JPH09277069A - 液晶マスク、液晶式レーザマーカ及びそれを用いた刻印方法 - Google Patents

液晶マスク、液晶式レーザマーカ及びそれを用いた刻印方法

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JPH09277069A
JPH09277069A JP8114327A JP11432796A JPH09277069A JP H09277069 A JPH09277069 A JP H09277069A JP 8114327 A JP8114327 A JP 8114327A JP 11432796 A JP11432796 A JP 11432796A JP H09277069 A JPH09277069 A JP H09277069A
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Hirokazu Tanaka
宏和 田中
Takeshi Okubo
毅 大久保
Taku Yamazaki
卓 山崎
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 一つのデザインを複数のブロックに分割して
刻印する際に、各ブロックの合わせ目に隙間が発生しな
いようにする。 【解決手段】 刻印されるデザインを複数の画素からな
る液晶マスクに表示し、この液晶マスクから透過したレ
ーザ光をワークに照射して刻印する液晶式レーザマーカ
において、最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内
部の画素と異なる液晶マスクを備え、さらに、一つのデ
ザインを複数のブロック１に分割し、各ブロック１を表
示した上記液晶マスクによる刻印位置が、隣接するブロ
ック１の刻印位置と、上記液晶マスクの寸法が異なる最
外周の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する制御器１１を備えた。
あるいは、全画素の寸法が等しい液晶マスクと、各ブロ
ック１を表示したこの液晶マスクによる刻印位置が、隣
接するブロック１の刻印位置と、この液晶マスクの最外
周の画素の一部に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する制御器１１とを備えて
もよい。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶マスクを使用
した液晶式レーザマーカに関する。
【０００２】
【従来の技術】レーザ光を例えば半導体パッケージ等の
ワークの表面に照射して所定の文字や絵柄等を刻印する
レーザマーカの中で、液晶マスクを使用した、いわゆる
液晶式レーザマーカが広く使用されている。この液晶式
レーザマーカは、次のようにして刻印するものである。
すなわち、刻印すべき文字や絵柄等のデザインを例え
ば”０”を無刻印部、”１”を刻印部のドット情報に変
換して入力し、このドット情報に従って上記デザインを
所定数の画素を有する液晶マスクに表示させる。そし
て、この液晶マスクにレーザ光を入射することにより上
記文字や絵柄に相当する画素がレーザ光を透過し、この
透過レーザ光がワークに照射されて刻印されるようにな
っている。したがって、ワーク上での単位面積当たりの
液晶マスクの画素数が大きいほど高分解能の、いわゆる
滑らかな文字や絵柄を刻印できることになる。
【０００３】以下、図１４〜図１７に基づいて、従来の
液晶式レーザマーカの刻印方法を説明する。図１４は、
液晶式レーザマーカの一例を表した構成概略図である。
レーザ発振器２１は例えばＹＡＧレーザ発振器等で構成
されており、Ｑスイッチによってパルス発振が可能にな
っている。第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙはレーザ発振器２
１から出射されたレーザ光を液晶マスク２に導き、液晶
マスク２上の所定のＸＹ方向にこのレーザ光を偏向して
ラスタ走査させるものである。第１偏向器２３Ｘ、２３
Ｙは離間して設けられたＸ方向偏向器のポリゴンミラー
２３Ｘと、Ｙ方向偏向器のガルバノメータスキャナ２３
Ｙとからなっていて、ポリゴンミラー２３Ｘの回転によ
るＸ軸とガルバノメータスキャナ２３Ｙの回動によるＹ
軸とは直交している。本例のポリゴンミラー２３Ｘは数
段階の定速回転モードで回転可能にしてあり、刻印され
るワーク毎に適したモードが選択される。そして、ポリ
ゴンミラー２３Ｘの各面は液晶マスク２上でのＸ方向の
１行に相当するようになっている。また、ガルバノメー
タスキャナ２３Ｙは、所定段数の微小等偏向角で作動す
るようになっており、ガルバノメータスキャナ２３Ｙか
らのレーザ受光点がポリゴンミラー２３Ｘの回転によっ
て一面から次の面へ変わる間に、上記の一微小偏向角だ
け回動した後停止するようになっている。このガルバノ
メータスキャナ２３Ｙの一微小偏向角は、液晶マスク２
でのＹ方向への改行に相当している。
【０００４】液晶マスク２は、いわゆる透過分散形液晶
マスクと呼ばれるものであり、本例では例えば図１５で
示すように縦横に所定数の液晶がドットマトリックス状
に配置された液晶装置で構成されている。図１５は液晶
マスク２の概要図を表しており、液晶マスク２を構成す
る各液晶の寸法は同じになっている。各液晶の表裏に
は、平行に、かつ表裏間で互いに交差するように設けら
れた図示していない電極線が配設されており、この電極
線によって所定電圧を印加された液晶はレーザ光透過状
態となり、上記電圧の無印加部の液晶はレーザ光散乱状
態となる。したがって、ドットマトリックス状の各液晶
を一つの画素３とし、デザインの刻印部を”１”、無刻
印部を”０”として変換したドット情報をこの液晶マス
ク２上に表示することにより、上記刻印部に相当する画
素は所定電圧が印加されてレーザ光を透過させ、この透
過光によってワーク３０が刻印される。このように、液
晶マスク２は、外部からの信号によって光を各液晶を透
過又は遮断させるような一種の光シャッターとして機能
する液晶装置である。
【０００５】第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙは、上記液晶マ
スク２から透過したレーザ光をワーク３０の刻印面に導
き、ワーク３０上の所定のＸＹ方向にレーザ光を偏向す
るものである。第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙは離間して設
けられたＸ方向偏向器のガルバノメータスキャナ２７Ｘ
と、Ｙ方向偏向器のレンズ系２７Ｙとからなっていて、
ガルバノメータスキャナ２７Ｘの回動によるＸ軸とレン
ズ系２７Ｙの平行移動によるＹ軸とは直交している。上
記液晶マスク２の透過レーザ光は、Ｘ方向偏向用のガル
バノメータスキャナ２７Ｘと、対物レンズ２８と、Ｙ方
向偏向用のレンズ２７Ｙとを経てワーク３０に至り、液
晶マスク２上に表示されたデザインをワーク３０に刻印
する。Ｙ方向偏向用のレンズ２７Ｙは、ワーク３０の刻
印面に沿ってこのレンズ２７Ｙを平行移動させるテーブ
ル３６の孔内に固設されている。そして、例えばＡＣモ
ータ等の電動モータで構成される駆動部３５の出力軸が
リンク機構を介してテーブル３６に連結されていて、こ
の駆動部３５によってテーブル３６を平行移動させてい
る。第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙは、液晶マスク２に表示
された絵柄等の一回のラスタ走査が完了するまで、液晶
マスク２の透過レーザ光がこの絵柄の刻印領域に向かう
ように停止している。
【０００６】また、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙ及び第２
偏向器２７Ｘ、２７Ｙのレーザ光の入射路内には、それ
ぞれの集光光学系が配設されている。この集光光学系
は、各偏向器への入射光が大径ビームであったり、偏向
