JPH09277069A - 液晶マスク、液晶式レーザマーカ及びそれを用いた刻印方法 - Google Patents
液晶マスク、液晶式レーザマーカ及びそれを用いた刻印方法Info
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- Laser Beam Processing (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 一つのデザインを複数のブロックに分割して
刻印する際に、各ブロックの合わせ目に隙間が発生しな
いようにする。 【解決手段】 刻印されるデザインを複数の画素からな
る液晶マスクに表示し、この液晶マスクから透過したレ
ーザ光をワークに照射して刻印する液晶式レーザマーカ
において、最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内
部の画素と異なる液晶マスクを備え、さらに、一つのデ
ザインを複数のブロック1に分割し、各ブロック1を表
示した上記液晶マスクによる刻印位置が、隣接するブロ
ック1の刻印位置と、上記液晶マスクの寸法が異なる最
外周の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する制御器11を備えた。
あるいは、全画素の寸法が等しい液晶マスクと、各ブロ
ック1を表示したこの液晶マスクによる刻印位置が、隣
接するブロック1の刻印位置と、この液晶マスクの最外
周の画素の一部に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する制御器11とを備えて
もよい。
刻印する際に、各ブロックの合わせ目に隙間が発生しな
いようにする。 【解決手段】 刻印されるデザインを複数の画素からな
る液晶マスクに表示し、この液晶マスクから透過したレ
ーザ光をワークに照射して刻印する液晶式レーザマーカ
において、最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内
部の画素と異なる液晶マスクを備え、さらに、一つのデ
ザインを複数のブロック1に分割し、各ブロック1を表
示した上記液晶マスクによる刻印位置が、隣接するブロ
ック1の刻印位置と、上記液晶マスクの寸法が異なる最
外周の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する制御器11を備えた。
あるいは、全画素の寸法が等しい液晶マスクと、各ブロ
ック1を表示したこの液晶マスクによる刻印位置が、隣
接するブロック1の刻印位置と、この液晶マスクの最外
周の画素の一部に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する制御器11とを備えて
もよい。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶マスクを使用
した液晶式レーザマーカに関する。
した液晶式レーザマーカに関する。
【0002】
【従来の技術】レーザ光を例えば半導体パッケージ等の
ワークの表面に照射して所定の文字や絵柄等を刻印する
レーザマーカの中で、液晶マスクを使用した、いわゆる
液晶式レーザマーカが広く使用されている。この液晶式
レーザマーカは、次のようにして刻印するものである。
すなわち、刻印すべき文字や絵柄等のデザインを例え
ば”0”を無刻印部、”1”を刻印部のドット情報に変
換して入力し、このドット情報に従って上記デザインを
所定数の画素を有する液晶マスクに表示させる。そし
て、この液晶マスクにレーザ光を入射することにより上
記文字や絵柄に相当する画素がレーザ光を透過し、この
透過レーザ光がワークに照射されて刻印されるようにな
っている。したがって、ワーク上での単位面積当たりの
液晶マスクの画素数が大きいほど高分解能の、いわゆる
滑らかな文字や絵柄を刻印できることになる。
ワークの表面に照射して所定の文字や絵柄等を刻印する
レーザマーカの中で、液晶マスクを使用した、いわゆる
液晶式レーザマーカが広く使用されている。この液晶式
レーザマーカは、次のようにして刻印するものである。
すなわち、刻印すべき文字や絵柄等のデザインを例え
ば”0”を無刻印部、”1”を刻印部のドット情報に変
換して入力し、このドット情報に従って上記デザインを
所定数の画素を有する液晶マスクに表示させる。そし
て、この液晶マスクにレーザ光を入射することにより上
記文字や絵柄に相当する画素がレーザ光を透過し、この
透過レーザ光がワークに照射されて刻印されるようにな
っている。したがって、ワーク上での単位面積当たりの
液晶マスクの画素数が大きいほど高分解能の、いわゆる
滑らかな文字や絵柄を刻印できることになる。
【0003】以下、図14〜図17に基づいて、従来の
液晶式レーザマーカの刻印方法を説明する。図14は、
液晶式レーザマーカの一例を表した構成概略図である。
レーザ発振器21は例えばYAGレーザ発振器等で構成
されており、Qスイッチによってパルス発振が可能にな
っている。第1偏向器23X、23Yはレーザ発振器2
1から出射されたレーザ光を液晶マスク2に導き、液晶
マスク2上の所定のXY方向にこのレーザ光を偏向して
ラスタ走査させるものである。第1偏向器23X、23
Yは離間して設けられたX方向偏向器のポリゴンミラー
23Xと、Y方向偏向器のガルバノメータスキャナ23
Yとからなっていて、ポリゴンミラー23Xの回転によ
るX軸とガルバノメータスキャナ23Yの回動によるY
軸とは直交している。本例のポリゴンミラー23Xは数
段階の定速回転モードで回転可能にしてあり、刻印され
るワーク毎に適したモードが選択される。そして、ポリ
ゴンミラー23Xの各面は液晶マスク2上でのX方向の
1行に相当するようになっている。また、ガルバノメー
タスキャナ23Yは、所定段数の微小等偏向角で作動す
るようになっており、ガルバノメータスキャナ23Yか
らのレーザ受光点がポリゴンミラー23Xの回転によっ
て一面から次の面へ変わる間に、上記の一微小偏向角だ
け回動した後停止するようになっている。このガルバノ
メータスキャナ23Yの一微小偏向角は、液晶マスク2
でのY方向への改行に相当している。
液晶式レーザマーカの刻印方法を説明する。図14は、
液晶式レーザマーカの一例を表した構成概略図である。
レーザ発振器21は例えばYAGレーザ発振器等で構成
されており、Qスイッチによってパルス発振が可能にな
っている。第1偏向器23X、23Yはレーザ発振器2
1から出射されたレーザ光を液晶マスク2に導き、液晶
マスク2上の所定のXY方向にこのレーザ光を偏向して
ラスタ走査させるものである。第1偏向器23X、23
Yは離間して設けられたX方向偏向器のポリゴンミラー
23Xと、Y方向偏向器のガルバノメータスキャナ23
Yとからなっていて、ポリゴンミラー23Xの回転によ
るX軸とガルバノメータスキャナ23Yの回動によるY
軸とは直交している。本例のポリゴンミラー23Xは数
段階の定速回転モードで回転可能にしてあり、刻印され
るワーク毎に適したモードが選択される。そして、ポリ
ゴンミラー23Xの各面は液晶マスク2上でのX方向の
1行に相当するようになっている。また、ガルバノメー
タスキャナ23Yは、所定段数の微小等偏向角で作動す
るようになっており、ガルバノメータスキャナ23Yか
らのレーザ受光点がポリゴンミラー23Xの回転によっ
て一面から次の面へ変わる間に、上記の一微小偏向角だ
け回動した後停止するようになっている。このガルバノ
メータスキャナ23Yの一微小偏向角は、液晶マスク2
でのY方向への改行に相当している。
【0004】液晶マスク2は、いわゆる透過分散形液晶
マスクと呼ばれるものであり、本例では例えば図15で
示すように縦横に所定数の液晶がドットマトリックス状
に配置された液晶装置で構成されている。図15は液晶
マスク2の概要図を表しており、液晶マスク2を構成す
る各液晶の寸法は同じになっている。各液晶の表裏に
は、平行に、かつ表裏間で互いに交差するように設けら
れた図示していない電極線が配設されており、この電極
線によって所定電圧を印加された液晶はレーザ光透過状
態となり、上記電圧の無印加部の液晶はレーザ光散乱状
態となる。したがって、ドットマトリックス状の各液晶
を一つの画素3とし、デザインの刻印部を”1”、無刻
印部を”0”として変換したドット情報をこの液晶マス
ク2上に表示することにより、上記刻印部に相当する画
素は所定電圧が印加されてレーザ光を透過させ、この透
過光によってワーク30が刻印される。このように、液
晶マスク2は、外部からの信号によって光を各液晶を透
過又は遮断させるような一種の光シャッターとして機能
する液晶装置である。
マスクと呼ばれるものであり、本例では例えば図15で
示すように縦横に所定数の液晶がドットマトリックス状
に配置された液晶装置で構成されている。図15は液晶
マスク2の概要図を表しており、液晶マスク2を構成す
る各液晶の寸法は同じになっている。各液晶の表裏に
は、平行に、かつ表裏間で互いに交差するように設けら
れた図示していない電極線が配設されており、この電極
線によって所定電圧を印加された液晶はレーザ光透過状
態となり、上記電圧の無印加部の液晶はレーザ光散乱状
態となる。したがって、ドットマトリックス状の各液晶
を一つの画素3とし、デザインの刻印部を”1”、無刻
印部を”0”として変換したドット情報をこの液晶マス
ク2上に表示することにより、上記刻印部に相当する画
素は所定電圧が印加されてレーザ光を透過させ、この透
過光によってワーク30が刻印される。このように、液
晶マスク2は、外部からの信号によって光を各液晶を透
過又は遮断させるような一種の光シャッターとして機能
する液晶装置である。
【0005】第2偏向器27X、27Yは、上記液晶マ
スク2から透過したレーザ光をワーク30の刻印面に導
き、ワーク30上の所定のXY方向にレーザ光を偏向す
るものである。第2偏向器27X、27Yは離間して設
けられたX方向偏向器のガルバノメータスキャナ27X
と、Y方向偏向器のレンズ系27Yとからなっていて、
ガルバノメータスキャナ27Xの回動によるX軸とレン
ズ系27Yの平行移動によるY軸とは直交している。上
記液晶マスク2の透過レーザ光は、X方向偏向用のガル
バノメータスキャナ27Xと、対物レンズ28と、Y方
向偏向用のレンズ27Yとを経てワーク30に至り、液
晶マスク2上に表示されたデザインをワーク30に刻印
する。Y方向偏向用のレンズ27Yは、ワーク30の刻
印面に沿ってこのレンズ27Yを平行移動させるテーブ
ル36の孔内に固設されている。そして、例えばACモ
ータ等の電動モータで構成される駆動部35の出力軸が
リンク機構を介してテーブル36に連結されていて、こ
の駆動部35によってテーブル36を平行移動させてい
る。第2偏向器27X、27Yは、液晶マスク2に表示
された絵柄等の一回のラスタ走査が完了するまで、液晶
マスク2の透過レーザ光がこの絵柄の刻印領域に向かう
ように停止している。
スク2から透過したレーザ光をワーク30の刻印面に導
き、ワーク30上の所定のXY方向にレーザ光を偏向す
るものである。第2偏向器27X、27Yは離間して設
けられたX方向偏向器のガルバノメータスキャナ27X
と、Y方向偏向器のレンズ系27Yとからなっていて、
ガルバノメータスキャナ27Xの回動によるX軸とレン
ズ系27Yの平行移動によるY軸とは直交している。上
記液晶マスク2の透過レーザ光は、X方向偏向用のガル
バノメータスキャナ27Xと、対物レンズ28と、Y方
向偏向用のレンズ27Yとを経てワーク30に至り、液
晶マスク2上に表示されたデザインをワーク30に刻印
する。Y方向偏向用のレンズ27Yは、ワーク30の刻
印面に沿ってこのレンズ27Yを平行移動させるテーブ
ル36の孔内に固設されている。そして、例えばACモ
ータ等の電動モータで構成される駆動部35の出力軸が
リンク機構を介してテーブル36に連結されていて、こ
