JPH09291145A - フェノールの酸化重合用触媒およびフェノールの酸化重合法 - Google Patents
フェノールの酸化重合用触媒およびフェノールの酸化重合法Info
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Abstract
およびその触媒系を用いたフェノールの酸化重合法を提
供する。 【解決手段】式(1) (R1 は二官能性の炭化水素基、R2 およびR3 はH、
炭化水素基、R4 〜R11はH、炭化水素基、水酸基、炭
化水素オキシ基、置換アミノ基、ニトロ基またはハロゲ
ン原子)で示されるコバルト−シッフ塩基錯体および式
(2) (R12はH、炭化水素基、炭化水素オキシ基、R13は
H、炭化水素基、炭化水素オキシ基、炭化水素オキシカ
ルボニル基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を
表わし、R14はH、炭化水素基。R12とR13および/ま
たはR13とR14は環を形成してもよい。)で示されるコ
バルト−ジケトン錯体を含有するフェノールの酸化重合
用触媒。
Description
重合用触媒およびかかる触媒を使用したフェノールの酸
化重合法に関する。更に詳しくは、ポリフェニレンエー
テルの製造に用いられるフェノールの酸化重合用触媒お
よびフェノールの酸化重合法に関するものである。
る置換フェノール類を酸化重合してポリフェニレンエー
テルを製造するために用いられる触媒系については、既
に銅、マンガン、コバルトなどの遷移金属錯体が広く知
られている。一方、無置換のフェノールを酸化重合して
ポリ−1,4−フェニレンエーテルを製造する方法につ
いては、特公昭36−18692号公報、工業化学雑
誌,72巻,10号, 106(1969)および特公昭
48−17395号公報において銅を含む触媒系を使用
しフェノールを酸素により重合することが示されてい
る。しかし、これらは3級アミンと第1銅塩からなる触
媒系を使用し、活性が十分でなく、またアミン臭がある
という問題があった。また、コバルトを含む錯体である
サルコミンを触媒に用いてフェノールの酸素酸化重合が
可能であることがJ.Org.Chem.,34
(2),273(1969)に記載されているが、重合
活性が低いことが問題であった。
ト−ジケトン錯体からなる共触媒を用いた例としては、
コバルトを含むキレート化合物を触媒とし、鉄、コバル
トおよびニッケルのアセチルアセトネートのうちの一種
類またはそれ以上を添加共触媒としてo−クレゾールの
酸素酸化重合に用いる方法(特公昭46−7276号公
報)があるが、無置換フェノールの酸化重合については
記述されていない。
る現状において、高い活性を有するフェノールの酸化重
合用触媒およびその触媒系を用いたフェノールの酸化重
合法を提供することにある。
達成するべく鋭意研究を行った結果、特定のコバルト−
シッフ塩基錯体とコバルト−ジケトン錯体とを同時に触
媒として用いることにより、フェノールの酸化重合にお
いてその活性が飛躍的に向上することを見出し本発明を
完成するに至った。
水素基を表わし、R2 およびR3 はそれぞれ独立に水素
原子、炭化水素基、置換炭化水素基を表わし、R 4 〜R
11はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、置換炭化水
素基、水酸基、炭化水素オキシ基、置換アミノ基、ニト
ロ基またはハロゲン原子を表わす。)で示されるコバル
ト−シッフ塩基錯体および下記一般式(2)
基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基または置換炭化
水素オキシ基を表わし、R13はそれぞれ独立に水素原
子、炭化水素基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、
置換炭化水素オキシ基、炭化水素オキシカルボニル基、
置換炭化水素オキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基
またはハロゲン原子を表わし、R14はそれぞれ独立に水
素原子、炭化水素基または置換炭化水素基を表わす。R
12とR13および/またはR13とR14は環を形成してもよ
い。)で示されるコバルト−ジケトン錯体を含有するフ
ェノールの酸化重合用触媒およびかかる触媒を使用した
フェノールの酸化重合法に係るものである。
本発明の特徴は,下記一般式(1)
水素基を表わし、R2 およびR3 はそれぞれ独立に水素
原子、炭化水素基、置換炭化水素基を表わし、R 4 〜R
11はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、置換炭化水
素基、水酸基、炭化水素オキシ基、置換アミノ基、ニト
ロ基またはハロゲン原子を表わす。)で示されるコバル
ト−シッフ塩基錯体および下記一般式(2)
基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基または置換炭化
水素オキシ基を表わし、R13はそれぞれ独立に水素原
子、炭化水素基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、
置換炭化水素オキシ基、炭化水素オキシカルボニル基、