角を有するとき、これを集光させて刻印の変形、ばらつ
き、レーザ損失等を軽減させる。第１偏向器２３Ｘ、２
３Ｙの集光光学系は、レーザ発振器２１とガルバノメー
タスキャナ２３Ｙとの間のリレーレンズ（いわゆる、ビ
ームスプリッタ）２２と、ガルバノメータスキャナ２３
Ｙとポリゴンミラー２３Ｘとの間のリレーレンズ２４と
から構成されている。リレーレンズ２２はレーザ発振器
２１からのレーザ光をガルバノメータスキャナ２３Ｙの
反射面上に集光し、リレーレンズ２４はガルバノメータ
スキャナ２３Ｙからの偏向光をポリゴンミラー２３Ｘの
各面の一点に集光している。これらによって、ポリゴン
ミラー２３Ｘから液晶マスク２へのラスタ走査用のレー
ザ光が均一化されている。さらに、第２偏向器２７Ｘ、
２７Ｙの集光光学系は、ポリゴンミラー２３Ｘとガルバ
ノメータスキャナ２７Ｘとの間で、液晶マスク２に近接
配置したリレーレンズ（いわゆる、フィールドレンズ）
２５で構成されている。このリレーレンズ２５は、ポリ
ゴンミラー２３Ｘからのラスタ走査光を一旦平行光に直
し、次にガルバノメータスキャナ２７Ｘに屈折させる。
なお、リレーレンズ２５は、図１４のように液晶マスク
２の入射側に配置する他に、出射側に配置してもよく、
あるいは、両側に配置してもよい。
【０００７】制御器１１は、例えばマイクロコンピュー
タ等を主体にしたコンピュータシステムで構成されてい
る。制御器１１は液晶マスク２、ポリゴンミラー２３Ｘ
の駆動部３２、レーザ発振器２１のＱスイッチ、ガルバ
ノメータスキャナ２３Ｙの駆動部３１、ガルバノメータ
スキャナ２７Ｘの駆動部３４、レンズ２７Ｙの駆動部３
５等と接続されていて、これらを制御している。
【０００８】次に、以上の構成による作用を説明する。
図１６は、刻印すべきデザインの一例を表している。同
図におけるデザインが液晶マスク２の画素数に比べて大
きなものであった場合、このデザインを一回のレーザ光
照射により刻印すると、刻印されたデザインの文字や線
等の分解能が荒くなって文字や線が滑らかにならないこ
とが生じる。このようなときは、同じ液晶マスクを使用
して一回のレーザ光照射により刻印されるデザインの領
域（以後、ブロックと呼ぶ）をなるべく縮小しなければ
ならない。図１６に示した例では、全体のデザインを縦
横２分割して縮小した絵柄をブロック１にしている。そ
して、分割した各ブロック１に相当する絵柄を順次液晶
マスク２に表示し、この絵柄に相当するワーク３０の刻
印位置に順次刻印する。全ての分割されたブロック１が
刻印されたときに、各ブロック１が合成されて全体のデ
ザインの刻印が完了する。
【０００９】まず、Ｑスイッチでレーザ発振器２１の発
振強度を落とした状態にし、分割されたブロック１の内
で一つのブロック１を選択し、このブロック１の絵柄
を”０”又は”１”のドット情報として液晶マスク２上
に表示させる。次に、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙをラス
タ開始位置に駆動させて停止させると共に、上記選択さ
れたブロック１の刻印位置に相当する刻印領域に第２偏
向器２７Ｘ、２７Ｙを駆動させて停止させる。そして、
次に、Ｑスイッチでレーザ発振器２１をパルス発振させ
ると共に、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙによって液晶マス
ク２上の絵柄をラスタ走査させる。以上によって、ワー
ク３０上に一つの選択されたブロック１を刻印する。以
上の工程を、全ての分割されたブロック１に対して順次
実行し、全体のデザインの刻印が完了するまで行なう。
【００１０】従来は、このようにして、液晶マスク２に
各ブロック１の絵柄を表示して刻印している。このと
き、図１６のように一つの文字や絵柄が異なるブロック
１に分割される場合があり、同一の文字や絵柄を何回か
に分割して刻印しなければならない。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ように同一の文字や絵柄を分割して刻印する場合には、
各ブロック１の合わせ目を正確に一致させる必要がある
が、第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙのがたつき、光学系素子
の位置変動、外部ノイズによる制御信号の変動等によっ
て、この合わせ目に隙間ができるときがある。図１７
は、例えば図１６において文字「Ｉ」が２分割されてい
る例を示している。図１７（ａ）は、ブロック１の合わ
せ目が一致した状態で刻印され、よって分割された文字
「Ｉ」が正常に刻印されている様子を表している。ま
た、図１７（ｂ）は、ブロック１の合わせ目がずれた状
態で刻印された様子を表している。図１７（ｂ）に示す
ようにブロック１の合わせ目に隙間ができると、この隙
間にレーザ光の未照射部が発生し、文字や絵柄が切れて
しまうことになる。この結果、刻印されたデザインの視
認性が良くないという問題が生じている。
【００１２】本発明は、上記の問題点に着目してなされ
たものであり、一つのデザインを複数のブロックに分割
して刻印する際に、各ブロックの合わせ目に隙間が発生
しないようにした液晶マスク、液晶式レーザマーカ及び
刻印方法を提供することを目的としている。
【００１３】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】上記の目
的を達成するために、請求項１に記載の発明は、複数の
画素からなり、外部からの信号によって複数の画素で光
を透過又は遮断させる液晶装置において、最外周の全て
又は一部の辺の画素は、寸法が内部の画素と異なる構成
としている。また、請求項２に記載の発明は、複数の画
素からなり、これらの画素にワークに刻印するデザイン
を表示し、かつレーザ光を入射することにより、このレ
ーザ光をデザインを表示した各画素を透過させてワーク
に刻印する液晶マスクにおいて、請求項１に記載の液晶
装置を使用したことを特徴としている。また、請求項５
に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マスクにワー
クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
ークに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、
最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の画素と
異なる液晶マスクを備えたことを特徴としている。そし
て、請求項１１に記載の発明は、複数の画素からなる液
晶マスクにワークに刻印するデザインを表示し、この液
晶マスクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこ
のレーザ光をワークに照射して刻印する刻印方法におい
て、上記液晶マスクの最外周の全て又は一部の画素の寸
法を内部の画素と異なる寸法とし、最外周の光学系の歪
みを防止して刻印する方法としている。
【００１４】請求項１、２、５、１１に記載の発明によ
ると、最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の
画素と異なる液晶装置を液晶マスクとして使用する。一
つのデザインを複数のブロックに分割し、各ブロックを
この液晶マスクで刻印するときに、上記寸法が異なる画
素部に対応する部分で各ブロックの刻印位置が重複する
ようにする。このとき、前記第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙ
のがたつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる
制御信号の変動等を考慮して上記画素の寸法の大きさを
設定すると、ブロックの合わせ目に隙間ができずに未刻
印部分を無くすことが可能となる。これによって、デザ
インを分割して刻印しても視認性が良好な刻印となる。
また、この液晶マスクにより、刻印時に最外周に出易い
