CN101299134A

CN101299134A - 光刻设备和方法

Info

Publication number: CN101299134A
Application number: CNA2008100949815A
Authority: CN
Inventors: 斯蒂芬·鲁克斯
Original assignee: ASML Holding NV
Current assignee: ASML Holding NV
Priority date: 2007-05-04
Filing date: 2008-04-30
Publication date: 2008-11-05
Anticipated expiration: 2028-04-30
Also published as: KR20080098325A; JP2008277822A; US7692766B2; TW200907593A; TWI476536B; US20080273180A1; JP4995763B2; KR100991209B1; CN101299134B

Abstract

本发明公开了一种适用于光刻设备中的投影***，所述投影***包括透射式光学元件以及热分布修正器，所述热分布修正器配置用于改变所述透射式光学元件的热分布，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件。

Description

光刻设备和方法

技术领域

本发明涉及一种用于光刻设备的投影***、一种光刻设备和方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案施加到衬底的目标部分上的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可选地称为掩模或中间掩模的图案形成装置可用于生成对应于IC的单层的电路图案，该图案可以成像到衬底(例如，硅晶片)的目标部分(例如，包括一部分、一个或多个芯片)上，所述衬底具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层。通常，单独的衬底将包含被连续曝光的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过沿给定方向(“扫描”方向)用辐射束扫描所述图案，同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。

在IC制造中，微处理器速度、存储器存储密度以及微电子部件的低功耗的持续发展需要不断减小通过光刻设备从所述图案形成装置(例如掩模)转移到衬底上的图案的尺寸。然而，随着集成电路尺寸的减小和其密度的增加，其对应的图案形成装置(例如掩模)的图案的临界尺寸(CD)接近光刻设备的分辨率极限。光刻设备的所述分辨率极限被定义为曝光工具可以在衬底(例如晶片)上反复曝光的最小特征。为了扩展光刻设备的分辨率极限，已经采用了多种技术，称为分辨率增强技术。

用于提高分辨率的一种技术是离轴照射。通过这种技术，以所选择的非垂直角照射图案形成装置(例如掩模)，其可以提高分辨率，尤其通过增加焦深和/或对比度来改善工艺宽容度。辐射束在图案形成装置(例如掩模)平面(作为物平面)上的角度分布对应于光刻设备的光学结构的光瞳平面中的辐射束的空间分布。典型地，光瞳平面中的空间分布的形状被称为照射方式。一种公知的照射方式是环形照射，在所述环形照射中，在光轴上的常规的零级光斑被改变成环状强度分布。另一种方式是多极照射，在所述多极照射中，产生不在光轴上的多个光斑或束。多极照射方式的示例是双极(包括两个极)和四极(包括四个极)。对于例如双极和四极照射方式，光瞳平面中的极的尺寸与所述光瞳平面的总表面相比可能很小。结果，用于曝光衬底的所有辐射仅仅在这些极的位置上经过光瞳平面上或光瞳平面附近的多个光学元件。例如，所述光学元件可以是透镜元件。经过透镜元件的一部分辐射被所述透镜元件吸收。这引起所述透镜元件被辐射束不均匀地加热，导致折射率的局部改变和所述透镜元件的变形。所述透镜元件的折射率的局部改变和变形导致光学像差和被投影***投影到抗蚀剂层上的畸变的图像。所述透镜的折射率的局部变化和变形可能替代地或附加地是老化的征兆。

需要提供一种例如消除或减轻在这里或其他地方所认识到的现有技术中的至少一个问题的光刻设备和方法。

发明内容

根据本发明的一个方面，提供一种适用于光刻设备中的投影***，所述投影***包括至少一个透射式光学元件，所述投影***设置有热分布(profile)修正器，所述热分布修正器配置用于产生所述透射式光学元件的热分布的变化，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件。

根据本发明的另一个方面，提供一种光刻设备，所述光刻设备包括：照射***，所述照射***配置用于调节辐射束；支撑结构，所述支撑结构构建用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案赋予经过调节的辐射束的横截面，以形成图案化的辐射束；衬底台，所述衬底台构建用于保持衬底；以及投影***，所述投影***设置有至少一个透射式光学元件，并配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影***设置有热分布修正器，所述热分布修正器配置用于产生所述透射式光学元件的热分布的变化，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件。