の駆動部35によってテーブル36を平行移動させてい
る。第2偏向器27X、27Yは、液晶マスク2に表示
された絵柄等の一回のラスタ走査が完了するまで、液晶
マスク2の透過レーザ光がこの絵柄の刻印領域に向かう
ように停止している。
【0006】また、第1偏向器23X、23Y及び第2
偏向器27X、27Yのレーザ光の入射路内には、それ
ぞれの集光光学系が配設されている。この集光光学系
は、各偏向器への入射光が大径ビームであったり、偏向
角を有するとき、これを集光させて刻印の変形、ばらつ
き、レーザ損失等を軽減させる。第1偏向器23X、2
3Yの集光光学系は、レーザ発振器21とガルバノメー
タスキャナ23Yとの間のリレーレンズ(いわゆる、ビ
ームスプリッタ)22と、ガルバノメータスキャナ23
Yとポリゴンミラー23Xとの間のリレーレンズ24と
から構成されている。リレーレンズ22はレーザ発振器
21からのレーザ光をガルバノメータスキャナ23Yの
反射面上に集光し、リレーレンズ24はガルバノメータ
スキャナ23Yからの偏向光をポリゴンミラー23Xの
各面の一点に集光している。これらによって、ポリゴン
ミラー23Xから液晶マスク2へのラスタ走査用のレー
ザ光が均一化されている。さらに、第2偏向器27X、
27Yの集光光学系は、ポリゴンミラー23Xとガルバ
ノメータスキャナ27Xとの間で、液晶マスク2に近接
配置したリレーレンズ(いわゆる、フィールドレンズ)
25で構成されている。このリレーレンズ25は、ポリ
ゴンミラー23Xからのラスタ走査光を一旦平行光に直
し、次にガルバノメータスキャナ27Xに屈折させる。
なお、リレーレンズ25は、図14のように液晶マスク
2の入射側に配置する他に、出射側に配置してもよく、
あるいは、両側に配置してもよい。
偏向器27X、27Yのレーザ光の入射路内には、それ
ぞれの集光光学系が配設されている。この集光光学系
は、各偏向器への入射光が大径ビームであったり、偏向
角を有するとき、これを集光させて刻印の変形、ばらつ
き、レーザ損失等を軽減させる。第1偏向器23X、2
3Yの集光光学系は、レーザ発振器21とガルバノメー
タスキャナ23Yとの間のリレーレンズ(いわゆる、ビ
ームスプリッタ)22と、ガルバノメータスキャナ23
Yとポリゴンミラー23Xとの間のリレーレンズ24と
から構成されている。リレーレンズ22はレーザ発振器
21からのレーザ光をガルバノメータスキャナ23Yの
反射面上に集光し、リレーレンズ24はガルバノメータ
スキャナ23Yからの偏向光をポリゴンミラー23Xの
各面の一点に集光している。これらによって、ポリゴン
ミラー23Xから液晶マスク2へのラスタ走査用のレー
ザ光が均一化されている。さらに、第2偏向器27X、
27Yの集光光学系は、ポリゴンミラー23Xとガルバ
ノメータスキャナ27Xとの間で、液晶マスク2に近接
配置したリレーレンズ(いわゆる、フィールドレンズ)
25で構成されている。このリレーレンズ25は、ポリ
ゴンミラー23Xからのラスタ走査光を一旦平行光に直
し、次にガルバノメータスキャナ27Xに屈折させる。
なお、リレーレンズ25は、図14のように液晶マスク
2の入射側に配置する他に、出射側に配置してもよく、
あるいは、両側に配置してもよい。
【0007】制御器11は、例えばマイクロコンピュー
タ等を主体にしたコンピュータシステムで構成されてい
る。制御器11は液晶マスク2、ポリゴンミラー23X
の駆動部32、レーザ発振器21のQスイッチ、ガルバ
ノメータスキャナ23Yの駆動部31、ガルバノメータ
スキャナ27Xの駆動部34、レンズ27Yの駆動部3
5等と接続されていて、これらを制御している。
タ等を主体にしたコンピュータシステムで構成されてい
る。制御器11は液晶マスク2、ポリゴンミラー23X
の駆動部32、レーザ発振器21のQスイッチ、ガルバ
ノメータスキャナ23Yの駆動部31、ガルバノメータ
スキャナ27Xの駆動部34、レンズ27Yの駆動部3
5等と接続されていて、これらを制御している。
【0008】次に、以上の構成による作用を説明する。
図16は、刻印すべきデザインの一例を表している。同
図におけるデザインが液晶マスク2の画素数に比べて大
きなものであった場合、このデザインを一回のレーザ光
照射により刻印すると、刻印されたデザインの文字や線
等の分解能が荒くなって文字や線が滑らかにならないこ
とが生じる。このようなときは、同じ液晶マスクを使用
して一回のレーザ光照射により刻印されるデザインの領
域(以後、ブロックと呼ぶ)をなるべく縮小しなければ
ならない。図16に示した例では、全体のデザインを縦
横2分割して縮小した絵柄をブロック1にしている。そ
して、分割した各ブロック1に相当する絵柄を順次液晶
マスク2に表示し、この絵柄に相当するワーク30の刻
印位置に順次刻印する。全ての分割されたブロック1が
刻印されたときに、各ブロック1が合成されて全体のデ
ザインの刻印が完了する。
図16は、刻印すべきデザインの一例を表している。同
図におけるデザインが液晶マスク2の画素数に比べて大
きなものであった場合、このデザインを一回のレーザ光
照射により刻印すると、刻印されたデザインの文字や線
等の分解能が荒くなって文字や線が滑らかにならないこ
とが生じる。このようなときは、同じ液晶マスクを使用
して一回のレーザ光照射により刻印されるデザインの領
域(以後、ブロックと呼ぶ)をなるべく縮小しなければ
ならない。図16に示した例では、全体のデザインを縦
横2分割して縮小した絵柄をブロック1にしている。そ
して、分割した各ブロック1に相当する絵柄を順次液晶
マスク2に表示し、この絵柄に相当するワーク30の刻
印位置に順次刻印する。全ての分割されたブロック1が
刻印されたときに、各ブロック1が合成されて全体のデ
ザインの刻印が完了する。
【0009】まず、Qスイッチでレーザ発振器21の発
振強度を落とした状態にし、分割されたブロック1の内
で一つのブロック1を選択し、このブロック1の絵柄
を”0”又は”1”のドット情報として液晶マスク2上
に表示させる。次に、第1偏向器23X、23Yをラス
タ開始位置に駆動させて停止させると共に、上記選択さ
れたブロック1の刻印位置に相当する刻印領域に第2偏
向器27X、27Yを駆動させて停止させる。そして、
次に、Qスイッチでレーザ発振器21をパルス発振させ
ると共に、第1偏向器23X、23Yによって液晶マス
ク2上の絵柄をラスタ走査させる。以上によって、ワー
ク30上に一つの選択されたブロック1を刻印する。以
上の工程を、全ての分割されたブロック1に対して順次
実行し、全体のデザインの刻印が完了するまで行なう。
振強度を落とした状態にし、分割されたブロック1の内
で一つのブロック1を選択し、このブロック1の絵柄
を”0”又は”1”のドット情報として液晶マスク2上
に表示させる。次に、第1偏向器23X、23Yをラス
タ開始位置に駆動させて停止させると共に、上記選択さ
れたブロック1の刻印位置に相当する刻印領域に第2偏
向器27X、27Yを駆動させて停止させる。そして、
次に、Qスイッチでレーザ発振器21をパルス発振させ
ると共に、第1偏向器23X、23Yによって液晶マス
ク2上の絵柄をラスタ走査させる。以上によって、ワー
ク30上に一つの選択されたブロック1を刻印する。以
上の工程を、全ての分割されたブロック1に対して順次
実行し、全体のデザインの刻印が完了するまで行なう。
【0010】従来は、このようにして、液晶マスク2に
各ブロック1の絵柄を表示して刻印している。このと
き、図16のように一つの文字や絵柄が異なるブロック
1に分割される場合があり、同一の文字や絵柄を何回か
に分割して刻印しなければならない。
各ブロック1の絵柄を表示して刻印している。このと
き、図16のように一つの文字や絵柄が異なるブロック
1に分割される場合があり、同一の文字や絵柄を何回か
に分割して刻印しなければならない。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように同一の文字や絵柄を分割して刻印する場合には、
各ブロック1の合わせ目を正確に一致させる必要がある
が、第2偏向器27X、27Yのがたつき、光学系素子
の位置変動、外部ノイズによる制御信号の変動等によっ
て、この合わせ目に隙間ができるときがある。図17
は、例えば図16において文字「I」が2分割されてい
る例を示している。図17(a)は、ブロック1の合わ
せ目が一致した状態で刻印され、よって分割された文字
「I」が正常に刻印されている様子を表している。ま
た、図17(b)は、ブロック1の合わせ目がずれた状
態で刻印された様子を表している。図17(b)に示す
ようにブロック1の合わせ目に隙間ができると、この隙
間にレーザ光の未照射部が発生し、文字や絵柄が切れて
しまうことになる。この結果、刻印されたデザインの視
認性が良くないという問題が生じている。
ように同一の文字や絵柄を分割して刻印する場合には、
各ブロック1の合わせ目を正確に一致させる必要がある
が、第2偏向器27X、27Yのがたつき、光学系素子
の位置変動、外部ノイズによる制御信号の変動等によっ
て、この合わせ目に隙間ができるときがある。図17
は、例えば図16において文字「I」が2分割されてい
る例を示している。図17(a)は、ブロック1の合わ
せ目が一致した状態で刻印され、よって分割された文字
「I」が正常に刻印されている様子を表している。ま
た、図17(b)は、ブロック1の合わせ目がずれた状
態で刻印された様子を表している。図17(b)に示す
ようにブロック1の合わせ目に隙間ができると、この隙
間にレーザ光の未照射部が発生し、文字や絵柄が切れて
しまうことになる。この結果、刻印されたデザインの視
認性が良くないという問題が生じている。
【0012】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、一つのデザインを複数のブロックに分割
して刻印する際に、各ブロックの合わせ目に隙間が発生
しないようにした液晶マスク、液晶式レーザマーカ及び
刻印方法を提供することを目的としている。
たものであり、一つのデザインを複数のブロックに分割
して刻印する際に、各ブロックの合わせ目に隙間が発生
しないようにした液晶マスク、液晶式レーザマーカ及び
刻印方法を提供することを目的としている。
【0013】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項1に記載の発明は、複数の
画素からなり、外部からの信号によって複数の画素で光
を透過又は遮断させる液晶装置において、最外周の全て
又は一部の辺の画素は、寸法が内部の画素と異なる構成
としている。また、請求項2に記載の発明は、複数の画
素からなり、これらの画素にワークに刻印するデザイン
を表示し、かつレーザ光を入射することにより、このレ
ーザ光をデザインを表示した各画素を透過させてワーク
に刻印する液晶マスクにおいて、請求項1に記載の液晶
装置を使用したことを特徴としている。また、請求項5
に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、
最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の画素と
異なる液晶マスクを備えたことを特徴としている。そし
て、請求項11に記載の発明は、複数の画素からなる液
晶マスクにワークに刻印するデザインを表示し、この液
晶マスクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこ
のレーザ光をワークに照射して刻印する刻印方法におい
て、上記液晶マスクの最外周の全て又は一部の画素の寸
法を内部の画素と異なる寸法とし、最外周の光学系の歪
みを防止して刻印する方法としている。
的を達成するために、請求項1に記載の発明は、複数の
画素からなり、外部からの信号によって複数の画素で光
