JPH09289234A - 半導体装置とその試験方法及び半導体装置の試験治具 - Google Patents

半導体装置とその試験方法及び半導体装置の試験治具

Info

Publication number
JPH09289234A
JPH09289234A JP8100039A JP10003996A JPH09289234A JP H09289234 A JPH09289234 A JP H09289234A JP 8100039 A JP8100039 A JP 8100039A JP 10003996 A JP10003996 A JP 10003996A JP H09289234 A JPH09289234 A JP H09289234A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
test
semiconductor device
semiconductor
self
result
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP8100039A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3353602B2 (ja
Inventor
Yoji Terauchi
洋二 寺内
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP10003996A priority Critical patent/JP3353602B2/ja
Priority to US08/845,236 priority patent/US5862147A/en
Priority to EP97106581A priority patent/EP0803902A3/en
Priority to KR1019970014890A priority patent/KR100272712B1/ko
Publication of JPH09289234A publication Critical patent/JPH09289234A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3353602B2 publication Critical patent/JP3353602B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • H01L22/20Sequence of activities consisting of a plurality of measurements, corrections, marking or sorting steps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L22/00Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L23/00Details of semiconductor or other solid state devices
    • H01L23/544Marks applied to semiconductor devices or parts, e.g. registration marks, alignment structures, wafer maps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54433Marks applied to semiconductor devices or parts containing identification or tracking information
    • H01L2223/5444Marks applied to semiconductor devices or parts containing identification or tracking information for electrical read out
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54473Marks applied to semiconductor devices or parts for use after dicing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/0002Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Tests Of Electronic Circuits (AREA)
  • For Increasing The Reliability Of Semiconductor Memories (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Measuring Leads Or Probes (AREA)
  • Techniques For Improving Reliability Of Storages (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウェハー上に形成された半導体装置の自己試
験に要する時間を短縮する。 【解決手段】 半導体ウェハー上の単一のペレット領域
に、半導体装置としてのFLASH−ROM11と、こ
のFLASH−ROMの試験を行うマイクロコンピュー
タ12と、マイクロコンピュータが試験を行うために使
用する試験用命令を記憶するファームROM13とを形
成し、マイクロコンピュータにより行った試験の結果を
試験対象であるFLASH−ROMに記憶させる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ウェハー上に形成
された半導体装置に関し、特に、不揮発性メモリを含む
半導体装置の試験方法に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体装置の製造工程では、ウェハー上