根据本发明的另一个方面，提供一种用于产生透射式光学元件的热分布的变化的方法，所述方法包括：将预定的热分布从热分布调节器传递到传递部件，并将所述传递部件移到所述透射式光学元件的附近，以将所述热分布从所述传递部件传递给所述透射式光学元件。

附图说明

在此仅借助示例，参照所附示意图对本发明的实施例进行描述，在所附示意图中，相同的附图标记表示相同的部分，且其中：

图1是根据本发明的实施例的光刻设备的示意图；

图2a是在光瞳平面中的辐射束的双极强度分布的示意图；

图2b是在光瞳平面中的辐射束的四极强度分布的示意图；

图3是根据本发明的实施例的热分布修正器的示意图，所述热分布修正器设置用于在热分布调节器和热传递部件之间传递热量；

图4是设置在图3的热分布修正器的热分布调节器上的电加热器阵列的示意图；

图5是图3的热分布修正器的示意图，所述热分布修正器设置用于在所述热传递部件和透镜排列之间传递热量；

图6是图3的热分布调节器的热传递部件的示意图；

图7是图3的热分布修正器的平面示意图；

图8是根据本发明的实施例的热分布修正器的示意图；

图9是根据本发明的实施例的热分布修正器的示意图。

具体实施方式

尽管在本文中可以具体提到将所述光刻设备用于制造IC，但应当理解这里所述的光刻设备可以有其他的应用，例如，集成光学***、磁畴存储器的引导和检测图案、液晶显示器、薄膜磁头的制造等。对于普通的技术人员，应该理解的是，在这种可替代的应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”或“芯片”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(track)(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、度量工具或检验工具中。在可应用的情况下，可以将这里公开的内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。

这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外(UV)辐射(例如具有约365、248、193、157或126nm的波长)和极紫外(EUV)辐射(例如具有5-20nm范围内的波长)，以及粒子束，例如离子束或电子束。

这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地解释为表示能够用于将图案赋予辐射束的横截面，以便在衬底的目标部分上形成图案的装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底目标部分上所需的图案完全相对应。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。

图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替相移掩模类型、衰减相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，可以独立地倾斜每一个小反射镜，以便沿不同方向反射入射的辐射束；以这种方式，所述被反射的辐射束被图案化。

支撑结构保持图案形成装置。其以依赖于图案形成装置的取向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置。所述支撑结构可以采用机械夹持、真空的或其他夹持技术(例如在真空条件下的静电夹持)。所述支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要为固定的或可移动的，所述支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投影***)。在这里使用的术语“中间掩模”或“掩模”都可以被认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。

应该将这里使用的术语“投影***”广义地解释为包括任意类型的投影***，包括例如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的折射型光学***、反射型光学***和反射折射型光学***。这里使用的任何术语“投影透镜”可以被认为是与更上位的术语“投影***”同义。

所述照射***也可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型和反射折射型的光学部件，以引导、成形、或控制辐射束，且这些部件也可以在下文被统称为或单独称为“透镜”。

所述光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台(和/或两个或更多的支撑结构)的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台，或可以在将一个或更多个其他台用于曝光的同时，在一个或更多个台上执行预备步骤。

所述光刻设备也可以是其中衬底被浸在具有相对高折射率的液体(例如水)中的类型，以便填充投影***的最终元件和衬底之间的空隙。浸没液也可以被应用到光刻设备中的其他空隙中(例如在所述图案形成装置(例如掩模)和投影***的第一元件之间)。浸没技术用于增加投影***的数值孔径在本领域中是公知的。

