JPH09253556A - Coater and coating method, manufacturing device and manufacture of color filter - Google Patents
Coater and coating method, manufacturing device and manufacture of color filterInfo
- Publication number
- JPH09253556A JPH09253556A JP6653096A JP6653096A JPH09253556A JP H09253556 A JPH09253556 A JP H09253556A JP 6653096 A JP6653096 A JP 6653096A JP 6653096 A JP6653096 A JP 6653096A JP H09253556 A JPH09253556 A JP H09253556A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- die
- slit die
- applicator
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Coating Apparatus (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】この発明は、特にカラー液晶
ディスプレイ用カラーフィルタの製造に好適し、カラー
フィルタのガラス基板などの被塗布部材に向け、塗布液
を吐出しながら塗膜を形成する塗布装置および塗布方
法、並びに、これらの装置および方法を用いたカラーフ
ィルタの製造およびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is particularly suitable for manufacturing a color filter for a color liquid crystal display, and a coating apparatus for forming a coating film on a member to be coated such as a glass substrate of the color filter while discharging a coating liquid. The present invention also relates to a coating method, a manufacturing method of a color filter using these devices and methods, and a manufacturing method thereof.
【０００２】[0002]
【関連する背景技術】カラー液晶ディスプレイ用のカラ
ーフィルタは、そのガラス基板上に３原色の細かな格子
模様を有しており、このような格子模様はガラス基板上
に先ず黒の塗膜を形成した後、赤、青、緑の塗膜により
塗り分けて得られる。それ故、カラーフィルタの製造に
は、ガラス基板上に黒、赤、青、緑の塗布液を塗布し、
これらの塗膜を順次形成していく塗工工程が必要不可欠
となる。この種の塗工工程には、従来塗布装置として、
スピナー、バーコータあるいはロールコータなどが使用
されていたが、塗布液の消費量を削減し、また、塗膜の
物性を向上させるために近年に至ってはダイコータの使
用が検討されている。2. Related Background Art A color filter for a color liquid crystal display has a fine grid pattern of three primary colors on its glass substrate. Such a grid pattern forms a black coating film on the glass substrate first. After that, it is obtained by separately coating with red, blue and green coating films. Therefore, to manufacture color filters, apply black, red, blue, and green coating solutions on a glass substrate,
A coating process of sequentially forming these coating films is indispensable. For this type of coating process, as a conventional coating device,
Although spinners, bar coaters, roll coaters, etc. have been used, the use of die coaters has been studied in recent years in order to reduce the consumption of coating liquid and improve the physical properties of coating films.
【０００３】この種のダイコータは、たとえば特開平4-
346868号公報に開示されているようなスリットダイを塗
布器として備えており、このスリットダイは下向きの吐
出口から塗布液を被塗布部材に向けて吐出可能となって
いる。また、公知のスリットダイは回転可能に支持され
ており、その吐出口を上向きとなるようにスリットダイ
を回転させれば、この状態で、スリットダイ内のエア抜
きが行えるようになっている。This type of die coater is disclosed, for example, in Japanese Patent Laid-Open No.
A slit die as disclosed in Japanese Patent No. 346868 is provided as an applicator, and the slit die is capable of ejecting a coating liquid toward a member to be coated from a downward ejection port. Further, a known slit die is rotatably supported, and if the slit die is rotated so that its discharge port faces upward, air can be released from the slit die in this state.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た公知のスリットダイは回転可能に支持されているだけ
であるので、エア抜きが完了した後、スリットダイの吐
出口を下向きとすべくスリットダイを元の作動姿勢まで
回転させても、その吐出口と被塗布部材との間のクリア
ランスを元の状態に正確に再現することは困難であり、
しかも、吐出口からの塗布液の吐出中、スリットダイが
不用意に回転変位してしまい、クリアランスが変動して
しまう虞がある。このようにクリアランスが不安定であ
ると、被塗布部材に均一な厚さの塗膜を形成することが
できず、カラーフィルタの歩留まりおよびその品質を十
分に確保できなくなる。However, since the above-mentioned known slit die is only rotatably supported, the slit die should be placed so that the discharge port of the slit die faces downward after air bleeding is completed. Even if it is rotated to the original working posture, it is difficult to accurately reproduce the clearance between the discharge port and the member to be coated in the original state,
Moreover, during the discharge of the coating liquid from the discharge port, the slit die may be inadvertently rotationally displaced, and the clearance may change. If the clearance is unstable as described above, a coating film having a uniform thickness cannot be formed on the member to be coated, and the yield and quality of the color filter cannot be sufficiently secured.
【０００５】この発明は上述した事情に基づいてなされ
たもので、その目的とするところは塗布器のエア抜きに
関し、その作業性を損なうことなく、塗布器の吐出口と
被塗布部材との間のクリアランスの再現性、また、その
安定性を簡単にして確保することができる塗布装置およ
び塗布方法並びにこれら塗布装置および塗布方法を用い
たカラーフィルタの製造装置および製造方法を提供する
ことにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and an object thereof is to remove air from an applicator, and not to impair the workability of the applicator so that it can be provided between a discharge port of the applicator and a member to be coated. It is an object of the present invention to provide a coating apparatus and a coating method capable of ensuring the reproducibility of the clearance and the stability thereof, and a manufacturing apparatus and a manufacturing method of a color filter using the coating apparatus and the coating method.
【０００６】[0006]
【課題を解決するための手段】上記の目的は、この発明
によって達成され、請求項１の塗布装置は、塗布液を供
給する供給手段と、供給手段から供給された塗布液を吐
出するために一方向に延びる吐出口を有する塗布器と、
塗布器および被塗布部材のうちの少なくとも一方を相対
的に移動させる移動手段と、塗布器をその吐出口の長手
方向に沿う軸線周りに回転可能に支持する支持手段と、
被塗布部材に対し、その吐出口が対向して平行となる作
動姿勢に塗布器を位置決めする位置決め手段とを備えて
いる。The above-mentioned object is achieved by the present invention, and a coating apparatus according to claim 1 is for supplying a coating liquid and for discharging the coating liquid supplied from the supplying device. An applicator having a discharge port extending in one direction,
Moving means for relatively moving at least one of the applicator and the member to be coated, and a supporting means for supporting the applicator rotatably around an axis along the longitudinal direction of the discharge port thereof.
Positioning means is provided for positioning the applicator in an operating posture in which the discharge port faces and is parallel to the member to be coated.
【０００７】請求項１の塗布装置によれば、塗布器を作
動姿勢から回転させて、その吐出口を上向きとし、この
状態で塗布器内のエア抜きが行われる。この後、塗布器
が作動姿勢に向けて回転されると、塗布器は位置決め手
段により作動姿勢にて位置決めされ、これにより、塗膜
の形成時、すなわち、塗工時には、塗布器の吐出口と被
塗布部材との間に元のクリアランスが正確に確保され
る。According to the coating apparatus of the first aspect, the applicator is rotated from the operating position so that the discharge port thereof faces upward, and in this state, the air is removed from the applicator. After that, when the applicator is rotated toward the operating position, the applicator is positioned in the operating position by the positioning means, so that when the coating film is formed, that is, at the time of coating, the applicator discharge port The original clearance is accurately ensured with the member to be coated.
【０００８】請求項２の塗布装置は、塗布器が作動姿勢
にあるか否かを検出する検出手段をさらに備えている。
この場合、検出手段からの出力に基づき、塗布装置の作
動が制御される。請求項３のカラーフィルタの製造装置
は、請求項１または２に記載の塗布装置を使用してカラ
ーフィルタを製造するものとなっており、この場合、カ
ラーフィルタの品質および生産性が共に向上する。The coating apparatus according to a second aspect of the present invention further comprises detection means for detecting whether or not the coating device is in the operating posture.
In this case, the operation of the coating device is controlled based on the output from the detecting means. An apparatus for manufacturing a color filter according to claim 3 manufactures a color filter by using the coating apparatus according to claim 1 or 2, and in this case, the quality and the productivity of the color filter are both improved. .