に一括して多数の半導体装置を形成した後、これらの半
導体装置を個々のチップ(ペレット)として切り出す以
前に、各半導体装置の電気的特性検査等の試験が行われ
る。そして、この試験の結果、良品と判定された半導体
装置のみが、その後のパッケージングなどの処理に回さ
れる。
【0003】従来のウェハー上に形成された半導体装置
の試験方法として、例えば、特開平4−322441号
公報に記載されているものがある。これは、ウェハー上
に形成された多数のメモリチップを一斉にセルフテスト
する方法であって、全てのチップに対してプローブピン
を立て、プローブピンに接続されたテスタからの電源と
セルフテスト始動信号により、これらのチップを一斉に
セルフテストするものである。この方法では、各チップ
のセルフテストの結果は、テスタのメモリにストアされ
る。
【0004】また、特開昭62−217625号公報に
は、ウェーハ上に形成された複数の個別回路ブロック
に、同じ行または列のものに共通接続された電源電圧供
給端子と、同じ列または行に共通接続された接地電位供
給端子とを接続し、これらの端子に選択的に電源を供給
することにより、個別回路ブロックを個々に自己試験す
る方式が開示されている。
【0005】さらに、特開平2−90549号公報に
は、半導体ウエハ上に形成された複数のチップにそれぞ
れ不揮発性記憶素子を内蔵させ、外部の試験装置により
行った検査結果に基づいて、外部からの電圧印加等によ
り、良品・不良品を表す情報をその不揮発性記憶素子に
保持させ、パッケージ組み立ての際に不良品を排除する
ためにその情報を利用することが開示されている。これ
と同様の技術が、特開昭60−192344号公報にも
記載されている。
【0006】また、特開昭59−10230号公報に
は、複数のペレットに電源を供給するために共通接続さ
れた配線パターンに、各ペレットに対応するダイオード
と抵抗とを設け、不良ペレットが存在しても他のペレッ
トには正常な電圧を印加できるようにして試験を行うこ
とが開示されている。
【0007】また、特開昭62−283641号公報に
は、基板上に配列形成された集積回路領域の間に、これ
ら集積回路領域に同時に電源電圧を供給する電源線及び
接地線を配設し、各集積回路領域に形成される集積回路
の自己テスト機能を並列動作させることが開示されてい
る。同様の技術が、特開平3−159149号公報や、
特開平4−320044号公報にも記載されている。
【0008】また、特開平6−230086号公報に
は、隣接する複数のLSIのテストを行うテスト回路を
設けてテスト時間を減少させることが開示されている。
【0009】また、特開平2−257650号公報に
は、半導体ウェハ上に形成された複数の集積回路を同時
的に自己検査する方法として、少なくとも1つの電源入
力端子に接続された複数の第1のリード線と、少なくと
も1つの接地入力端子に接続された複数の第2のリード
線と、クロック入力端子に接続された第3のリード線
と、各リード線を互いに共通接続される第1、第2、及
び第3のバスをを設け、これらのバスに、電源、接地、
及びクロックをそれぞれ供給することにより、複数の集
積回路を同時的に自己検査する方法が開示されている。
【0010】また、特開昭62−171136号公報に
は、集積回路としての第1の回路と、この第1の回路の
試験を行う第2の回路とを合わせて形成し、第2の回路
を用いて第1の回路の検査を行い、結果が合格であれ
ば、第2の回路を第1の回路から切り離して製品とする
ことが開示されている。
【0011】また、特開昭57−7136号公報には、
複数の集積回路チップが配置された半導体基板の切断領
域に各集積回路に接続される配線を形成し、この配線に
接続された検査用チップを半導体基板上に形成すること
により、検査用チップによって、順次、集積回路チップ
の検査を行う方法が開示されている。
【0012】また、特開昭62−171137号公報に
は、自己試験機能を持たないLSIチップの試験を行う
ために、複数種類のLSIを互いに接続してLSI群と
し、このLSI群を単位として試験を行う方法が開示さ
れている。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、ウェハ
ー上の半導体装置を試験する方法として様々な方法が、
提案されている。しかしながら、いずれの場合において
も、各半導体装置の試験結果を外部のテスタ等へ出力し
なければならず、そのための出力信号線を設けなければ
ならないので、配線が複雑になる。あるいは、プローブ
カード等を利用して、出力信号を取り出す場合には、多
数のプローブピンを必要とするという問題点がある。
【0014】また、試験結果を、外部からの信号によ
り、半導体装置内の形成された不揮発性メモリに格納す
るような場合には、不揮発性メモリに対する入出力配線
が必要となるという問題点もある。
【0015】さらに、複数の半導体装置を同時に自己試
験させるように構成した場合であっても、試験結果出力
を個別に取り出さなければならないので、試験に時間が
かかるという問題点もある。
【0016】本発明は、自己試験を短時間で行うことが
できる、ウェハー上に形成された半導体装置を提供する
ことを目的とする。また、各半導体装置において自己試
験を行うのに必要な配線数を少なくした半導体ウェハー
を提供することを目的とする。さらに、半導体ウェハー
上の半導体装置の自己試験を複数同時に行うための試験
治具を提供することを目的とする。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明によれば、ウェハ
ー上に形成される半導体装置において、自己試験を行う
試験手段と、自己試験を行った結果を記憶する不揮発性
メモリとを有し、前記試験手段が、前記不揮発性メモリ
に前記結果を記憶させる手段を含むことを特徴とする半
導体装置が得られる。なお、前記不揮発性メモリが、前
記試験手段による自己試験の対象となり得る。
【0018】また、本発明によれば、前記試験手段が、
外部装置接続用のパッドに接続されており、これらのパ