图1示意性地示出根据本发明的特定的实施例的光刻设备。所述设备包括：照射***(照射器)IL，用于调节辐射束PB(例如，紫外辐射)；支撑结构MT，用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并与用于相对于PL精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连；衬底台(例如晶片台)WT，配置用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于相对于PL精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；投影***(例如折射式投影透镜)PL，所述投影***PL配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束PB的图案成像到衬底W的目标部分C(例如包括一个或多个芯片)上；以及热分布修正器100，所述热分布修正器100配置用于产生投影***PL的透射式光学元件(例如透镜)的热分布的变化或配置用于改变投影***PL的透射式光学元件(例如透镜)的所述热分布。

如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。可替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列)。

所述照射器IL接收从辐射源SO发出的辐射束。该源和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源考虑成光刻设备的组成部分，并且通过包括例如合适的引导反射镜和/或扩束器的束传递***BD的帮助，将所述辐射束从所述源SO传到所述照射器IL。在其他情况下，所述源可以是所述设备的组成部分(例如当所述源是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时所述束传递***BD一起称作辐射***。

除其他之外，所述照射器IL可以包括配置用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AM。通常，可以对所述照射器的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部的径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器IL一般可以包括各种其他部件，例如积分器IN和聚光器CO。照射器用于提供经过调节的所述辐射束PB，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。

所述辐射束PB入射到保持在支撑结构MT上的所述图案形成装置(例如，掩模)MA上。经过图案形成装置MA之后，所述辐射束PB通过透镜PL，所述PL将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束PB的路径中。类似地，例如在从掩模库机器检索之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(图1中未明确示出)用于将图案形成装置MA相对于所述辐射束PB的辐射路径精确地定位。通常，可以通过形成所述定位装置PM和PW的一部分的长行程模块(粗定位)和短行程模块(精定位)的帮助来实现载物台MT和WT的移动。然而，在步进机的情况下(与扫描器相反)，所述支撑结构MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。可以使用图案形成装置对齐标记M1、M2和衬底对齐标记P1、P2来对齐图案形成装置MA和衬底W。

可以将所述设备用于以下优选模式中：

1.在步进模式中，在将赋予所述辐射束PB的整个图案一次投影到目标部分C上的同时，将支撑结构MT和所述衬底台WT保持为基本静止(即，单一的静态曝光)。然后将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。

2.在扫描模式中，在将赋予所述辐射束PB的图案投影到目标部分C上的同时，对支撑结构MT和衬底台WT同步地进行扫描(即，单一的动态曝光)。衬底台WT相对于支撑结构MT的速度和方向可以通过所述投影***PL的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了单一的动态曝光中的所述目标部分的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描运动的长度确定了所述目标部分的高度(沿所述扫描方向)。

3.在另一个模式中，将保持可编程图案形成装置的支撑结构MT保持为基本静止状态，并且在将赋予所述辐射束PB的图案投影到目标部分C上的同时，对所述衬底台WT进行移动或扫描。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻中。

也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。

图2a示出在照射器或投影***中的光瞳平面21中的辐射束的强度分布的示例。所述辐射束的强度分布包括两个极22和23，所述两个极22和23限定了所述光瞳平面的横截面的一部分，辐射束的大部分辐射通过该部分经过光瞳平面(由于在所述极的边缘上的散射和/或衰减损失了一些辐射)。图2b示出在光瞳平面24中的强度分布的第二个示例，包括四个极25、26、27和28。在下列描述中，在光瞳平面中的辐射束的强度分布被称为照射方式。如图2b所示的强度分布被称为四极照射方式。

当辐射束经过折射式透镜元件(例如图1中的投影***PL的透镜)时，小部分辐射束被所述透镜元件吸收。辐射束被所述透镜元件吸收造成透镜元件温度上升。透镜元件的加热导致所述透镜元件在所述吸收位置上的折射率的变化及其变形。对于位于辐射束均匀地经过透镜元件的位置上的透镜元件，所述吸收导致透镜元件的均匀加热和折射率的均匀改变。对于位于光瞳平面上或光瞳平面附近的透镜元件，使辐射束经过透镜元件的透镜元件的横截面部分依赖于所采用的照射方式。对于诸如双极和四极的照射方式，所述透镜元件横跨所述透镜元件的表面不均匀地吸收辐射。投影***中的一个或多个透镜元件的折射率的局部改变和变形导致经过所述透镜元件的辐射束的不同部分的光路长度的变化。因为所述辐射束的各部分的光路长度是不同的，它们在衬底水平面上重组为图像，所述图像相对于在中间掩模水平面上的物的图像是畸变的。

