JPH09263791A

JPH09263791A - 洗浄方法

Info

Publication number: JPH09263791A
Application number: JP7368096A
Authority: JP
Inventors: Naoyasu Hanamura; 尚容花村
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1996-03-28
Filing date: 1996-03-28
Publication date: 1997-10-07

Abstract

(57)【要約】【課題】洗浄性を向上させ、引火の危険性のない洗
浄、乾燥を行う。【解決手段】炭化水素系又はシリコーン系等の非水系
溶剤に界面活性剤を添加し、この添加溶剤に被洗浄物を
浸漬して揺動、超音波、噴流等の物理力を付与しながら
洗浄し、その後、非水系溶剤によってすすいで処理を終
了する。非水系溶剤が油性汚れを除去し、界面活性剤が
水系汚れを除去する。液温が低くても、洗浄でき、引火
性が小さくなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、炭化水素系溶剤、
シリコーン系溶剤等の非水系溶剤を使用して光学部品や
金属部品を洗浄する洗浄方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】光学硝子レンズ、光学硝子プリズム等の
材料を研削、研磨した後においては、加工後の被加工物
に付着している研削油や研磨材及び水等を洗浄する必要
がある。この洗浄方法としては、従来から、フロンや
１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン等
の塩素系有機溶剤が用いられてきた。

【０００３】また、近年の環境対策から、塩素系有機溶
剤よりも環境に対する安全性の高い洗浄液として炭化水
素系溶剤やシリコーン系溶剤等の非水系洗浄液や水に界
面活性剤を数パーセント添加した水系洗浄液等が用いら
れている。例えば、特開平６−２９６９４１号公報に
は、一般式Ｃ_nＨ_2n+2で表される炭化水素系溶剤とし
て、イソパラフィン系溶剤を用いた洗浄液で洗浄ライン
を構成し、各洗浄槽で浸漬、噴流、シャワー洗浄等によ
り洗浄することが記載されている。また、特開平６−２
９３８９８号公報には、炭素数１０〜１３の飽和脂肪族
炭化水素にフェノール類を含有させ、熱に対する安定性
を向上させた洗浄組成物を用いて洗浄を行うことが記載
されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、フロン
や１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレン
等の塩素系溶剤は非水溶性の切削油等の汚れは洗浄でき
るが、非水溶性のため、同時に水溶性切削油や水に分散
させた研磨材等の汚れは洗浄できない。また、フロン
は、成層圏のオゾン層を破壊する物質として使用が規制
されている。更に、１，１，１−トリクロロエタン、ト
リクロロエチレン等の塩素系有機溶剤は、人体に対して
毒性が高く、労働安全衛生法、有機溶剤中毒予防規則の
規制を受け、これを取り扱う作業の危険性及び煩雑さを
考慮すると洗浄剤として用いることは好ましくない。ま
た、地下水汚染等の環境問題もあり、安全性の高い洗浄
剤への転換が求められている。

【０００５】これに対して、特開平６−２９６９４１号
公報や特開平６−２９３８９８号公報で提案されている
炭化水素系溶剤で構成する洗浄ラインは、安全性が高い
と共に、洗浄ラインの槽数が少なく、水を使用しないた
め排水処理施設が不要であることや溶剤自体のコストが
安い等の利点が多い。

【０００６】しかし、被洗浄物に付着している油性（非
水溶性）の汚れは炭化水素系溶剤によって、ある程度は
洗浄できるが、水溶性切削油や水に分散させて用いられ
ている研磨材等の水系汚れは、炭化水素系溶剤自体が非
水溶性のため、汚れが凝集して、洗浄除去することがで
きない。同様にシリコーン系溶剤等の非水系洗浄液でも
水系の汚れは洗浄することができない。

【０００７】また、水系汚れを洗浄するため、イソプロ
ピルアルコール等のアルコール系溶剤を用いることもあ
るが、アルコール系溶剤は、汚れに対する溶解力が弱か
ったり、引火点が低く安全性に劣っている。さらに、洗
浄槽数が多い場合や槽容量自体が大きい場合には、その
使用量が制限される等の問題を有している。