【０００９】請求項４の塗布方法は、塗布器に設けられ
てなる一方向に延びる吐出口から塗布液を吐出しなが
ら、塗布器および被塗布部材のうちの少なくとも一方を
相対的に移動させて被塗布部材に塗膜を形成する際、そ
の塗膜の形成に先立ち、塗布器内のエア抜きのために吐
出口の長手方向に沿う軸線周りに塗布器を回転させてそ
の吐出口を上向きとし、この後、被塗布部材に対し吐出
口が対向して平行となる作動姿勢に塗布器を位置決めし
て戻している。According to a fourth aspect of the present invention, at least one of the applicator and the member to be coated is relatively moved while ejecting the coating liquid from a discharge port provided in the applicator and extending in one direction. When forming a coating film on a member to be coated, prior to the formation of the coating film, the applicator is rotated around the axis along the longitudinal direction of the ejection port to bleed the air inside the applicator so that the ejection port faces upward. After that, the applicator is positioned and returned to the operating posture in which the discharge port faces and is parallel to the member to be coated.
【００１０】請求項４の塗布方法によれば、エア抜きの
ために塗布器が回転されても、そのエア抜きの完了後、
塗布器は元の作動姿勢に位置決めして戻され、塗工時に
は、塗布器の吐出口と被塗布部材との間に元のクリアラ
ンスが正確に確保される。請求項５の塗布方法は、塗布
器が作動姿勢にあるか否かを検出しており、この場合、
その検出結果を受けて、以降の塗工工程が制御される。According to the coating method of claim 4, even if the applicator is rotated to bleed air, after the bleeding is completed,
The applicator is positioned and returned to the original working posture, and during coating, the original clearance is accurately ensured between the discharge port of the applicator and the member to be coated. The coating method according to claim 5 detects whether or not the applicator is in the operating posture, and in this case,
The subsequent coating process is controlled in response to the detection result.
【００１１】請求項６のカラーフィルタの製造方法は、
請求項４または５に記載の塗布方法を用いてカラーフィ
ルタを製造し、この場合、カラーフィルタの品質および
生産性がともに向上する。A method of manufacturing a color filter according to claim 6 is
A color filter is manufactured by using the coating method according to claim 4 or 5, and in this case, both the quality and the productivity of the color filter are improved.
【００１２】[0012]
【発明の実施の態様】図１を参照すると、カラー液晶デ
ィスプレイのためのカラーフィルタの製造に適用される
塗布装置いわゆるダイコータが示されており、このダイ
コータは基台２を備えている。この基台２上には一対の
ガイド溝レール４が設けられており、これらガイド溝レ
ール４にはステージ６が配置されている。このステージ
６はその上面がサクション面として構成され、そして、
一対のスライド脚８を介してガイド溝レール４上を水平
方向に往復動自在となっている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT Referring to FIG. 1, there is shown a coating device, a so-called die coater, which is applied to the production of a color filter for a color liquid crystal display, which die coater comprises a base 2. A pair of guide groove rails 4 are provided on the base 2, and a stage 6 is arranged on these guide groove rails 4. The upper surface of this stage 6 is configured as a suction surface, and
It is reciprocally movable in the horizontal direction on the guide groove rail 4 via a pair of slide legs 8.
【００１３】一対のガイド溝レール４間には送り機構が
設けられており、ケーシング１２はそれらを内蔵するよ
うに配置され、ガイド溝レール４に沿って延びている。
送り機構は、図２に示されているようにボールねじから
なるフィードスクリュー１４を有している。このフィー
ドスクリュー１４はステージ６の下部に固定されたナッ
ト状のコネクタ１６にねじ込まれ、このコネクタ１６を
貫通して延びている。フィードスクリュー１４の両端部
は図示しない軸受に回転自在に支持されており、その一
端にはＡＣサーボモータ１８が連結されている。なお、
ケーシング１２の側面にはコネクタ１６の移動を許容す
る開口が形成されているが、図１中、その開口が省略さ
れている。A feed mechanism is provided between the pair of guide groove rails 4, and the casing 12 is arranged so as to house them therein and extends along the guide groove rails 4.
The feed mechanism has a feed screw 14 formed of a ball screw as shown in FIG. The feed screw 14 is screwed into a nut-shaped connector 16 fixed to the lower portion of the stage 6 and extends through the connector 16. Both ends of the feed screw 14 are rotatably supported by bearings (not shown), and an AC servo motor 18 is connected to one end thereof. In addition,
An opening that allows the connector 16 to move is formed on the side surface of the casing 12, but the opening is omitted in FIG. 1.
【００１４】図１に示されているように、基台２の上面
にはほぼ中央に位置にしてダイ支柱２４が配置されてお
り、このダイ支柱２４は逆Ｌ字形をなしている。ダイ支
柱２４の先端はステージ６の往復動経路の上方に位置付
けられており、その先端には昇降機構２６が取り付けら
れている。昇降機構２６は昇降可能な昇降ブラケット
（図示しない）を備えており、この昇降ブラケットは昇
降機構２６におけるケーシング２８内の一対のガイドロ
ッドに昇降自在に取り付けられている。また、ケーシン
グ２８内にはガイドロッド間にボールねじからなるフィ
ードスクリュー（図示しない）もまた回転自在にして配
置されており、昇降ブラケットは、そのフィードスクリ
ューに対しナット型のコネクタを介して連結されてい
る。フィードスクリューの上端にはＡＣサーボモータ３
０が接続されており、このＡＣサーボモータ３０はケー
シング２８の上面に取り付けられている。As shown in FIG. 1, a die strut 24 is arranged on the upper surface of the base 2 at a substantially central position, and the die strut 24 has an inverted L shape. The tip of the die post 24 is positioned above the reciprocating path of the stage 6, and the lifting mechanism 26 is attached to the tip. The elevating mechanism 26 includes an elevating bracket (not shown) capable of elevating, and the elevating bracket is attached to a pair of guide rods in a casing 28 of the elevating mechanism 26 so as to be able to elevate. A feed screw (not shown) made of a ball screw is also rotatably arranged between the guide rods in the casing 28, and the lifting bracket is connected to the feed screw via a nut-type connector. ing. AC servo motor 3 on top of the feed screw
0 is connected, and the AC servomotor 30 is attached to the upper surface of the casing 28.
【００１５】昇降ブラケットには支持軸（図示しない）
を介してダイホルダ３２が取り付けられており、このダ
イホルダ３２はコ字形をなしかつ一対のガイド溝レール
４の上方をこれらレール４間に亘って水平に延びてい
る。ダイホルダ３２の支持軸は昇降ブラケット内にて回
転自在に支持されており、これにより、ダイホルダ３２
は支持軸とともに垂直面内で回転可能となっている。A support shaft (not shown) is provided on the lifting bracket.
A die holder 32 is attached via a groove. The die holder 32 has a U-shape and extends horizontally above a pair of guide groove rails 4 and between the rails 4. The support shaft of the die holder 32 is rotatably supported in the lifting bracket, which allows the die holder 32 to be rotated.
Is rotatable in a vertical plane together with the support shaft.
【００１６】昇降ブラケットには水平バー３６が固定さ
れており、この水平バー３６はダイホルダ３２の上方に
位置し、ダイホルダ３２に沿って延びている。水平バー
３６の両端部には、電磁作動型のリニアアクチュエータ
３８がそれぞれ取り付けられており、これらリニアアク
チュエータ３８は水平バー３６の下面から突出する伸縮
ロッドを有している。これら伸縮ロッドはそれらの下端
がダイホルダ３２の両端にそれぞれ当接されている。A horizontal bar 36 is fixed to the lifting bracket. The horizontal bar 36 is located above the die holder 32 and extends along the die holder 32. Electromagnetically actuated linear actuators 38 are respectively attached to both ends of the horizontal bar 36, and these linear actuators 38 have telescopic rods projecting from the lower surface of the horizontal bar 36. The lower ends of these telescopic rods are in contact with both ends of the die holder 32, respectively.
【００１７】ダイホルダ３２内には塗布器としてのスリ
ットダイ４０が支持手段を介して保持されており、図１
から明らかなようにスリットダイ４０はステージ６の往
復動方向と直交する方向、つまり、ダイホルダ３２の長
手方向に水平に延びている。なお、支持手段に関しては
後述する。図２に示されているようにスリットダイ４０
からは塗布液の供給ホース４２が延びており、この供給
ホース４２の先端はシリンジポンプ４４、つまり、その
電磁切換え弁４６の供給ポートに接続されている。電磁
切換え弁４６の吸引ポートからは吸引ホース４８が延び
ており、この吸引ホース４８の先端部は、塗布液を蓄え
たタンク５０内に挿入されている。A slit die 40 as an applicator is held in the die holder 32 via a supporting means.
