JPH09295262A - ポリッシング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 メンテナンス作業が容易で、狭いスペースに
も設置できるポリッシング装置を提供すること。 【解決手段】 ポリッシング対象物をその下面に保持す
るトップリング３５と、トップリング３５に保持したポ
リッシング対象物の表面を研磨する研磨面３４を有する
ターンテーブル３３と、ターンテーブル３３の研磨面３
４に当接して該研磨面３４の再生を行なうドレッシング
ツール３９とを具備する。ターンテーブル３３の研磨面
３４と、トップリング３５のメンテナンスポジション
と、ドレッシングツール３９のメンテナンスポジション
とをポリッシング装置３０を収納する部屋４５の１つの
側面Ａに接近するように配置せしめることによって、タ
ーンテーブル３３の研磨面３４とトップリング３５とド
レッシングツール３９のメンテナンスをいずれも前記１
つの側面（メンテナンス面）Ａから行なえるようにす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、各種消耗品の交換
などのメンテナンスが容易に行なえるポリッシング装置
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体ウエハの製造工程においては、半
導体ウエハ表面を平坦且つ鏡面化するためにポリッシン
グ装置が使用されている。

【０００３】この種のポリッシング装置１００は例えば
図２に示すように、表面に研磨面１１１を設け所定の回
転数で回転するターンテーブル１１０と、半導体ウエハ
を保持して所定の回転数で回転しターンテーブル１１０
の研磨面１１１に接触することで該半導体ウエハの表面
を研磨するトップリング１２０と、ターンテーブル１１
０の研磨面１１１に接触して研磨後の研磨面１１１の目
立て・再生を行なうドレッシングツール１３０とを１つ
の部屋１０１内に収納して構成されている。

【０００４】一方このポリッシング装置１００には半導
体ウエハの搬送・洗浄のための洗浄装置１４０を併設さ
せる場合がある。この洗浄装置１４０としては例えば、
外部から半導体ウエハを受け取ってこれを前記ポリッシ
ング装置１００に搬送する２台のワーク搬送ロボット１
５１，１５３と、ポリッシング完了後の半導体ウエハを
洗浄する１次・２次洗浄機１６１，１６３と、洗浄後の
半導体ウエハを乾燥する乾燥装置（又は洗浄機能付乾燥
装置）１７０と、半導体ウエハを把持して反転する反転
機１８１，１８３とを１つの部屋１４１内に収納して構
成されている。

【０００５】ところで、前記ポリッシング装置１００の
トップリング１２０を構成する部品の一部や、ターンテ
ーブル１１０の研磨面１１１を構成する研磨クロスや、
ドレッシングツール１３０に取り付けられるドレッサブ
ラシ等は消耗品であり、それぞれ定期的に交換するメン
テナンスが必要である。

【０００６】また前記洗浄装置１４０の洗浄機１６１，
１６３に用いる洗浄ブラシやスポンジも消耗品であり、
定期的に交換するメンテナンスが必要である。

【０００７】なおここで言うメンテナンスとは、不慮の
故障などの際のメンテナンスではなく、通常の消耗品の
定期的な交換メンテナンスを意味する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
例の場合、トップリング１２０の部品を交換するメンテ
ナンス面ａと、研磨面１１１の研磨クロスを交換するメ
ンテナンス面ｂと、ドレッシングツール１３０のドレッ
サブラシ及び洗浄機１６１，１６３の洗浄ブラシなどを
交換するメンテナンス面ｃとがそれぞれ異なっていた。

【０００９】つまり従来は、メンテナンス面ａ，ｂ，ｃ
が３面もあったため、各メンテナンス面ａ，ｂ，ｃの手
前のスペースをメンテナンス可能となるように空けてお
かなければならず、何れの面も壁などに接近させて設置
することができず、結果として広い設置スペースが必要
となっていた。

【００１０】またメンテナンス面ａ，ｂ，ｃが３面もあ
るため、複数のメンテナンス面ａ，ｂ，ｃのメンテナン
スをする場合、工具や部品などを持って移動しなければ
ならず、そのメンテナンス作業が煩雑であった。

【００１１】本発明は上述の点に鑑みてなされたもので
ありその目的は、メンテナンス作業が容易で、狭いスペ
ースにも設置できるポリッシング装置を提供することに
ある。