【０００８】一方、水系の汚れを洗浄するため、水に界
面活性剤を数パーセント添加した水系洗浄液を用いる場
合もあるが、この水系洗浄液で洗浄した後には、水でリ
ンスする必要があるため、洗浄ラインの槽数が多くなっ
たり、リンスした水の排水処理が必要となり、特別な排
水設備が必要となる等の問題があり、容易に導入できな
い。また、光学硝子レンズや光学硝子プリズムでは、耐
水性の悪い硝材が多用されており、これらの硝材を水や
水系洗浄液に浸漬すると「ヤケ」や「潜傷」などの不具
合が発生する。更に、プラスチックレンズでは吸水性の
ある材料が多いため、この様な水系洗浄液による洗浄は
可能である。

【０００９】本発明はこのような従来の問題点を考慮し
てなされたものであり、水や水系洗浄液を使用せず、炭
化水素系溶剤やシリコーン系溶剤の非水系洗浄剤を用い
ても被洗浄物に付着している非水溶性の汚れ以外に加え
て水溶性の切削油や水に分散させて用いられている研磨
材、微粒子等の水系汚れも洗浄できる洗浄方法を提供す
ることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成する請求
項１の発明は、炭化水素系又はシリコーン系等の非水系
溶剤に界面活性剤を添加し、この添加溶剤に被洗浄物を
浸漬して揺動、超音波、噴流等の物理力を付与しながら
洗浄し、その後、前記非水系溶剤によってすすぐことを
特徴とする。

【００１１】これにより洗浄〜リンスまでの洗浄ライン
が非水系溶剤によって構成されるため、排水処理が不要
となり、洗浄ラインが短くなる。又、ガラスからなる光
学部品を洗浄しても、水系洗浄剤のようにヤケや潜傷を
発生することがない。又、界面活性剤を添加しているた
め、非水溶性の汚れのみならず、研磨材等の微粒子や水
溶性汚れを除去できる。更にプラスチックレンズの洗浄
も可能である。本発明に使用されている炭化水素系溶剤
やシリコーン系溶剤は人体や環境に対して安全性が高い
特性を有している。

【００１２】請求項２の発明は、以上の請求項１の発明
において、前記炭化水素系溶剤として、ノルマルパラフ
ィン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、ナフテン系溶剤又
は単環芳香族系溶剤を用いる一方、界面活性剤として、
親水性界面活性剤又は親油性界面活性剤を用い、この界
面活性剤の添加量が１〜３重量％であることを特徴とす
る。

【００１３】このように選択された炭化水素系溶剤は、
他の炭化水素系溶剤よりも大きな洗浄力を有しており、
汚れを効果的に除去することができる。又、これらの炭
化水素系溶剤は入手が容易であり、安定した供給を確保
できる。この炭化水素系溶剤に添加される界面活性剤の
量は１〜３重量％である。１重量％未満では研磨材等の
微粒子や水性汚れに対する洗浄力が不足する。３重量％
を越える場合は。界面活性剤自体が被洗浄物の表面に残
存して、シミの原因となる。

【００１４】請求項３の発明は、洗浄を行う少なくとも
最終槽に対して、引火点が７０℃以上の非水系溶剤を４
０〜６０℃に加温して用いると共に、被洗浄物を１０ｍ
ｍ／ｓｅｃ以下の速度で前記最終槽から引き上げること
を特徴とする。

【００１５】この場合においても、非水系溶剤によって
洗浄ラインが構成されるため、排水処理が不要となり、
ガラス等の光学部品を洗浄しても、ヤケ、潜傷が生じな
いメリットがある。又、引火点が７０℃以上の非水系溶
剤を用いるため、引火点が高く、難燃性であり、取扱い
上の安全性が向上する。なお、引火点が７０℃未満で
は、加温した場合の引火性が高くなって危険となる。

【００１６】この方法においては、非水系溶剤を４０〜
６０℃に加温して用いると共に、被洗浄物の引き上げ速
度を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下としている。非水系溶剤の加
温温度が４０℃未満の場合には、乾燥を促進することが
できず、シミが発生する。加温温度が６０℃を越える場
合には、上述した引火点との関係で引火性が高くなる。
引き上げ速度が上述に値よりも越える場合、乾燥を促進
できず、シミが発生する。