As is apparent from the above, the slit die 40 extends horizontally in the direction orthogonal to the reciprocating direction of the stage 6, that is, in the longitudinal direction of the die holder 32. The support means will be described later. Slit die 40 as shown in FIG.
From which a coating liquid supply hose 42 extends, and the tip of the supply hose 42 is connected to the syringe pump 44, that is, the supply port of the electromagnetic switching valve 46 thereof. A suction hose 48 extends from a suction port of the electromagnetic switching valve 46, and the tip of the suction hose 48 is inserted into a tank 50 that stores a coating liquid.
【００１８】シリンジポンプ４４のポンプ本体５２は、
電磁切換え弁４６の切換え作動により、供給ホース４２
および吸引ホース４８の一方に選択的に接続可能となっ
ている。そして、これら電磁切換え弁４６およびポンプ
本体５２はコンピュータ５４に電気的に接続されてお
り、このコンピュータ５４からの制御信号を受けて、そ
れらの作動が制御されるようになっている。The pump body 52 of the syringe pump 44 is
By the switching operation of the electromagnetic switching valve 46, the supply hose 42
Also, it can be selectively connected to one of the suction hoses 48. The electromagnetic switching valve 46 and the pump main body 52 are electrically connected to a computer 54, and their operations are controlled by receiving a control signal from the computer 54.
【００１９】さらに、シリンジポンプ４４の作動を制御
するため、コンピュータ５４にはシーケンサ５６もまた
電気的に接続されている。このシーケンサ５６は、ステ
ージ６側のフィードスクリュー１４のためのＡＣサーボ
モータ１８や、昇降機構２６側のＡＣサーボモータ３
０、また、リニアアクチュエータ３８の作動をシーケン
ス制御するものであり、そのシーケンス制御のために、
シーケンサ５６にはＡＣサーボモータ１８，３０の作動
状態を示す信号、ステージ６の移動位置を検出する位置
センサ５８からの信号、そして、スリットダイ４０の作
動状態を検出するセンサ（図示しない）からの信号など
が入力されるようになており、一方、シーケンサ５６か
らはシーケンス動作を示す信号がコンピュータ５４に出
力されるようになっている。なお、位置センサ５８を使
用する代わりに、ＡＣサーボモータ１８にエンコーダを
組み込み、このエンコーダから出力されるパルス信号に
基づき、シーケンサ５６にてステージ６の移動位置を検
出することも可能である。また、シーケンサ５６自体に
コンピュータ５４による制御を組み込むことも可能であ
る。A sequencer 56 is also electrically connected to the computer 54 to control the operation of the syringe pump 44. The sequencer 56 includes an AC servo motor 18 for the feed screw 14 on the stage 6 side and an AC servo motor 3 for the lifting mechanism 26 side.
0, and controls the operation of the linear actuator 38 in a sequence.
The sequencer 56 outputs a signal indicating the operating state of the AC servomotors 18 and 30, a signal from the position sensor 58 that detects the moving position of the stage 6, and a sensor (not shown) that detects the operating state of the slit die 40. Signals and the like are input, while the sequencer 56 outputs a signal indicating a sequence operation to the computer 54. Instead of using the position sensor 58, an encoder may be incorporated in the AC servomotor 18 and the sequencer 56 may detect the movement position of the stage 6 based on a pulse signal output from the encoder. Further, the control by the computer 54 can be incorporated in the sequencer 56 itself.
【００２０】図２に概略的に示されているようにスリッ
トダイ４０は長尺なブロック形をしているフロントリッ
プ５９よびリアリップ６０を有している。これらリップ
５９，６０はステージ６の往復動方向に向かい合わさ
れ、図示しない複数の連結ボルトにより相互に一体的に
結合されている。両リップ５９，６０の結合により、ス
リットダイ４０の下部は先細形状をなしたノズル部とし
て形成されている。As shown schematically in FIG. 2, the slit die 40 has an elongated block-shaped front lip 59 and rear lip 60. These lips 59, 60 face each other in the reciprocating direction of the stage 6 and are integrally connected to each other by a plurality of connecting bolts (not shown). By combining the lips 59 and 60, the lower portion of the slit die 40 is formed as a tapered nozzle portion.
【００２１】スリットダイ４０内にはその中央部分に位
置してマニホールド６２が形成されており、このマニホ
ールド６２はスリットダイ４０の幅方向、すなわち、ス
テージ６の往復動方向と直交する方向に水平に延びてい
る。マニホールド６２は前述した塗布液の供給ホース４
２に内部通路（図示しない）を介して常時接続されてお
り、これにより、マニホールド６２は塗布液の供給を受
けることができる。A manifold 62 is formed in the slit die 40 at the center thereof, and the manifold 62 is horizontally arranged in the width direction of the slit die 40, that is, in the direction orthogonal to the reciprocating direction of the stage 6. It is extended. The manifold 62 is the above-mentioned coating liquid supply hose 4.
2 is always connected via an internal passage (not shown), so that the manifold 62 can receive the supply of the coating liquid.
【００２２】スリットダイ４０の内部にはその上端がマ
ニホールド６２に連通したスリット６４が形成されてお
り、このスリット６４の下端がノズル部の下面にて開口
している。すなわち、スリット６４の下端開口がスリッ
トダイ４０の吐出口として形成されている。具体的に
は、スリット６４はフロントリップ５９とリアリップ６
０との間に挟み込んだシムによって確保されている。Inside the slit die 40, a slit 64 whose upper end communicates with the manifold 62 is formed, and the lower end of this slit 64 is open at the lower surface of the nozzle portion. That is, the lower end opening of the slit 64 is formed as a discharge port of the slit die 40. Specifically, the slit 64 includes the front lip 59 and the rear lip 6.
It is secured by a shim sandwiched between 0 and it.
【００２３】再度、図１を参照すると、基台２の上面に
はダイ支柱２４よりも手前側に位置してセンサ柱２０が
配置されている。このセンサ支柱２０もまた前述したダ
イ支柱２４と同様に逆Ｌ字形をなし、その先端がステー
ジ６の往復動経路の上方に位置付けられている。センサ
支柱２０の先端には昇降アクチュエータ２１を介して厚
みセンサ２２が取り付けられている。この厚みセンサ２
２は、ステージ６上にカラーフィルタの基板、つまり、
ガラス基板Ａが載置されたとき、昇降アクチュエータ２
１により所定の位置まで降下され、この降下位置にて、
ステージ６上のガラス基板Ａの厚さを光学的に検出し、
その厚さに対応した検出信号をコンピュータ５４に出力
する。具体的には、厚みセンサ２２は、測定対象である
ガラス基板Ａに向けて測定光を出射する光源と、ガラス
基板Ａの上面および下面からの反射光をそれぞれ受光す
る受光部と、受光部への反射光の入射位置の差に基づ
き、ガラス基板Ａの厚みを演算する演算回路部とから構
成されている。なお、昇降アクチュエータ２１の作動は
コンピュータ５４によって制御されるようになってお
り、また、厚みセンサ２２としては上述のタイプに限ら
ず、レーザ変位計、電子マイクロ変位計、超音波厚さ計
などを使用することができる。Referring again to FIG. 1, the sensor column 20 is disposed on the upper surface of the base 2 at a position closer to the front side than the die column 24. The sensor column 20 also has an inverted L shape like the die column 24 described above, and its tip is positioned above the reciprocating path of the stage 6. A thickness sensor 22 is attached to the tip of the sensor column 20 via an elevating actuator 21. This thickness sensor 2
2 is a color filter substrate on the stage 6, that is,
When the glass substrate A is placed, the lifting actuator 2
1 is lowered to a predetermined position, and at this lowered position,
The thickness of the glass substrate A on the stage 6 is optically detected,
A detection signal corresponding to the thickness is output to the computer 54. Specifically, the thickness sensor 22 includes a light source that emits measurement light toward the glass substrate A to be measured, a light receiving unit that receives reflected light from the upper surface and the lower surface of the glass substrate A, and a light receiving unit. And an arithmetic circuit for calculating the thickness of the glass substrate A based on the difference between the incident positions of the reflected light. The operation of the lifting actuator 21 is controlled by a computer 54. The thickness sensor 22 is not limited to the above-described type, and may be a laser displacement meter, an electronic micro displacement meter, an ultrasonic thickness meter, or the like. Can be used.