置換炭化水素オキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基
またはハロゲン原子を表わし、R14はそれぞれ独立に水
素原子、炭化水素基または置換炭化水素基を表わす。R
12とR13および/またはR13とR14は環を形成してもよ
い。)で示されるコバルト−ジケトン錯体とを同時に触
媒として用いることにある。
は、次の一般式(1)で示されるものをいう。
水素基を表わし、R2 およびR3 はそれぞれ独立に水素
原子、炭化水素基、置換炭化水素基を表わし、R 4 〜R
11はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、置換炭化水
素基、水酸基、炭化水素オキシ基、置換アミノ基、ニト
ロ基またはハロゲン原子を表わす。)
は置換炭化水素基を表わす。R1 の具体例としては、
1,2−エチレン基、1,3−プロピレン基、1,4−
ブチレン基、1,2−プロピレン基、1,2−ブチレン
基、2,3−ブチレン基、2,3−ジメチル−2,3−
ブチレン基等の炭素数が2〜20の直鎖または分岐アル
キレン基、1,2−シクロペンテン基、1,2−シクロ
ヘキセン基等の炭素数が3〜20の環状アルキレン基、
1,2−フェニレン基、4−メチル−1,2−フェニレ
ン基、4,5−ジメチル−1,2−フェニレン基、1,
8−ナフチレン基等のアリレン基が挙げられる。中でも
好ましいものは、1,2−エチレン基または1,2−フ
ェニレン基である。
素原子、炭化水素基、置換炭化水素基を表わす。R2 お
よびR3 の具体例としては、水素原子以外に、メチル
基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基等の炭素
数が1〜10の直鎖アルキル基やフェニル基等が挙げら
れるが、好ましくは水素原子である。
子、炭化水素基、置換炭化水素基、水酸基、炭化水素オ
キシ基、置換アミノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を
表わす。R4 〜R11のの具体例としては、水素原子以外
に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピ
ル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基
等の炭素数が1〜10の直鎖または分岐アルキル基、フ
ェニル基、水酸基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数
が1〜10の直鎖または分岐アルコキシ基、フェノキシ
基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基等の炭素数が
1〜10のジアルキルアミノ基、ニトロ基、フッ素原子
または塩素原子が挙げられるが、好ましくは水素原子で
ある。
ば、N,N’−ビスサリチリデンエチレンジイミンコバ
ルト(II)( サルコミン; 以下Co(salen)と
記すことがある。) およびN,N’−ビスサリチリデン
フェニレンジイミンコバルト(II)(以下Co(sa
loph)と記すことがある。) などが挙げられる。中
でも好ましいのはCo(salen)である。
体とは、次の一般式(2)で示されるものをいう。
基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基または置換炭化
水素オキシ基を表わし、R13はそれぞれ独立に水素原
子、炭化水素基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、
置換炭化水素オキシ基、炭化水素オキシカルボニル基、
置換炭化水素オキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基
またはハロゲン原子を表わし、R14はそれぞれ独立に水
素原子、炭化水素基または置換炭化水素基を表わす。R
12とR13および/またはR13とR14は環を形成してもよ
い。)
炭化水素基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基または
置換炭化水素オキシ基を表わす。具体例としては、水素
原子以外に、メチル基、エチル基、n−プロピル基、i
−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−
ブチル基等の炭素数が1〜10の直鎖または分岐アルキ
ル基、フェニル基、メトキシ基、エトキシ基等の炭素数
が1〜10の直鎖または分岐アルコキシ基、フェノキシ
基が挙げられるが、好ましくは、メチル基またはフェニ
ル基である。
基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、置換炭化水素
オキシ基、炭化水素オキシカルボニル基、置換炭化水素
オキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲ
ン原子を表わす。具体例としては、R12に示したものの
他に、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等
の炭素数が1〜10の直鎖状または分岐状アルコキシカ
ルボニル基、シアノ基、ニトロ基、フッ素原子または塩
素原子が挙げられるが、好ましくは水素原子である。
化水素基または置換炭化水素基を表わし、具体例として