参照图3，根据本发明的实施例的热分布修正器100(如图1所示)包括热传递部件102和热分布调节器104。热传递部件102是板状的。构建热传递部件102，以使得热分布可以在热传递部件102上建立或在热传递部件102内建立，而且使得热可以容易地从其表面耗散(例如在透镜排列的透镜上/中)。因此，热传递部件102可以方便地由导电(例如诸如铜的金属)元件的矩阵形成，以使得热可以容易地从传递部件102吸收和耗散。所述元件可能每个被隔热器包围，所述隔热器将每个元件相互隔离，由此允许建立热分布。

配置热传递部件102的尺寸，以使得其可以被置于透镜排列108的透镜之间。透镜排列108形成如图1所示的投影***PL的一部分。所述热传递部件可以被置于与透镜排列108相关联的光瞳平面106上或其附近，或在透镜排列108的透镜附近的任何其他合适的位置上，以使得所述透镜可以由热传递部件102加热(如下文所述)。

热分布调节器104包括一对加热板110和112，所述加热板110和112相互充分地间隔开，以允许热传递部件102被置于它们之间；所述加热板110和112也相互充分地接近，以允许在所述板110和112同放在其附近的热传递部件102的各个表面之间的热传递。热分布调节器104被描述为具有两个加热板110和112。然而，本领域中的普通技术人员应当理解，具有一个加热板的热分布调节器104可以替代地在本发明的工作中使用。

也参照图4，每个板110和112，包括具有可独立寻址的电加热器116的加热阵列114，所述电加热器116设置用于加热热传递部件102的选择的、离散分布的区域。所述图示出九个电加热器的阵列，这仅仅是出于说明的目的。在实际中，电加热器的数量可以更多，例如128个或256个加热器。电加热器116经由导线120电连接到控制单元118。在使用中，控制单元118配置用于独立地调整每个电加热器116的热耗散，以限定预定的热分布。

在透镜排列108中作为光瞳平面中的位置的函数的光程变化可以用表面分布图来描述，并被称为相图。辐射束的不同部分的光程的所需修正可以通过采用公知的干涉仪布置来测量透镜排列(或在任何其他合适的部分)的光瞳平面中的辐射束的相图来获得。通过测量光瞳平面中的相图直接确定光程变化以使精确修正被确定和采用。可以在光刻设备不进行连续操作期间或光刻设备在具有不同的照射方式的设定下顺序操作而导致相图的连续变化期间进行这种测量。常规的光刻工具可能装备有公知的传感器，所述传感器包括干涉仪波前测量***，所述干涉仪波前测量***为进行波前的原地测量被设置在衬底支撑装置上或衬底支撑装置附近。

控制单元118配置用于关于所测量的相图对加热器116进行寻址。在使用中，采用干涉仪装置测量所述相图。所述相图提供经过透镜排列108的辐射束的不同的子束的相变。这被用于确定引起光程差的辐射的所需的修正。透镜排列108的折射率的所需改变根据在相图上所确定的对应的相变来计算。随后，从每个电加热器116耗散的热量被计算以产生在热传递部件和透镜排列之间所需的热传递，由此产生透镜排列的热分布的改变及其造成的折射率分布的改变。然后，每个电加热器116由控制单元118独立寻址，以耗散所计算的热量。从每个电加热器耗散的热量被计算，以在设定的时间内产生所述热传递部件和透镜排列之间的特定的焦耳数的传递。