【００２４】図３〜図５を参照すれば、ダイホルダ３２
に対するスリットダイ４０の支持手段が示されており、
この支持手段は、回転ホルダ６６を備えている。この回
転ホルダ６６はダイホルダ３２と同様なコ字形をなし、
ダイホルダ３２内に配置されている。回転ホルダ６６の
両端部からは回転軸６８がそれぞれ側方に向けて水平に
突出されており、これら回転軸６８はダイホルダ３２の
両端部に回転自在に支持されている。Referring to FIGS. 3-5, the die holder 32
The means for supporting the slit die 40 with respect to
The supporting means includes a rotation holder 66. The rotation holder 66 has a U shape similar to the die holder 32,
It is arranged in the die holder 32. Rotation shafts 68 horizontally project from both ends of the rotation holder 66 to the sides, and the rotation shafts 68 are rotatably supported by both ends of the die holder 32.
【００２５】回転ホルダ６６内には前述したスリットダ
イ４０が保持されており、これにより、スリットダイ４
０は回転ホルダ６６の回転軸６８の軸線周り、つまり、
その吐出口の長手方向に沿う軸線周りに回転することが
できる。なお、回転ホルダ６６の一方の回転軸６８はダ
イホルダ３２の端部を貫通し、図示しない回転ハンドル
または駆動モータに接続されている。The above-mentioned slit die 40 is held in the rotary holder 66, whereby the slit die 4 is held.
0 is around the axis of the rotation shaft 68 of the rotation holder 66, that is,
It can rotate around an axis along the longitudinal direction of the discharge port. One rotation shaft 68 of the rotation holder 66 penetrates the end of the die holder 32 and is connected to a rotation handle or a drive motor (not shown).
【００２６】図３から明らかなようにスリットダイ４０
の吐出口が下向きとなる作動姿勢にあるとき、回転ホル
ダ６６はダイホルダ３２と同様に水平姿勢にあり、回転
ホルダ６６はテーパピン７０を介してダイホルダ３２に
連結されている。すなわち、ダイホルダ３２にはテーパ
孔７２が形成されており、一方、回転ホルダ６６にもダ
イホルダ３２のテーパ孔７２と同軸的に合致し、かつ、
そのテーパ孔７２の先細側の延長部を構成するテーパ孔
７４が形成されている。図３に示されているようにテー
パ孔７２，７４にテーパピン７０が挿入されていると、
回転ホルダ６６は回転不能にしてダイホルダ３２に固定
される。As is apparent from FIG. 3, the slit die 40
When the discharge port is in the downward operation posture, the rotary holder 66 is in the horizontal posture like the die holder 32, and the rotary holder 66 is connected to the die holder 32 via the taper pin 70. That is, the die holder 32 is formed with the tapered hole 72, while the rotary holder 66 is also coaxially aligned with the tapered hole 72 of the die holder 32, and
A tapered hole 74 that forms an extension of the tapered hole 72 on the tapered side is formed. As shown in FIG. 3, when the tapered pin 70 is inserted into the tapered holes 72 and 74,
The rotation holder 66 is fixed to the die holder 32 so that it cannot rotate.
【００２７】さらに、図４に示されているようにダイホ
ルダ３２には、たとえば渦電流式の近接センサ７６が取
り付けられており、この近接センサ７６は、回転ホルダ
６６がダイホルダ３２内に収納され、かつ、水平姿勢に
あるとき、回転ホルダ６６における一方の端部を検出
し、その検出信号を前述したシーケンサ５６に出力す
る。Further, as shown in FIG. 4, an eddy current type proximity sensor 76, for example, is attached to the die holder 32. In the proximity sensor 76, a rotary holder 66 is housed in the die holder 32, In addition, when in the horizontal posture, one end of the rotary holder 66 is detected, and the detection signal is output to the sequencer 56 described above.
【００２８】なお、本実施例では、ステージ６をスリッ
トダイ４０に対して相対的に水平移動させるようにした
が、要は両者のうちの少なくとも一方を移動させればよ
いのである。た図示されていないけれども、ダイコータ
の基台２の近傍には、基台２の一端部側および他端部側
にそれぞれ位置して、ガラス基板Ａのためのローダおよ
びアンローダが配置されている。これらローダおよびア
ンローダはたとえば円筒座標系産業用ロボットから構成
することができる。In this embodiment, the stage 6 is moved horizontally relative to the slit die 40, but the point is to move at least one of the two. Although not shown, a loader and an unloader for the glass substrate A are arranged near the base 2 of the die coater at one end side and the other end side of the base 2, respectively. The loader and the unloader can be composed of, for example, an industrial robot having a cylindrical coordinate system.
【００２９】次に、カラーフィルタの製造に係わる一工
程、つまり、上述したダイコータを使用してガラス基板
Ａに塗膜を形成する塗布方法を説明する。まず、塗膜の
形成に先立ち、ダイコータにおける各作動部の原点復帰
が行われ、ステージ６は図１に示されているように基台
２の一端部に位置付けられ、また、スリットダイ４０は
ダイホルダ３２を介して上昇位置に位置付けられてい
る。ここで、スリットダイ４０はその吐出口が水平とな
っており、この水平調整は前述した一対のリニアアクチ
ュエータ３８の作動によりなされている。Next, one step relating to the production of the color filter, that is, a coating method for forming a coating film on the glass substrate A using the above-mentioned die coater will be described. First, prior to the formation of the coating film, the origin of each operating portion of the die coater is returned, the stage 6 is positioned at one end of the base 2 as shown in FIG. 1, and the slit die 40 is attached to the die holder. It is located in the raised position via 32. Here, the discharge port of the slit die 40 is horizontal, and this horizontal adjustment is performed by the operation of the pair of linear actuators 38 described above.
【００３０】そして、この状態で、スリットダイ４０に
向けて塗布液が供給され、タンク５０から吸引ホース４
８および供給ホース４２を経てスリットダイ４０のマニ
ホールド６２およびスリット６４に至る経路内に塗布液
が満たされる。すなわち、シリンジポンプ４４の電磁切
換え弁４６がポンプ本体５２と吸引ホース４８との間を
接続すべく切換え作動され、ポンプ本体５２はその内部
にタンク５０内の塗布液を吸引ホース４８を通じて吸引
する。この後、シリンジポンプ４４の電磁切換え弁４６
はポンプ本体５２と供給ホース４２との間を接続すべく
切換え作動され、ポンプ本体５２はその内部の塗布液を
供給ホース４２を通じてスリットダイ４０に向けて吐出
する。このようなポンプ本体５２における塗布液の吸引
動作および吐出動作が繰り返されることにより、タンク
５０からスリットダイ４０のスリット６４に至る経路内
に塗布液が供給され、その経路内は塗布液で満たされて
いくことになる。なお、スリットダイ４０に塗布液が供
給されると、その吐出口から塗布液が吐出されることに
なるが、この際、スリットダイ４０の下方には図示しな
いガターが配置されており、スリットダイ４０から吐出
された塗布液はガターに受け取られ、そして、そのガタ
ーから廃液タンクに回収される。Then, in this state, the coating liquid is supplied toward the slit die 40, and the suction hose 4 is supplied from the tank 50.
8 through the supply hose 42 and the manifold 62 and the slit 64 of the slit die 40 are filled with the coating liquid. That is, the electromagnetic switching valve 46 of the syringe pump 44 is switched to connect between the pump body 52 and the suction hose 48, and the pump body 52 sucks the coating liquid in the tank 50 into the pump body 52 through the suction hose 48. Thereafter, the electromagnetic switching valve 46 of the syringe pump 44
Is switched to connect between the pump main body 52 and the supply hose 42, and the pump main body 52 discharges the coating liquid therein to the slit die 40 through the supply hose 42. By repeating the suction operation and the discharge operation of the coating liquid in the pump main body 52, the coating liquid is supplied into the path from the tank 50 to the slit 64 of the slit die 40, and the inside of the path is filled with the coating liquid. I will go. When the coating liquid is supplied to the slit die 40, the coating liquid is discharged from the discharge port. At this time, a gutter (not shown) is arranged below the slit die 40. The coating liquid discharged from 40 is received by the gutter, and is collected in the waste liquid tank from the gutter.