レンズ等の光学系の歪みにも対応が可能となる。
【００１５】請求項６に記載の発明は、請求項５に記載
の液晶式レーザマーカにおいて、一つのデザインを複数
のブロック１に分割し、この内の一つのブロック１を表
示した前記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック
１に隣接するブロック１を表示した前記液晶マスクによ
る刻印位置と、前記液晶マスクの内部の画素と寸法が異
なる最外周の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重
複するように、上記刻印位置を制御する制御器１１を備
えた構成としている。また、請求項１２に記載の発明
は、請求項１１に記載の刻印方法において、一つのデザ
インを複数のブロック１に分割し、この内の一つのブロ
ック１を表示した前記液晶マスクによる刻印位置を、こ
のブロック１に隣接するブロック１を表示した前記液晶
マスクによる刻印位置と、前記液晶マスクの内部の画素
と寸法が異なる最外周の前記画素に対応する部分の所定
長さだけ重複させて刻印する方法としている。
【００１６】請求項６、１２に記載の発明によると、制
御器によって、一つのデザインを複数のブロック１に分
割し、各ブロック１を表示した液晶マスクによる刻印位
置が、隣接するブロック１の刻印位置と、寸法が異なる
最外周の画素に対応する部分の所定長さだけ重複するよ
うに、上記刻印位置を制御する。このとき、液晶マスク
やレーザ光の位置決め精度のばらつきを考慮して上記重
複する画素の所定の重複量を設定すると、ブロックの合
わせ目に隙間ができずに未刻印部分を無くすことが可能
となる。これによって、デザインを分割して刻印しても
視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブロックに
分割して刻印することが可能となる。したがって、高分
解能（刻印の滑らかさ）への対応が容易となり、また、
液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置の小型化や
コスト低減が可能となる。
【００１７】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
の液晶マスクにおいて、最外周の上下方向又は左右方向
に対向する辺の画素は、少なくとも上下方向又は左右方
向のいずれかの寸法が内部の画素と異なることを特徴と
している。また、請求項７に記載の発明は、請求項６に
記載の液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスク
が、最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素
の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が
内部の画素と異なる液晶マスクであって、かつ、前記制
御器１１は、一つのデザインを複数のブロック１に分割
し、この内の一つのブロック１を表示した上記液晶マス
クによる刻印位置が、このブロック１に隣接するブロッ
ク１を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記
液晶マスクの内部の画素と寸法が異なる上記対向する辺
の画素に対応する部分の所定長さだけ重複するように、
上記刻印位置を制御することを特徴としている。また、
請求項１３に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マ
スクにワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マ
スクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレ
ーザ光をワークに照射して刻印する刻印方法において、
上記液晶マスクの最外周の上下方向又は左右方向に対向
する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つ
のデザインを複数のブロック１に分割し、この内の一つ
のブロック１を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
を、このブロック１に隣接するブロック１を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる最外周の上下方向又は左右方向に
対向する辺の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重
複させて刻印する方法としている。
【００１８】請求項３、７、１３に記載の発明による
と、最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素
の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が
内部の画素と異なる液晶マスクを使用し、制御器によっ
て、各ブロック１を表示した前記液晶マスクによる刻印
位置が、隣接するブロック１の刻印位置と、前記内部の
画素と寸法が異なる画素に対応する部分の所定長さだけ
重複するように、上記刻印位置を制御する。これによ
り、デザインを分割して刻印しても視認性が良好な刻印
ができ、積極的に多数のブロックに分割して刻印するこ
とが可能となる。また、一方向に長いデザインを長手方
向に分割して刻印した場合に、刻印された全体のデザイ
ンのサイズが元のデザインのサイズより変化することな
く、寸法精度の良い刻印が可能となる。
【００１９】請求項４に記載の発明は、請求項２に記載
の液晶マスクにおいて、最外周の上下方向に対向する辺
のいずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか
一方の画素は、少なくとも上下方向又は左右方向のいず
れかの寸法が内部の画素と異なることを特徴としてい
る。また、請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の
液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスクが、最外
周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又は左右方
向に対向する辺のいずれか一方の画素の少なくとも上下
方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画素と異な
る液晶マスクであって、かつ、前記制御器１１は、一つ
のデザインを複数のブロック１に分割し、この内の一つ
のブロック１を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
が、このブロック１に隣接するブロック１を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
の画素と寸法が異なる上記対向する辺のいずれか一方の
画素に対応する部分の所定長さだけ重複するように、上
記刻印位置を制御することを特徴としている。また、請
求項１４に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マス
クにワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マス
クにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレー
ザ光をワークに照射して刻印する刻印方法において、上
記液晶マスクの最外周の上下方向に対向する辺のいずれ
か一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の画
素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法