【００１２】

【課題を解決するための手段】上記問題点を解決するた
め本発明は、ポリッシング対象物をその下面に保持する
トップリングと、該トップリングに保持したポリッシン
グ対象物の表面を研磨する研磨面を有するターンテーブ
ルと、ターンテーブルの研磨面に当接して該研磨面の再
生を行なうドレッシングツールとを具備するポリッシン
グ装置において、ターンテーブルの研磨面と、トップリ
ングのメンテナンスポジションと、ドレッシングツール
のメンテナンスポジションとをポリッシング装置を収納
する部屋の１つの側面に接近するように配置せしめるこ
とによって、ターンテーブルの研磨面とトップリングと
ドレッシングツールをメンテナンスする面をいずれも前
記１つの側面に統一せしめることとした。

【００１３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を図面に
基づいて詳細に説明する。図１は本発明の一実施形態に
かかるポリッシング装置３０と洗浄装置５０を示す概略
平断面図である。以下ポリッシング装置３０と洗浄装置
５０について詳細に説明する。

【００１４】同図に示すようにポリッシング装置３０
は、その略中央にターンテーブル３３を配置し、その両
側にトップリング３５を取り付けたポリッシングユニッ
ト３７と、ドレッシングツール３９を取り付けたドレッ
シングユニット４１を配置し、さらにポリッシングユニ
ット３７の横にワーク受渡装置４３を設置し、これら各
装置を１つの部屋４５内に収納して構成されている。

【００１５】ここで図１に示すトップリング３５の位置
は該トップリング３５のメンテナンスポジションを示し
ており、またドレッシングツール３９の位置はドレッシ
ングツール３９のメンテナンスポジションを示してい
る。

【００１６】つまりトップリング３５とドレッシングツ
ール３９がメンテナンスポジションにあるとき、両者は
いずれもポリッシング装置３０の手前側の側面Ａに接近
して位置している。またターンテーブル３３の研磨面３
４も側面Ａに接近して位置している。

【００１７】そして本実施形態においては、ポリッシン
グ装置３０の部屋４５の各側面の内のこの側面Ａのみを
メンテナンス面としている。このメンテナンス面Ａには
図示しないメンテナンス用の開閉扉が取り付けられてい
る。

【００１８】一方洗浄装置５０は、その中央に矢印Ｃ方
向に移動可能な２台のワーク搬送ロボット（搬送機）５
１，５３を設置し、その一方側に１次・２次洗浄機５
５，５７とスピン乾燥機（又は洗浄機能付スピン乾燥
機）５９を並列に配設し、他方側にワーク反転機６１，
６３を並列に配設し、これら各装置を１つの部屋６７内
に収納して構成されている。

【００１９】そしてこの洗浄装置５０においては、洗浄
装置５０の部屋６７の各側面の内の１次・２次洗浄機５
５，５７を設置した側の側面Ａ′のみをメンテナンス面
としている。この側面Ａ′は前記ポリッシング装置３０
のメンテナンス面Ａと同一面である。

【００２０】次にこのポリッシング装置３０と洗浄装置
５０の動作を簡単に説明すると、まず研磨前の半導体ウ
エハを収納したカセット６５が、図１に示す位置にセッ
トされると、ワーク搬送ロボット５３が該カセット６５
から半導体ウエハを１枚ずつ取り出してワーク反転機６
３に受け渡して反転する。さらに該半導体ウエハは、該
反転機６３からワーク搬送ロボット５１によってポリッ
シング装置３０のワーク受渡装置４３に搬送される。

【００２１】ワーク受渡装置４３上の半導体ウエハは、
一点鎖線の矢印で示すように回動するポリッシングユニ
ット３７のトップリング３５下面に保持されてターンテ
ーブル３３上に移動され、回動するターンテーブル３３
の研磨面３４上で研磨される。

【００２２】研磨終了後は、トップリング３５がワーク
受渡装置４３上に移動し、半導体ウエハは再びワーク受
渡装置４３に戻され、ワーク搬送ロボット５１によって
ワーク反転機６１に浮け渡されて反転された後、１次・
２次洗浄機５５，５７で洗浄され、その後、スピン乾燥
機（又は洗浄機能付スピン乾燥機）５９でスピン乾燥さ
れ、ワーク搬送ロボット５３によってカセット６５に戻
される。