ッドが、前記ウェハー上において隣接する他の半導体装
置にの試験手段に接続されたパッドに相互に接続されて
いることを特徴とする半導体装置が得られる。
【0019】さらにまた、本発明によれば、所定の回路
と、該所定の回路の試験を行う試験手段と、該試験手段
が行った試験の結果を記憶する不揮発性メモリとを有
し、前記試験手段が前記不揮発性メモリに前記試験の結
果を記憶させる手段を含む半導体装置が形成されたこと
を特徴とする半導体ウェハーが得られる。
【0020】加えて、本発明よれば、前記試験手段が、
外部装置接続用のパッドに接続され、これらのパッド
が、隣接する他の試験手段に接続されたパッドに相互に
接続されていることを特徴とする半導体ウェハーが得ら
れる。
【0021】さらに、本発明によれば、半導体ウェハー
上に形成された複数の半導体装置に接続されたパッド
に、プローブを接触させて、電源、グラウンド、及び制
御信号を供給するプローブカードにおいて、前記プロー
ブに抵抗を接続したことを特徴とするプローブカードが
得られる。
【0022】また、本発明によれば、半導体ウェハー上
に形成された複数の半導体装置に接続されたパッドに、
半導体装置試験治具のプローブを接触させて、電源、グ
ラウンド、及び制御信号を供給し、前記複数の半導体装
置にそれぞれ自己試験を実施させる半導体装置の試験方
法において、前記複数の半導体装置の各々が実施した前
記自己試験の結果を外部に出力すること無く、それぞれ
が備える不揮発性メモリに書き込むようにしたことを特
徴とする半導体装置の試験方法が得られる。
【0023】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態について説明する。図1に本発明の半導体装置
の一実施の形態を示す。この半導体装置10は、半導体
ウェハー上の1つのペレット領域に形成されたFLAS
H−ROM11を有している。そして、半導体装置10
は、このFLASH−ROM11の自己試験を行うため
に、マイクロコンピュータ12と、試験用の命令プログ
ラムを格納するファームROM13とを、同一ペレット
領域内に有している。なお、FLASH−ROM11に
は、ユーザ使用領域以外に、判定書き込み領域が設けら
れている。
【0024】ここで、図1に半導体装置10の場合は、
FLASH−ROM11、マイクロコンピュータ12、
及びファームROM13が、単一のペレット領域に形成
されているが、マイクロコンピュータ12及びファーム
ROM13は、FLASH−ROM11が形成されたペ
レット領域に隣接する別のペレット領域に形成して、検
査終了後切断するようにしても良い。また、図1の半導
体装置10では、判定結果を書き込むための不揮発メモ
リとして、試験対象であるFLASH−ROM11を利
用しているが、別の不揮発メモリ(FLASH−RO
M、EEPROM)を隣接するペレット領域にマイクロ
コンピュータ12及びファームROM13とともに形成
するようにしても良い。
【0025】この半導体装置10に外部から動作モード
設定信号(電源、グランド、及び試験制御信号)100
が入力されると、マイクロコンピュータ12は、入力さ
れた動作モード設定信号100に従って、アドレス信号
101を出力し、ファームROM13から試験用命令1
02を読み出す。そして、読み出した試験用命令102
に従い、FLASH−ROM11の試験を行う。試験
は、領域切り替え信号103によって、ユーザ使用領域
を指定し、例えば、アドレス信号104及びデータ10
5により、ユーザ使用領域の書き込み/読み出し試験を
行う。試験が終わるとマイクロコンピュータ12は、領
域切り替え信号103により、判定結果書き込み領域を
指定し、アドレス信号104及びデータ105を用い
て、試験の結果を書き込む。
【0026】このように、半導体装置10において行わ
れた自己試験の結果は、そのままFLASH−ROM1
1に書き込まれるので、外部へ出力する必要がない。し
たがって、出力信号線を形成する必要もない。また、一
旦外部へ出力した試験の結果を半導体装置内の不揮発性
メモリに書き込むための入力信号性を形成する必要もな
い。従来は、後工程でこの試験結果を利用するために、
一旦テスタに出力した試験結果を、半導体装置の不揮発
性メモリに書き込むということを行う場合もあったが、
そのような手間と時間は不要になる。
【0027】上記の自己試験の具体的な例として、例え
ば、図2に示すようなものがある。詳述すると、まず、
ステップS21において、FLASH−ROM11の全
てのデータを消去する。そして、ステップS22でブラ
ンクチェックを、ステップS23でアドレスチェックを
行う。この後、ステップS24にて、チェッカーを書き
込み、ステップS25でそのチェッカーを読み出す。さ
らに、ステップS26でチェッカーバーを書き込み、ス
テップS27でオールゼロになっているか確認する。ス
テップS22、23、25、及び27において、判定が
不合格の場合には、その時点で試験を終え、その結果を
ステップS28で、FLASH−ROM11の判定結果
書き込み領域に書き込む。また、これらの判定が合格の
場合には、ステップS27の判定結果を、ステップS2
8でFLASH−ROM11の判定結果書き込み領域に
書き込み、試験を終了する。
【0028】ここで、ステップS22におけるブランク
チェックについて図3を参照して詳述しておく。まず、
ステップS31で、アドレスを“0”にリセットする。
そして、ステップS32で、FLASH−ROM11か
らデータの読み出しを行い、ステップS33で、マイク
ロコンピュータのALUにより、読み出したデータが、
“FFh”になっているか確認する。“FFh”になっ
ていなければ、不合格として、その結果をFLASH−
ROM11の判定結果書き込み領域に書き込む。読み出
したデータが、“FFh”になっていれば、ステップS
34で、アドレスを+1して、ステップS35を介して
ステップS32に戻り、次のデータを読み込む。ステッ
プS35において、アドレスがFULLになったなら
ば、次のステップS23へ進む。
【0029】以上のようにして、各半導体装置では、自