【００１７】請求項４の発明はこの請求項３の発明にお
いて、３０ＫＨｚ以下の周波数の超音波を付与しながら
４〜１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で揺動させるものである。

【００１８】このような物理力を付与することで、高い
洗浄効果を得ることができる。この場合、超音波の周波
数はピッチ等の重度の汚れの付着力との兼ね合いで決定
されるものであり、上述した周波数ではこの汚れを短時
間で除去できる。なお、揺動の速度が４ｍｍ／ｓｅｃ未
満では、被洗浄物から剥離した汚れが被洗浄物に再度、
付着して好ましくなく、１０ｍｍ／ｓｅｃを超える超音
波の洗浄効果が減衰して好ましくない。

【００１９】

【発明の実施の形態】

（実施の形態１）図１はこの実施の形態に適用される洗
浄ラインであり、光学レンズ、プリズム等の光学部品を
洗浄するためのものである。同図において、１は投入コ
ンベアであり、被洗浄物を洗浄槽に供給する。洗浄槽は
第１槽〜第５槽の５槽構成となっている。

【００２０】第１槽２及び第２槽３には洗浄液として炭
化水素系溶剤に界面活性剤が添加された洗浄液が充填さ
れている。炭化水素系溶剤としては、イソパラフィン系
溶剤である商品名「ダフニーアルファクリーナーＨ（出
光興産株式会社製）」または、ナフテン系溶剤である商
品名「ナフテゾールＭ（日本石油化学株式会社製）」が
充填されている。この非水系溶剤に対し、親水性界面活
性剤と親油性界面活性剤が、それぞれ０．１〜１．５重
量％添加されている。この洗浄液は常温となっている。

【００２１】第３槽４には、第１槽及び第２槽に充填さ
れた同一の炭化水素系溶剤のみが充填されている。この
槽においても液温は常温である。これらの槽２、３、４
の底部には、２８ＫＨｚ、６００Ｗの出力の超音波発振
器が設置されている。

【００２２】第４槽５及び第５槽６の洗浄槽は第３槽４
の洗浄液のすすぎと乾燥性を向上させるものである。こ
れらの槽５、６には、シリコーン系溶剤として、乾燥が
良好な商品名「洗浄剤ＥＥ−３１１０（オリンパス光学
工業株式会社製）」、またはイソパラフィン系溶剤とし
て、商品名「ダフニーアルファクリーナーＬ（出光興産
株式会社製）」が充填されている。これらの液温は常温
である。

【００２３】第５槽６には温風乾燥機７が連結されてい
る。この温風乾燥機７の温度は、７０〜８０℃に設定さ
れている。８は処理が終了した被洗浄物を洗浄ラインか
ら搬出する搬出コンベアである。

【００２４】この実施の形態では、被洗浄物として、水
と、酸化セリウムからなる研磨材と、研磨性を向上させ
るために研磨材を均一に分散させる界面活性剤とが付着
した硝材ＢＡＬ４１（小原光学硝子製造所（社）製）か
らなる光学硝子プリズムを用いた。この被洗浄物はプリ
ズム研磨用のラップ盤を用いて、上記研磨材を掛け流し
しながら１時間ラップ研磨したものである。

【００２５】図２はこのプリズムの形状を示す。このプ
リズム１０は３０ｍｍ×３０ｍｍの直角形をなし、２２
ｍｍの厚さとなっており、３面が研磨されているが、両
側面１１、１２が砂目状になっている。このため、一部
乾燥した研磨材が両側面の砂目に強固に付着している。

【００２６】この実施の形態では、第１槽２、第２槽
３、第３槽４の炭化水素系溶剤として、ダフニーアルフ
ァクリーナーＨ（出光興産株式会社製）を、第４槽５、
第５槽６の溶剤として、ＥＥ−３１１０（オリンパス光
学工業株式会社製）を使用した。第１槽２、第２槽３の
添加剤としては、親水性界面活性剤としてポリオキシア
ルキレン系ノニオン水溶性界面活性剤ＢＴ−９（日光ケ
ミカルズ株式会社製）と、親油性界面活性剤としてリン
酸エーテル系アニオン油溶性界面活性剤ＤＤＰ−２（日
光ケミカルズ株式会社製）を使用した。この添加剤の添
加量はそれぞれ０．１５重量％で合計１．０重量％であ
る。