を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つのデザイン
を複数のブロック１に分割し、この内の一つのブロック
１を表示した上記液晶マスクによる刻印位置を、このブ
ロック１に隣接するブロック１を表示した上記液晶マス
クによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸
法が異なる最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一
方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の前記画
素に対応する部分の所定長さだけ重複させて刻印する方
法としている。
【００２０】請求項４、８、１４に記載の発明による
と、最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又
は左右方向に対向する辺のいずれか一方の画素の少なく
とも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画
素と異なる液晶マスクを使用し、制御器によって、各ブ
ロック１を表示した前記液晶マスクによる刻印位置が、
隣接するブロック１の刻印位置と、前記内部の画素と寸
法が異なる画素に対応する部分の所定長さだけ重複する
ように、上記刻印位置を制御する。これにより、デザイ
ンを分割して刻印しても視認性が良好な刻印ができ、積
極的に多数のブロックに分割して刻印することが可能と
なる。また、一方向に長いデザインを長手方向に分割し
て刻印した場合に、刻印された全体のデザインのサイズ
が元のデザインのサイズより変化することなく、寸法精
度の良い刻印が可能となる。
【００２１】請求項９に記載の発明は、複数の画素から
なる液晶マスクにワークに刻印するデザインを表示し、
この液晶マスクにレーザ光を入射し、液晶マスクを透過
したこのレーザ光をワークに照射して刻印する液晶式レ
ーザマーカにおいて、一つのデザインを複数のブロック
１に分割し、この内の一つのブロック１を表示した上記
液晶マスクによる刻印位置が、このブロック１に隣接す
るブロック１を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
と、この液晶マスクの最外周の画素の一部に対応する部
分の所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御
する制御器１１を備えた構成としている。また、請求項
１５に記載の発明は、複数の画素からなる液晶マスクに
ワークに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクに
レーザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光
をワークに照射して刻印する刻印方法において、一つの
デザインを複数のブロック１に分割し、この内の一つの
ブロック１を表示した上記液晶マスクによる刻印位置
を、このブロック１に隣接するブロック１を表示した上
記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの最外
周の画素の一部に対応する部分の所定長さだけ重複させ
て刻印する方法としている。
【００２２】請求項９、１５に記載の発明によると、制
御器によって、各ブロック１を表示した前記液晶マスク
による刻印位置が、隣接するブロック１の刻印位置と、
前記対向する辺のいずれか一方の画素に対応する部分の
所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御す
る。これにより、液晶マスクの各画素の寸法が全て同じ
である場合でも、前記第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙのがた
つき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる制御信
号の変動等を考慮して上記の重複量を設定すると、ブロ
ックの合わせ目に隙間ができずに未刻印部分を無くすこ
とが可能となる。これによって、デザインを分割して刻
印しても視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブ
ロックに分割して刻印することが可能となる。したがっ
て、高分解能（刻印の滑らかさ）への対応が容易とな
り、また、液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置
の小型化やコスト低減が可能となる。
【００２３】請求項１０に記載の発明は、請求項９に記
載の液晶式レーザマーカにおいて、前記液晶マスクによ
る刻印位置を重複させる所定長さは、最外周の画素のド
ット単位であることを特徴としている。また、請求項１
６に記載の発明は、請求項１５に記載の刻印方法におい
て、前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長
さは、最外周の画素のドット単位であることを特徴とす
る。
【００２４】請求項１０、１６に記載の発明によると、
液晶マスクの最外周の画素の一部をドット単位で重ねて
刻印する。これにより、デザインを分割して刻印しても
視認性が良好な刻印ができ、積極的に多数のブロックに
分割して刻印することが可能となる。したがって、高分
解能（刻印の滑らかさ）への対応が容易となり、また、
液晶マスクの小型化によるレーザマーカ装置の小型化や
コスト低減が可能となる。
【００２５】
【発明の実施の形態】まず、図１〜図１１に基づいて第
一の実施形態を説明する。本実施形態は、液晶マスクの
最外周の全て又は一部の画素の寸法を他の画素より大き
くした液晶マスクを使用した例を示している。ここで、
本実施形態の構成は、例えば図１４で示された構成と同
じでよい。
【００２６】図１〜図３は、本実施形態で使用される液
晶マスクの例を表している。ここでも従来と同様に、各
液晶マスクは、外部からの信号によって光を各液晶を透
過又は遮断させるような一種の光シャッターとして機能
する液晶装置で構成されている。図１は、液晶マスクの
最外周の四辺の内で一辺のみに、寸法が他の画素と異な
る画素を有する液晶マスク２ａの例を表している。図２
は、液晶マスクの最外周の四辺の内で二組の対向する辺
のいずれか一方のみに、寸法が他の画素と異なる画素を
有する液晶マスク２ｂの例を表している。また、図３
は、液晶マスクの最外周の四辺の全てに、寸法が他の画
素と異なる画素を有する液晶マスク２ｃの例を表してい
る。これらの図では、最外周の画素の寸法が他の画素よ
り大きい場合を示している。ここで、各液晶マスク２
ａ、２ｂ、２ｃの縦横の長さをそれぞれＡ、Ｂとする。
上記の寸法が大きい画素の縦方向の長さＥ1 は他の画素
の縦方向の長さＥより所定長さＬ1 だけ長く、また、大
きい画素の横方向の長さＦ1 は他の画素の横方向の長さ
Ｆより所定長さＬ2 だけ長い構成となっている。また、
長さＬ1 及び長さＬ2 は、（したがって、上記の縦方向
の長さＥ1 及び横方向の長さＦ1 は、）前述したような
第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙのがたつき、光学系素子の位
置変動、外部ノイズによる制御信号の変動等による前記
合わせ目の隙間の最大値を考慮し、隙間ができないよう
な所定長さにしている。
【００２７】一方、刻印されるデザインは、複数のブロ
ック１に互いに重複部が無いように分割される。図４
は、一つのデザインを長手方向に複数のブロック１に分
割した例を表している。また、図５は一つのデザインを
縦横に複数のブロック１で分割した例を表している。各
ブロック１は、使用する液晶マスク２の分解能（画素数
に相当する）によって文字や絵柄等が滑らかに刻印され
るような大きさに設定される。このとき、隣接するブロ