己試験が行われるが、動作モード設定信号(電源、グラ
ンド、及び試験制御信号)100を半導体ウェハー上の
全ての半導体装置に同時に入力するようにしておけば、
1つの半導体装置の自己試験に要する時間で、ウェハー
上の全ての半導体装置の自己試験を行うことができる。
即ち、図4に示すように、半導体ウェハー41上の全て
の半導体装置10に形成された入力パッドを配線42を
用いて互いに接続することにより、全ての半導体装置1
0に一括して動作モード設定信号100を供給すること
ができ、全ての半導体装置10に同時に自己試験を開始
させることができる。
【0030】図4の一部を図5に拡大して示す。ここで
は、電源端子のパッド51a、第1のクロックのパッド
51b、第2のクロックのパッド51c、グランド端子
のパッド51d、リセット端子のパッド51e、テスト
端子のパッド51f、及びFLASH−ROM11の電
源パッド51gと、これらのパッド51a、51b、5
1c、51d、51e、51f、及び51gを、他の半
導体装置のパッド51a、51b、51c、51d、5
1e、51f、及び51gに、それぞれ接続する配線5
2a、52b、52c、52d、52e、52f、及び
52gが示されている。なお、図5には示していない
が、各配線52と各パッド51との間には、所定の抵抗
が接続され、いずれかの半導体装置10に不良が発生し
ても他の半導体装置10には適切な電圧が印加されるよ
うになっている。ただし、抵抗を入れることにより、歩
留まりが悪化することがあるので設計には注意を要す
る。
【0031】また、半導体ウェハー上に上記のような配
線を施すことなく、複数の半導体装置の自己試験を同時
行うために、図6に示すようなプローブカード61を用
いても良い。このプローブカード61は、半導体ウェハ
ー41上に形成された複数の半導体装置10のパッド5
1に接触するプローブ62を有し、各プローブには、そ
れぞれ抵抗Rが接続されている。そして、これらの抵抗
Rは、各配線により、LSIテスタ(図示せず)に接続
される。ここで、各抵抗は、電源に接続される抵抗R1
が、5〜100Ω程度、他の信号線に接続される抵抗R
2が5k〜500kΩ程度である。プローブカード61
を用いる場合は、半導体ウェハー41上に抵抗を施す場
合に比べて、任意の抵抗を入れ易い。
【0032】なお、上述の説明では、半導体装置の試験
を1回しか行なっていないが、通常は、この後、FLA
SH−ROM11の保持確認を行うために、高温保管を
含む第2回目の試験が行われる。第2回目の試験は、第
1回目の試験において良品と判定されたものに対しての
み行うので、ウェハー全体としては試験時間が短縮され
る。また、第2回目の試験では、アクセス速度などに基
づくグレード分け等も行われ、その結果は、FLASH
−ROM11に書き込まれ、その後の製品選別工程等で
利用される。これにより、製品選別など、試験工程に続
く後工程の効率も向上する。
【0033】
【発明の効果】本発明によれば、外部へ試験の結果を出
力しないので、出力信号線が不要となる。このため、配
線領域の削減によるコスト低減が図れる。これは特にメ
モリ専用チップの場合に顕著である。また、試験の結果
を外部へ出力しないので、その分だけ試験時間を短縮す
ることができる。
【0034】また、本発明によれば、半導体装置内の書
き換え可能な不揮発性メモリを、試験結果の記録に使用
するようにしたことで、専用のメモリを必要とせず、ま
た、試験結果を消去すれば通常のメモリとして使用でき
るので、ウェハーの面積を有効に利用することができ
る。また、試験結果をメモリに書き込むようにしたこと
で、グレード分けに用いられるような複雑な情報を後の
工程で容易に利用できる。また、自己試験を行うマイク
ロコンピュータによりその試験の結果を記録するように
したことで、記録のための入出力信号線を必要とせず、
必要以上の書き込み時間も必要としない。
【0035】さらに、本発明によれば、プローブカード
上に抵抗を設けたことで、ウェハー上の面積を有効に利
用できる。また、ウェハー上に不要な抵抗を残さないの
で、歩留まりに影響も与えない。さらに、任意の抵抗を
入れやすい。しかも、全ての半導体装置から試験結果を
取り出すためのプローブが不要なので、プローブの本数
が少なくて済み、安価に製造できる。
【0036】さらにまた、本発明によれば、半導体装置
の自己試験は各装置において行われその結果も出力され
ないので、外部からは自己試験の動作モードに設定する
ために必要な信号を与えればよく、少ないテストピン数
の低速テスタを用いることができるので、高速で高価な
テスタを用いることなく試験を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体装置の一実施の形態を示すブロ
ック図である。
【図2】図1の半導体装置における自己試験の一例を示
すフローチャートである。
【図3】図2のステップS22の具体例を示すフローチ
ャートである。
【図4】図1の半導体装置が形成された半導体ウェハー
の模式図である。
【図5】図4の一部を拡大した拡大図である。
【図6】本発明のプローブカードの一実施の形態を示す
概略図である。
【符号の説明】
10 半導体装置 11 FLASH−ROM 12 マイクロコンピュータ 13 ファームROM 41 ウェハー 42 配線 51a 電源端子のパッド 51b 第1のクロックのパッド 51c 第2のクロックのパッド 51d グランド端子のパッド 51e リセット端子のパッド 51f テスト端子のパッド 51g FLASH−ROMの電源パッド 52a,52b,52c,52d 配線 52e,52f,52g 配線 61 プローブカード 62 プローブ 100 動作モード設定信号(電源、グランド、及
び試験制御信号) 101 アドレス信号 102 試験用命令 103 領域切り替え信号 104 アドレス信号 105 データ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/04 G01R 31/28 B 21/822 H01L 27/04 T