【００２７】第１槽〜第５槽の洗浄液の液温は常温と
し、各槽とも９０秒で処理を行った。第１槽２及び第２
槽３では、超音波発振器９を作動して洗浄し、全槽を９
ｍｍ／ｓｅｃで揺動しながら各洗浄槽の洗浄時間を１分
に設定した。温風乾燥機７は８０℃に設定し、乾燥時間
は３分とした。

【００２８】添加剤として親水性界面活性剤と親油性界
面活性剤を添加した場合と、従来のように入れない場合
との洗浄性を比較するため、同一条件で洗浄、乾燥して
比較した。結果を表１に示す。

【００２９】表１から明らかなように、添加剤がない場
合は、研磨材等の微粒子がプリズムの全面に付着したま
ま除去できていない。また、その他の油溶性汚れや水溶
性汚れも洗浄できていないため、全数にシミが発生し
た。しかし、添加剤を入れた場合は、研磨材などの微粒
子が効率よく洗浄できている。また、油溶性汚れや水溶
性汚れも洗浄でき、シミがなくなり、洗浄品質が向上し
た。さらに水を使用しないため、耐水性が小さな硝材で
もヤケや潜傷の発生がなかった。

【００３０】

【表１】

【００３１】（実施の形態２）図１の洗浄ラインを用
い、図２のプリズムを洗浄した。第１槽２〜第３槽４の
炭化水素形溶剤としては、イソパラフィン系溶剤である
商品名「ダフニーアルファクリーナーＨ（出光興産株式
会社製）」を、第４槽５及び第５槽６の溶剤としては、
シリコーン系洗浄剤である商品名「ＥＥ−３１１０（オ
リンパス光学工業株式会社製）」を用いた。添加剤は、
親水性界面活性剤としてポリオキシアルコレン系ノニオ
ン水溶性界面活性剤ＢＴ−９（日光ケミカルズ株式会社
製）と、親油性界面活性剤としてリン酸エーテル系アニ
オン油溶性界面活性剤ＤＤＰ−２（日光ケミカルズ株式
会社製）を用いた。添加量は、それぞれ０．５重量％で
合計１．０％である。液温は常温とし、洗浄時間は、各
槽３０秒、６０秒及び９０秒に設定した。温風乾燥機７
は８０℃、３分に設定した。

【００３２】表２に洗浄時間を変えて洗浄した結果を示
す。評価は目視で研磨材の残留やシミの発生を確認し
た。比較として、添加剤を添加しないで洗浄し、比較し
た。添加剤を入れない場合の洗浄時間は９０秒、１２０
秒に設定した。表２の結果から、親水性界面活性剤を添
加した場合は、洗浄時間９０秒で完全に洗浄でき、研磨
材等の微粒子の残留がなくなった。また、その他の油溶
性汚れや水溶性汚れも洗浄され、汚れの残留により発生
するシミもなくなった。

【００３３】しかし、添加剤がない場合は、研磨材等の
微粒子がプリズムの全面に付着したまま除去できていな
かった。また、その他の油溶性汚れや水溶性汚れも洗浄
できていないため、９０秒では全数にシミが発生した。
したがって、添加剤を入れることによって効率良く研磨
材等の微粒子が洗浄できると共に、油溶性汚れや水溶性
汚れも短時間（９０秒）で洗浄できることが判明した。
更に水を使用しないため、耐水性の悪い硝材を長時間浸
漬、洗浄してもヤケや潜傷等の不具合の発生がなかっ
た。

【００３４】

【表２】

【００３５】（実施の形態３）添加剤を添加する図１の
第１槽２及び第２槽３の炭化水素系溶剤としてナフテン
系溶剤、イソパラフィン系溶剤、単環芳香族溶剤を用い
て洗浄性を確認した。ナフテン系溶剤として商品名「ナ
フテゾールＭ（日本石油化学株式会社製）」、イソパラ
フィン系溶剤として商品名「ダフニーアルファクリーナ
ーＨ（出光興産株式会社製）」、単環芳香族溶剤として
商品名「クリーンゾルＧ（日本石油株式会社製）」を用
いた。