可以针对每一种所采用的照射方式一次确定所述相图以及应用于透镜排列的修正。替代地，可以周期地确定所述相图以及应用于所述透镜排列的修正。替代地，可以在其他时间间隔上或在光刻设备没有进行操作期间，例如在衬底的曝光之间、当更换图案形成装置(例如掩模)时、更换衬底(例如晶片)批次期间或者在设备的例行校准期间确定所述相图以及应用于所述透镜排列的修正。控制单元118可以替代地或附加地关于所采用的照射方式的历史对电加热器116进行寻址。替代地，由透镜中的像差造成的辐射束中的不规则的修正可能比图案化的衬底的总产量更重要。在这种情况下，可以在特定的时间(例如维修时)计算所述相图以及确定应用于透镜的修正。

可选择地，所述相图可以从所采用的照射方式中获得。所述相图的计算可以采用传统光线追迹(ray-tracing)软件进行，并相应地经由控制单元118应用于电加热器116。

所计算的热量从电加热器116耗散并被传递给热传递部件102。应当理解，如图所示的实施例具有两个加热板110和112。然而，可以替代地采用仅仅一个加热板实现在热分布调节器104和热传递部件102之间的热传递。如图5所示，随后，移动热传递部件102并将其置于透镜排列108的光瞳平面106上。在所述位置上，在热传递部件102的离散的局部区域和透镜排列108的透镜之间进行热传递，以使得预定的所需焦耳量在预定的时间被传递，由此改变透镜排列108的透镜的热分布并随后改变其折射率分布。

再参照图6，热传递部件102具有用于连接如图3和5所示的直立部件124的臂122。所述热传递部件也可以具有冷却器138，所述冷却器138为冷却环形式，并配置用于调整所述热传递部件的整体温度。图6也示出所述热传递部件的离散的局部区域126的示例，其被热分布调节器104的电加热器加热。

图7是根据本发明的实施例的热分布修正器100的平面图。在将所计算的热量从电加热器116传递到热传递部件102之后，通过将热传递部件102围绕直立部件124的纵轴125旋转而将所述热传递部件从所述热分布调节器移动到透镜排列的光瞳平面上，由此将热传递部件102从热分布调节器104转移到透镜排列108。

参照图8，根据本发明的实施例的热分布修正器200包括热传递部件202。所述热传递部件为与图3类似的形状，并具有第一表面228和第二表面230。所述表面中的一个或两个上设置有热源232的阵列，例如发光二极管(LED)、激光二极管或超发光二极管加热源。热分布修正器200还包括控制器234的形式的热分布调节器，控制器234关于相图经由数据线236对热源232进行独立寻址而启动热源232。然后，如关于如图3所示的实施例的以上描述，热传递部件232被设置在透镜排列的光瞳平面上，且所需的热分布被传递给透镜排列，由此对其折射率分布进行修正。如针对图3的实施例所述，热传递部件202可以附加地具有冷却器238，所述冷却器238为冷却环形式，以调整热传递部件202的整体温度。控制器234也控制冷却器238。

在上述实施例中，热分布调节器104可以包括加热器116的阵列，所述加热器116设置用于加热热传递部件102的选择的离散分布的区域。代替加热，可以采用对传递部件102的冷却。例如，可以采用冷却源阵列，而不是加热器116，以选择性地冷却热传递部件102的各部分。所述冷却源可以被设置为以冷却气体或液体，或者用于冷却金属板、导线或类似物的任何其他合适的冷却装置选择性地冷却的金属板、导线或类似物的形式。

在如图8所示的上述实施例中，示出设置有多个热源的热传递部件202，所述热源配置用于加热例如透镜排列的透镜的选择的部分。替代地，传递部件202可以设置有多个冷却源，所述冷却源配置用于冷却例如透镜排列的透镜的选择的部分。

热传递部件的一些部分可以被冷却，而其他部分可以被加热，以便将热分布提供给热传递部件。因为热量可以从所述透镜排列中提取，所以到透镜排列的总体能量(热量)的传递可能是负的。这可以通过确保所述热传递部件的一些部分被制成比透镜排列的周围温度低且这些被冷却的部分的整体冷却效果强于所述传递部件的被加热部分的整体加热效果来实现。如果热量从所述透镜排列中提取，则可以实现其热分布的更精确的控制，以减小其可能具有的像差。