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ウェハー上に形成される半導体装置にお
    いて、自己試験を行う試験手段と、前記自己試験を行っ
    た結果を記憶する不揮発性メモリとを有し、前記試験手
    段が、前記不揮発性メモリに前記結果を記憶させる手段
    を含むことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 前記不揮発性メモリが、前記試験手段に
    よる自己試験の対象であることを特徴とする請求項1の
    半導体装置。
  3. 【請求項3】 前記試験手段が、外部装置接続用のパッ
    ドに接続されており、該パッドが、前記ウェハー上にお
    いて隣接する他の半導体装置の試験手段に接続されたパ
    ッドに相互に接続されていることを特徴とする請求項1
    または2の半導体装置。
  4. 【請求項4】 前記試験手段が、マイクロコンピュータ
    と、該マイクロコンピュータ用のプログラムを格納する
    ファーム・ウエアROMとを有することを特徴とする請
    求項1、2、または3の半導体装置。
  5. 【請求項5】 前記不揮発性メモリが、FLASH−P
    ROMまたはEE−PROMであることを特徴とする請
    求項1、2、3、または4の半導体装置。
  6. 【請求項6】 所定の回路と、該所定の回路の試験を行
    う試験手段と、該試験手段が行った試験の結果を記憶す
    る不揮発性メモリとを有し、前記試験手段が前記不揮発
    性メモリに前記試験の結果を記憶させる手段を含む半導
    体装置が形成されたことを特徴とする半導体ウェハー。
  7. 【請求項7】 前記所定の回路と、前記試験手段及び前
    記不揮発性メモリとが、互いに隣接する領域に分割形成
    されていることを特徴とする請求項6の半導体ウェハ
    ー。
  8. 【請求項8】 前記不揮発性メモリが前記所定の回路に
    含まれることを特徴とする請求項6の半導体ウェハー。
  9. 【請求項9】 前記試験手段が、外部装置接続用のパッ
    ドに接続されており、これらのパッドが、隣接する他の
    試験手段が接続されたパッドに相互に接続されているこ
    とを特徴とする請求項6、7、または8の半導体ウェハ
    ー。
  10. 【請求項10】 前記試験手段が、マイクロコンピュー
    タと、該マイクロコンピュータ用のプログラムを格納す
    るファーム・ウエアROMとを有することを特徴とする
    請求項6、7、8、または9の半導体ウェハー。
  11. 【請求項11】 前記不揮発性メモリが、FLASH−
    PROMまたはEE−PROMであることを特徴とする
    請求項6、7、8、9、または10の半導体ウェハー。
  12. 【請求項12】 半導体ウェハー上に形成された複数の
    半導体装置に接続されたパッドに、プローブを接触させ
    て、電源、グラウンド、及び制御信号を供給する半導体
    装置の試験治具において、前記プローブに接続された抵
    抗を有することを特徴とする半導体装置の試験治具。
  13. 【請求項13】 半導体ウェハー上に形成された複数の
    半導体装置に接続されたパッドに、半導体装置試験治具
    のプローブを接触させて、電源、グラウンド、及び制御
    信号を供給し、前記複数の半導体装置にそれぞれ自己試
    験を実施させる半導体装置の試験方法において、前記複
    数の半導体装置の各々が実施した前記自己試験の結果を
    外部に出力すること無く、それぞれが備える不揮発性メ
    モリに書き込むようにしたことを特徴とする半導体装置
    の試験方法。
JP10003996A 1996-04-22 1996-04-22 半導体装置の試験方法 Expired - Fee Related JP3353602B2 (ja)