は、水素原子以外に、メチル基、エチル基、n−プロピ
ル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル
基、t−ブチル基等の炭素数が1〜10の直鎖または分
岐アルキル基、フェニル基が挙げられる。好ましくは、
メチル基またはフェニル基である。
ビス(アセチルアセトナト)コバルト(II)(以下C
o(acac)2 と記すことがある。) 、ビス(ベンゾ
イルアセトナト)コバルト(II)およびビス(ジベン
ゾイルメタナト)コバルト(II)等が挙げられる。こ
れらはいずれも好適に使用できる。
化水素基を有する錯体がより好ましく、トリフルオロメ
チル基を有する錯体がさらに好ましい。このような化合
物としては例えば、ビス(トリフルオロアセチルアセト
ナト)コバルト(II)およびビス(ヘキサフルオロア
セチルアセトナト)コバルト(II)(以下Co(hf
acac)2 と記すことがある。) が挙げられる。これ
らのコバルト錯体またはその水和物の多くが市販されて
おりそれらをそのまま使用することができる。市販され
ていない錯体についても適当なコバルト塩と配位子を溶
媒中で混合することにより容易に合成できる。
に関して、一般式(1)で示されるようなコバルト−シ
ッフ塩基錯体と種々の遷移金属化合物を組み合わせるこ
とにより活性の向上を検討したが、コバルト以外の化合
物を共触媒として用いても活性向上効果は認められなか
った。コバルト化合物の中でも一般式(2)に示したよ
うなジケトン配位子を有するコバルト錯体のみに活性向
上効果が認められた。
は、コバルト塩とそれぞれ対応する2種類の配位子とを
重合の際に混合して用いることも可能であるが、それぞ
れの錯体を単離して使用することがより望ましい。該錯
体に水などの溶媒が配位した錯体および酸素が配位した
錯体も問題無く使用することができる。該錯体のコバル
トイオンの価数は+2価と+3価のどちらも使用できる
が、好ましくは+2価である。
錯体は任意の量で用いることができるが、フェノールに
対して好ましくは0.01〜50モル%が好ましく、
0.02〜10モル%がより好ましい。コバルト−シッ
フ塩基錯体に対するコバルト−ジケトン錯体の量は任意
の比率で用いることができるが、好ましくは0.05〜
5倍モル、より好ましくは0.1〜1倍モルが用いられ
る。
素または酸素含有ガスによる酸化重合法について説明す
る。本発明で用いられる酸素源としては酸素を含むもの
であれば任意のものが使用できるが、一般には酸素ガス
または空気が好適に用いられる。
することが可能であるが、一般には溶媒を用いることが
望ましい。溶媒はフェノールに対し不活性でかつ反応温
度において液体であれば良く特に限定されるものではな
い。好ましい溶媒の例を示すならば、ベンゼン、トルエ
ン、キシレン等の芳香族炭化水素、クロロベンゼン、ジ
クロロベンゼン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素、アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、
ジオキサン、ジメチルセロソルブ、アニソール等のエー
テル類、ニトロメタン、ニトロベンゼン等のニトロ化合
物が挙げられる。これらは単独あるいは混合物として使
用される。溶媒を用いる場合はフェノールの濃度が好ま
しくは0.5〜50重量%、より好ましくは1〜30重
量%になるような割合で使用される。
いずれも使用できる。反応温度は、反応媒体が液状を保
つ範囲であれば特に制限はない。溶媒を用いない場合は
フェノールの融点以上の温度が必要である。好ましい温
度範囲は0℃〜200℃である。
説明するが、本発明はこれらの実施例によりその範囲を
限定されるものではない。実施例において、フェノール
の転化率は反応溶液に少量添加したニトロベンゼンを内
部標準物質として高速液体クロマトグラフィー(東ソー
社製SC−8020)により求めた。
スコ中に、N,N’−ビスサリチリデンエチレンジイミ
ンコバルト(II)(以下、Co(salen)とい
う。)326mgを入れ、フェノール1.89gとニト
ロベンゼン50mgをキシレン10mlに溶解して加え
た。側管から酸素を5ml/分で吹き込みながら80℃
で7時間撹拌を続けた。反応終了後反応混合物を室温ま
で冷却し、濃塩酸0.5mlを含むメタノール100m
l中に注ぎ込んだ。沈澱物を濾取し、100℃で5時間
減圧乾燥して重合体を32%の収率で得た。濾液を高速
液体クロマトグラフィーで分析しニトロベンゼンを内部
標準としてフェノールの転化率を求めたところ48%で
あった。
ルト(II)二水和物(以下、Co(acac)2 ・2
H2 Oという。)の296mgを触媒に用いてフェノー
ルの酸化重合を行ったところ、メタノールに不溶の重合
体は得られなかった。フェノールの転化率は5%であっ
た。
よびCo(acac) 2 2H2 Oの31mgを触媒に用
いてフェノールの酸素酸化重合を行ったところ、メタノ
ールに不溶の重合体が48%の収率で得られ、フェノー
ルの転化率は62%であった。これにより、比較例1お
よび2よりもはるかに少ない触媒量で同等以上のフェノ
ール酸素酸化重合活性が得られており、共触媒を用いる
効果は明らかである。
変えた以外は実施例1と同様にしてフェノールの酸素酸
化重合を行った。表1に結果を示す。なお、実施例2お
よび3では、コバルト−ジケトン錯体としてトリフルオ