を透過又は遮断させる液晶装置において、最外周の全て
又は一部の辺の画素は、寸法が内部の画素と異なる構成
としている。また、請求項2に記載の発明は、複数の画
素からなり、これらの画素にワークに刻印するデザイン
を表示し、かつレーザ光を入射することにより、このレ
ーザ光をデザインを表示した各画素を透過させてワーク
に刻印する液晶マスクにおいて、請求項1に記載の液晶
装置を使用したことを特徴としている。また、請求項5
に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、
最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の画素と
異なる液晶マスクを備えたことを特徴としている。そし
て、請求項11に記載の発明は、複数の画素からなる液
晶マスクにワークに刻印するデザインを表示し、この液
晶マスクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこ
のレーザ光をワークに照射して刻印する刻印方法におい
て、上記液晶マスクの最外周の全て又は一部の画素の寸
法を内部の画素と異なる寸法とし、最外周の光学系の歪
みを防止して刻印する方法としている。
【0014】請求項1、2、5、11に記載の発明によ
ると、最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の
画素と異なる液晶装置を液晶マスクとして使用する。一
つのデザインを複数のブロックに分割し、各ブロックを
この液晶マスクで刻印するときに、上記寸法が異なる画
素部に対応する部分で各ブロックの刻印位置が重複する
ようにする。このとき、前記第2偏向器27X、27Y
のがたつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる
制御信号の変動等を考慮して上記画素の寸法の大きさを
設定すると、ブロックの合わせ目に隙間ができずに未刻
印部分を無くすことが可能となる。これによって、デザ
インを分割して刻印しても視認性が良好な刻印となる。
また、この液晶マスクにより、刻印時に最外周に出易い
レンズ等の光学系の歪みにも対応が可能となる。
ると、最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の
画素と異なる液晶装置を液晶マスクとして使用する。一
つのデザインを複数のブロックに分割し、各ブロックを
この液晶マスクで刻印するときに、上記寸法が異なる画
素部に対応する部分で各ブロックの刻印位置が重複する
ようにする。このとき、前記第2偏向器27X、27Y
のがたつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる
制御信号の変動等を考慮して上記画素の寸法の大きさを
設定すると、ブロックの合わせ目に隙間ができずに未刻
印部分を無くすことが可能となる。これによって、デザ
インを分割して刻印しても視認性が良好な刻印となる。
また、この液晶マスクにより、刻印時に最外周に出易い
レンズ等の光学系の歪みにも対応が可能となる。
【0015】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の液晶式レーザマーカにおいて、一つのデザインを複数
のブロック1に分割し、この内の一つのブロック1を表
示した前記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック
1に隣接するブロック1を表示した前記液晶マスクによ
る刻印位置と、前記液晶マスクの内部の画素と寸法が異
なる最外周の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重
複するように、上記刻印位置を制御する制御器11を備
えた構成としている。また、請求項12に記載の発明
は、請求項11に記載の刻印方法において、一つのデザ
インを複数のブロック1に分割し、この内の一つのブロ
ック1を表示した前記液晶マスクによる刻印位置を、こ
のブロック1に隣接するブロック1を表示した前記液晶
マスクによる刻印位置と、前記液晶マスクの内部の画素
と寸法が異なる最外周の前記画素に対応する部分の所定
長さだけ重複させて刻印する方法としている。
の液晶式レーザマーカにおいて、一つのデザインを複数
のブロック1に分割し、この内の一つのブロック1を表
示した前記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック
1に隣接するブロック1を表示した前記液晶マスクによ
る刻印位置と、前記液晶マスクの内部の画素と寸法が異
なる最外周の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重
複するように、上記刻印位置を制御する制御器11を備
えた構成としている。また、請求項12に記載の発明
は、請求項11に記載の刻印方法において、一つのデザ
インを複数のブロック1に分割し、この内の一つのブロ
ック1を表示した前記液晶マスクによる刻印位置を、こ
のブロック1に隣接するブロック1を表示した前記液晶
マスクによる刻印位置と、前記液晶マスクの内部の画素
と寸法が異なる最外周の前記画素に対応する部分の所定
長さだけ重複させて刻印する方法としている。
【0016】請求項6、12に記載の発明によると、制
御器によって、一つのデザインを複数のブロック1に分
割し、各ブロック1を表示した液晶マスクによる刻印位
置が、隣接するブロック1の刻印位置と、寸法が異なる
最外周の画素に対応する部分の所定長さだけ重複するよ
うに、上記刻印位置を制御する。このとき、液晶マスク
やレーザ光の位置決め精度のばらつきを考慮して上記重
複する画素の所定の重複量を設定すると、ブロックの合
わせ目に隙間ができずに未刻印部分を無くすことが可能
となる。これによって、デザインを分割して刻印しても
視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブロックに
分割して刻印することが可能となる。したがって、高分
解能(刻印の滑らかさ)への対応が容易となり、また、
液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置の小型化や
コスト低減が可能となる。
御器によって、一つのデザインを複数のブロック1に分
割し、各ブロック1を表示した液晶マスクによる刻印位
置が、隣接するブロック1の刻印位置と、寸法が異なる
最外周の画素に対応する部分の所定長さだけ重複するよ
うに、上記刻印位置を制御する。このとき、液晶マスク
やレーザ光の位置決め精度のばらつきを考慮して上記重
複する画素の所定の重複量を設定すると、ブロックの合
わせ目に隙間ができずに未刻印部分を無くすことが可能
となる。これによって、デザインを分割して刻印しても
視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブロックに
分割して刻印することが可能となる。したがって、高分
解能(刻印の滑らかさ)への対応が容易となり、また、
液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置の小型化や
コスト低減が可能となる。
【0017】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の液晶マスクにおいて、最外周の上下方向又は左右方向
に対向する辺の画素は、少なくとも上下方向又は左右方
向のいずれかの寸法が内部の画素と異なることを特徴と
している。また、請求項7に記載の発明は、請求項6に
記載の液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスク
が、最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素
の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が
内部の画素と異なる液晶マスクであって、かつ、前記制
御器11は、一つのデザインを複数のブロック1に分割
し、この内の一つのブロック1を表示した上記液晶マス
クによる刻印位置が、このブロック1に隣接するブロッ
ク1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記
液晶マスクの内部の画素と寸法が異なる上記対向する辺
の画素に対応する部分の所定長さだけ重複するように、
上記刻印位置を制御することを特徴としている。また、
請求項13に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マ
スクにワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マ
スクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレ
ーザ光をワークに照射して刻印する刻印方法において、
上記液晶マスクの最外周の上下方向又は左右方向に対向
する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つ
のデザインを複数のブロック1に分割し、この内の一つ
のブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
を、このブロック1に隣接するブロック1を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる最外周の上下方向又は左右方向に
対向する辺の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重
複させて刻印する方法としている。
の液晶マスクにおいて、最外周の上下方向又は左右方向
に対向する辺の画素は、少なくとも上下方向又は左右方
向のいずれかの寸法が内部の画素と異なることを特徴と
している。また、請求項7に記載の発明は、請求項6に
記載の液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスク
が、最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素
の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が
内部の画素と異なる液晶マスクであって、かつ、前記制
御器11は、一つのデザインを複数のブロック1に分割
し、この内の一つのブロック1を表示した上記液晶マス
クによる刻印位置が、このブロック1に隣接するブロッ
ク1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記
液晶マスクの内部の画素と寸法が異なる上記対向する辺
の画素に対応する部分の所定長さだけ重複するように、
上記刻印位置を制御することを特徴としている。また、
請求項13に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マ
スクにワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マ
スクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレ
ーザ光をワークに照射して刻印する刻印方法において、
上記液晶マスクの最外周の上下方向又は左右方向に対向
する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つ
のデザインを複数のブロック1に分割し、この内の一つ
のブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
