JPH09225376A - Cap for rotary substrate processing apparatus - Google Patents
Cap for rotary substrate processing apparatusInfo
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- JPH09225376A JPH09225376A JP3789196A JP3789196A JPH09225376A JP H09225376 A JPH09225376 A JP H09225376A JP 3789196 A JP3789196 A JP 3789196A JP 3789196 A JP3789196 A JP 3789196A JP H09225376 A JPH09225376 A JP H09225376A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、基板回転保持部に
保持された基板の周囲を取り囲むように配置され、処理
液の飛散を防止するための回転式基板処理装置用カップ
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a rotary substrate processing apparatus cup which is arranged so as to surround a substrate held by a substrate rotation holding unit and which prevents the processing liquid from scattering.
【０００２】[0002]
【従来の技術】図３は、従来の回転式基板処理装置の概
略構成を示す断面図である。図３において、回転式基板
処理装置は、基板４０を保持して回転する基板回転保持
部を備えている。基板回転保持部は、基板４０の裏面を
吸引して保持するための吸引チャック４１と、基板４０
および吸引チャック４１を回転させるための回転軸４２
を有するモータ（図示省略）とを備えている。2. Description of the Related Art FIG. 3 is a sectional view showing a schematic structure of a conventional rotary substrate processing apparatus. In FIG. 3, the rotary substrate processing apparatus includes a substrate rotation holding unit that holds and rotates the substrate 40. The substrate rotation holding unit includes a suction chuck 41 for sucking and holding the back surface of the substrate 40, and the substrate 40.
And a rotation shaft 42 for rotating the suction chuck 41
And a motor (not shown) having
【０００３】基板４０の表面には所定の処理液が供給さ
れ、基板４０の回転によって基板４０上の全面に塗り広
げられる。この際、処理液の大部分は基板４０の回転に
よる遠心力を受けて周囲に飛散する。したがって、処理
液が装置の外方にまき散らされるのを防止するために、
基板回転保持部の周囲をカップ５０によって取り囲んで
いる。A predetermined processing liquid is supplied to the surface of the substrate 40, and is spread over the entire surface of the substrate 40 by the rotation of the substrate 40. At this time, most of the processing liquid receives the centrifugal force due to the rotation of the substrate 40 and is scattered around. Therefore, in order to prevent the processing liquid from being scattered outside the apparatus,
A cup 50 surrounds the periphery of the substrate rotation holder.
【０００４】このような中空のカップ５０は、一体成形
により製作することが困難である。このため、カップ５
０は上下方向に分割された上カップ２０と下カップ３０
とから構成されている。It is difficult to manufacture such a hollow cup 50 by integral molding. Therefore, cup 5
0 is an upper cup 20 and a lower cup 30 which are vertically divided.
It is composed of
【０００５】上カップ２０は、基板４０の上方に開口部
２２を有する蓋形状に形成されている。また、下カップ
３０は、基板４０の下方側に配置され、底面の一部に
は、処理液の廃液を外部へ排出するためのドレン配管３
４が接続されている。The upper cup 20 is formed in a lid shape having an opening 22 above the substrate 40. Further, the lower cup 30 is arranged on the lower side of the substrate 40, and the drain pipe 3 for discharging the waste liquid of the processing liquid to the outside is provided on a part of the bottom surface.
4 are connected.
【０００６】カップ５０は、下カップ３０の上端部に上
カップ２０の下端部を挿入して組み立てられている。図
４は、上カップ２０と下カップ３０の接合部５１の接合
構造を示す断面斜視図である。上カップ２０の下端部２
１と下カップ３０の上端部３３は嵌め合い構造に形成さ
れている。このため、上カップ２０の下端部２１の外面
と下カップ３０の上端部３３の内面とは隙間が生じない
ように圧接されている。また、上カップ２０の下端部２
１の下面は、下カップ３０の周壁部３１の内面に形成さ
れた複数の係止突起部３２によって支持されている。The cup 50 is assembled by inserting the lower end of the upper cup 20 into the upper end of the lower cup 30. FIG. 4 is a sectional perspective view showing the joint structure of the joint portion 51 of the upper cup 20 and the lower cup 30. Lower end 2 of upper cup 20
1 and the upper end 33 of the lower cup 30 are formed in a fitting structure. Therefore, the outer surface of the lower end portion 21 of the upper cup 20 and the inner surface of the upper end portion 33 of the lower cup 30 are pressed against each other so that no gap is generated. In addition, the lower end portion 2 of the upper cup 20
The lower surface of 1 is supported by a plurality of locking protrusions 32 formed on the inner surface of the peripheral wall portion 31 of the lower cup 30.