ック１の合わせ目は重複しないように分割される。
【００２８】次に、このような構成による作用を説明す
る。図６は、図４に示すようにデザインを長手方向に分
割した場合において、例えば図１に示すような上下又は
左右方向のいずれか一方で対向する辺のいずれか一方の
みの画素を大きくした液晶マスク２ａを使用して刻印す
るときの刻印位置を表している。制御器１１は、上記長
手方向に分割された各ブロック１を液晶マスク２ａ上に
表示し、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙのそれぞれの駆動部
３２、３１に指令を出力してレーザ光を液晶マスク２ａ
上をラスタ走査させる。そして、第２偏向器２７Ｘ、２
７Ｙは、刻印位置が上記表示されたブロック１に相当す
る刻印領域を向くように、制御器１１によって位置決め
制御される。このとき、刻印位置は、隣接するブロック
１同士が液晶マスク２ａの前記所定長さＬ1 に対応する
部分だけ縦方向に重複するように位置決め制御される。
【００２９】また、図７は、図５に示すようにデザイン
を縦横に分割した場合において、例えば図２に示すよう
な上下及び左右方向共に対向する辺のいずれか一方のみ
の画素を大きくした液晶マスク２ｂを使用して刻印する
ときの刻印位置を表している。制御器１１は、上記縦横
に分割された各ブロック１を液晶マスク２ｂ上に表示
し、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙのそれぞれの駆動部３
２、３１に指令を出力してレーザ光を液晶マスク２ｂ上
をラスタ走査させる。そして、第２偏向器２７Ｘ、２７
Ｙは、刻印位置が上記表示されたブロック１に相当する
刻印領域を向くように、制御器１１によって位置決め制
御される。このとき、刻印位置は、隣接するブロック１
同士が液晶マスク２ｂの前記所定長さＬ1 に対応する部
分だけ縦方向に重複するように、そして液晶マスク２ｂ
の前記所定長さＬ2 に対応する部分だけ横方向に重複す
るように、位置決め制御される。
【００３０】上述の隣接するブロック１同士の重複部に
ついて、図８に基づいて詳細に説明する。図８は、液晶
マスク２ａ、２ｂを使用する場合の各液晶マスクによる
刻印位置の重複部を表している。縦方向に重ねる場合に
おいて、例えば液晶マスク２ａでは、一つのブロック１
を表示した液晶マスクの最下部画素の長さＥ1 の内で下
端側の所定長さＬ1 に対応する部分が、隣接するブロッ
ク１を表示した液晶マスクの最上部画素の長さＥの一部
と重なるように、刻印位置が制御される。同様にして、
横方向に重ねる場合においても、例えば液晶マスク２ｂ
では、一つのブロック１を表示した液晶マスクの最右部
画素の長さＦ1 の内で右端側の所定長さＬ2 に対応する
部分が、隣接するブロック１を表示した液晶マスクの最
左部画素の長さＦの一部と重なるように、刻印位置が制
御される。
【００３１】一方、例えば図３で示すような対向する辺
の画素の寸法が他の画素より大きい液晶マスク２ｃを使
用した場合には、図９又は図１０のように刻印位置が位
置決めされる。図９は図４に示すようにデザインを長手
方向に分割した場合における刻印位置を表し、また図１
０は図５に示すようにデザインを縦横に分割した場合に
おける刻印位置を表している。なお、長手方向に分割し
ている場合には、上下方向又は左右方向のいずれか一方
の対向する辺の画素が大きいような液晶マスクでもよ
い。制御器１１は、上記長手方向にあるいは縦横に分割
された各ブロック１を液晶マスク２ｃ上に表示し、第１
偏向器２３Ｘ、２３Ｙによりレーザ光を液晶マスク２ｃ
上をラスタ走査させる。そして、第２偏向器２７Ｘ、２
７Ｙは、刻印位置が上記表示されたブロック１に相当す
る刻印領域を向くように位置決め制御される。このと
き、刻印位置は、隣接するブロック１同士が液晶マスク
２ｃの前記所定長さＬ1 の２倍の長さ（２・Ｌ1 ）に対
応する部分だけ縦方向に重複するように、そして液晶マ
スク２ｃの前記所定長さＬ2 の２倍の長さ（２・Ｌ2 ）
に対応する部分だけ横方向に重複するように、位置決め
制御される。
【００３２】このときの隣接するブロック１同士の重複
部について、図１１に基づいて詳細に説明する。図１１
は、液晶マスク２ｃによる刻印位置の重複部を表してい
る。縦方向に重ねる場合において、一つのブロック１を
表示した液晶マスクの最下部画素の長さＥ1 の内で下端
側の所定長さ（２・Ｌ1 ）に対応する部分が、隣接する
ブロック１を表示した液晶マスクの最上部画素の長さＥ
1 の内で上端側の所定長さ（２・Ｌ1 ）の部分と重なる
ように、刻印位置が制御される。また、同様にして、横
方向に重ねる場合においても、一つのブロック１を表示
した液晶マスクの最右部画素の長さＦ1 の内で右端側の
所定長さ（２・Ｌ2 ）に対応する部分が、隣接するブロ
ック１を表示した液晶マスクの最左部画素の左端側の所
定長さ（２・Ｌ2 ）重なるように、刻印位置が制御され
る。
【００３３】なお、これまでの説明では、最外周の画素
の内で、寸法が他と異なる画素の縦方向の長さＥ1 は他
の画素の縦方向の長さＥより所定長さＬ1 だけ長くして
いるが、これに限定されずに長さＥより短く、例えば所
定長さＬ1 （ただし、Ｌ1 ＜Ｅ）にしてもよい。あるい
は、対向する辺の一方の画素は長さＥ1 （長さＥより所
定長さＬ1 だけ長い）とし、他方の画素は長さＬ1 （た
だし、Ｌ1 ＜Ｅ）としてもよい。このときも、隣接する
ブロック１同士の重複は、図８及び図１１と同様にして
行われる。すなわち、対向する辺のいずれか一方の画素
の寸法が他と異なる（長さＥ1 又は長さＬ1 ）場合は、
一つのブロック１を表示した液晶マスクのこの対向する
辺の画素の所定長さＬ1 に対応する部分を、隣接するブ
ロック１と重複させる。同じく、対向する辺の画素の寸
法が他と異なる場合は、一つのブロック１を表示した液
晶マスクのこの対向する辺の画素の所定長さ（２・Ｌ1
）に対応する部分を、隣接するブロック１と重複させ
る。また、同様に、寸法が他と異なる画素の横方向の長
さＦ1 は他の画素の横方向の長さＦより所定長さＬ2 だ
け長くしているが、これに限定されずに長さＦより短
く、例えば所定長さＬ2 （ただし、Ｌ2 ＜Ｆ）にしても
よい。あるいは、対向する辺の一方の画素は長さＦ1
（長さＦより所定長さＬ2 だけ長い）とし、他方の画素
は長さＬ2 （ただし、Ｌ2 ＜Ｆ）としてもよい。このと
きも、隣接するブロック１同士の重複部は、図８及び図
１１と同様とする。
【００３４】このような構成にしたので、第２偏向器２
７Ｘ、２７Ｙのがたつき、光学系素子の位置変動、外部
ノイズによる制御信号の変動等があっても、各ブロック
１の合わせ目が確実に重ねられて隙間が無くなる。この
結果、刻印される絵柄内にこの隙間によるレーザ光の未
照射部が無くなり、全体のデザインの視認性が良好とな
る。また、一つのデザインを長手方向に複数のブロック
１に分割して刻印しても、刻印された絵柄の長手方向長
さは当初のデザインの長手方向長さと同一にすることが
できる。よって、このようなレーザマーカでの刻印にお
いて歩留りが良くなり、生産性が向上する。
【００３５】また、各ブロック１は重複部が無いように
分割されていても、予め刻印領域の重複部が見込まれて
いるので、この重複部の長さの許容範囲内において各ブ
ロックの刻印位置の制御精度を上げる必要がなくなる。
さらに、各ブロックの合わせ目の隙間が生じなくなった
ので、積極的に多数のブロックに分割して刻印すること
が可能となる。したがって、高分解能（刻印の滑らか
さ）が要求されるときは、要求される分解能を満足する
ように各ブロックを小さくすることが可能となり、高分
解能への対応が容易となった。また、使用する液晶マス
クの画素数を少なくして液晶マスクを小型化できるの
で、本レーザマーカ装置の小型化やコスト低減が可能と
なる。
【００３６】次に、第二の実施形態について説明する。
本実施形態では、液晶マスクとして、図１５で示したよ
うな各画素３の寸法が同一の液晶マスク２を使用してい