を、このブロック1に隣接するブロック1を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる最外周の上下方向又は左右方向に
対向する辺の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重
複させて刻印する方法としている。
【0018】請求項3、7、13に記載の発明による
と、最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素
の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が
内部の画素と異なる液晶マスクを使用し、制御器によっ
て、各ブロック1を表示した前記液晶マスクによる刻印
位置が、隣接するブロック1の刻印位置と、前記内部の
画素と寸法が異なる画素に対応する部分の所定長さだけ
重複するように、上記刻印位置を制御する。これによ
り、デザインを分割して刻印しても視認性が良好な刻印
ができ、積極的に多数のブロックに分割して刻印するこ
とが可能となる。また、一方向に長いデザインを長手方
向に分割して刻印した場合に、刻印された全体のデザイ
ンのサイズが元のデザインのサイズより変化することな
く、寸法精度の良い刻印が可能となる。
と、最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素
の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が
内部の画素と異なる液晶マスクを使用し、制御器によっ
て、各ブロック1を表示した前記液晶マスクによる刻印
位置が、隣接するブロック1の刻印位置と、前記内部の
画素と寸法が異なる画素に対応する部分の所定長さだけ
重複するように、上記刻印位置を制御する。これによ
り、デザインを分割して刻印しても視認性が良好な刻印
ができ、積極的に多数のブロックに分割して刻印するこ
とが可能となる。また、一方向に長いデザインを長手方
向に分割して刻印した場合に、刻印された全体のデザイ
ンのサイズが元のデザインのサイズより変化することな
く、寸法精度の良い刻印が可能となる。
【0019】請求項4に記載の発明は、請求項2に記載
の液晶マスクにおいて、最外周の上下方向に対向する辺
のいずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか
一方の画素は、少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法が内部の画素と異なることを特徴としてい
る。また、請求項8に記載の発明は、請求項6に記載の
液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスクが、最外
周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又は左右方
向に対向する辺のいずれか一方の画素の少なくとも上下
方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画素と異な
る液晶マスクであって、かつ、前記制御器11は、一つ
のデザインを複数のブロック1に分割し、この内の一つ
のブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
が、このブロック1に隣接するブロック1を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる上記対向する辺のいずれか一方の
画素に対応する部分の所定長さだけ重複するように、上
記刻印位置を制御することを特徴としている。また、請
求項14に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マス
クにワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マス
クにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレー
ザ光をワークに照射して刻印する刻印方法において、上
記液晶マスクの最外周の上下方向に対向する辺のいずれ
か一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の画
素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法
を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つのデザイン
を複数のブロック1に分割し、この内の一つのブロック
1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置を、このブ
ロック1に隣接するブロック1を表示した上記液晶マス
クによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸
法が異なる最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一
方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の前記画
素に対応する部分の所定長さだけ重複させて刻印する方
法としている。
の液晶マスクにおいて、最外周の上下方向に対向する辺
のいずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか
一方の画素は、少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法が内部の画素と異なることを特徴としてい
る。また、請求項8に記載の発明は、請求項6に記載の
液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスクが、最外
周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又は左右方
向に対向する辺のいずれか一方の画素の少なくとも上下
方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画素と異な
る液晶マスクであって、かつ、前記制御器11は、一つ
のデザインを複数のブロック1に分割し、この内の一つ
のブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
が、このブロック1に隣接するブロック1を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる上記対向する辺のいずれか一方の
画素に対応する部分の所定長さだけ重複するように、上
記刻印位置を制御することを特徴としている。また、請
求項14に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マス
クにワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マス
クにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレー
ザ光をワークに照射して刻印する刻印方法において、上
記液晶マスクの最外周の上下方向に対向する辺のいずれ
か一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の画
素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法
を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つのデザイン
を複数のブロック1に分割し、この内の一つのブロック
1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置を、このブ
ロック1に隣接するブロック1を表示した上記液晶マス
クによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸
法が異なる最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一
方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の前記画
素に対応する部分の所定長さだけ重複させて刻印する方
法としている。
【0020】請求項4、8、14に記載の発明による
と、最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又
は左右方向に対向する辺のいずれか一方の画素の少なく
とも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画
素と異なる液晶マスクを使用し、制御器によって、各ブ
ロック1を表示した前記液晶マスクによる刻印位置が、
隣接するブロック1の刻印位置と、前記内部の画素と寸
法が異なる画素に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する。これにより、デザイ
ンを分割して刻印しても視認性が良好な刻印ができ、積
極的に多数のブロックに分割して刻印することが可能と
なる。また、一方向に長いデザインを長手方向に分割し
て刻印した場合に、刻印された全体のデザインのサイズ
が元のデザインのサイズより変化することなく、寸法精
度の良い刻印が可能となる。
と、最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又
は左右方向に対向する辺のいずれか一方の画素の少なく
とも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画
素と異なる液晶マスクを使用し、制御器によって、各ブ
ロック1を表示した前記液晶マスクによる刻印位置が、
隣接するブロック1の刻印位置と、前記内部の画素と寸
法が異なる画素に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する。これにより、デザイ
ンを分割して刻印しても視認性が良好な刻印ができ、積
極的に多数のブロックに分割して刻印することが可能と
なる。また、一方向に長いデザインを長手方向に分割し
て刻印した場合に、刻印された全体のデザインのサイズ
が元のデザインのサイズより変化することなく、寸法精
度の良い刻印が可能となる。
【0021】請求項9に記載の発明は、複数の画素から
なる液晶マスクにワークに刻印するデザインを表示し、
この液晶マスクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過
したこのレーザ光をワークに照射して刻印する液晶式レ
ーザマーカにおいて、一つのデザインを複数のブロック
1に分割し、この内の一つのブロック1を表示した上記
液晶マスクによる刻印位置が、このブロック1に隣接す
るブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
と、この液晶マスクの最外周の画素の一部に対応する部
分の所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御
する制御器11を備えた構成としている。また、請求項
15に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マスクに
ワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクに
レーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光
をワークに照射して刻印する刻印方法において、一つの
デザインを複数のブロック1に分割し、この内の一つの
ブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
を、このブロック1に隣接するブロック1を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの最外
周の画素の一部に対応する部分の所定長さだけ重複させ
て刻印する方法としている。
なる液晶マスクにワークに刻印するデザインを表示し、
この液晶マスクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過
したこのレーザ光をワークに照射して刻印する液晶式レ
ーザマーカにおいて、一つのデザインを複数のブロック
1に分割し、この内の一つのブロック1を表示した上記
液晶マスクによる刻印位置が、このブロック1に隣接す
るブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
と、この液晶マスクの最外周の画素の一部に対応する部
分の所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御
する制御器11を備えた構成としている。また、請求項
15に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マスクに
ワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクに
レーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光
をワークに照射して刻印する刻印方法において、一つの
デザインを複数のブロック1に分割し、この内の一つの
ブロック1を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
を、このブロック1に隣接するブロック1を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの最外
周の画素の一部に対応する部分の所定長さだけ重複させ
て刻印する方法としている。
【0022】請求項9、15に記載の発明によると、制
御器によって、各ブロック1を表示した前記液晶マスク
による刻印位置が、隣接するブロック1の刻印位置と、
前記対向する辺のいずれか一方の画素に対応する部分の
所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御す
る。これにより、液晶マスクの各画素の寸法が全て同じ
である場合でも、前記第2偏向器27X、27Yのがた
つき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる制御信
号の変動等を考慮して上記の重複量を設定すると、ブロ
ックの合わせ目に隙間ができずに未刻印部分を無くすこ
とが可能となる。これによって、デザインを分割して刻
印しても視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブ
ロックに分割して刻印することが可能となる。したがっ
て、高分解能(刻印の滑らかさ)への対応が容易とな
り、また、液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置
の小型化やコスト低減が可能となる。
御器によって、各ブロック1を表示した前記液晶マスク
による刻印位置が、隣接するブロック1の刻印位置と、
前記対向する辺のいずれか一方の画素に対応する部分の
所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御す
る。これにより、液晶マスクの各画素の寸法が全て同じ
である場合でも、前記第2偏向器27X、27Yのがた
つき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる制御信
号の変動等を考慮して上記の重複量を設定すると、ブロ
ックの合わせ目に隙間ができずに未刻印部分を無くすこ
とが可能となる。これによって、デザインを分割して刻
印しても視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブ
ロックに分割して刻印することが可能となる。したがっ
て、高分解能(刻印の滑らかさ)への対応が容易とな
り、また、液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置
の小型化やコスト低減が可能となる。
【0023】請求項10に記載の発明は、請求項9に記
載の液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスクによ
る刻印位置を重複させる所定長さは、最外周の画素のド
ット単位であることを特徴としている。また、請求項1
6に記載の発明は、請求項15に記載の刻印方法におい
て、前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長
さは、最外周の画素のドット単位であることを特徴とす
る。
載の液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスクによ
る刻印位置を重複させる所定長さは、最外周の画素のド
ット単位であることを特徴としている。また、請求項1
6に記載の発明は、請求項15に記載の刻印方法におい
て、前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長
さは、最外周の画素のドット単位であることを特徴とす
る。
【0024】請求項10、16に記載の発明によると、
液晶マスクの最外周の画素の一部をドット単位で重ねて
刻印する。これにより、デザインを分割して刻印しても
視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブロックに
分割して刻印することが可能となる。したがって、高分
解能(刻印の滑らかさ)への対応が容易となり、また、
液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置の小型化や
コスト低減が可能となる。
液晶マスクの最外周の画素の一部をドット単位で重ねて
刻印する。これにより、デザインを分割して刻印しても
視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブロックに
分割して刻印することが可能となる。したがって、高分
解能(刻印の滑らかさ)への対応が容易となり、また、
液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置の小型化や
コスト低減が可能となる。
【0025】
【発明の実施の形態】まず、図1〜図11に基づいて第
一の実施形態を説明する。本実施形態は、液晶マスクの
最外周の全て又は一部の画素の寸法を他の画素より大き
くした液晶マスクを使用した例を示している。ここで、
本実施形態の構成は、例えば図14で示された構成と同
じでよい。
一の実施形態を説明する。本実施形態は、液晶マスクの
最外周の全て又は一部の画素の寸法を他の画素より大き
くした液晶マスクを使用した例を示している。ここで、
本実施形態の構成は、例えば図14で示された構成と同
じでよい。
【0026】図1〜図3は、本実施形態で使用される液
晶マスクの例を表している。ここでも従来と同様に、各
液晶マスクは、外部からの信号によって光を各液晶を透
過又は遮断させるような一種の光シャッターとして機能
する液晶装置で構成されている。図1は、液晶マスクの
最外周の四辺の内で一辺のみに、寸法が他の画素と異な
る画素を有する液晶マスク2aの例を表している。図2
は、液晶マスクの最外周の四辺の内で二組の対向する辺
のいずれか一方のみに、寸法が他の画素と異なる画素を
有する液晶マスク2bの例を表している。また、図3
は、液晶マスクの最外周の四辺の全てに、寸法が他の画
素と異なる画素を有する液晶マスク2cの例を表してい
る。これらの図では、最外周の画素の寸法が他の画素よ
り大きい場合を示している。ここで、各液晶マスク2
a、2b、2cの縦横の長さをそれぞれA、Bとする。
上記の寸法が大きい画素の縦方向の長さE1 は他の画素
の縦方向の長さEより所定長さL1 だけ長く、また、大
きい画素の横方向の長さF1 は他の画素の横方向の長さ
Fより所定長さL2 だけ長い構成となっている。また、
長さL1 及び長さL2 は、(したがって、上記の縦方向
の長さE1 及び横方向の長さF1 は、)前述したような
第2偏向器27X、27Yのがたつき、光学系素子の位
置変動、外部ノイズによる制御信号の変動等による前記
合わせ目の隙間の最大値を考慮し、隙間ができないよう
な所定長さにしている。
晶マスクの例を表している。ここでも従来と同様に、各
液晶マスクは、外部からの信号によって光を各液晶を透
過又は遮断させるような一種の光シャッターとして機能
する液晶装置で構成されている。図1は、液晶マスクの
最外周の四辺の内で一辺のみに、寸法が他の画素と異な
る画素を有する液晶マスク2aの例を表している。図2
は、液晶マスクの最外周の四辺の内で二組の対向する辺
のいずれか一方のみに、寸法が他の画素と異なる画素を
有する液晶マスク2bの例を表している。また、図3
は、液晶マスクの最外周の四辺の全てに、寸法が他の画
素と異なる画素を有する液晶マスク2cの例を表してい
る。これらの図では、最外周の画素の寸法が他の画素よ
り大きい場合を示している。ここで、各液晶マスク2
a、2b、2cの縦横の長さをそれぞれA、Bとする。
上記の寸法が大きい画素の縦方向の長さE1 は他の画素
の縦方向の長さEより所定長さL1 だけ長く、また、大
きい画素の横方向の長さF1 は他の画素の横方向の長さ
Fより所定長さL2 だけ長い構成となっている。また、
長さL1 及び長さL2 は、(したがって、上記の縦方向
の長さE1 及び横方向の長さF1 は、)前述したような
第2偏向器27X、27Yのがたつき、光学系素子の位
置変動、外部ノイズによる制御信号の変動等による前記
合わせ目の隙間の最大値を考慮し、隙間ができないよう
な所定長さにしている。
【0027】一方、刻印されるデザインは、複数のブロ
ック1に互いに重複部が無いように分割される。図4
は、一つのデザインを長手方向に複数のブロック1に分
割した例を表している。また、図5は一つのデザインを
縦横に複数のブロック1で分割した例を表している。各
ブロック1は、使用する液晶マスク2の分解能(画素数
に相当する)によって文字や絵柄等が滑らかに刻印され
るような大きさに設定される。このとき、隣接するブロ
ック1の合わせ目は重複しないように分割される。
ック1に互いに重複部が無いように分割される。図4
は、一つのデザインを長手方向に複数のブロック1に分
割した例を表している。また、図5は一つのデザインを
縦横に複数のブロック1で分割した例を表している。各
ブロック1は、使用する液晶マスク2の分解能(画素数
に相当する)によって文字や絵柄等が滑らかに刻印され
るような大きさに設定される。このとき、隣接するブロ
ック1の合わせ目は重複しないように分割される。
【0028】次に、このような構成による作用を説明す
る。図6は、図4に示すようにデザインを長手方向に分
割した場合において、例えば図1に示すような上下又は
左右方向のいずれか一方で対向する辺のいずれか一方の
みの画素を大きくした液晶マスク2aを使用して刻印す
るときの刻印位置を表している。制御器11は、上記長
手方向に分割された各ブロック1を液晶マスク2a上に
表示し、第1偏向器23X、23Yのそれぞれの駆動部
32、31に指令を出力してレーザ光を液晶マスク2a
上をラスタ走査させる。そして、第2偏向器27X、2
7Yは、刻印位置が上記表示されたブロック1に相当す
る刻印領域を向くように、制御器11によって位置決め
制御される。このとき、刻印位置は、隣接するブロック
