘って前処理なしに比
較的安定した運転が可能であった。逆浸透膜スパイラル
エレメント1の透過水の水質は、水道水水質基準の46
項目に十分適合するものであり、濁質は100%の除去
率、有機物は99%以上の除去率を示した。また、前処
理なしに5kgf/cm2 の低い操作圧力で運転するこ
とができたので、保守費および所要動力費が少なくて済
み、比較的簡素な処理システムで安全な水質を有する飲
料水が得られることがわかった。
【0033】このように、前処理および低操作圧力での
逆浸透膜処理を逆浸透膜スパイラルエレメント1におい
て同時に行なうことができるので、低コストで逆浸透膜
処理を行なうことができる処理システムが提供される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る逆浸透膜スパイラルエレメントを
用いた処理システムの一例を示す図である。
【図2】本発明に係る逆浸透膜スパイラルエレメントを
用いた処理システムにおける運転期間と透過流束との関
係の測定結果を示す図である。
【図3】本発明および従来の逆浸透膜スパイラルエレメ
ントの構造の一例を示す一部切欠き斜視図である。
【図4】従来の逆浸透膜スパイラルエレメントを用いた
処理システムの一例を示す図である。
【符号の説明】
1 逆浸透膜スパイラルエレメント 2 逆浸透膜 3 透過水スペーサ 4 封筒状膜 5 集水管 6 原水スペーサ 7 原水 8 透過水 9 濃縮水 11 保安用フィルタ 12 酸化剤 13 還元剤 16 原水供給装置
フロントページの続き (72)発明者 廣瀬 雅彦 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 集水管の外周面に袋状の逆浸透膜を原水
    スペーサとともに巻回してなる逆浸透膜スパイラルエレ
    メントにおいて、前記原水スペーサにより前記逆浸透膜
    間に形成される原水流路の厚さは2mm以上であり、前
    記逆浸透膜は、NaCl濃度500ppmの水溶液を供
    給液として操作圧力7.5kgf/cm2 で運転した場
    合に25℃で透過流束0.8m3 /m2 ・日以上および
    NaCl除去率99%以上となる性能を有することを特
    徴とする逆浸透膜スパイラルエレメント。
  2. 【請求項2】 前記原水スペーサは、合成樹脂からなる
    ネット状のスペーサであり、2mm以上の厚さを有する
    ことを特徴とする請求項1記載の逆浸透膜スパイラルエ
    レメント。
  3. 【請求項3】 前記逆浸透膜は、2つ以上の反応性のア
    ミノ基を有する化合物と2つ以上の反応性の酸ハライド
    基を有する多官能性酸ハロゲン化合物とからなる負荷電
    性架橋ポリアミド系スキン層を微多孔性支持体で支持
    し、前記ポリアミド系スキン層の表面を正荷電性基を有
    する有機重合体の架橋層で被覆してなる複合逆浸透膜で
    あり、前記ポリアミド系スキン層の比表面積が3以上で
    あることを特徴とする請求項1または2記載の逆浸透膜
    スパイラルエレメント。
  4. 【請求項4】 原水に酸化剤を注入する酸化剤注入手段
    と、前記酸化剤注入手段により酸化剤が注入された原水
    に還元剤を注入する還元剤注入手段と、前記還元剤注入
    手段により還元剤が注入された原水が供給される請求項
    1〜3のいずれかに記載の逆浸透膜スパイラルエレメン
    トとを備えたことを特徴とする処理システム。
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