る。また、本実施形態の構成は、例えば図１４の構成と
同じとする。図１２及び図１３は、本実施形態において
一つのデザインをそれぞれ長手方向に及び縦横に複数の
ブロック１に分割した例を表している。同図に示すよう
に、隣接する各ブロック１の縦方向及び横方向の合わせ
目には、それぞれ所定長さＬ3 、Ｌ4 の重複部を設けて
いる。この所定長さＬ3 、Ｌ4 は、第２偏向器２７Ｘ、
２７Ｙのがたつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズ
による制御信号の変動等による前記合わせ目の隙間の最
大値を考慮し、隙間ができないように設定される。ま
た、各ブロック１は、使用する液晶マスク２の分解能
（画素数に相当する）によって文字や絵柄等が滑らかに
刻印されるような大きさに設定される。
【００３７】次に、このような構成による作用を説明す
る。図１２に示すようにデザインを長手方向に分割した
場合には、刻印位置は以下のように制御される。制御器
１１は、長手方向に分割された各ブロック１を液晶マス
ク２上に表示し、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙによってレ
ーザ光を液晶マスク２上をラスタ走査させる。そして、
第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙは、刻印位置が上記表示され
たブロック１に相当する刻印領域を向くように、制御器
１１によって位置決め制御される。このとき、刻印位置
は、隣接するブロック１同士が前記所定長さＬ3 だけ縦
方向に重複するように位置決め制御される。また、図１
３に示すようにデザインを縦横に分割した場合には、制
御器１１は、この分割された各ブロック１を液晶マスク
２上に表示し、第１偏向器２３Ｘ、２３Ｙによってレー
ザ光を液晶マスク２上をラスタ走査させる。そして、第
２偏向器２７Ｘ、２７Ｙは、刻印位置が上記表示された
ブロック１に相当する刻印領域を向くように、制御器１
１によって位置決め制御される。このとき、刻印位置
は、隣接するブロック１同士が所定長さＬ3 だけ縦方向
に重複するように、そして前記所定長さＬ4 だけ横方向
に重複するように、位置決め制御される。
【００３８】なお、上述した各ブロック１の重複部の長
さＬ3 及びＬ4 は、例えば液晶マスク２の画素単位（ド
ット単位）の大きさに設定してもよいし、あるいは、１
画素の大きさよりも小さい長さに設定してもよい。この
ような構成にしたので、第２偏向器２７Ｘ、２７Ｙのが
たつき、光学系素子の位置変動、外部ノイズによる制御
信号の変動等があっても、各ブロック１の合わせ目が確
実に重ねられて隙間が無くなる。この結果、刻印される
絵柄内にこの隙間によるレーザ光の未照射部が無くな
り、全体のデザインの視認性が良好となる。また、一つ
のデザインを長手方向に複数のブロック１に分割して刻
印しても、刻印された絵柄の長手方向長さは当初のデザ
インの長手方向長さと同一にすることができる。よっ
て、このようなレーザマーカでの刻印において歩留りが
良くなり、生産性が向上する。
【００３９】また、予め各ブロックの重複部が見込まれ
ているので、この重複部の長さの許容範囲内において各
ブロックの刻印位置の制御精度を上げる必要がなくな
る。さらに、各ブロックの合わせ目の隙間が生じなくな
ったので、積極的に多数のブロックに分割して刻印する
ことが可能となる。したがって、高分解能（刻印の滑ら
かさ）が要求されるときは、要求される分解能を満足す
るように各ブロックを小さくすることが可能となり、高
分解能への対応が容易となった。また、使用する液晶マ
スクの画素数を少なくして液晶マスクを小型化できるの
で、本レーザマーカ装置の小型化やコスト低減が可能と
なる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクの一
例を表す。
【図２】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクの他
の例を表す。
【図３】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクの他
の例を表す。
【図４】本発明に係わる第一実施形態のブロック分割方
法の一例を表す。
【図５】本発明に係わる第一実施形態のブロック分割方
法の他の例を表す。
【図６】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の一例
を表す。
【図７】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の他の
例を表す。
【図８】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクによ
る刻印重複部例を表す。
【図９】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の他の
例を表す。
【図１０】本発明に係わる第一実施形態の刻印位置の他
の例を表す。
【図１１】本発明に係わる第一実施形態の液晶マスクに
よる刻印重複部の他例を表す。
【図１２】本発明に係わる第二実施形態のブロック分割
方法及び刻印位置の例を表す。
【図１３】本発明に係わる第二実施形態のブロック分割
方法及び刻印位置の他の例を表す。
【図１４】レーザマーカの一例を表す構成図である。
【図１５】液晶マスクの一例を表す概略図である。
【図１６】従来技術に係わるブロックの分割例を表す。
【図１７】従来技術におけるブロック合わせ目の隙間の
説明図である。
【符号の説明】
１…ブロック、２，２ａ，２ｂ，２ｃ…液晶マスク、３
…画素、１１…制御器、２１…レーザ発振器、２２，２
４，２５…リレーレンズ、２３Ｘ，２３Ｙ…第１偏向
器、２７Ｘ，２７Ｙ…第２偏向器、２８…対物レンズ、
３０…ワーク、３１，３２，３４，３５…駆動部、３６
…テーブル、Ｅ…液晶マスクの通常画素の縦方向長さ、
Ｅ1 …液晶マスクの大きい画素の縦方向長さ、Ｆ…液晶
マスクの通常画素の横方向長さ、Ｆ1 …液晶マスクの大
きい画素の横方向長さ、Ｌ1 …Ｅ1とＥの差、Ｌ2 …Ｆ1
とＦの差、Ｌ3 …隣接するブロックの縦方向重複部の
長さ、Ｌ4 …隣接するブロックの横方向重複部の長さ。

Claims (16)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 複数の画素からなり、外部からの信号に
    よって複数の画素で光を透過又は遮断させる液晶装置に
    おいて、 最外周の全て又は一部の辺の画素は、寸法が内部の画素
    と異なることを特徴とする液晶装置。
  2. 【請求項２】 複数の画素からなり、これらの画素にワ
    ークに刻印するデザインを表示し、かつレーザ光を入射
    することにより、このレーザ光をデザインを表示した各
    画素を透過させてワークに刻印する液晶マスクにおい
    て、 請求項１に記載の液晶装置を使用したことを特徴とする
    液晶マスク。
  3. 【請求項３】 請求項２に記載の液晶マスクにおいて、 最外周の上下方向又は左右方向に対向する辺の画素は、
    少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内
    部の画素と異なることを特徴とする液晶マスク。
  4. 【請求項４】 請求項２に記載の液晶マスクにおいて、 最外周の上下方向に対向する辺のいずれか一方、又は左
    右方向に対向する辺のいずれか一方の画素は、少なくと
    も上下方向又は左右方向のいずれかの寸法が内部の画素
    と異なることを特徴とする液晶マスク。
  5. 【請求項５】 複数の画素からなる液晶マスクにワーク
    に刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレーザ
    光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワー
    クに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、 最外周の全て又は一部の辺の画素の寸法が内部の画素と
    異なる液晶マスクを備えたことを特徴とする液晶式レー
    ザマーカ。
  6. 【請求項６】 請求項５に記載の液晶式レーザマーカに
    おいて、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
    の一つのブロック(1)を表示した前記液晶マスクによる
    刻印位置が、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
    を表示した前記液晶マスクによる刻印位置と、前記液晶
    マスクの内部の画素と寸法が異なる最外周の前記画素に
    対応する部分の所定長さだけ重複するように、上記刻印
    位置を制御する制御器１１を備えたことを特徴とする液
    晶式レーザマーカ。
  7. 【請求項７】 請求項６に記載の液晶式レーザマーカに
    おいて、 前記液晶マスクが、最外周の上下方向又は左右方向に対
    向する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のい
    ずれかの寸法が内部の画素と異なる液晶マスクであっ
    て、かつ、 前記制御器１１は、一つのデザインを複数のブロック
    (1) に分割し、この内の一つのブロック(1) を表示した
    上記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック(1) に
    隣接するブロック(1) を表示した上記液晶マスクによる
    刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸法が異な
    る上記対向する辺の画素に対応する部分の所定長さだけ
    重複するように、上記刻印位置を制御することを特徴と
    する液晶式レーザマーカ。
  8. 【請求項８】 請求項６に記載の液晶式レーザマーカに
    おいて、 前記液晶マスクが、最外周の上下方向に対向する辺のい
    ずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方
    の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの
    寸法が内部の画素と異なる液晶マスクであって、かつ、 前記制御器１１は、一つのデザインを複数のブロック
    (1) に分割し、この内の一つのブロック(1) を表示した
    上記液晶マスクによる刻印位置が、このブロック(1) に
    隣接するブロック(1) を表示した上記液晶マスクによる
    刻印位置と、上記液晶マスクの内部の画素と寸法が異な
    る上記対向する辺のいずれか一方の画素に対応する部分
    の所定長さだけ重複するように、上記刻印位置を制御す
    る備えたことを特徴とする液晶式レーザマーカ。
  9. 【請求項９】 複数の画素からなる液晶マスクにワーク
    に刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレーザ
    光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワー
    クに照射して刻印する液晶式レーザマーカにおいて、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
    の一つのブロック(1)を表示した上記液晶マスクによる
    刻印位置が、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
    を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、この液晶
    マスクの最外周の画素の一部に対応する部分の所定長さ
    だけ重複するように、上記刻印位置を制御する制御器１
    １を備えたことを特徴とする液晶式レーザマーカ。
  10. 【請求項１０】 請求項９に記載の液晶式レーザマーカ
    において、 前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長さ
    は、最外周の画素のドット単位であることを特徴とする
    液晶式レーザマーカ。
  11. 【請求項１１】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
    クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
    ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
    ークに照射して刻印する刻印方法において、 上記液晶マスクの最外周の全て又は一部の画素の寸法を
    内部の画素と異なる寸法とし、最外周の光学系の歪みを
    防止して刻印することを特徴とする刻印方法。
  12. 【請求項１２】 請求項１１に記載の刻印方法におい
    て、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
    の一つのブロック(1)を表示した前記液晶マスクによる
    刻印位置を、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
    を表示した前記液晶マスクによる刻印位置と、前記液晶
    マスクの内部の画素と寸法が異なる最外周の前記画素に
    対応する部分の所定長さだけ重複させて刻印することを
    特徴とする刻印方法。
  13. 【請求項１３】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
    クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
    ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
    ークに照射して刻印する刻印方法において、 上記液晶マスクの最外周の上下方向又は左右方向に対向
    する辺の画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいず
    れかの寸法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つ
    のデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内の一
    つのブロック(1) を表示した上記液晶マスクによる刻印
    位置を、このブロック(1) に隣接するブロック(1) を表
    示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マス
    クの内部の画素と寸法が異なる最外周の上下方向又は左
    右方向に対向する辺の前記画素に対応する部分の所定長
    さだけ重複させて刻印することを特徴とする刻印方法。
  14. 【請求項１４】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
    クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
    ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
    ークに照射して刻印する刻印方法において、 上記液晶マスクの最外周の上下方向に対向する辺のいず
    れか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一方の