【００３１】ここで、タンク５０からスリットダイ４０
内に至る経路内のエアを完全に除去するため、ダイホル
ダ３２と回転ホルダ６６との間を連結しているテーパピ
ン７０が引き抜かれると、回転ホルダ６６、すなわち、
スリットダイ４０の回転が自由になる。この状態で、図
６に示されるようにスリットダイ４０をその作動姿勢か
ら回転ホルダ６６とともに回転させ、スリットダイ４０
の吐出口を上向きとする。この状態で、スリットダイ４
０への塗布液の供給を継続すれば、スリットダイ４０内
のみならず、このスリットダイ４０からタンク５０に至
る経路内からエアが完全に除去される。なお、スリット
ダイ４０が作動姿勢から回転されると、図７に示されて
いるように回転ホルダ６６はダイホルダ３２側の近接セ
ンサ７６に対して非対向状態となるので、近接センサ７
６からシーケンサ５６にオフ信号が出力される。Here, from the tank 50 to the slit die 40
When the taper pin 70 connecting the die holder 32 and the rotary holder 66 is pulled out in order to completely remove the air in the path to the inside, the rotary holder 66, that is,
The slit die 40 is free to rotate. In this state, as shown in FIG. 6, the slit die 40 is rotated together with the rotary holder 66 from its operating posture, and the slit die 40 is rotated.
The discharge port of is facing upward. In this state, slit die 4
If the supply of the coating liquid to 0 is continued, the air is completely removed not only in the slit die 40 but also in the path from the slit die 40 to the tank 50. It should be noted that when the slit die 40 is rotated from the operating posture, the rotary holder 66 is in a non-opposing state with respect to the proximity sensor 76 on the die holder 32 side as shown in FIG.
An off signal is output from 6 to the sequencer 56.
【００３２】上述したエア抜き作業が完了すると、スリ
ットダイ４０は回転ホルダ６６ととに作動姿勢に向けて
回転され、そして、回転ホルダ６６のテーパ孔７４とダ
イホルダ３２のテーパ孔７２とを同軸的に合致させて、
これらにテーパピン７０を挿通する。これにより、スリ
ットダイ４０は回転ホルダ６６を介してダイホルダ３２
に固定され、その元の作動姿勢が再現される。また、こ
のとき、近接センサ７６は回転ホルダ６６の端部と近接
対向するので、近接センサ７６からオン信号がシーケン
サ５６に出力される。When the air bleeding operation described above is completed, the slit die 40 is rotated with the rotary holder 66 toward the operating posture, and the taper hole 74 of the rotary holder 66 and the taper hole 72 of the die holder 32 are coaxially arranged. To match
The taper pin 70 is inserted through these. As a result, the slit die 40 moves the die holder 32 through the rotary holder 66.
It is fixed to and the original working posture is reproduced. Further, at this time, since the proximity sensor 76 closely faces the end of the rotation holder 66, the proximity sensor 76 outputs an ON signal to the sequencer 56.
【００３３】この後、塗工工程の準備作動として、シリ
ンジポンプ４４の電磁切換え弁４６はポンプ本体５２と
吸引ホース４８とを接続すべく切換え作動され、ポンプ
本体５２はタンク５０内の塗布液を吸引ホース４８を通
じて、その内部に所定量の塗布液を吸引し、そして、シ
リンジポンプ４４はその電磁切換え弁４６がポンプ本体
５２と供給ホース４２とを接続すべく切換え作動された
状態で待機する。このとき、前述したガターはスリット
ダイ４０の下方から所定の待機位置、つまり、ステージ
６の移動を妨げない位置まで移動される。Thereafter, as a preparatory operation for the coating process, the electromagnetic switching valve 46 of the syringe pump 44 is switched to connect the pump main body 52 and the suction hose 48, and the pump main body 52 stores the coating liquid in the tank 50. Through the suction hose 48, a predetermined amount of coating liquid is sucked into the inside thereof, and the syringe pump 44 stands by in a state in which its electromagnetic switching valve 46 is switched and operated to connect the pump body 52 and the supply hose 42. At this time, the above-mentioned gutter is moved from below the slit die 40 to a predetermined standby position, that is, a position that does not hinder the movement of the stage 6.
【００３４】一方、ステージ６上には図示しないローダ
を介してガラス基板Ａが位置決めされた状態で載置さ
れ、このガラス基板Ａはステージ６の上面にサクション
により吸着保持される。ガラス基板Ａのローディングが
完了すると、厚みセンサ２２が下降し、この厚みセンサ
２２によりステージ６上のガラス基板Ａの厚さが光学的
に検出され、その検出信号がコンピュータ５４に供給さ
れる。厚みの測定が完了すると、厚みセンサ２２は元の
位置まで上昇される。On the other hand, the glass substrate A is placed on the stage 6 in a positioned state via a loader (not shown), and the glass substrate A is suction-held on the upper surface of the stage 6 by suction. When the loading of the glass substrate A is completed, the thickness sensor 22 descends, the thickness sensor 22 optically detects the thickness of the glass substrate A on the stage 6, and the detection signal is supplied to the computer 54. When the thickness measurement is completed, the thickness sensor 22 is raised to the original position.
【００３５】この後、近接センサ７６からオン信号が出
力されていることを条件として、ステージ６がスリット
ダイ４０に向けて往動され、そのガラス基板Ａ上への塗
膜の形成開始ラインがスリットダイ４０の吐出口位置に
達した時点で、ステージ６の往動が一旦停止される。そ
して、スリットダイ４０は、既に測定されているガラス
基板Ａの厚みを考慮して下降され、スリットダイ４０の
吐出口とガラス基板Ａとの間に所定のクリアランスが確
保される。After that, on condition that the proximity sensor 76 outputs an ON signal, the stage 6 is moved forward toward the slit die 40, and the line for starting the formation of the coating film on the glass substrate A is slit. When the discharge port position of the die 40 is reached, the forward movement of the stage 6 is temporarily stopped. Then, the slit die 40 is lowered in consideration of the already measured thickness of the glass substrate A, and a predetermined clearance is secured between the discharge port of the slit die 40 and the glass substrate A.
【００３６】クリアランスが設定されると、シリンジポ
ンプ４４、すなわち、そのポンプ本体５２は塗布液の吐
出動作を開始し、その内部の塗布液をスリットダイ４０
に向けて吐出する。したがって、スリットダイ４０の吐
出口からガラス基板Ａ上の形成開始ラインに沿って塗布
液が一様に吐出され、この結果、スリットダイ４０とガ
ラス基板Ａとの間にはメニスカスと称される液溜まりＣ
（図２参照）が形成される。When the clearance is set, the syringe pump 44, that is, the pump main body 52 thereof, starts the discharge operation of the coating liquid, and the coating liquid inside the slit die 40.
Discharge toward. Therefore, the coating liquid is uniformly discharged from the discharge port of the slit die 40 along the formation start line on the glass substrate A, and as a result, a liquid called a meniscus is formed between the slit die 40 and the glass substrate A. Pool C
(See FIG. 2) is formed.
【００３７】このような液溜まりＣの形成と同時に、ス
リットダイ４０、つまり、その吐出口からの塗布液の吐
出を継続しながら、ステージ６を一定の速度で往動方向
に進行させると、図２に示されているようにガイド基板
Ａの上面に塗布液の塗膜Ｄが連続して形成される。ステ
ージ６の進行に伴い、ガラス基板Ａ上にて塗膜Ｄの形成
を終了すべき形成終了ラインがスリットダイ４０の吐出
口の直前位置に到達すると、この時点で、シリンジポン
プ４４の吐出動作が停止される。このようにしてスリッ
トダイ４０からの塗布液の吐出が停止されても、ガラス
基板Ａ上においてはその液溜まりＣの塗布液を消費（ス
キージ）しながら、塗膜Ｄの形成が形成終了ラインまで
継続される。なお、ガラス基板Ａ上の形成終了ラインが
スリットダイ４０の吐出口を通過した時点で、シリンジ
ポンプ４４の吐出動作を停止するようにしてもよい。Simultaneously with the formation of such a liquid pool C, while the discharge of the coating liquid from the slit die 40, that is, the discharge port thereof is continued, the stage 6 is advanced at a constant speed in the forward direction. As shown in FIG. 2, the coating film D of the coating liquid is continuously formed on the upper surface of the guide substrate A. With the progress of the stage 6, when the formation end line on the glass substrate A where the formation of the coating film D should be finished reaches the position immediately before the discharge port of the slit die 40, the discharge operation of the syringe pump 44 is started at this point. Be stopped. Even if the discharge of the coating liquid from the slit die 40 is stopped in this way, the coating liquid D is formed on the glass substrate A until the formation end line while the coating liquid in the liquid pool C is consumed (squeegee). To be continued. Note that the discharge operation of the syringe pump 44 may be stopped when the formation completion line on the glass substrate A passes through the discharge port of the slit die 40.