1同士が液晶マスク2aの前記所定長さL1 に対応する
部分だけ縦方向に重複するように位置決め制御される。
る。図6は、図4に示すようにデザインを長手方向に分
割した場合において、例えば図1に示すような上下又は
左右方向のいずれか一方で対向する辺のいずれか一方の
みの画素を大きくした液晶マスク2aを使用して刻印す
るときの刻印位置を表している。制御器11は、上記長
手方向に分割された各ブロック1を液晶マスク2a上に
表示し、第1偏向器23X、23Yのそれぞれの駆動部
32、31に指令を出力してレーザ光を液晶マスク2a
上をラスタ走査させる。そして、第2偏向器27X、2
7Yは、刻印位置が上記表示されたブロック1に相当す
る刻印領域を向くように、制御器11によって位置決め
制御される。このとき、刻印位置は、隣接するブロック
1同士が液晶マスク2aの前記所定長さL1 に対応する
部分だけ縦方向に重複するように位置決め制御される。
【0029】また、図7は、図5に示すようにデザイン
を縦横に分割した場合において、例えば図2に示すよう
な上下及び左右方向共に対向する辺のいずれか一方のみ
の画素を大きくした液晶マスク2bを使用して刻印する
ときの刻印位置を表している。制御器11は、上記縦横
に分割された各ブロック1を液晶マスク2b上に表示
し、第1偏向器23X、23Yのそれぞれの駆動部3
2、31に指令を出力してレーザ光を液晶マスク2b上
をラスタ走査させる。そして、第2偏向器27X、27
Yは、刻印位置が上記表示されたブロック1に相当する
刻印領域を向くように、制御器11によって位置決め制
御される。このとき、刻印位置は、隣接するブロック1
同士が液晶マスク2bの前記所定長さL1 に対応する部
分だけ縦方向に重複するように、そして液晶マスク2b
の前記所定長さL2 に対応する部分だけ横方向に重複す
るように、位置決め制御される。
を縦横に分割した場合において、例えば図2に示すよう
な上下及び左右方向共に対向する辺のいずれか一方のみ
の画素を大きくした液晶マスク2bを使用して刻印する
ときの刻印位置を表している。制御器11は、上記縦横
に分割された各ブロック1を液晶マスク2b上に表示
し、第1偏向器23X、23Yのそれぞれの駆動部3
2、31に指令を出力してレーザ光を液晶マスク2b上
をラスタ走査させる。そして、第2偏向器27X、27
Yは、刻印位置が上記表示されたブロック1に相当する
刻印領域を向くように、制御器11によって位置決め制
御される。このとき、刻印位置は、隣接するブロック1
同士が液晶マスク2bの前記所定長さL1 に対応する部
分だけ縦方向に重複するように、そして液晶マスク2b
の前記所定長さL2 に対応する部分だけ横方向に重複す
るように、位置決め制御される。
【0030】上述の隣接するブロック1同士の重複部に
ついて、図8に基づいて詳細に説明する。図8は、液晶
マスク2a、2bを使用する場合の各液晶マスクによる
刻印位置の重複部を表している。縦方向に重ねる場合に
おいて、例えば液晶マスク2aでは、一つのブロック1
を表示した液晶マスクの最下部画素の長さE1 の内で下
端側の所定長さL1 に対応する部分が、隣接するブロッ
ク1を表示した液晶マスクの最上部画素の長さEの一部
と重なるように、刻印位置が制御される。同様にして、
横方向に重ねる場合においても、例えば液晶マスク2b
では、一つのブロック1を表示した液晶マスクの最右部
画素の長さF1 の内で右端側の所定長さL2 に対応する
部分が、隣接するブロック1を表示した液晶マスクの最
左部画素の長さFの一部と重なるように、刻印位置が制
御される。
ついて、図8に基づいて詳細に説明する。図8は、液晶
マスク2a、2bを使用する場合の各液晶マスクによる
刻印位置の重複部を表している。縦方向に重ねる場合に
おいて、例えば液晶マスク2aでは、一つのブロック1
を表示した液晶マスクの最下部画素の長さE1 の内で下
端側の所定長さL1 に対応する部分が、隣接するブロッ
ク1を表示した液晶マスクの最上部画素の長さEの一部
と重なるように、刻印位置が制御される。同様にして、
横方向に重ねる場合においても、例えば液晶マスク2b
では、一つのブロック1を表示した液晶マスクの最右部
画素の長さF1 の内で右端側の所定長さL2 に対応する
部分が、隣接するブロック1を表示した液晶マスクの最
左部画素の長さFの一部と重なるように、刻印位置が制
御される。
【0031】一方、例えば図3で示すような対向する辺
の画素の寸法が他の画素より大きい液晶マスク2cを使
用した場合には、図9又は図10のように刻印位置が位
置決めされる。図9は図4に示すようにデザインを長手
方向に分割した場合における刻印位置を表し、また図1
0は図5に示すようにデザインを縦横に分割した場合に
おける刻印位置を表している。なお、長手方向に分割し
ている場合には、上下方向又は左右方向のいずれか一方
の対向する辺の画素が大きいような液晶マスクでもよ
い。制御器11は、上記長手方向にあるいは縦横に分割
された各ブロック1を液晶マスク2c上に表示し、第1
偏向器23X、23Yによりレーザ光を液晶マスク2c
上をラスタ走査させる。そして、第2偏向器27X、2
7Yは、刻印位置が上記表示されたブロック1に相当す
る刻印領域を向くように位置決め制御される。このと
き、刻印位置は、隣接するブロック1同士が液晶マスク
2cの前記所定長さL1 の2倍の長さ(2・L1 )に対
応する部分だけ縦方向に重複するように、そして液晶マ
スク2cの前記所定長さL2 の2倍の長さ(2・L2 )
に対応する部分だけ横方向に重複するように、位置決め
制御される。
の画素の寸法が他の画素より大きい液晶マスク2cを使
用した場合には、図9又は図10のように刻印位置が位
置決めされる。図9は図4に示すようにデザインを長手
方向に分割した場合における刻印位置を表し、また図1
0は図5に示すようにデザインを縦横に分割した場合に
おける刻印位置を表している。なお、長手方向に分割し
ている場合には、上下方向又は左右方向のいずれか一方
の対向する辺の画素が大きいような液晶マスクでもよ
い。制御器11は、上記長手方向にあるいは縦横に分割
された各ブロック1を液晶マスク2c上に表示し、第1
偏向器23X、23Yによりレーザ光を液晶マスク2c
上をラスタ走査させる。そして、第2偏向器27X、2
7Yは、刻印位置が上記表示されたブロック1に相当す
る刻印領域を向くように位置決め制御される。このと
き、刻印位置は、隣接するブロック1同士が液晶マスク
2cの前記所定長さL1 の2倍の長さ(2・L1 )に対
応する部分だけ縦方向に重複するように、そして液晶マ
スク2cの前記所定長さL2 の2倍の長さ(2・L2 )
に対応する部分だけ横方向に重複するように、位置決め
制御される。
【0032】このときの隣接するブロック1同士の重複
部について、図11に基づいて詳細に説明する。図11
は、液晶マスク2cによる刻印位置の重複部を表してい
る。縦方向に重ねる場合において、一つのブロック1を
表示した液晶マスクの最下部画素の長さE1 の内で下端
側の所定長さ(2・L1 )に対応する部分が、隣接する
ブロック1を表示した液晶マスクの最上部画素の長さE
1 の内で上端側の所定長さ(2・L1 )の部分と重なる
ように、刻印位置が制御される。また、同様にして、横
方向に重ねる場合においても、一つのブロック1を表示
した液晶マスクの最右部画素の長さF1 の内で右端側の
所定長さ(2・L2 )に対応する部分が、隣接するブロ
ック1を表示した液晶マスクの最左部画素の左端側の所
定長さ(2・L2 )重なるように、刻印位置が制御され
る。
部について、図11に基づいて詳細に説明する。図11
は、液晶マスク2cによる刻印位置の重複部を表してい
る。縦方向に重ねる場合において、一つのブロック1を
表示した液晶マスクの最下部画素の長さE1 の内で下端
側の所定長さ(2・L1 )に対応する部分が、隣接する
ブロック1を表示した液晶マスクの最上部画素の長さE
1 の内で上端側の所定長さ(2・L1 )の部分と重なる
ように、刻印位置が制御される。また、同様にして、横
方向に重ねる場合においても、一つのブロック1を表示
した液晶マスクの最右部画素の長さF1 の内で右端側の
所定長さ(2・L2 )に対応する部分が、隣接するブロ
ック1を表示した液晶マスクの最左部画素の左端側の所
定長さ(2・L2 )重なるように、刻印位置が制御され
る。
【0033】なお、これまでの説明では、最外周の画素
の内で、寸法が他と異なる画素の縦方向の長さE1 は他
の画素の縦方向の長さEより所定長さL1 だけ長くして
いるが、これに限定されずに長さEより短く、例えば所
定長さL1 (ただし、L1 <E)にしてもよい。あるい
は、対向する辺の一方の画素は長さE1 (長さEより所
定長さL1 だけ長い)とし、他方の画素は長さL1 (た
だし、L1 <E)としてもよい。このときも、隣接する
ブロック1同士の重複は、図8及び図11と同様にして
行われる。すなわち、対向する辺のいずれか一方の画素
の寸法が他と異なる(長さE1 又は長さL1 )場合は、
一つのブロック1を表示した液晶マスクのこの対向する
辺の画素の所定長さL1 に対応する部分を、隣接するブ
ロック1と重複させる。同じく、対向する辺の画素の寸
法が他と異なる場合は、一つのブロック1を表示した液
晶マスクのこの対向する辺の画素の所定長さ(2・L1
)に対応する部分を、隣接するブロック1と重複させ
る。また、同様に、寸法が他と異なる画素の横方向の長
さF1 は他の画素の横方向の長さFより所定長さL2 だ
け長くしているが、これに限定されずに長さFより短
く、例えば所定長さL2 (ただし、L2 <F)にしても
よい。あるいは、対向する辺の一方の画素は長さF1
(長さFより所定長さL2 だけ長い)とし、他方の画素
は長さL2 (ただし、L2 <F)としてもよい。このと
きも、隣接するブロック1同士の重複部は、図8及び図
11と同様とする。
の内で、寸法が他と異なる画素の縦方向の長さE1 は他
の画素の縦方向の長さEより所定長さL1 だけ長くして
いるが、これに限定されずに長さEより短く、例えば所
定長さL1 (ただし、L1 <E)にしてもよい。あるい
は、対向する辺の一方の画素は長さE1 (長さEより所
定長さL1 だけ長い)とし、他方の画素は長さL1 (た
だし、L1 <E)としてもよい。このときも、隣接する
ブロック1同士の重複は、図8及び図11と同様にして
行われる。すなわち、対向する辺のいずれか一方の画素
の寸法が他と異なる(長さE1 又は長さL1 )場合は、
一つのブロック1を表示した液晶マスクのこの対向する
辺の画素の所定長さL1 に対応する部分を、隣接するブ
ロック1と重複させる。同じく、対向する辺の画素の寸
法が他と異なる場合は、一つのブロック1を表示した液
晶マスクのこの対向する辺の画素の所定長さ(2・L1
)に対応する部分を、隣接するブロック1と重複させ
る。また、同様に、寸法が他と異なる画素の横方向の長
さF1 は他の画素の横方向の長さFより所定長さL2 だ
け長くしているが、これに限定されずに長さFより短
く、例えば所定長さL2 (ただし、L2 <F)にしても
よい。あるいは、対向する辺の一方の画素は長さF1
(長さFより所定長さL2 だけ長い)とし、他方の画素
は長さL2 (ただし、L2 <F)としてもよい。このと
きも、隣接するブロック1同士の重複部は、図8及び図
11と同様とする。
【0034】このような構成にしたので、第2偏向器2
7X、27Yのがたつき、光学系素子の位置変動、外部
ノイズによる制御信号の変動等があっても、各ブロック
1の合わせ目が確実に重ねられて隙間が無くなる。この
結果、刻印される絵柄内にこの隙間によるレーザ光の未
照射部が無くなり、全体のデザインの視認性が良好とな
る。また、一つのデザインを長手方向に複数のブロック
1に分割して刻印しても、刻印された絵柄の長手方向長
さは当初のデザインの長手方向長さと同一にすることが