Priority Applications (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10003996A JP3353602B2 (ja) 1996-04-22 1996-04-22 半導体装置の試験方法
US08/845,236 US5862147A (en) 1996-04-22 1997-04-21 Semiconductor device on semiconductor wafer having simple wirings for test and capable of being tested in a short time
EP97106581A EP0803902A3 (en) 1996-04-22 1997-04-21 Semiconductor device with on-board memory areas for test purposes
KR1019970014890A KR100272712B1 (ko) 1996-04-22 1997-04-22 간단한 검사용 배선을 갖고 짧은 시간에 검사될 수 있는 반도체 웨이퍼상의 반도체 장치

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP10003996A JP3353602B2 (ja) 1996-04-22 1996-04-22 半導体装置の試験方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09289234A true JPH09289234A (ja) 1997-11-04
JP3353602B2 JP3353602B2 (ja) 2002-12-03

Family

ID=14263389

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP10003996A Expired - Fee Related JP3353602B2 (ja) 1996-04-22 1996-04-22 半導体装置の試験方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5862147A (ja)
EP (1) EP0803902A3 (ja)
JP (1) JP3353602B2 (ja)
KR (1) KR100272712B1 (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267056A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Toshiba Corp 半導体装置およびそのテスト方法
JP2007164839A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びその自己テスト方法
JP2008108326A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Toshiba Corp 記憶装置およびその自己テスト方法
JP2009205413A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Toshiba Corp 半導体記憶装置の評価方法