【００２３】一方ドレッシングツール３９は、トップリ
ング３５による半導体ウエハの研磨終了後、一点鎖線の
矢印で示すようにターンテーブル３３上に移動し、回転
するドレッシングツール３９下面に取り付けたドレッサ
ブラシを回転するターンテーブル３３の研磨面３４に押
し付けることで、研磨面３４の目立て・再生を行なう。

【００２４】ところでトップリング３５の前記半導体ウ
エハを保持する部分の部品や、ドレッシングツール３９
のドレッサブラシ（ブラシ以外の部品の場合もある）は
消耗品である。そしてこれらトップリング３５の消耗部
品とドレッシングツール３９の消耗部品の定期的交換作
業は、いずれもトップリング３５とドレッシングツール
３９のメンテナンスポジションにおいて行なわれるが、
該両メンテナンスポジションはいずれもメンテナンス面
Ａに接近するように配置されているので、該メンテナン
ス面Ａに設けた図示しない開閉扉から行なえる。

【００２５】またターンテーブル３３の研磨面３４を構
成する研磨クロスも消耗品であり、その交換もメンテナ
ンス面Ａに設けた開閉扉から行なえる。

【００２６】さらに１次・２次洗浄機５５，５７に取り
付けられた洗浄ブラシ（スポンジ等の他の部品の場合も
ある）も消耗品であるが、これら消耗品の交換もメンテ
ナンス面Ａ′に設けた開閉扉から行なえる。

【００２７】

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、定期的メンテナンスの必要な各装置のメンテナンス
面を１つの側面に統一したので、以下のような優れた効
果を有する。 同時に複数の機器のメンテナンスを行なう際に、工具
や部品を持っての移動距離が短くて済み、そのメンテナ
ンス作業が容易になる。

【００２８】メンテナンス面以外の他の側面は壁など
に接近させても良くなり、その分実質的な設置スペース
のダウンサイジング化が図れる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態にかかるポリッシング装置
３０と洗浄装置５０を示す概略平断面図である。

【図２】従来のポリッシング装置１００と洗浄装置１４
０を示す概略平断面図である。

【符号の説明】

Ａ，Ａ′ メンテナンス面 ３０ ポリッシング装置 ３３ ターンテーブル ３４ 研磨面 ３５ トップリング ３９ ドレッシングツール ４５ 部屋 ５０ 洗浄装置 ５１，５３ 搬送機 ５５ １次洗浄機 ５７ ２次洗浄機 ５９ スピン乾燥機 ６７ 部屋

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 桜井 邦彦 東京都大田区羽田旭町11番１号 株式会社 荏原製作所内 (72)発明者 矢島 比呂海 神奈川県川崎市幸区堀川町72 株式会社東 芝川崎事業所内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリッシング対象物をその下面に保持す
   るトップリングと、該トップリングに保持したポリッシ
   ング対象物の表面を研磨する研磨面を有するターンテー
   ブルと、ターンテーブルの研磨面に当接して該研磨面の
   再生を行なうドレッシングツールとを具備するポリッシ
   ング装置において、 ターンテーブルの研磨面と、トップリングのメンテナン
   スポジションと、ドレッシングツールのメンテナンスポ
   ジションとをポリッシング装置を収納する部屋の１つの
   側面に接近するように配置せしめることによって、ター
   ンテーブルの研磨面とトップリングとドレッシングツー
   ルをメンテナンスする面をいずれも前記１つの側面に統
   一せしめたことを特徴とするポリッシング装置。
2. 【請求項２】 前記ポリッシング装置によって研磨され
   たポリッシング対象物を洗浄する洗浄機と、前記トップ
   リングとの間でポリッシング対象物の受け渡しを行なっ
   て該ポリッシング対象物を前記洗浄機に搬送する搬送機
   とを具備する洗浄装置を、前記ポリッシング装置の横に
   設置し、 前記洗浄機を、前記洗浄装置を収納する部屋の１つの側
   面に接近するように配置せしめることによって、該洗浄
   機をメンテナンスする面を、前記ポリッシング装置のト
   ップリング等のメンテナンス面と一致せしめたことを特
   徴とする請求項１記載のポリッシング装置。