できる。よって、このようなレーザマーカでの刻印にお
いて歩留りが良くなり、生産性が向上する。
7X、27Yのがたつき、光学系素子の位置変動、外部
ノイズによる制御信号の変動等があっても、各ブロック
1の合わせ目が確実に重ねられて隙間が無くなる。この
結果、刻印される絵柄内にこの隙間によるレーザ光の未
照射部が無くなり、全体のデザインの視認性が良好とな
る。また、一つのデザインを長手方向に複数のブロック
1に分割して刻印しても、刻印された絵柄の長手方向長
さは当初のデザインの長手方向長さと同一にすることが
できる。よって、このようなレーザマーカでの刻印にお
いて歩留りが良くなり、生産性が向上する。
【0035】また、各ブロック1は重複部が無いように
分割されていても、予め刻印領域の重複部が見込まれて
いるので、この重複部の長さの許容範囲内において各ブ
ロックの刻印位置の制御精度を上げる必要がなくなる。
さらに、各ブロックの合わせ目の隙間が生じなくなった
ので、積極的に多数のブロックに分割して刻印すること
が可能となる。したがって、高分解能(刻印の滑らか
さ)が要求されるときは、要求される分解能を満足する
ように各ブロックを小さくすることが可能となり、高分
解能への対応が容易となった。また、使用する液晶マス
クの画素数を少なくして液晶マスクを小型化できるの
で、本レーザマーカ装置の小型化やコスト低減が可能と
なる。
分割されていても、予め刻印領域の重複部が見込まれて
いるので、この重複部の長さの許容範囲内において各ブ
ロックの刻印位置の制御精度を上げる必要がなくなる。
さらに、各ブロックの合わせ目の隙間が生じなくなった
ので、積極的に多数のブロックに分割して刻印すること
が可能となる。したがって、高分解能(刻印の滑らか
さ)が要求されるときは、要求される分解能を満足する
ように各ブロックを小さくすることが可能となり、高分
解能への対応が容易となった。また、使用する液晶マス
クの画素数を少なくして液晶マスクを小型化できるの
で、本レーザマーカ装置の小型化やコスト低減が可能と
なる。
【0036】次に、第二の実施形態について説明する。
本実施形態では、液晶マスクとして、図15で示したよ
うな各画素3の寸法が同一の液晶マスク2を使用してい
る。また、本実施形態の構成は、例えば図14の構成と
同じとする。図12及び図13は、本実施形態において
一つのデザインをそれぞれ長手方向に及び縦横に複数の
ブロック1に分割した例を表している。同図に示すよう
に、隣接する各ブロック1の縦方向及び横方向の合わせ
目には、それぞれ所定長さL3 、L4 の重複部を設けて
いる。この所定長さL3 、L4 は、第2偏向器27X、
27Yのがたつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズ
による制御信号の変動等による前記合わせ目の隙間の最
大値を考慮し、隙間ができないように設定される。ま
た、各ブロック1は、使用する液晶マスク2の分解能
(画素数に相当する)によって文字や絵柄等が滑らかに
刻印されるような大きさに設定される。
本実施形態では、液晶マスクとして、図15で示したよ
うな各画素3の寸法が同一の液晶マスク2を使用してい
る。また、本実施形態の構成は、例えば図14の構成と
同じとする。図12及び図13は、本実施形態において
一つのデザインをそれぞれ長手方向に及び縦横に複数の
ブロック1に分割した例を表している。同図に示すよう
に、隣接する各ブロック1の縦方向及び横方向の合わせ
目には、それぞれ所定長さL3 、L4 の重複部を設けて
いる。この所定長さL3 、L4 は、第2偏向器27X、
27Yのがたつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズ
による制御信号の変動等による前記合わせ目の隙間の最
大値を考慮し、隙間ができないように設定される。ま
た、各ブロック1は、使用する液晶マスク2の分解能
(画素数に相当する)によって文字や絵柄等が滑らかに
刻印されるような大きさに設定される。
【0037】次に、このような構成による作用を説明す
る。図12に示すようにデザインを長手方向に分割した
場合には、刻印位置は以下のように制御される。制御器
11は、長手方向に分割された各ブロック1を液晶マス
ク2上に表示し、第1偏向器23X、23Yによってレ
ーザ光を液晶マスク2上をラスタ走査させる。そして、
第2偏向器27X、27Yは、刻印位置が上記表示され
たブロック1に相当する刻印領域を向くように、制御器
11によって位置決め制御される。このとき、刻印位置
は、隣接するブロック1同士が前記所定長さL3 だけ縦
方向に重複するように位置決め制御される。また、図1
3に示すようにデザインを縦横に分割した場合には、制
御器11は、この分割された各ブロック1を液晶マスク
2上に表示し、第1偏向器23X、23Yによってレー
ザ光を液晶マスク2上をラスタ走査させる。そして、第
2偏向器27X、27Yは、刻印位置が上記表示された
ブロック1に相当する刻印領域を向くように、制御器1
1によって位置決め制御される。このとき、刻印位置
は、隣接するブロック1同士が所定長さL3 だけ縦方向
に重複するように、そして前記所定長さL4 だけ横方向
に重複するように、位置決め制御される。
る。図12に示すようにデザインを長手方向に分割した
場合には、刻印位置は以下のように制御される。制御器
11は、長手方向に分割された各ブロック1を液晶マス
ク2上に表示し、第1偏向器23X、23Yによってレ
ーザ光を液晶マスク2上をラスタ走査させる。そして、
第2偏向器27X、27Yは、刻印位置が上記表示され
たブロック1に相当する刻印領域を向くように、制御器
11によって位置決め制御される。このとき、刻印位置
は、隣接するブロック1同士が前記所定長さL3 だけ縦
方向に重複するように位置決め制御される。また、図1
3に示すようにデザインを縦横に分割した場合には、制
御器11は、この分割された各ブロック1を液晶マスク
2上に表示し、第1偏向器23X、23Yによってレー
ザ光を液晶マスク2上をラスタ走査させる。そして、第
2偏向器27X、27Yは、刻印位置が上記表示された
ブロック1に相当する刻印領域を向くように、制御器1
1によって位置決め制御される。このとき、刻印位置
は、隣接するブロック1同士が所定長さL3 だけ縦方向
に重複するように、そして前記所定長さL4 だけ横方向
に重複するように、位置決め制御される。
【0038】なお、上述した各ブロック1の重複部の長
さL3 及びL4 は、例えば液晶マスク2の画素単位(ド
ット単位)の大きさに設定してもよいし、あるいは、1
画素の大きさよりも小さい長さに設定してもよい。この
ような構成にしたので、第2偏向器27X、27Yのが
たつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる制御
信号の変動等があっても、各ブロック1の合わせ目が確
実に重ねられて隙間が無くなる。この結果、刻印される
絵柄内にこの隙間によるレーザ光の未照射部が無くな
り、全体のデザインの視認性が良好となる。また、一つ
のデザインを長手方向に複数のブロック1に分割して刻
印しても、刻印された絵柄の長手方向長さは当初のデザ
インの長手方向長さと同一にすることができる。よっ
て、このようなレーザマーカでの刻印において歩留りが
良くなり、生産性が向上する。
さL3 及びL4 は、例えば液晶マスク2の画素単位(ド
ット単位)の大きさに設定してもよいし、あるいは、1
画素の大きさよりも小さい長さに設定してもよい。この
ような構成にしたので、第2偏向器27X、27Yのが
たつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる制御
信号の変動等があっても、各ブロック1の合わせ目が確
実に重ねられて隙間が無くなる。この結果、刻印される
絵柄内にこの隙間によるレーザ光の未照射部が無くな
り、全体のデザインの視認性が良好となる。また、一つ
のデザインを長手方向に複数のブロック1に分割して刻
印しても、刻印された絵柄の長手方向長さは当初のデザ
インの長手方向長さと同一にすることができる。よっ
て、このようなレーザマーカでの刻印において歩留りが
良くなり、生産性が向上する。
【0039】また、予め各ブロックの重複部が見込まれ
ているので、この重複部の長さの許容範囲内において各
ブロックの刻印位置の制御精度を上げる必要がなくな
る。さらに、各ブロックの合わせ目の隙間が生じなくな
ったので、積極的に多数のブロックに分割して刻印する
ことが可能となる。したがって、高分解能(刻印の滑ら
かさ)が要求されるときは、要求される分解能を満足す
るように各ブロックを小さくすることが可能となり、高
分解能への対応が容易となった。また、使用する液晶マ
スクの画素数を少なくして液晶マスクを小型化できるの
で、本レーザマーカ装置の小型化やコスト低減が可能と
なる。
ているので、この重複部の長さの許容範囲内において各
ブロックの刻印位置の制御精度を上げる必要がなくな
る。さらに、各ブロックの合わせ目の隙間が生じなくな
ったので、積極的に多数のブロックに分割して刻印する
ことが可能となる。したがって、高分解能(刻印の滑ら
かさ)が要求されるときは、要求される分解能を満足す
るように各ブロックを小さくすることが可能となり、高
分解能への対応が容易となった。また、使用する液晶マ
スクの画素数を少なくして液晶マスクを小型化できるの
で、本レーザマーカ装置の小型化やコスト低減が可能と
なる。
【図1】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクの一
例を表す。
例を表す。
【図2】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクの他
の例を表す。
の例を表す。
【図3】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクの他
の例を表す。
の例を表す。
【図4】本発明に係わる第一実施形態のブロック分割方
法の一例を表す。
法の一例を表す。
【図5】本発明に係わる第一実施形態のブロック分割方
法の他の例を表す。
法の他の例を表す。
【図6】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の一例
を表す。
を表す。
【図7】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の他の
例を表す。
例を表す。
【図8】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクによ
る刻印重複部例を表す。
る刻印重複部例を表す。
【図9】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の他の
例を表す。
例を表す。
【図10】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の他
の例を表す。
の例を表す。
【図11】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクに
よる刻印重複部の他例を表す。
よる刻印重複部の他例を表す。
【図12】本発明に係わる第二実施形態のブロック分割
方法及び刻印位置の例を表す。
方法及び刻印位置の例を表す。
【図13】本発明に係わる第二実施形態のブロック分割
方法及び刻印位置の他の例を表す。
方法及び刻印位置の他の例を表す。
【図14】レーザマーカの一例を表す構成図である。
【図15】液晶マスクの一例を表す概略図である。
【図16】従来技術に係わるブロックの分割例を表す。
【図17】従来技術におけるブロック合わせ目の隙間の
説明図である。
説明図である。
1…ブロック、2,2a,2b,2c…液晶マスク、3
…画素、11…制御器、21…レーザ発振器、22,2