【００３６】各炭化水素系溶剤による洗浄性を確認する
ため、被洗浄物として、水と研磨材が付着した図２に示
す光学硝子プリズムを図１の洗浄ラインを用いて洗浄し
た。第４槽５、第５槽６の溶剤としては、シリコーン系
洗浄剤である商品名「ＥＥ−３１１０（オリンパス光学
工業株式会社製）」を用いた。添加剤は、親水性界面活
性剤としてポリオキシアルキレン系ノニオン水溶性界面
活性剤ＢＴ−９（日光ケミカルズ株式会社製）と、親油
性界面活性剤としてリン酸エーテル系アニオン油溶性界
面活性剤ＤＤＰ−２（日光ケミカルズ株式会社製）を用
いた。添加量は、それぞれ０．５重量％で合計１．０％
である。液温は常温とし、洗浄時間は各槽９０秒に設定
した。乾燥機は８０℃、３分に設定した。添加剤の添加
量は、各炭化水素系溶剤全て同量添加し、同一条件で洗
浄、乾燥して比較した。評価は、目視で研磨材の残留や
シミの発生を確認した。

【００３７】表３の結果から、第１〜第３槽の炭化水素
系溶剤は、ナフテン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、単
環芳香族溶剤のどれを用いても添加剤の効果により、研
磨材等の微粒子が完全に洗浄された。シリコーン系溶剤
でも同様であり、添加剤により研磨材の洗浄性が向上し
た。また、物理力として超音波を用いているが、浸漬の
みや噴流を用いても同様の結果であった。

【００３８】しかし、その他の油溶性汚れや水溶性汚れ
は、炭化水素系溶剤の溶解力に若干影響されるため、油
溶性汚れや水溶性汚れの残留によるものと思われるシミ
の発生率に差があった。

【００３９】

【表３】

【００４０】（実施の形態４）図３は実施の形態４の洗
浄ラインを示す。第１槽２２、第２槽２３、第３槽２４
及び温風乾燥機２５が順に連設されており、第１槽２２
に対して搬入コンベア２１が被洗浄物を搬入し、処理が
終了した被洗浄物を温風乾燥機２５から搬出コンベア２
６に搬出する。第１槽２２〜第３槽２４はいずれも洗浄
槽であり、非水系溶剤が充填されていると共に、底面に
は２８ＫＨｚ、６００Ｗの出力の超音波発振器２７が取
り付けられている。２８は第１槽２２及び第３槽２４を
連結する蒸留再生装置である。同図において、実線は被
洗浄物の移動順を、破線は洗浄液の流れを示している。
表４は洗浄に使用する非水系溶剤の商品名毎の特性を示
している。

【００４１】

【表４】

【００４２】被洗浄物としては硝材ＢＡＬ４１からなる
直径（φ）２４ｍｍの光学硝子レンズを使用した。この
光学レンズにはストレートアスファルト系ピッチである
商品名「Ｋ３」（九重電気（株）製）が付着している。

【００４３】この実施の形態では、最終槽である第３槽
２４を液温を常温（２５℃）、４０℃、５０℃、６０℃
に設定し、被洗浄物の引き上げ速度を５ｍｍ／ｓｅｃに
して乾燥性を確認した。なお、第１槽２２及び第２槽２
３の液温は４０℃に設定し、温風乾燥槽２５は６０℃に
設定した。洗浄時間は各槽とも６０秒とした。洗浄液と
しての非水系溶剤はエステル系溶剤である商品名「ＥＥ
−４１２０」を使用した。乾燥時間を１０分、１５分と
したときのレンズの乾燥状態を確認した結果を表５に示
す。同表において、○はシミがないか、あっても極薄い
シミの場合を、△は薄いシミで工程上、問題がないもの
を、×は濃いシミのものを示す。