【０００７】上記のような構造を有する従来のカップ５
０では、メンテナンス時に上カップ２０を下カップ３０
から抜き取り、清掃等のメンテナンス作業を行った後、
再び下カップ３０に上カップ２０を差し込んで組み立て
られる。The conventional cup 5 having the above structure
At 0, the upper cup 20 and the lower cup 30
After performing maintenance work such as removing from the
It is assembled by inserting the upper cup 20 into the lower cup 30 again.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来のカッ
プ５０では、基板４０から飛散した処理液の廃液が上カ
ップ２０と下カップ３０の接合部５１の隙間に入り込む
ことが問題となっている。However, the conventional cup 50 has a problem that the waste liquid of the processing liquid scattered from the substrate 40 enters the gap between the joints 51 of the upper cup 20 and the lower cup 30.
【０００９】すなわち、図３において、基板４０は、接
合部５１より高い位置に保持されている。これは、カッ
プ５０の接合部５１の内面側の段差によってカップ５０
内を上方から下方に向かって流れる気流が乱され、この
気流の乱れが基板４０の表面の処理に悪影響を及ぼさな
いようにするためである。したがって、基板４０の表面
から周囲へ跳ね飛ばされた処理液は、接合部５１より上
方の上カップ２０の内面に付着し、内面を伝って接合部
５１に流れ落ちる。That is, in FIG. 3, the substrate 40 is held at a position higher than the joint portion 51. This is due to the step on the inner surface side of the joint portion 51 of the cup 50.
This is to prevent the airflow flowing from the upper side to the lower side in the inside to be disturbed so that the turbulence of the airflow does not adversely affect the processing of the surface of the substrate 40. Therefore, the processing liquid splashed from the surface of the substrate 40 to the periphery adheres to the inner surface of the upper cup 20 above the bonding portion 51, and flows down to the bonding portion 51 along the inner surface.
【００１０】そして、図４において、処理液の廃液は、
係止突起部３２と上カップ２０の下端部２１との隙間へ
毛管現象により侵入する。このため、係止突起部３２と
上カップ２０の下端部２１との間の接触部Ａ、あるいは
下カップ３０の上端部３３と上カップ２０の下端部２１
との接触部Ｂに廃液が入り込む。入り込んだ廃液は、溶
媒分が次第に蒸発して乾燥し粘着性を増す。Then, in FIG. 4, the waste liquid of the processing liquid is
Capillary action penetrates into the gap between the locking projection 32 and the lower end 21 of the upper cup 20. Therefore, the contact portion A between the locking projection 32 and the lower end portion 21 of the upper cup 20, or the upper end portion 33 of the lower cup 30 and the lower end portion 21 of the upper cup 20.
The waste liquid enters the contact portion B with. In the waste liquid that has entered, the solvent gradually evaporates and dries to increase the tackiness.
【００１１】また、上カップ２０の下端部２１の下面と
下カップ３０の内面とのコーナー部Ｃに流れ込んだ廃液
も同様に徐々に乾燥して粘着性を増す。このために、粘
着性を持った廃液が固化して上カップ２０と下カップ３
０とを接着することによって、メンテナンス作業時にお
ける上カップ２０の分離作業を困難にする。また、接合
部５１に付着した廃液の固化物は容易に洗い落とすこと
ができず、メンテナンス作業を困難にするという問題を
生じる。The waste liquid flowing into the corner C between the lower surface of the lower end 21 of the upper cup 20 and the inner surface of the lower cup 30 is likewise gradually dried to increase its adhesiveness. For this reason, the sticky waste liquid solidifies and the upper cup 20 and the lower cup 3
By bonding 0 and 0, it becomes difficult to separate the upper cup 20 during maintenance work. Further, the waste liquid solidified on the joint portion 51 cannot be easily washed off, which causes a problem that maintenance work becomes difficult.
【００１２】本発明の目的は、カップの接合部に廃液が
侵入することによってカップの分解が困難となることの
ない回転式基板処理装置用カップを提供することであ
る。An object of the present invention is to provide a cup for a rotary substrate processing apparatus, which does not cause difficulty in disassembling the cup due to invasion of waste liquid into the joint portion of the cup.
【００１３】[0013]
【課題を解決するための手段および発明の効果】第１の
発明に係る回転式基板処理装置用カップは、基板を保持
して回転する基板回転保持部の周囲を取り囲む周壁部を
それぞれ有する上カップ部材および下カップ部材が互い
に嵌合可能に構成された回転式基板処理装置用カップで
あり、上カップ部材の周壁部から下カップ部材との接合
部よりも下方位置まで下カップ部材の周壁部の内面に対
して空間を隔てて延びる環状の迫り出し部が設けられた
ものである。A cup for a rotary substrate processing apparatus according to a first aspect of the present invention has an upper cup that has a peripheral wall portion that surrounds the periphery of a substrate rotation holding portion that holds and rotates a substrate. Is a cup for a rotary substrate processing apparatus, wherein the lower cup member and the lower cup member are configured to be fitted to each other, and the peripheral wall portion of the lower cup member extends from a peripheral wall portion of the upper cup member to a position below a joint portion with the lower cup member. An annular projecting portion that is spaced apart from the inner surface is provided.