4,25…リレーレンズ、23X,23Y…第1偏向
器、27X,27Y…第2偏向器、28…対物レンズ、
30…ワーク、31,32,34,35…駆動部、36
…テーブル、E…液晶マスクの通常画素の縦方向長さ、
E1 …液晶マスクの大きい画素の縦方向長さ、F…液晶
マスクの通常画素の横方向長さ、F1 …液晶マスクの大
きい画素の横方向長さ、L1 …E1とEの差、L2 …F1
とFの差、L3 …隣接するブロックの縦方向重複部の
長さ、L4 …隣接するブロックの横方向重複部の長さ。
…画素、11…制御器、21…レーザ発振器、22,2
4,25…リレーレンズ、23X,23Y…第1偏向
器、27X,27Y…第2偏向器、28…対物レンズ、
30…ワーク、31,32,34,35…駆動部、36
…テーブル、E…液晶マスクの通常画素の縦方向長さ、
E1 …液晶マスクの大きい画素の縦方向長さ、F…液晶
マスクの通常画素の横方向長さ、F1 …液晶マスクの大
きい画素の横方向長さ、L1 …E1とEの差、L2 …F1
とFの差、L3 …隣接するブロックの縦方向重複部の
長さ、L4 …隣接するブロックの横方向重複部の長さ。
Claims (16)
- 【請求項1】 複数の画素からなり、外部からの信号に
よって複数の画素で光を透過又は遮断させる液晶装置に
おいて、 最外周の全て又は一部の辺の画素は、寸法が内部の画素
と異なることを特徴とする液晶装置。 - 【請求項2】 複数の画素からなり、これらの画素にワ
ークに刻印するデザインを表示し、かつレーザ光を入射
することにより、このレーザ光をデザインを表示した各
画素を透過させてワークに刻印する液晶マスクにおい
て、 請求項1に記載の液晶装置を使用したことを特徴とする
液晶マスク。 - 【請求項3】 請求項2に記載の液晶マスクにおいて、 最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素は、
少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内
部の画素と異なることを特徴とする液晶マスク。 - 【請求項4】 請求項2に記載の液晶マスクにおいて、 最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又は左
右方向に対向する辺のいずれか一方の画素は、少なくと
も上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画素
と異なることを特徴とする液晶マスク。 - 【請求項5】 複数の画素からなる液晶マスクにワーク
に刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレーザ
光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワー
クに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、 最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の画素と
異なる液晶マスクを備えたことを特徴とする液晶式レー
ザマーカ。 - 【請求項6】 請求項5に記載の液晶式レーザマーカに
おいて、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
の一つのブロック(1)を表示した前記液晶マスクによる
刻印位置が、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
を表示した前記液晶マスクによる刻印位置と、前記液晶
マスクの内部の画素と寸法が異なる最外周の前記画素に
対応する部分の所定長さだけ重複するように、上記刻印
位置を制御する制御器11を備えたことを特徴とする液
晶式レーザマーカ。 - 【請求項7】 請求項6に記載の液晶式レーザマーカに
おいて、 前記液晶マスクが、最外周の上下方向又は左右方向に対
向する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のい
ずれかの寸法が内部の画素と異なる液晶マスクであっ
て、かつ、 前記制御器11は、一つのデザインを複数のブロック
(1) に分割し、この内の一つのブロック(1) を表示した
上記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック(1) に
隣接するブロック(1) を表示した上記液晶マスクによる
刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸法が異な
る上記対向する辺の画素に対応する部分の所定長さだけ
重複するように、上記刻印位置を制御することを特徴と
する液晶式レーザマーカ。 - 【請求項8】 請求項6に記載の液晶式レーザマーカに
おいて、 前記液晶マスクが、最外周の上下方向に対向する辺のい
ずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方
の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの
寸法が内部の画素と異なる液晶マスクであって、かつ、 前記制御器11は、一つのデザインを複数のブロック
(1) に分割し、この内の一つのブロック(1) を表示した
上記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック(1) に
隣接するブロック(1) を表示した上記液晶マスクによる
刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸法が異な
る上記対向する辺のいずれか一方の画素に対応する部分
の所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御す
る備えたことを特徴とする液晶式レーザマーカ。 - 【請求項9】 複数の画素からなる液晶マスクにワーク
に刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレーザ
光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワー
クに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
の一つのブロック(1)を表示した上記液晶マスクによる
刻印位置が、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、この液晶
マスクの最外周の画素の一部に対応する部分の所定長さ
だけ重複するように、上記刻印位置を制御する制御器1
1を備えたことを特徴とする液晶式レーザマーカ。 - 【請求項10】 請求項9に記載の液晶式レーザマーカ
において、 前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長さ
は、最外周の画素のドット単位であることを特徴とする
液晶式レーザマーカ。 - 【請求項11】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する刻印方法において、 上記液晶マスクの最外周の全て又は一部の画素の寸法を
内部の画素と異なる寸法とし、最外周の光学系の歪みを
防止して刻印することを特徴とする刻印方法。 - 【請求項12】 請求項11に記載の刻印方法におい
て、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
の一つのブロック(1)を表示した前記液晶マスクによる
刻印位置を、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
を表示した前記液晶マスクによる刻印位置と、前記液晶
マスクの内部の画素と寸法が異なる最外周の前記画素に
対応する部分の所定長さだけ重複させて刻印することを
特徴とする刻印方法。 - 【請求項13】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する刻印方法において、 上記液晶マスクの最外周の上下方向又は左右方向に対向
する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つ
のデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内の一
つのブロック(1) を表示した上記液晶マスクによる刻印
位置を、このブロック(1) に隣接するブロック(1) を表
示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マス
クの内部の画素と寸法が異なる最外周の上下方向又は左
右方向に対向する辺の前記画素に対応する部分の所定長
さだけ重複させて刻印することを特徴とする刻印方法。 - 【請求項14】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する刻印方法において、 上記液晶マスクの最外周の上下方向に対向する辺のいず
れか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の
画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸
法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つのデザイ
ンを複数のブロック(1) に分割し、この内の一つのブロ
ック(1) を表示した上記液晶マスクによる刻印位置を、
このブロック(1) に隣接するブロック(1) を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる最外周の上下方向に対向する辺の
いずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一
方の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重複させて
刻印することを特徴とする刻印方法。 - 【請求項15】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する刻印方法において、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
の一つのブロック(1)を表示した上記液晶マスクによる
刻印位置を、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶
マスクの最外周の画素の一部に対応する部分の所定長さ
だけ重複させて刻印することを特徴とする刻印方法。 - 【請求項16】 請求項15に記載の刻印方法におい
て、 前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長さ
は、最外周の画素のドット単位であることを特徴とする
刻印方法。
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- 1997-04-08 US US09/171,107 patent/US6160603A/en not_active Expired - Fee Related
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A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060525 |
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A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20060927 |