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5996106A (en) * 1997-02-04 1999-11-30 Micron Technology, Inc. Multi bank test mode for memory devices
US5913928A (en) 1997-05-09 1999-06-22 Micron Technology, Inc. Data compression test mode independent of redundancy
KR100248757B1 (ko) * 1997-12-20 2000-03-15 윤종용 손상된 롬 바이오스 복구 방법
US6131172A (en) * 1998-02-20 2000-10-10 Micron Electronics, Inc. Method for classifying electronic devices
US6344416B1 (en) * 2000-03-10 2002-02-05 International Business Machines Corporation Deliberate semiconductor film variation to compensate for radial processing differences, determine optimal device characteristics, or produce small productions
DE10037794A1 (de) 2000-08-03 2002-02-21 Infineon Technologies Ag Verfahren und Vorrichtung zum Testen einer integrierten Schaltung, zu testende integrierte Schaltung, und Wafer mit einer Vielzahl von zu testenden integrierten Schaltungen
DE10039350C2 (de) 2000-08-11 2003-04-03 Infineon Technologies Ag Integrierte Schaltung und Verfahren zum parallelen Testen von integrierten Schaltungen
US6630685B1 (en) * 2002-06-24 2003-10-07 Micron Technology, Inc. Probe look ahead: testing parts not currently under a probehead
US7523320B2 (en) * 2003-04-22 2009-04-21 Seiko Epson Corporation Fiscal data recorder with protection circuit and tamper-proof seal
US20040268021A1 (en) * 2003-06-24 2004-12-30 Intel Corporation FLASH memory blank check
US7307433B2 (en) * 2004-04-21 2007-12-11 Formfactor, Inc. Intelligent probe card architecture
US20070187844A1 (en) 2006-02-10 2007-08-16 Wintec Industries, Inc. Electronic assembly with detachable components
US7928591B2 (en) * 2005-02-11 2011-04-19 Wintec Industries, Inc. Apparatus and method for predetermined component placement to a target platform
JP5137179B2 (ja) * 2007-03-30 2013-02-06 ルネサスエレクトロニクス株式会社 半導体装置
EP4386537A2 (en) * 2018-03-01 2024-06-19 Micron Technology, Inc. Performing operation on data blocks concurrently and based on performance rate of another operation on data blocks

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58502122A (ja) * 1981-12-18 1983-12-08 バロース コーポレーション ウェ−ハ規模の集積回路におけるまたはそれに関する改良
JPH02202037A (ja) * 1989-01-31 1990-08-10 Fujitsu Ltd ウェハスケール集積回路装置の要素回路間配線方法
JPH06230031A (ja) * 1993-02-03 1994-08-19 Sanyo Electric Co Ltd プロ−ブカ−ドを用いた半導体素子の特性測定方法

Family Cites Families (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS577136A (en) * 1980-06-16 1982-01-14 Matsushita Electric Ind Co Ltd Inspection of semiconductor device
JPS5910230A (ja) * 1982-07-09 1984-01-19 Nec Corp 半導体装置
JPS60192344A (ja) * 1984-03-14 1985-09-30 Nec Corp 半導体装置のウエハ−検査方法
JPS62171136A (ja) * 1986-01-23 1987-07-28 Nec Corp 集積回路の製造方法
JPS62217625A (ja) * 1986-03-19 1987-09-25 Fujitsu Ltd ウエ−ハ集積回路のテスト方式
JPS62283641A (ja) * 1986-06-02 1987-12-09 Toshiba Corp 半導体集積回路装置
US4829520A (en) * 1987-03-16 1989-05-09 American Telephone And Telegraph Company, At&T Bell Laboratories In-place diagnosable electronic circuit board
JPH0290549A (ja) * 1988-09-28 1990-03-30 Hitachi Ltd 半導体装置
JP3151203B2 (ja) * 1988-11-23 2001-04-03 テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド 集積回路の自己検査装置
JPH03159149A (ja) * 1989-11-17 1991-07-09 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置の製造方法
JPH0467645A (ja) * 1990-07-09 1992-03-03 Nec Kyushu Ltd バーンイン装置
JP3135135B2 (ja) * 1991-04-18 2001-02-13 三菱電機株式会社 半導体装置,その製造方法,その試験方法及びその試験装置
JPH04322441A (ja) * 1991-04-23 1992-11-12 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置、その検査方法及びそれに使用する検査装置
WO1993004375A1 (en) * 1991-08-23 1993-03-04 Nchip, Inc. Burn-in technologies for unpackaged integrated circuits
US5243498A (en) * 1992-05-26 1993-09-07 Motorola, Inc. Multi-chip semiconductor module and method for making and testing
JPH06230086A (ja) * 1992-09-22 1994-08-19 Nec Corp Lsiのテスト回路
US5648275A (en) * 1993-08-19 1997-07-15 Texas Instruments Incorporated Method for detecting defects in semiconductor insulators
WO1995009424A1 (en) * 1993-09-30 1995-04-06 Macronix International Co., Ltd. Automatic test circuitry with non-volatile status write
US5726920A (en) * 1995-09-29 1998-03-10 Advanced Micro Devices, Inc. Watchdog system having data differentiating means for use in monitoring of semiconductor wafer testing line