【００３８】シリンジポンプ４４の吐出動作が停止され
ると、このシリンジポンプ４４はわずかに吸引動作を行
い、スリットダイ４０におけるスリット６４内の塗布液
をマニホールド６２側に吸い戻す。このようなシリンジ
ポンプ４４の吸い戻し動作と同時に、スリットダイ４０
は元の位置まで上昇される。一方、ステージ６の往動は
スリットダイ４０からの塗布液の吐出が停止されても継
続され、ステージ６がガイド溝レール４の終端に到達し
た時点で、その往動が停止される。この後、ステージ６
上へのガラス基板Ａのサクションが解除され、塗膜Ｄが
形成されたガラス基板Ａはアンローダによりステージ６
から取り外され、そして、次工程に向けて供給される。When the discharge operation of the syringe pump 44 is stopped, the syringe pump 44 slightly performs a suction operation to suck the coating liquid in the slit 64 of the slit die 40 back to the manifold 62 side. Simultaneously with such sucking back operation of the syringe pump 44, the slit die 40
Is raised to its original position. On the other hand, the forward movement of the stage 6 is continued even when the discharge of the coating liquid from the slit die 40 is stopped, and when the stage 6 reaches the end of the guide groove rail 4, the forward movement is stopped. After this, stage 6
The suction of the glass substrate A to the upper side is released, and the glass substrate A on which the coating film D is formed is moved to the stage 6 by the unloader.
And then supplied for the next process.
【００３９】ステージ６がスリットダイ４０を通過した
後、前述したガター９２は再びスリットダイ４０の下方
に移動され、この状態で、シリンジポンプ４４は吸い戻
した量だけ塗布液を吐出し、スリットダイ４０のスリッ
ト６４内に空気が残るのを防止する。この際、スリット
ダイ４０の吐出口から塗布液が吐出されても、その塗布
液はガターに受け取られる。この後、ガターはその待機
位置までに戻される。After the stage 6 has passed through the slit die 40, the above-mentioned gutter 92 is moved below the slit die 40 again, and in this state, the syringe pump 44 discharges the coating liquid by the sucked back amount, and the slit die 40 Prevents air from remaining in the slit 64 of the 40. At this time, even if the coating liquid is discharged from the discharge port of the slit die 40, the coating liquid is received by the gutter. After this, the gutter is returned to its standby position.
【００４０】この後、ステージ６は図１に示す初期位置
まで戻され、これにより、一連の塗布工程が完了する。
なお、初期位置にて、ステージ６は新たなガラス基板Ａ
がローディングされるまで待機し、そして、シリンジポ
ンプ４４は前述した塗工工程の準備動作を行って待機す
る。なお、ガラス基板Ａ上に形成された塗膜Ｄが黒の塗
膜である場合には、この後、ガラス基板Ａの塗膜Ｄ上に
公知の如くポジ型フォトレジストの塗布、マスク露光、
現像、エッチングによるレリーフパターンの形成、レリ
ーフパターンをマスクとした塗膜のエッチング、レリー
フパターンの除去などの各工程を赤、青、緑の塗膜に対
して繰り返して行うことにより、カラーフィルタが製造
される。After this, the stage 6 is returned to the initial position shown in FIG. 1, whereby a series of coating steps is completed.
At the initial position, the stage 6 is a new glass substrate A.
Is waited for, and then the syringe pump 44 performs the preparation operation of the coating process described above and waits. When the coating film D formed on the glass substrate A is a black coating film, then, as is well known, coating of a positive photoresist, mask exposure, and
A color filter is manufactured by repeatedly performing steps such as development, formation of a relief pattern by etching, etching of a coating film using the relief pattern as a mask, and removal of the relief pattern for red, blue, and green coating films. To be done.
【００４１】上述したダイコータにあっては、そのスリ
ットダイ４０がその吐出口の長手方向に沿う軸線周りに
回転可能であるから、その吐出口を上向きとして前述し
たエア抜き作業を容易に行うことができる。したがっ
て、塗工工程時には、スリットダイ４０の吐出口から塗
布液を安定して吐出させることができ、エアかみ込みに
よる塗工欠点の発生もない。また、エア抜き作業の後、
スリットダイ４０を回転させて、その元の作動姿勢に戻
すとき、回転ホルダ６６はテーパピン７０を介してダイ
ホルダ３２に固定されるので、ダイホルダ３２に対する
スリットダイ４０の取り付け位置は元の状態に正確に戻
されることになる。したがって、ダイホルダ３２の下降
に伴い、スリットダイ４０の吐出口とガラス基板Ａとの
間に所定のクリアランスを確保するとき、そのクリアラ
ンスの設定を再現性よく正確に行うことができる。この
結果、この後の塗工工程により、ガラス基板Ａ上に形成
される塗膜Ｄはその膜厚が均一となり、カラーフィルタ
の品質および生産性が向上する。In the die coater described above, since the slit die 40 is rotatable about the axis line along the longitudinal direction of the discharge port, the air discharge work can be easily performed with the discharge port facing upward. it can. Therefore, during the coating process, the coating liquid can be stably discharged from the discharge port of the slit die 40, and the coating defect due to air entrapment does not occur. Also, after air bleeding work,
When the slit die 40 is rotated and returned to its original working posture, the rotary holder 66 is fixed to the die holder 32 via the taper pin 70, so that the mounting position of the slit die 40 with respect to the die holder 32 is accurately set to the original state. Will be returned. Therefore, when a predetermined clearance is secured between the discharge port of the slit die 40 and the glass substrate A as the die holder 32 descends, the clearance can be set with good reproducibility and accuracy. As a result, the coating film D formed on the glass substrate A has a uniform film thickness in the subsequent coating process, and the quality and productivity of the color filter are improved.
【００４２】さらに、ガラス基板Ａに対する塗膜Ｄの塗
工工程は、近接センサ７６からのオン信号の出力を条件
として実施されるので、スリットダイ４０の吐出口が上
向きとなっている状態で、その塗工工程が誤って実施さ
れてしまうことはない。上述したスリットダイ４０の回
転を伴うエア抜き作業は、塗工工程が繰り返して実施さ
れるとき、定期的または必要に応じて実施される。Further, since the coating process of the coating film D on the glass substrate A is carried out on condition that the ON signal is output from the proximity sensor 76, the discharge port of the slit die 40 faces upward, The coating process will not be erroneously performed. The air bleeding operation involving the rotation of the slit die 40 described above is performed regularly or as needed when the coating process is repeatedly performed.
【００４３】この発明は、上述の一実施例に制約される
ものではなく、図８および図９を参照すると、スリット
ダイ４０の他の支持機構がそれぞれ示されている。図８
の支持機構は前述したテーパピン７０の代わりに下側の
固定ピン７８と、上側のプッシュボルト８０との組合せ
から構成されており、これら固定ピン７８およびプッシ
ュボルト８０は、回転ホルダ６６の回転軸６８を上下か
ら挟むようにして配置されている。固定ピン７８はダイ
ホルダ３２の下部に固定され、回転ホルダ６６に向けて
突出されている。この場合、回転ホルダ６６の外面には
突部８２が形成され、この突部８２に固定ピン７８の先
端が当接することで、回転ホルダ６６は水平姿勢に位置
決めされている。そして、プッシュボルト８０はダイホ
ルダ３２に進退自在にねじ込まれ、その先端が回転ホル
ダ６６の外面に押し付けられている。このように回転ホ
ルダ６６の外面の上下位置にて、プッシュボルト８０お
よび固定ピン７８が当接されていると、回転ホルダ６６
はその回転が不能となり、その作動姿勢に安定して保持
される。The present invention is not limited to the above-described embodiment, but referring to FIGS. 8 and 9, another supporting mechanism of the slit die 40 is shown. FIG.
The support mechanism of is composed of a combination of a lower fixing pin 78 and an upper push bolt 80 instead of the above-mentioned taper pin 70. The fixing pin 78 and the push bolt 80 serve as the rotation shaft 68 of the rotary holder 66. Are arranged so as to be sandwiched from above and below. The fixed pin 78 is fixed to the lower part of the die holder 32 and protrudes toward the rotary holder 66. In this case, a protrusion 82 is formed on the outer surface of the rotation holder 66, and the tip of the fixing pin 78 contacts the protrusion 82, whereby the rotation holder 66 is positioned in a horizontal posture. The push bolt 80 is screwed into the die holder 32 so as to be able to move back and forth, and its tip is pressed against the outer surface of the rotary holder 66. When the push bolt 80 and the fixing pin 78 are in contact with each other at the upper and lower positions of the outer surface of the rotary holder 66 in this way, the rotary holder 66
Is unable to rotate and is stably held in its working position.
【００４４】上述した図８の支持機構の場合、エア抜き
作業を行うためには、先ずプッシュボルト８０を回し
て、その先端を回転ホルダ６６から離間させると、この
場合、スリットダイ４０はその作動姿勢から回転ホルダ
６６を介して図８中実線の矢印方向のみに回転でき、こ
れにより、スリットダイ４０の吐出口を上向きすること
ができる。この後、エア抜き作業が完了すると、回転ホ
ルダ６６の突部８２が固定ピン７８の先端に当接するま
で図８中破線の矢印方向に回転させて位置決めし、この
後、プッシュボルト８０をねじ込み、その先端を回転ホ
ルダ６６の外面に再び押し付けることで、回転ホルダ６
６、つまり、スリットダイ４０を元の作動姿勢に保持す
ることができる。In the case of the support mechanism shown in FIG. 8 described above, in order to perform the air bleeding operation, first, the push bolt 80 is turned to separate its tip from the rotary holder 66. In this case, the slit die 40 operates. It is possible to rotate from the posture only through the rotary holder 66 in the direction of the arrow shown by the solid line in FIG. 8, whereby the discharge port of the slit die 40 can be directed upward. After this, when the air bleeding work is completed, the protrusion 82 of the rotary holder 66 is rotated and positioned in the direction of the broken line in FIG. 8 until it contacts the tip of the fixed pin 78, and then the push bolt 80 is screwed in, By pressing the tip against the outer surface of the rotation holder 66 again, the rotation holder 6
6, that is, the slit die 40 can be held in the original working posture.
【００４５】図９の支持機構は、前述した固定ピン７８
およびプッシュボルト８０の代わりに上下一対のエアシ
リンダ８４を備えており、これらエアシリンダ８４はダ
イホルダ３２に取り付けられている。これらエアシリン
ダ８４のピストンロッドは回転ホルダ６６の外面にそれ
ぞれ当接され、これにより、回転ホルダ６６は水平姿勢
に位置決めされた状態で保持されている。ここで、一対
のエアシリンダ８４はそのピストンロッドの伸縮量がフ
ィードバック制御可能であり、そして、スリットダイ４
０が図９に示す作動姿勢にあるとき、各エアシリンダ８
４におけるピストンロッドの伸縮量は図示しない記憶装
置に記憶されている。The support mechanism shown in FIG. 9 has the above-described fixing pin 78.
Also, a pair of upper and lower air cylinders 84 are provided instead of the push bolts 80, and these air cylinders 84 are attached to the die holder 32. The piston rods of the air cylinders 84 are brought into contact with the outer surface of the rotary holder 66, respectively, so that the rotary holder 66 is held in a horizontal position. In the pair of air cylinders 84, the expansion and contraction amount of the piston rod can be feedback-controlled, and the slit die 4
0 is in the operating position shown in FIG. 9, each air cylinder 8
The amount of expansion and contraction of the piston rod in No. 4 is stored in a storage device (not shown).
【００４６】図９の支持機構において、エア抜き作業を
行うためには、一対のエアシリンダ８４のピストンロッ
ドを収縮させて、回転ホルダ６６つまりスリットダイ４
０の回転を可能して、その吐出口を上向きとする。エア
抜き作業の完了後、スリットダイ４０をその吐出口が下
向きとなるように回転ホルダ６６を介して回転させ、そ
して、一対のエアシリンダ８４のピストンロッドを記憶
されている伸縮量まで伸張させる。一対のエアシリンダ
８４のピストンロッドはそれらの先端が回転ホルダ６６
の外面に当接すると、回転ホルダ６６の回転角を微調整
しながら、スリットダイ４０を元の作動姿勢に位置決め
して戻す。なお、この一対のエアシリンダ８４にリニア
モータを使用してもよい。図９の支持機構は、スリット
ダイ４０の回転を自動化する上で好適する。In the support mechanism of FIG. 9, in order to perform the air bleeding work, the piston rods of the pair of air cylinders 84 are contracted to rotate the rotary holder 66, that is, the slit die 4.
Rotation of 0 is possible and the discharge port is directed upward. After the air bleeding operation is completed, the slit die 40 is rotated via the rotary holder 66 so that its discharge port faces downward, and the piston rods of the pair of air cylinders 84 are extended to the stored expansion / contraction amount. The piston rods of the pair of air cylinders 84 have their tips at the rotation holder 66.
When it comes into contact with the outer surface of the slit die 40, the slit die 40 is positioned and returned to the original working posture while finely adjusting the rotation angle of the rotary holder 66. A linear motor may be used for the pair of air cylinders 84. The support mechanism of FIG. 9 is suitable for automating the rotation of the slit die 40.
【００４７】[0047]
【発明の効果】請求項１，４の塗布装置および塗布方法
によれば、エア抜き作業のために塗布器を回転させて
も、この後、塗布器を元の作動姿勢に正確に位置決めし
て戻すことができるので、塗工工程時には、塗布器の吐
出口と被塗布部材との間に正確なクリアランスを安定し
て確保でき、均一な塗膜の形成が可能となる。According to the coating device and the coating method of the first and fourth aspects, even if the coating device is rotated for the air bleeding work, the coating device is accurately positioned in the original working posture after that. Since it can be returned, an accurate clearance can be stably secured between the discharge port of the applicator and the member to be coated during the coating process, and a uniform coating film can be formed.
【００４８】請求項２，５の塗布装置および塗布方法に
よれば、塗布器が作動姿勢にあるか否かを検出するよう
にしてあるので、塗布器が作動姿勢から外れ、エア抜き
作業の姿勢にあるときには被塗布部材に対する塗膜の形
成を不能にすることができる。請求項３，６のカラーフ
ィルタの製造装置および製造方法によれば、均一な塗膜
の形成が可能であるから、カラーフィルタの品質および
生産性を向上することができる。According to the coating apparatus and the coating method of the second and fifth aspects, since it is detected whether or not the applicator is in the working posture, the applicator comes out of the working posture, and the posture of the air bleeding work When it is, the formation of the coating film on the coated member can be disabled. According to the color filter manufacturing apparatus and the color filter manufacturing method of the third and sixth aspects, since a uniform coating film can be formed, the quality and productivity of the color filter can be improved.
【図１】一実施例のダイコータを概略的に示した斜視図
である。FIG. 1 is a perspective view schematically showing a die coater of an embodiment.
【図２】図１のダイコータを塗布液の供給系をも含めて
示した概略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram showing the die coater of FIG. 1 including a coating liquid supply system.
【図３】ダイホルダに対するスリットダイの支持機構を
一部破断して示す側面図である。FIG. 3 is a side view showing a slit die supporting mechanism for a die holder in a partially cutaway manner.
【図４】図３の支持機構を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing the support mechanism of FIG.
【図５】図３の支持機構を示す正面図である。5 is a front view showing the support mechanism of FIG. 3. FIG.
【図６】スリットダイの吐出口が上向きとなった状態を
一部破断して示す支持機構の側面図である。FIG. 6 is a side view of the support mechanism showing a state in which the discharge port of the slit die is directed upward with a part thereof cut away.
【図７】図６の状態での支持機構の平面図である。FIG. 7 is a plan view of the support mechanism in the state of FIG.
【図８】変形例の支持機構を示す図である。FIG. 8 is a view showing a support mechanism of a modified example.
【図９】他の変形例の支持機構を示す図である。FIG. 9 is a view showing a support mechanism of another modified example.
６ ステージ １４ フィードスクリュー ２２ 厚みセンサ ３２ ダイホルダ ４０ スリットダイ（塗布器） ４４ シリンジポンプ ５０ タンク ６２ マニホールド ６４ スリット ６６ 回転ホルダ ６８ 回転軸 ７０ テーパピン ７２ テーパ孔 ７４ テーパ孔 ７６ 近接センサ（検出手段） ７８ 固定ピン ８０ プッシュボルト ８２ 突部 ８４ エアシリンダ 6 stage 14 feed screw 22 thickness sensor 32 die holder 40 slit die (applicator) 44 syringe pump 50 tank 62 manifold 64 slit 66 rotary holder 68 rotary shaft 70 taper pin 72 taper hole 74 taper hole 76 proximity sensor (detection means) 78 fixed pin 80 Push Bolt 82 Projection 84 Air Cylinder
Claims (6)
方向に延びる吐出口を有する塗布器と、 前記塗布器および被塗布部材のうちの少なくとも一方を
相対的に移動させる移動手段とを備えた塗布装置におい
て、 前記吐出口の長手方向に沿う軸線周りに前記塗布器を回
転可能に支持する支持手段と、 前記被塗布部材に対し前記吐出口が対向して平行となる
作動姿勢に前記塗布器を位置決めする位置決め手段とを
備えたことを特徴とする塗布装置。1. A supply unit for supplying a coating liquid, an applicator having a discharge port extending in one direction for discharging the coating liquid supplied from the supply unit, and one of the applicator and a member to be coated. In a coating device including a moving unit that relatively moves at least one of them, a supporting unit that rotatably supports the applicator around an axis along the longitudinal direction of the discharge port, and the discharge unit that discharges the member to be coated. A coating device, comprising: positioning means for positioning the applicator in an operating posture in which the outlets are opposed and parallel to each other.
を検出する検出手段をさらに備えたことを特徴とする、
請求項１に記載の塗布装置。2. A detection means for detecting whether or not the applicator is in the operating posture, further comprising:
The coating device according to claim 1.
用してカラーフィルタを製造することを特徴とするカラ
ーフィルタの製造装置。3. A color filter manufacturing apparatus, which manufactures a color filter by using the coating apparatus according to claim 1.
吐出口から塗布液を吐出しながら、前記塗布器および被
塗布部材うちの少なくとも一方を相対的に移動させて前
記被塗布部材に塗膜を形成する塗布方法において、 前記被塗布部材への塗膜の形成に先立ち、前記塗布器内
のエア抜きのために前記吐出口の長手方向に沿う軸線周
りに前記塗布器を回転させて前記吐出口を上向きとし、
この後、前記被塗布部材に対し前記吐出口が対向して平
行となる作動姿勢に前記塗布器を位置決めして戻すこと
を特徴とする塗布方法。4. The coating liquid is discharged from a discharge port provided in the coating device and extending in one direction, and at least one of the coating device and the coating target member is relatively moved to coat the coating target member. In a coating method for forming a film, prior to forming a coating film on the member to be coated, the applicator is rotated around an axis line along the longitudinal direction of the discharge port for bleeding air in the applicator. With the discharge port facing upwards,
After that, the coating device is positioned and returned to an operating posture in which the discharge port faces and is parallel to the member to be coated.
を検出することを特徴とする請求項４に記載の塗布方
法。5. The coating method according to claim 4, wherein it is detected whether or not the applicator is in the operating posture.
いてカラーフィルタを製造することを特徴とするカラー
フィルタの製造方法。6. A method for manufacturing a color filter, which comprises manufacturing a color filter by using the coating method according to claim 4.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6653096A JPH09253556A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Coater and coating method, manufacturing device and manufacture of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6653096A JPH09253556A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Coater and coating method, manufacturing device and manufacture of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09253556A true JPH09253556A (en) | 1997-09-30 |
Family
ID=13318540
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6653096A Pending JPH09253556A (en) | 1996-03-22 | 1996-03-22 | Coater and coating method, manufacturing device and manufacture of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09253556A (en) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003088778A (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-25 | Shibaura Mechatronics Corp | Coater |
| EP1484116A2 (en) | 2003-06-03 | 2004-12-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and coater |
| KR20050010196A (en) * | 2003-07-18 | 2005-01-27 | 한국항공우주산업 주식회사 | Slip Renewal Drill Bush Set |
| JP2006510226A (en) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | エイエスエムエル ユーエス インコーポレイテッド | Apparatus and method for delivering fluid from a rotatable delivery arm |
| JP2006300359A (en) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Toshiba Corp | Refrigerant liquid injection device and refrigerant liquid injection method |
| CN100335182C (en) * | 2003-11-18 | 2007-09-05 | 大日本网目版制造株式会社 | Base plate treater, slit jet nozzle and mechanism for determining liquid filling degree and gas mixing degree in filled body |
| JP2012213762A (en) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Ricoh Co Ltd | Curtain coating method and curtain coating device |
-
1996
- 1996-03-22 JP JP6653096A patent/JPH09253556A/en active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003088778A (en) * | 2001-09-18 | 2003-03-25 | Shibaura Mechatronics Corp | Coater |
| JP2006510226A (en) * | 2002-12-16 | 2006-03-23 | エイエスエムエル ユーエス インコーポレイテッド | Apparatus and method for delivering fluid from a rotatable delivery arm |
| EP1484116A2 (en) | 2003-06-03 | 2004-12-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Coating method and coater |
| KR20050010196A (en) * | 2003-07-18 | 2005-01-27 | 한국항공우주산업 주식회사 | Slip Renewal Drill Bush Set |
| CN100335182C (en) * | 2003-11-18 | 2007-09-05 | 大日本网目版制造株式会社 | Base plate treater, slit jet nozzle and mechanism for determining liquid filling degree and gas mixing degree in filled body |
| JP2006300359A (en) * | 2005-04-15 | 2006-11-02 | Toshiba Corp | Refrigerant liquid injection device and refrigerant liquid injection method |
| JP2012213762A (en) * | 2011-03-31 | 2012-11-08 | Ricoh Co Ltd | Curtain coating method and curtain coating device |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH09206652A (en) | Equipment and method for coating, and device and method for manufacturing color filter | |
| JPH07275770A (en) | Paste applicator | |
| JPH09192566A (en) | Coating apparatus and coating method and manufacture and manufacture apparatus of color filter | |
| CN113696638A (en) | Glass substrate circuit printing method and equipment | |
| JPH09253556A (en) | Coater and coating method, manufacturing device and manufacture of color filter | |
| JPH06339656A (en) | Liquid applicator | |
| JP3651503B2 (en) | Coating apparatus and coating method, and color filter manufacturing apparatus and manufacturing method | |
| JP3806661B2 (en) | Paste application method and paste applicator | |
| JP2000197844A (en) | Method and apparatus for coating and method and apparatus for producing member for plasma display | |
| JPH09131561A (en) | Coating device, coating method, producing device for color filter and its production | |
| JP2004321932A (en) | Coater for adhesive and coating method for adhesive | |
| JP4333074B2 (en) | Coating apparatus and coating method, and plasma display member manufacturing apparatus and manufacturing method | |
| JP3912635B2 (en) | APPARATUS AND METHOD FOR APPLYING COATING LIQUID ON CONCRETE SUBSTRATE AND APPARATUS AND METHOD FOR PRODUCING PLASMA DISPLAY | |
| JP3646747B2 (en) | COATING APPARATUS, COATING METHOD, COLOR FILTER MANUFACTURING APPARATUS AND ITS MANUFACTURING METHOD | |
| JP3811028B2 (en) | Paste applicator and control method thereof | |
| JP5085985B2 (en) | Substrate screen printing device | |
| JPH09187710A (en) | Coating apparatus and coating method and apparatus and method for manufacturing color filter | |
| JPH11239750A (en) | Method and apparatus for applying coating liquid on uneven substrate, method and apparatus for producing plasma display | |
| JPH06339655A (en) | Liquid applicator | |
| JP3134742B2 (en) | Coating device and coating method, color filter manufacturing device and manufacturing method | |
| JP4403802B2 (en) | Paste applicator | |
| JPH11300258A (en) | Coating apparatus, coating method, apparatus for preparing color filter and its preparation | |
| JP2000140740A (en) | Coating apparatus, production of substrate, and apparatus and method for producing color filter by using the same | |
| KR0159350B1 (en) | Paste applying machine | |
| JP3561998B2 (en) | Single-wafer coating method and apparatus |