【００４４】

【表５】

【００４５】表５に示すように、最終の第３槽２４の液
温が４０℃以下の場合、温風乾燥機２５で１５分間乾燥
しても、未乾燥のレンズが発生した。なお、乾燥を１５
分以上行うことは実用的ではないものである。最終の第
３槽２４の液温が６０℃以上の場合、乾燥性が向上する
が、液温が非水系溶剤の引火点に近づくため、安全性の
観点から好ましくない。又、乾燥温度を６０℃以上とす
ると、僅かに残留した汚れが被洗浄物に焼き付き、次工
程で精密洗浄する際の除去ができない。このため極力、
低温で乾燥させる必要がある。第３槽２４からの引き上
げ速度を１５ｍｍ／ｓｅｃ以上んした場合、同槽２４の
液温を５０℃以上にしても未乾燥のレンズが発生した。

【００４６】以上の表５の結果から、最終槽２４の液温
を４０℃〜６０℃とし、被洗浄物の引き上げ速度を１０
ｍｍ／ｓｅｃ以下とすることにより、２００℃〜２３０
℃等の沸点が高い洗浄液でも短時間で乾燥でき、被洗浄
物に乾燥シミも生じない。これにより洗浄後において
は、低沸点の溶剤を使用して乾燥を行う必要がなくな
り、工程を簡略化できる。なお、第３槽２４を除く第１
槽２２及び第２槽２３においては、被洗浄物を比較的、
早く引き上げるものである。

【００４７】このようにこの実施の形態では、ＥＥ−４
１２０のような沸点が高い洗浄液を使用できるため、引
火の危険性が少なく、安全性が向上した洗浄が可能であ
る。さらに、この実施の形態ではナフテン系溶剤である
商品名「ナフテゾールＭ」（日本石油化学（株）製）、
ナフテン系溶剤とイソパラフィン系溶剤の混合溶剤であ
る商品名「アクトレル１１７８Ｌ」（エクソン化学
（株）製）、芳香族系溶剤である商品名「クリーンソル
Ｇ」（日本石油（株）製）を使用しても、上述と同様な
結果となった。

【００４８】（実施の形態５）この実施の形態では、被
洗浄物として、直径３５ｍｍ、厚さ３ｍｍの鏡面加工さ
れた真鍮板を使用し、図３に示す洗浄ラインを用いて洗
浄した。真鍮板には切削油である商品名「ダフニ−カッ
トＨＳ−３２」（出光興産（株）製）が付着している。

【００４９】最終槽である第３槽２４を液温を常温（２
５℃）、４０℃、５０℃、６０℃に設定し、被洗浄物の
引き上げ速度を５ｍｍ／ｓｅｃにして乾燥性を確認し
た。なお、第１槽２２及び第２槽２３の液温は４０℃に
設定し、温風乾燥槽２５は６０℃に設定した。洗浄時間
は各槽とも６０秒とした。洗浄液としての非水系溶剤は
エステル系溶剤である商品名「ＥＥ−４１２０」を使用
した。乾燥時間を１０分、１５分としたときのレンズの
乾燥状態を確認した結果を表６に示す。同表は洗浄籠１
個に対し真鍮板１０個を投入し、未乾燥の数と発生した
シミの度合いを評価したものである。同表において、○
はシミがないか、あっても極薄いシミの場合を、△は薄
いシミで工程上、問題がないものを、×は濃いシミのも
のを示す。

【００５０】

【表６】

【００５１】表６に示すように、最終槽２４の敷き上げ
速度が１５ｍｍ／ｓｅｃ以上では、温風乾燥機２５で５
０℃以上、１５分間乾燥させても弐乾燥の真鍮板が発生
している。一方、乾燥性はレンズ等のガラス部材に比べ
て良好であり、ガラス部材よりも低温又は引き上げ速度
が大きくても、シミを発生させることなく、乾燥するこ
とができ、これにより洗浄条件が幅が広がっている。

【００５２】この実施の形態ではナフテン系溶剤である
商品名「ナフテゾールＭ」（日本石油化学（株）製）、
ナフテン系溶剤とイソパラフィン系溶剤の混合溶剤であ
る商品名「アクトレル１１７８Ｌ」（エクソン化学
（株）製）、芳香族系溶剤である商品名「クリーンソル
Ｇ」（日本石油（株）製）を使用しても、上述と同様な
結果となった。