在上述实施例中，投影***PL已经被描述为包括透镜排列108。可以采用其他的透射光学元件(例如任何合适的折射或衍射光学元件)替代透镜或与透镜一起使用。所述透镜可能没有光学功能，并可能是例如对于一定波长(例如紫外)的辐射透明的玻璃或任何其他材料的扁平片。

在上述实施例中，所述热分布已经被描述为关于辐射束的相图而被控制。这不是必需的。替代地，所述透镜排列(例如投影***)可以被模型化以确定所述排列中的透镜的哪些部分将需要具有应用于其上的热分布，并确定需要何种热分布。热分布可以根据所述模型而被建立和应用于透镜排列的透镜。热分布也可以关于针对之前所应用的照射方式和曝光图案等的已知的或经过计算的热分布的历史而被应用于所述排列的透镜。

在上述实施例中，所述热传递部件已经被描述为可移动到透镜排列的透镜之间的位置上和可从所述位置上移开。可优选地将所述热传递部件移动到与所述透镜排列相关联的光瞳平面上或所述光瞳平面中。然而，这不是必需的，且所述热传递部件可以被移动到透镜排列的透镜之间的任意位置上或从所述任意位置上移开。

在上述实施例中，所述热传递部件已经被描述为可移动到在透镜排列的透镜之间的位置和从所述位置移开，以同时加热所述透镜排列的任一侧的透镜。可能仅仅需要或优选加热所述布置中的一个透镜，这表明所述热传递部件的仅仅相应一侧需要将热分布应用于其上，或者所述热传递部件的仅仅相应一侧需要设置有热源。也可能不同的热分布需要被应用于所述热传递部件的不同侧。为了防止不同的分布通过经过所述热传递部件的传导混合在一起，隔热层或热反射层可以被设置在所述热传递部件中，以将其一侧与另一侧隔离。

可以构建所述热传递部件，以使得其可以移动到导致透镜被热传递部件包围的位置和从所述位置移开，以代替热传递部件可移动到在透镜排列的透镜之间的位置和从所述位置移开。这种构造如图9所示。在图9中，热传递部件300包括两个部分：上热传递部件310和下热传递部件320(尽管应当理解，所述两个部分可以相互形成为一体，即形成一个热传递部件)。由此可见，热传递部件300已经被定位为包围透镜330。这可能允许透镜330的热分布的更精确的控制，以及对通过辐射束的透射而对透镜330进行非均匀加热所造成的像差的更精确修正。

面对透镜330的热传递部件300的侧面可能具有将被传递给透镜300的热分布。通过加热将面对透镜330的热传递部件300的侧面，或通过对设置在所述侧面上的热源进行寻址(如上所述)可以建立所述热分布。不面对透镜300的侧面可以设置隔热层和/或热反射层，以使得由热传递部件300所耗散的热量不朝着其他透镜(未示出，例如在图中透镜330的上方和下方的透镜)的方向被耗散。

所述热传递部件可能以任何合适的方式移动。例如，所述热传递部件可以转动到合适的位置和离开所述位置，或者可以直线方式运动，或者转动和直线运动两者的组合。

尽管本发明的具体的实施例已经在上面进行了描述，但是应当理解，本发明可以以与上述不同的方式实现。所述描述并不试图限制本发明，本发明由权利要求书所限定。

Claims

1.一种适用于光刻设备中的投影***，所述投影***包括：

透射式光学元件；以及

热分布修正器，所述热分布修正器配置用于改变所述透射式光学元件的热分布，所述热分布修正器包括传递部件和热分布调节器，所述传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从热分布调节器传递给所述透射式光学元件。