    画素の少なくとも上下方向又は左右方向のいずれかの寸
    法を内部の画素と異なる寸法にし、かつ、一つのデザイ
    ンを複数のブロック(1) に分割し、この内の一つのブロ
    ック(1) を表示した上記液晶マスクによる刻印位置を、
    このブロック(1) に隣接するブロック(1) を表示した上
    記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶マスクの内部
    の画素と寸法が異なる最外周の上下方向に対向する辺の
    いずれか一方、又は左右方向に対向する辺のいずれか一
    方の前記画素に対応する部分の所定長さだけ重複させて
    刻印することを特徴とする刻印方法。
  15. 【請求項１５】 複数の画素からなる液晶マスクにワー
    クに刻印するデザインを表示し、この液晶マスクにレー
    ザ光を入射し、液晶マスクを透過したこのレーザ光をワ
    ークに照射して刻印する刻印方法において、 一つのデザインを複数のブロック(1) に分割し、この内
    の一つのブロック(1)を表示した上記液晶マスクによる
    刻印位置を、このブロック(1) に隣接するブロック(1)
    を表示した上記液晶マスクによる刻印位置と、上記液晶
    マスクの最外周の画素の一部に対応する部分の所定長さ
    だけ重複させて刻印することを特徴とする刻印方法。
  16. 【請求項１６】 請求項１５に記載の刻印方法におい
    て、 前記液晶マスクによる刻印位置を重複させる所定長さ
    は、最外周の画素のドット単位であることを特徴とする
    刻印方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998052714A1 (fr) * 1997-05-23 1998-11-26 Komatsu Ltd. Unite de commande de position de marquage pour systeme de marquage a laser
JP2006349811A (ja) * 2005-06-14 2006-12-28 Denso Corp 表示装置
JP2007175777A (ja) * 1999-07-19 2007-07-12 Regents Of The Univ Of California レーザピーニングにより金属に形状および輪郭を形成するための装置

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6774340B1 (en) * 1998-11-25 2004-08-10 Komatsu Limited Shape of microdot mark formed by laser beam and microdot marking method
US6436093B1 (en) 2000-06-21 2002-08-20 Luis Antonio Ruiz Controllable liquid crystal matrix mask particularly suited for performing ophthamological surgery, a laser system with said mask and a method of using the same
US6464692B1 (en) * 2000-06-21 2002-10-15 Luis Antonio Ruiz Controllable electro-optical patternable mask, system with said mask and method of using the same
US20080257871A1 (en) * 2007-04-20 2008-10-23 Leiser Judson M Ablation device
KR100832801B1 (ko) * 2007-05-02 2008-05-27 (주)하드램 폴리곤미러를 적용한 레이저커팅장치
CN102713732B (zh) * 2010-11-17 2016-01-20 松下电器产业株式会社 光偏转器以及采用该光偏转器的液晶显示装置
US9948539B2 (en) 2014-08-29 2018-04-17 The Nielsen Company (Us), Llc Methods and apparatus to predict end of streaming media using a prediction model
US11731445B2 (en) 2019-02-08 2023-08-22 Entrust Corporation Laser marking warpage mitigation
JP7303053B2 (ja) * 2019-07-17 2023-07-04 ファナック株式会社 調整補助具及びレーザ溶接装置

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US35446A (en) * 1862-06-03 Petee n
US4818835A (en) * 1987-03-02 1989-04-04 Hitachi, Ltd. Laser marker and method of laser marking
TW225050B (ja) * 1990-11-30 1994-06-11 Hitachi Ltd
JPH0577067A (ja) * 1991-09-17 1993-03-30 Hitachi Ltd レーザ加工装置およびレーザ加工方法
JPH05200570A (ja) * 1992-01-23 1993-08-10 Hitachi Ltd 液晶マスク式レーザマーキング方法及びその装置
US5726673A (en) * 1992-11-11 1998-03-10 Kabushiki Kaisha Komatsu Seisakusho Liquid crystal display for laser marker
JP3258804B2 (ja) * 1994-01-28 2002-02-18 株式会社小松製作所 マーキング装置の制御装置
JP3263517B2 (ja) * 1994-02-08 2002-03-04 株式会社小松製作所 液晶マスクマーカの駆動方法
JP3263516B2 (ja) * 1994-02-08 2002-03-04 株式会社小松製作所 液晶マスクマーカの画像表示方法
JP3265553B2 (ja) * 1994-08-19 2002-03-11 株式会社小松製作所 レーザマーキング方法
JP3413645B2 (ja) * 1995-03-22 2003-06-03 株式会社小松製作所 レーザ刻印装置における刻印位置補正装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998052714A1 (fr) * 1997-05-23 1998-11-26 Komatsu Ltd. Unite de commande de position de marquage pour systeme de marquage a laser
JP2007175777A (ja) * 1999-07-19 2007-07-12 Regents Of The Univ Of California レーザピーニングにより金属に形状および輪郭を形成するための装置
JP2006349811A (ja) * 2005-06-14 2006-12-28 Denso Corp 表示装置
JP4569395B2 (ja) * 2005-06-14 2010-10-27 株式会社デンソー 表示装置

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WO1997038820A1 (fr) 1997-10-23

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