【００５３】（実施の形態６）超音波周波数による被洗
浄物の洗浄性を確認するため、２５ＫＨｚと４０ＫＨｚ
の周波数で洗浄を行った。洗浄ラインは図３に示すもの
を使用した。同図における各槽の洗浄時間を６０秒と
し、被洗浄物として実施の形態４と同様のレンズを用
い、ピッチが残留しているレンズ数を確認した。各槽の
液温は５０℃、揺動速度を１０ｍｍ／ｓｅｃ、引き上げ
速度を１０ｍｍ／ｓｅｃに設定して行った。

【００５４】表７は洗浄籠１個に２０個のレンズを投入
して洗浄し、ピッチが残留している未洗浄のレンズ数を
示す。超音波の周波数が４０ＫＨｚの高周波数側では、
未洗浄のレンズが発生しているが、２５ＫＨｚの低周波
数側では短時間でピッチ等の重度の汚れを除去できてい
る。このような低周波数を使用することにより、低い温
度の洗浄液を使用した洗浄ができ、引火の危険性が少な
くなる。

【００５５】

【表７】

【００５６】（実施の形態７）揺動速度による洗浄性を
確認するため揺動速度を５、１０、１５ｍｍ／ｓｅｃに
変化させた、被洗浄物としては実施の形態４と同様のレ
ンズを用い、図３に示す洗浄ラインを使用して洗浄し
た。各槽の液温は５０℃、引き上げ速度は１０ｍｍ／ｓ
ｅｃとし、超音波２５ＫＨｚの超音波を用いた。表８は
洗浄籠１個にレンズを２０個投入して、洗浄した場合の
未洗浄のレンズ数を示す。同表に示すように、揺動速度
を１０ｍｍ／ｓｅｃ以上とした場合、洗浄性が低下し
た。これは揺動速度が大きくなることにより、超音波に
よる洗浄効果が低減したためである。かかる揺動速度を
種々、変えて洗浄した結果、４〜１０ｍｍ／ｓｅｃの範
囲の揺動速度で、良好な洗浄が可能となっている。

【００５７】

【表８】

【００５８】

【発明の効果】請求項１の発明は、界面活性剤を添加し
た非水系溶剤により洗浄するため、排水処理が不要とな
り、洗浄ラインが短くなる。しかも、人体や環境に対し
ての安全性が高いものとなる。又、界面活性剤を添加し
ているため、研磨材等の微粒子や水性汚れも除去でき
る。

【００５９】請求項２の発明は、洗浄力の大きな炭化水
素系溶剤を使用するため、洗浄性を向上させることがで
きる。

【００６０】請求項３の発明は、請求項１の発明と同様
な効果を有すると共に、乾燥を促進できるため、洗浄の
シミを防止することができる。

【００６１】請求項４の発明は、超音波の作用を有効に
活用でき、洗浄性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】洗浄ラインの一例の構成図である。

【図２】被洗浄物の斜視図である。

【図３】別の洗浄ラインの構成図である。

【符号の説明】

２第１槽３第２槽４第３槽５第４槽６第５槽７温風乾燥機

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ１１Ｄ 7/24 Ｃ１１Ｄ 7/24 7/50 7/50

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】炭化水素系又はシリコーン系等の非水系
溶剤に界面活性剤を添加し、この添加溶剤に被洗浄物を
浸漬して揺動、超音波、噴流等の物理力を付与しながら
洗浄し、その後、前記非水系溶剤によってすすぐことを
特徴とする洗浄方法。
【請求項２】前記炭化水素系溶剤として、ノルマルパ
ラフィン系溶剤、イソパラフィン系溶剤、ナフテン系溶
剤又は単環芳香族系溶剤を用いる一方、前記界面活性剤
として、親水性界面活性剤又は親油性界面活性剤を用
い、この界面活性剤の添加量が１〜３重量％であること
を特徴とする請求項１記載の洗浄方法。
【請求項３】洗浄を行う少なくとも最終槽に対して、
引火点が７０℃以上の非水系溶剤を４０〜６０℃に加温
して用いると共に、被洗浄物を１０ｍｍ／ｓｅｃ以下の
速度で前記最終槽から引き上げることを特徴とする洗浄
方法。
【請求項４】３０ＫＨｚ以下の周波数の超音波を付与
しながら、４〜１０ｍｍ／ｓｅｃの速度で被洗浄物を揺
動させて洗浄することを特徴とする請求項３記載の洗浄
方法。