2.根据权利要求1所述的投影***，其中所述热传递调节器包括至少一个加热板。

3.根据权利要求2所述的投影***，其中所述热分布调节器包括一对加热板，所述加热板相互间隔地布置，以使得所述传递部件可以置于所述加热板之间。

4.根据权利要求2所述的投影***，其中所述加热板或每个加热板包括可独立寻址的电加热器的阵列。

5.根据权利要求4所述的投影***，其中所述可独立寻址的电加热器被布置用于将热量传递给所述传递部件的选择的离散区域。

6.根据权利要求5所述的投影***，还包括控制器，所述控制器配置用于选择用于热传递的所述离散区域。

7.根据权利要求6所述的投影***，其中所述控制器配置用于相对于图案化的辐射束的相图选择用于热传递的所述离散区域。

8.根据权利要求6所述的投影***，其中所述控制器配置用于相对于所述投影***的模型选择用于热传递的所述离散区域。

9.根据权利要求6所述的投影***，其中所述控制器被设置在所述热分布调节器中或与所述热分布调节器相邻的位置上。

10.根据权利要求1所述的投影***，其中所述热分布调节器配置有冷却源。

11.根据权利要求1所述的投影***，其中所述传递部件包括多个热源。

12.根据权利要求11所述的投影***，其中所述热源是发光二极管、激光二极管或超发光二极管。

13.根据权利要求11所述的投影***，其中所述热分布调节器包括控制器，所述控制器配置用于对多个热源中的每一个进行寻址。

14.根据权利要求11所述的投影***，其中所述控制器配置用于相对于图案化的辐射束的相图对所述热源进行寻址。

15.根据权利要求11所述的投影***，其中所述控制器配置用于相对于投影***的模型对所述热源进行选择。

16.根据权利要求1所述的投影***，其中所述传递部件包括多个冷却源。

17.根据权利要求1所述的投影***，其中所述投影***包括两个透射式光学元件。

18.根据权利要求17所述的投影***，其中所述传递部件可移动到所述两个透射式光学元件之间的位置和从所述位置移开。

19.根据权利要求1所述的投影***，其中所述传递部件可移动到与所述透射式光学元件相关联的光瞳平面上。

20.根据权利要求1所述的投影***，还包括第二传递部件。

21.根据权利要求20所述的投影***，其中所述传递部件和第二传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以将所需的热分布从所述热分布调节器传递到所述透射式光学元件中。

22.根据权利要求21所述的投影***，其中所述传递部件和第二传递部件可移至所述透射式光学元件附近和从所述透射式光学元件附近移开，以使得当处于所述透射式光学元件附近时，所述透射式光学元件位于所述传递部件和所述第二传递部件之间。

23.根据权利要求1所述的投影***，其中所述透射式光学元件是透镜。

24.根据权利要求1所述的投影***，其中所述透射式光学元件是对一定波长的辐射透明的材料的扁平片。

25.一种光刻设备，所述光刻设备包括：

照射***，所述照射***配置用于调节辐射束；

支撑结构，所述支撑结构构建用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案赋予经过调节的辐射束的横截面，以形成图案化的辐射束；

衬底台，所述衬底台构建用于保持衬底；以及

投影***，所述投影***包括透射式光学元件，并配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上，所述投影***包括：

26.一种用于改变透射式光学元件的热分布的方法，所述方法包括：

将预定的热分布从热分布调节器传递到传递部件；以及

将所述传递部件移动到所述透射式光学元件的附近，以将所述热分布从所述传递部件传递给所述透射式光学元件。

27.根据权利要求26所述的方法，还包括相对于所述透射式光学元件的模型控制所述热分布调节器。

28.根据权利要求26所述的方法，还包括相对于相图控制所述热分布调节器。

29.根据权利要求26所述的方法，其中所述传递部件被置于与所述透射式光学元件相关联的光瞳平面上。

30.根据权利要求26所述的方法，其中所述传递部件可移动到位于两个透射式光学元件之间的位置和从所述位置移开。

31.根据权利要求26所述的方法，还包括将预定的热分布从热分布调节器传递到两个传递部件。

32.根据权利要求31所述的方法，还包括将所述两个传递部件移动到所述透射式光学元件位于所述两个传递部件之间的位置和从所述位置移开。

33.根据权利要求26所述的方法，其中当辐射没有通过所述透射式光学元件被透射时，所述传递部件被移至所述透射式光学元件透镜的附近。

34.根据权利要求26所述的方法，其中所述透射式光学元件是投影***的一部分。

35.根据权利要求34所述的方法，还包括相对于投影***的模型控制所述热分布调节器。