ロメチル基を有するビス(ヘキサフルオロアセチルアセ
トナト)コバルト(II)(以下、Co(hfaca
c)2 という。) を用いた。また、表中、o−DCBは
オルトジクロロベンゼンを表す。
よりはるかに高い活性を有するフェノールの酸化重合用
触媒およびフェノールの酸化重合法が提供される。この
方法を用いることにより、無置換フェノールからポリフ
ェニレンエーテルを安価に製造することが可能になる。
Claims (4)
- 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (ただし、R1 は二官能性の炭化水素基または置換炭化
水素基を表わし、R2 およびR3 はそれぞれ独立に水素
原子、炭化水素基、置換炭化水素基を表わし、R 4 〜R
11はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素基、置換炭化水
素基、水酸基、炭化水素オキシ基、置換アミノ基、ニト
ロ基またはハロゲン原子を表わす。)で示されるコバル
ト−シッフ塩基錯体および下記一般式(2) 【化2】 (ただし、R12はそれぞれ独立に水素原子、炭化水素
基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基または置換炭化
水素オキシ基を表わし、R13はそれぞれ独立に水素原
子、炭化水素基、置換炭化水素基、炭化水素オキシ基、
置換炭化水素オキシ基、炭化水素オキシカルボニル基、
置換炭化水素オキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基
またはハロゲン原子を表わし、R14はそれぞれ独立に水
素原子、炭化水素基または置換炭化水素基を表わす。R
12とR13および/またはR13とR14は環を形成してもよ
い。)で示されるコバルト−ジケトン錯体を含有するこ
とを特徴とするフェノールの酸化重合用触媒。 - 【請求項2】 一般式(2)においてR12および/また
はR14がふっ素置換炭化水素基であるコバルト−ジケト
ン錯体を用いることを特徴とする請求項1記載のフェノ
ールの酸化重合用触媒。 - 【請求項3】 一般式(2)においてR12および/また
はR14がトリフルオロメチル基であるコバルト−ジケト
ン錯体を用いることを特徴とする請求項2記載のフェノ
ールの酸化重合用触媒。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載の酸化重
合用触媒を使用して、フェノールを酸素または酸素含有
ガスの存在下に酸化重合することを特徴とするフェノー
ルの酸化重合法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP10564696A JP3724051B2 (ja) | 1996-04-25 | 1996-04-25 | フェノールの酸化重合用触媒およびフェノールの酸化重合法 |
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008034814A2 (en) * | 2006-09-21 | 2008-03-27 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Benzoxazine-containing formulations polymerizable/curable at low temperature |
RU2495045C2 (ru) * | 2008-11-20 | 2013-10-10 | АйЭйчАй КОРПОРЕЙШН | Комплексное соединение самонамагничивающегося металла с саленом |
US10034941B2 (en) | 2007-12-28 | 2018-07-31 | Ihi Corporation | Iron-salen complex |
-
1996
- 1996-04-25 JP JP10564696A patent/JP3724051B2/ja not_active Expired - Fee Related
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WO2008034814A3 (en) * | 2006-09-21 | 2008-07-03 | Henkel Kgaa | Benzoxazine-containing formulations polymerizable/curable at low temperature |
JP2010504386A (ja) * | 2006-09-21 | 2010-02-12 | ヘンケル・アクチェンゲゼルシャフト・ウント・コムパニー・コマンディットゲゼルシャフト・アウフ・アクチェン | 低温重合性/硬化性ベンゾオキサジン含有処方物 |
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US9505732B2 (en) | 2008-11-20 | 2016-11-29 | Ihi Corporation | Auto magnetic metal salen complex compound |
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