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58502122A (ja) * 1981-12-18 1983-12-08 バロース コーポレーション ウェ−ハ規模の集積回路におけるまたはそれに関する改良
JPH02202037A (ja) * 1989-01-31 1990-08-10 Fujitsu Ltd ウェハスケール集積回路装置の要素回路間配線方法
JPH06230031A (ja) * 1993-02-03 1994-08-19 Sanyo Electric Co Ltd プロ−ブカ−ドを用いた半導体素子の特性測定方法

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267056A (ja) * 2005-03-25 2006-10-05 Toshiba Corp 半導体装置およびそのテスト方法
JP2007164839A (ja) * 2005-12-09 2007-06-28 Toshiba Corp 不揮発性半導体記憶装置及びその自己テスト方法
JP4686350B2 (ja) * 2005-12-09 2011-05-25 株式会社東芝 不揮発性半導体記憶装置及びその自己テスト方法
JP2008108326A (ja) * 2006-10-24 2008-05-08 Toshiba Corp 記憶装置およびその自己テスト方法
JP2009205413A (ja) * 2008-02-27 2009-09-10 Toshiba Corp 半導体記憶装置の評価方法
JP4635061B2 (ja) * 2008-02-27 2011-02-16 株式会社東芝 半導体記憶装置の評価方法
US7996726B2 (en) 2008-02-27 2011-08-09 Kabushiki Kaisha Toshiba Evaluation method and evaluation system for semiconductor storage device

Also Published As

Publication number Publication date
US5862147A (en) 1999-01-19
JP3353602B2 (ja) 2002-12-03
EP0803902A2 (en) 1997-10-29
KR100272712B1 (ko) 2000-12-01
EP0803902A3 (en) 1999-01-07
KR970072255A (ko) 1997-11-07

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3353602B2 (ja) 半導体装置の試験方法
US6649931B2 (en) Semiconductor wafer, semiconductor chip, semiconductor device and method for manufacturing semiconductor device
US7781890B2 (en) Structure and method for parallel testing of dies on a semiconductor wafer
JP2950475B2 (ja) メモリを備えた組込み自己検査
US6871307B2 (en) Efficient test structure for non-volatile memory and other semiconductor integrated circuits
US6198663B1 (en) Non-volatile semiconductor memory IC
JP3972089B2 (ja) 半導体メモリのテスト用ボードおよびテスト方法並びに製造方法
US6586823B2 (en) Semiconductor device that can have a defective bit found during or after packaging process repaired
US20050251714A1 (en) Test apparatus for semiconductor devices built-in self-test function
WO2007113968A1 (ja) 半導体集積回路の検査方法および情報記録媒体
JP2003197697A (ja) 半導体装置の製造方法
JP3031883B2 (ja) 併合データ出力モードおよび標準動作モードとして動作する集積回路素子を一緒に検査することができる検査基板
US8225149B2 (en) Semiconductor testing apparatus and method
US6535009B1 (en) Configuration for carrying out burn-in processing operations of semiconductor devices at wafer level
US6352868B1 (en) Method and apparatus for wafer level burn-in
US6621285B1 (en) Semiconductor chip having a pad arrangement that allows for simultaneous testing of a plurality of semiconductor chips
JP2000057120A (ja) Eeprom内蔵ワンチップマイクロコンピュータ
JPS6130044A (ja) 半導体チツプの検査方法
JPH11163062A (ja) 半導体装置及びウエハーテスト方法
JP3603045B2 (ja) 半導体記憶装置およびその検査治具並びに検査方法
JP3143973B2 (ja) 半導体ウェハ
JPH07296600A (ja) 集積回路、この集積回路を設けた半導体ウェファ及びこの半導体ウェファに設けられた集積回路の検査方法
JP2002123432A (ja) 複合メモリ装置およびその選別方法
US20070070732A1 (en) Method for Generating Adjustable MRAM Timing Signals
JP2000227459A (ja) 半導体集積回路とそのテスト方法、及びそのテストに使用するプローブ治具

Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20010704

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20020827

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees