JPH09232213A - 投影露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 比較的簡単な構成で投影光学系の歪曲収差を
補正できるようにする。 【解決手段】 レチクルＲに形成されたパターンをウエ
ハＷ上に投影する投影光学系ＰＬを構成する光学素子Ｌ
３にヒーターＨ１，Ｈ２等の温度可変手段を設け、光学
素子Ｌ３に所定の温度分布を与えて物理的に変形（Ｌ
３’）させることで投影光学系ＰＬの光学特性を修正
し、歪曲収差を補正する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体デバイスや
液晶ディスプレイ等の製造に用いられる投影露光装置に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体素子、液晶ディスプレイ、薄膜磁
気ヘッド等を製造するフォトリソグラフ工程では、投影
露光装置を用いてフォトマスク又はレチクル（以下、レ
チクルという）に形成されたパターンをフォトレジスト
等の感光剤が塗布されたウエハやガラスプレート等の感
光基板上に投影露光することが行われる。このパターン
露光は、感光基板上にすでに形成されているパターンの
上に重ね合わせて露光することを複数回繰り返して行う
のが通常である。感光基板上に形成されたパターンの精
度は完成品であるデバイスの性能に直接影響を与えるた
め、投影露光装置の投影光学系は像の歪み（歪曲収差）
を極めて小さいものとすることが要求されている。その
ために、投影レンズの設計の際に原理的に生ずる歪曲収
差を極めて小さくするのはむろんのこと、製造の際に生
ずる光学素子の製造誤差や組立公差を小さくすることが
必要とされている。また、気圧や温度などの環境パラメ
ータの変化や、露光時に露光光を吸収することによる光
学素子の温度変化などによっても投影光学系の収差が変
動するために、これらの変動に対する補正も必要であ
る。

【０００３】従来、投影露光装置の製造時に生ずる誤差
を抑えるためには次のようなことが行われてきた。一つ
は、使用する光学素子自体の誤差の低減である。例え
ば、屈折型の光学素子（いわゆる光学レンズ）を製作す
る際には、屈折率均一性の高い光学材料を使用し、かつ
極めて高い精度で加工を行うことにより光学設計上の理
想値に近いものを作り上げようという努力がなされてき
た。また、完成された光学部品が変形を生じさせること
なく正確な位置関係に保持されるようにマウントに工夫
を加えることにより、設計された性能の達成が図られて
きた。

【０００４】しかしながら、投影露光装置の投影光学系
の製造においては、非常に高度の性能が要求されるた
め、個々の部品に対して要求される製造精度が現在の技
術で得られる加工精度の限界を越えてしまうことが起こ
る。そのため、上述のような方法だけでは必要な性能を
得ることができず、最終的に組上がった光学系の各部に
対して調整を繰り返すことで、試行錯誤的に投影光学系
全体として必要な性能を達成させるという手法を採って
いるのが実状である。

【０００５】また、使用環境などの変化によって生じる
収差の変動に対しては、投影光学系全体を環境制御シス
テム内に入れたり、投影光学系を温度制御ジャケットで
覆うことにより外部環境の変化から隔離して保護する方
法、もしくは投影光学系の一部分を密閉構造にしてその
部分の気圧を制御したり、一部の光学素子を動かす方法
によって環境変化による収差の変動を補償する構成を採
っていた。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の投影露
光装置には、次のような問題がある。即ち、従来は製造
時に生じる誤差に対して最終的に組み立てられた投影光
学系について調整を行うことで補償を行っていたが、そ
の調整にも高い精度が必要とされ、また全ての性能につ
いて組み上げられた製品上で調整できるわけではない。

【０００７】投影光学系の歪曲収差（ディストーショ
ン）の補正の場合、回転対称成分の補正には投影光学系
を構成する光学素子間の距離を数カ所で調整することに
より大部分を修正できるし、いくつかの非回転対称な成
分についても光学素子を３次元的に動かすことにより修
正が可能である。しかしながら、製品の完成後に全ての
成分について修正することは精度やアクセス性などの面
から極めて困難であった。

【０００８】また、光学素子を形成する光学ガラス材が
屈折率分布を持っていた場合や保持部品が変形してしま
った場合など、光学系を構成する部品のレベルまで分解
して交換しないと修正が不可能なものも有り、これまで
投入部品量の予測や製造工期のスケジューリングを難し
くすると共に装置価格の増大をもたらしていた。温度な
ど装置が使用されている環境が変化した場合の調整や、
装置の経時変化などに対する調整においても同様の問題
があった。本発明はこれらの点に鑑みてなされたもの
で、投影露光装置に搭載する投影光学系に対し、柔軟性
を持ち比較的簡単な構成で歪曲収差の多様な成分を補正
し得る機構を提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明においては、投影
光学系を構成する光学素子自体に意図的に温度分布を与
え、その光学素子を物理的に変形させることで歪曲収差
を補正することによって前記目的を達成する。

【００１０】すなわち、本発明は、レチクルを照明する
照明系（ＩＵ）と、感光基板（Ｗ）を保持する基板ステ
ージ（ＳＴ）と、レチクル（Ｒ）のパターン像を感光基
板上に形成する投影光学系（ＰＬ）とを含む投影露光装
置において、投影光学系（ＰＬ）を構成する光学素子
（Ｌ１〜Ｌ６）の温度を変化させる温度可変手段（Ｈ
１，Ｈ２，ＨＰ１〜ＨＰ８，ＳＣ）と、光学素子の温度
分布を計測する温度計測手段（Ｓ１〜Ｓ８，ＩＲ）と、
温度計測手段によって計測された温度分布に基づいて温
度可変手段を制御して光学素子に所定の温度分布を与え
ることにより投影光学系の収差を補正する温度分布制御
手段（ＴＣ）とを備えることを特徴とする。

【００１１】温度可変手段は、光学素子に接触して熱伝
導により光学素子に温度分布を与えるタイプのもの、又
は光学素子に非接触で熱を与えるタイプのもののいずれ
も採用することができ、両タイプのものを組み合わせて
用いることもできる。接触型の温度可変手段としては、
投影光学系を構成する１つ又は複数の光学素子の外周に
複数配設したヒーター（Ｈ１，Ｈ２）等の加熱手段又は
ヒートポンプ（ＨＰ１〜ＨＰ８）等の加熱冷却手段を用
いることができる。また、非接触型の温度可変手段とし
ては、光学素子に所望のパターンで赤外線を照射する赤
外線照射手段（ＳＣ）を用いることができる。

【００１２】温度計測手段としては、光学素子の周辺に
配置された複数の熱電対等の温度センサ（Ｓ１〜Ｓ８）
を用いることができる。また、温度計測手段として赤外
線撮像装置等からなる放射温度計（ＩＲ）を用いると、
光学素子の中央部分の温度分布を非接触で計測すること
ができる。もちろん、温度計測手段として、光学素子の
周辺部の温度分布を計測する複数の熱電対と光学素子の
中央部分の温度分布を計測する放射温度計とを組み合わ
せて用いてもよい。温度分布制御手段（ＴＣ）は、温度
計測手段によって計測された光学素子の温度分布が所望
の温度分布となるように温度可変手段を制御すること
で、高精度な制御を行うことができる。

【００１３】ヒーターやヒートポンプ等の接触型の温度
可変手段は、光学素子の外周部に配設するため、レンズ
鏡筒（Ｔ）の中央部分に配置された光学レンズ等どの位
置の光学素子に対しても設置可能である。また、加熱能
力を有するヒーター等に加えて冷却能力を有するヒート
ポンプ等を組み合わせて用いることにより、光学素子に
大きな温度勾配を与えることが可能である。反面、光学
素子の有効面積を広くとるためには取り付け位置が光学
素子の外周部に限られ、光学素子の光軸に近い中央領域
に直接熱伝達を行うことができないため、光学素子に付
与することのできる温度分布パターンが制限されてしま
う。

【００１４】これに対して、赤外線ビームスキャナ等の
非接触型の温度可変手段は、光学素子の有効面積を狭め
ることなく光軸近くの領域に対しても直接熱を与えるこ
とができるため、光学素子に付与することのできる温度
分布パターンの自由度が比較的大きい。しかしながら、
赤外線ビームを照射することのできる光学素子は通常は
投影光学系の上下両端部の光学素子に限られ、また光学
素子を加熱することはできるが冷却することはできな
い。このように、接触型の温度可変手段と非接触型の温
度可変手段とは相互に補完しあう機能を有し、両者を組
み合わせて用いることで、それぞれを単独で用いる場合
に比較してより高精度な投影光学系の収差補正が可能と
なる。

【００１５】投影光学系の歪曲収差（ディストーショ
ン）を補正するに当たっては、まず格子パターンなど既
知のパターンを投影光学系によって結像面に投影し、結
像されたパターンの歪みを計測することで投影光学系の
収差を求める。次に、計測された収差を補正するために
は投影光学系中のどの光学素子にどのような温度分布を
与えるべきであるかを決定する。続いて、その温度分布
を実現するために個々のヒーターに流すべき電流値等、
温度分布制御手段による制御量を求めて制御を行うこと
になる。制御量は、解析的に求めることは困難であるた
め、実測データをもとにした線形演算によって、もしく
はシミュレーションによって求める。

【００１６】図１及び図２を用いて、本発明による投影
光学系の歪曲収差補正の原理について説明する。図１
は、光学レンズＬ１，Ｌ２，Ｌ３からなる屈折型の投影
光学系を模式的に示すものである。照明光ＩＬで一様に
照明されたレチクルＲ上のパターンは、光学レンズ群Ｌ
１〜Ｌ３によりフォトレジスト等の感光剤を塗布された
ウェハＷ上に結像される。光学レンズＬ３の外周には、
ヒーターＨ１とＨ２が図示するように取り付けられてい
る。

【００１７】ヒーターＨ１，Ｈ２に通電していない場
合、光学レンズＬ３の温度は均一であり、その時のレチ
クルＲ上のパターンの物点Ｏに対するウェハＷ上の像点
はＩである。いま、レチクルＲに図２（ａ）に示すよう
な格子状パターンＰが形成されているとして、このパタ
ーンＰを光学レンズ群Ｌ１〜Ｌ３からなる投影光学系に
よってウエハＷ上に投影したとき、図２（ｂ）に示すよ
うに歪曲されて結像したとする。このとき光学レンズＬ
３の上方に取り付けられたヒーターＨ１に通電して発熱
させると、光学レンズＬ３には温度分布が生じ加熱され
た部分が膨張して破線で示すＬ３’の様な形状になる。
そのためにウエハＷ上の像の位置がずれ、物点Ｏに対す
る像点はＩ’になり、ウエハＷ上に図２（ｃ）に示すよ
うに歪みのないパターン像が形成される。

【００１８】ヒーターＨ１とＨ２を同時に通電加熱する
ことにより、光学レンズＬ３の周辺部分を中央部に比べ
て厚くすることもできる。この場合、光学レンズＬ３は
凹レンズとして働き、像を拡大することが可能になる。
また、ヒーターの代わりにペルチェ素子などのヒートポ
ンプを使用し、光学レンズ周辺部を中央部に対して冷却
することで、逆に光学レンズの周辺部分をを中心部に比
べて薄くすることもできる。その場合には光学レンズＬ
３は凸レンズとして働く。

【００１９】ここでは非常に単純化した例によって説明
したが、実際にはヒーターＨ１への通電による光学レン
ズＬ３の温度分布、したがって対応する部分の像の位置
ずれ量も複雑なものになる。そのため、光学レンズＬ３
のそれぞれの部分の温度の差による歪曲収差の変動量を
有限要素法による熱解析や光学シミュレーションなどで
解析すると共に、温度を測定するためのセンサや温度分
布を与えるための加熱手段や冷却手段の配置を十分検討
することが必要である。また、光学レンズに対する熱的
な外乱を防ぐことも重要である。

【００２０】本発明を屈折光学素子に適用する場合、光
学素子の材料は歪曲収差の補正量に応じて物性を選び選
択する必要がある。投影露光装置では近年の露光光の短
波長化により光学素子として使用できる光学材料が限ら
れているが、蛍石（ＣａＦ₂）は温度による線膨張率が
比較的大きく、ＫｒＦやＡｒＦエキシマレーザなどから
発生される紫外線に対する透過率も大きいため、本発明
による投影光学系の光学材料として好適である。

【００２１】本発明は、従来、光学素子の相対位置を変
えることで調整していた投影光学系の歪曲収差を、光学
素子自体を動かすことなく光学素子の温度を変化させて
物理的に変形させることで補正するものであるため、従
来必要であった調整用の機械部品を省くことができ、構
造の簡素化やコスト低減に効果的である。また、単に温
度を変えるだけでなく温度分布を与えることで光学素子
を局所的に変形させることが可能であるため、従来の方
法では修正できなかった歪曲収差、例えば歪曲収差のう
ちの回転対称でない成分や比較的ランダムな成分をも修
正することが可能となる。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図３は、本発明による投影露光装
置の第１の実施の形態を示す概略図である。投影露光装
置は照明光学系ＩＵ、レチクルＲを保持するレチクルス
テージＲＳ、投影光学系ＰＬ、ウエハＷを保持して２次
元方向に移動可能なウエハステージＳＴを備え、装置全
体は環境制御チャンバＥＣ内に納められて一定温度にな
るよう空調制御されている。投影光学系ＰＬは、この例
では６枚の光学レンズＬ１〜Ｌ６からなる屈折光学系で
構成され、光学レンズＬ１〜Ｌ６を保持するレンズ鏡筒
Ｔは、より高精度な温度制御を行うために温度制御ジャ
ケットＴＪで覆われている。

【００２３】照明光学系ＩＵから射出された照明光ＩＬ
は、投影されるパターンが描画されたレチクルＲを均一
に照明する。そしてレチクルＲに描かれたパターンによ
り強度変調と回折を受けることで、パターンの情報を持
って投影光学系ＰＬに入射する。投影光学系ＰＬは、レ
チクルＲに描かれたパターンの像をウェハＷ上に形成す
る。

【００２４】投影光学系ＰＬを構成する光学レンズのう
ち上端部の光学レンズＬ１の外周部分には、図４に示す
ように、ペルチェ素子などのヒートポンプＨＰ１〜ＨＰ
８と温度センサＳ１〜Ｓ８とが対になって空間的に対称
に取り付けられている。それぞれのヒートポンプＨＰ１
〜ＨＰ８は、温度センサＳ１〜Ｓ８からの温度測定結果
をもとに温度コントローラＴＣによって温度制御され
る。各ヒートポンプＨＰ１〜ＨＰ８を個別に加熱駆動も
しくは冷却駆動して光学レンズ外周各部の温度を互いに
変化させることにより、あるいは環境制御チャンバＥＣ
や温度制御ジャケットＴＪの設定温度に対して変化させ
ることにより、光学レンズＬ１に温度分布を発生させる
ことができる。

【００２５】ヒートポンプＨＰ１〜ＨＰ８により光学レ
ンズ外周部各点での温度を変えることにより、光学レン
ズＬ１に単に凹レンズや凸レンズとしての機能を付加す
るだけではなく、より複雑な非球面レンズとしての機能
を持たせることも可能である。例えば、光軸を挟んで対
向配置されたヒートポンプＨＰ１とＨＰ５の位置で光学
レンズＬ１の温度を上げ、それと直交するように対向配
置されたヒートポンプＨＰ３とＨＰ７の位置の温度を逆
に下げることにより、非回転対称な歪曲収差の補正も可
能である。このほかにも発生させる温度の組み合わせを
変えることにより、さらに複雑な形状の歪曲収差にも対
応することが可能である。

【００２６】温度コントローラＴＣに付随してＲＯＭや
磁気ディスク等の記憶装置Ｍが設けられ、記憶装置Ｍに
は光学レンズＬ１の温度分布と投影光学系ＰＬの歪曲収
差の変動量の関係を示すデータが記憶されている。この
データは、実測又はシミュレーションによって求めるこ
とができる。実測によるデータの収集は、投影光学系Ｐ
Ｌを構成する光学レンズＬ１にある温度分布を与え、そ
の温度分布を与えた状態で図２（ａ）に示すような格子
状パターンを有するレチクルＲの像を像面に投影し、投
影されたパターンの設計位置からのずれ量を計測するこ
とを温度分布を変えながら反復することで行うことがで
きる。また、シミュレーションによるデータ収集は、各
光学素子に種々の温度分布を与えたときの歪曲収差の変
動量を有限要素法による熱解析や光学シミュレーション
などで解析することにより行うことができる。

【００２７】温度コントローラＴＣによる各ヒートポン
プＨＰ１〜ＨＰ８の制御量は、図２（ａ）に示すような
格子状パターンを投影して投影光学系ＰＬの歪曲収差を
計測し、その収差を補正するのに必要な温度分布を記憶
装置Ｍに記憶されているデータから線形演算によって求
めることで決定される。温度コントローラＴＣは、こう
して決定された制御量を用い、温度センサＳ１〜Ｓ８の
出力をモニターしながら各ヒートポンプＨＰ１〜ＨＰ８
を制御することにより投影光学系ＰＬの歪曲収差を補正
する。

【００２８】図５は、本発明による投影露光装置の第２
の実施の形態を示す概略図である。図５に示す第２の実
施の形態の装置は、図３に示した第１の実施の形態の装
置に加えて赤外線ビームスキャナＳＣ及び２次元ＣＣＤ
赤外線撮像装置などの放射温度計ＩＲを備え、また記憶
装置に代えてシミュレーション装置ＳＭを備えたもので
ある。図５において、図３に示したのと同様の機能を果
たす部分には図３と同一の番号を付して詳細な説明を省
略する。

【００２９】赤外線ビームスキャナＳＣは、投影光学系
ＰＬの上端部に露出する光学レンズＬ１の表面を赤外線
ビームの強度を変化させながら高速に走査することで、
光学レンズＬ１に対して所望のパターンで熱を与えるこ
とができるものである。つまり、光学レンズＬ１は、図
４に示すように光学レンズ外周部に配置されたヒートポ
ンプＨＰ１〜ＨＰ８による温度制御と同時に赤外線ビー
ムの照射による温度制御を受ける。赤外線ビームスキャ
ナＳＣは、ヒートポンプによっては不可能であった光学
レンズＬ１の光軸近くの領域にも熱を与えることができ
るため、ヒートポンプＨＰ１〜ＨＰ８のみによる温度制
御に比べてより精度の高い温度制御が可能となる。赤外
線ビームスキャナＳＣによって走査される赤外線の波長
は光学レンズＬ１を形成している光学ガラス材料が強い
吸収を示す波長に設定するのが好ましい。光学レンズＬ
１が強い吸収を示す波長の赤外線を使用することによ
り、他の光学レンズＬ２〜Ｌ６に影響を与えることなく
必要な光学レンズＬ１のみに熱を与えることができる。
なお、赤外線ビームスキャナに代えて、所望の強度パタ
ーン（例えば、中央部が強く、周辺部が弱い強度の円形
パターン）を有する赤外線光束を光学レンズＬ１に照射
する照明手段を照明光学系ＩＵ中に設けても同様の効果
を上げることができる。

【００３０】また、放射温度計ＩＲを用いることによ
り、光学レンズＬ１の外周部に配置した温度センサＳ１
〜Ｓ８では測定することができなかった光学レンズ中心
部も含めた光学レンズＬ１全体の温度分布を測定するこ
とができる。

【００３１】シミュレーション装置ＳＭは、有限要素法
などの手法により、光学レンズＬ１の温度分布を与える
ことで投影光学系ＰＬの結像特性をシミュレートする機
能を有するものとすることができる。投影光学系ＰＬの
歪曲収差補正に当たっては、まず既知のパターンを投影
することによって投影光学系ＰＬの歪曲収差を計測し、
計測された歪曲収差の補正に必要な光学レンズＬ１の温
度分布をシミュレーション装置ＳＭを用いて求める。温
度コントローラＴＣは、放射温度計ＩＲによる光学レン
ズＬ１の温度分布を実時間で監視しながら、その温度分
布がシミュレーション装置ＳＭで求められた温度分布に
一致するように光学レンズＬ１の外周部に付設されたヒ
ートポンプＨＰ１〜ＨＰ８及び赤外線ビームスキャナＳ
Ｃを制御することによって、投影光学系ＰＬの光学特性
を修正し歪曲収差を補正する。

【００３２】また、シミュレーション装置ＳＭは、光学
レンズＬ１に配設されたヒートポンプＨＰ１〜ＨＰ８へ
の通電量や赤外線ビームスキャナＳＣによる光学レンズ
Ｌ１への赤外線照射パターンなど、温度コントロータＴ
Ｃによる制御パラメータを入力することで、有限要素法
などの方法によって投影光学系ＰＬの結像特性をシミュ
レートする機能を有するものとすることもできる。この
場合には、シミュレーション装置ＳＭに種々の制御パラ
メータを入力し、投影光学系ＰＬの歪曲収差がどのよう
に変化するかをシミュレーションすることで最適な制御
パラメータを見出すことができる。温度コントローラＴ
Ｃは、その最適パラメータに従って温度可変手段を制御
すればよい。

【００３３】あるいは、シミュレーション装ＳＭ置に実
測された投影光学系ＰＬの歪曲収差データを入力し、そ
の歪曲収差を補正するのに最適な制御パラメータが自動
的に出力されるようにシミュレーション装置ＳＭを自動
運転することもできる。

【００３４】このように投影露光装置自体にシミュレー
ション装置ＳＭを搭載することで、リアルタイムで温度
分布パターンを変化させることが可能である。事前に計
算しておいた有限要素法などによるシミュレーション結
果を使用する場合でも、蛍石などの比較的線膨張率の大
きい光学材料では実際に与える温度差が少ないことから
熱的な計算部分を線形演算で近似することが可能になり
柔軟性の高い設定が可能になる。また変形量が微少であ
るか、誤差を許容できるならば、蛍石に関わらずあらゆ
る光学材料についても適用できる。

【００３５】ここでは、投影光学系を構成する光学素子
のうち上端部の光学レンズＬ１にのみヒートポンプや赤
外線スキャナ等の温度可変手段を付与する例を説明し
た。温度可変手段を設ける光学素子は、一般には物体も
しくは像に近い光学素子とするのが有利であり、縮小投
影型の投影光学系においては物体側の光学素子とするの
が有利である。しかし、温度可変手段を付設する光学素
子は投影光学系の上端や下端の光学素子に限られるもの
ではなく、鏡筒内部の光学素子に設けることもできる
し、同時に複数の光学素子に付設することもできる。

【００３６】また、温度可変手段の例として、ヒータ、
ペルチェ素子等のヒートポンプ、赤外線ビームスキャナ
をあげたが、その他にノズル先端から温風又は熱風を吹
き付けたり、マイクロ波照射によって光学素子の温度分
布を制御することもできる。

【００３７】

【発明の効果】本発明によれば、投影露光装置に搭載す
る投影光学系に対し、比較的簡単な構成で歪曲収差の多
様な成分を補正することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明による投影光学系の歪曲収差補正の原理
を説明する図。

【図２】レチクルのパターンとその像を示す図。

【図３】本発明による投影露光装置の一例を示す概略
図。

【図４】ヒートポンプと温度センサが取り付けられた光
学レンズの模式図。

【図５】本発明による投影露光装置の他の例を示す概略
図。

【符号の説明】

ＥＣ…環境制御チャンバ Ｈ１，Ｈ２…ヒーター ＨＰ１〜ＨＰ８…ヒートポンプ Ｉ…像点 ＩＬ…照明光 ＩＲ…放射温度計 ＩＵ 照明光学系 Ｌ１〜Ｌ６…光学レンズ Ｍ…記憶装置 Ｏ…物点 ＰＬ…投影光学系 Ｒ…レチクル ＲＳ…レチクルステージ Ｓ１〜Ｓ８…温度センサ ＳＭ…シミュレーション装置 ＳＴ…ウエハステージ Ｔ…レンズ鏡筒 ＴＣ…温度コントローラ ＴＪ…温度制御ジャケット Ｗ…ウェハ

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レチクルを照明する照明系と、感光基板
   を保持する基板ステージと、前記レチクルのパターン像
   を前記感光基板上に形成する投影光学系とを含む投影露
   光装置において、 前記投影光学系を構成する光学素子の温度を変化させる
   温度可変手段と、前記光学素子の温度分布を計測する温
   度計測手段と、前記温度計測手段によって計測された温
   度分布に基づいて前記温度可変手段を制御して前記光学
   素子に所定の温度分布を与えることにより前記投影光学
   系の収差を補正する温度分布制御手段とを備えることを
   特徴とする投影露光装置。
2. 【請求項２】 前記温度可変手段として、前記投影光学
   系を構成する１つ又は複数の光学素子の外周に配設され
   た複数のヒートポンプを備えることを特徴とする請求項
   １記載の投影露光装置。
3. 【請求項３】 前記温度可変手段として、前記光学素子
   に所望のパターンで赤外線を照射する赤外線照射手段を
   備え、前記温度計測手段として放射温度計を備えること
   を特徴とする請求項１又は２記載の投影露光装置。
4. 【請求項４】 前記光学素子の温度分布と前記投影光学
   系の光学特性とを対応させて記憶した記憶手段を備える
   ことを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。
5. 【請求項５】 前記温度分布制御手段による前記温度可
   変手段の制御結果としての前記投影光学系の結像特性を
   シミュレートするシミュレーション手段を備え、前記温
   度分布制御手段は前記シミュレーション手段によるシミ
   ュレーションの結果をもとに前記温度可変手段を制御す
   ることを特徴とする請求項１記載の投影露光装置。