【００１４】第２の発明に係る回転式基板処理装置用カ
ップは、第１の発明に係る回転式基板処理装置用カップ
の構成において、上カップ部材の周壁部が、下カップ部
材の周壁部の内側に嵌合可能に形成され、迫り出し部の
内面が上カップ部材の周壁部の内面と面一に形成された
ものである。A cup for a rotary substrate processing apparatus according to a second aspect of the present invention is the cup for a rotary substrate processing apparatus according to the first aspect of the present invention, wherein the peripheral wall portion of the upper cup member is the peripheral wall portion of the lower cup member. The inner surface of the protruding portion is formed so that it can be fitted inside, and the inner surface of the protruding portion is flush with the inner surface of the peripheral wall portion of the upper cup member.
【００１５】第３の発明に係る回転式基板処理装置用カ
ップは、第２の発明に係る回転式基板処理装置用カップ
の構成において、迫り出し部の下端よりも下方位置にお
ける下カップ部材の周壁部の内面と迫り出し部の内面と
が面一に形成されたものである。A rotary substrate processing apparatus cup according to a third aspect of the present invention is the rotary substrate processing apparatus cup according to the second aspect of the present invention, in which the peripheral wall of the lower cup member is located below the lower end of the protruding portion. The inner surface of the part and the inner surface of the protruding part are flush with each other.
【００１６】第４の発明に係る回転式基板処理装置用カ
ップは、第２または第３の発明に係る回転式基板処理装
置用カップの構成において、下カップ部材の周壁部の内
面に上カップ部材の周壁部を支持する支持部が形成され
ているものである。The rotary substrate processing apparatus cup according to a fourth aspect of the present invention is the rotary substrate processing apparatus cup according to the second or third aspect of the invention, wherein the upper cup member is provided on the inner surface of the peripheral wall portion of the lower cup member. The support part which supports the peripheral wall part of is formed.
【００１７】第１〜第４の発明に係る回転式基板処理装
置用カップにおいては、上カップ部材と下カップ部材の
接合部は、環状の迫り出し部によって覆われている。し
かも、環状の迫り出し部は、下カップ部材の内面に対し
て空間を隔てて接合部の下方位置まで延びて接合部を覆
っている。したがって、上カップ部材の周壁部の内面を
流れ落ちる廃液が上カップ部材と下カップ部材の接合部
に直接接触することが妨げられ、さらに毛管現象による
接合部への廃液の侵入が防止される。これにより、上カ
ップ部材と下カップ部材の着脱が容易となり、メンテナ
ンス作業を行うことが容易となる。In the rotary substrate processing apparatus cup according to the first to fourth aspects of the present invention, the joint portion between the upper cup member and the lower cup member is covered by the annular protruding portion. Moreover, the annular protruding portion covers the joint portion by extending to the position below the joint portion with a space from the inner surface of the lower cup member. Therefore, it is possible to prevent the waste liquid flowing down on the inner surface of the peripheral wall portion of the upper cup member from directly contacting the joint portion between the upper cup member and the lower cup member, and further prevent the waste liquid from entering the joint portion due to the capillary phenomenon. As a result, the upper cup member and the lower cup member can be easily attached and detached, and maintenance work can be easily performed.
【００１８】特に、第２の発明に係る回転式基板処理装
置用カップにおいては、上カップ部材の周壁部と迫り出
し部とが面一に形成されている。このため、カップ内を
流れる気流が乱されることがなく、気流の乱れによる基
板表面の処理むらの発生を防止することができる。ま
た、上カップ部材の周壁部内面を流れ落ちる廃液が迫り
出し部によって塞き止められることがなく、周壁部の内
面に廃液の付着を防止することができる。Particularly, in the cup for a rotary substrate processing apparatus according to the second invention, the peripheral wall portion of the upper cup member and the protruding portion are formed flush with each other. Therefore, the airflow flowing in the cup is not disturbed, and it is possible to prevent the occurrence of processing irregularities on the substrate surface due to the turbulence of the airflow. Further, the waste liquid flowing down on the inner surface of the peripheral wall portion of the upper cup member is not blocked by the squeeze-out portion, and it is possible to prevent the waste liquid from adhering to the inner surface of the peripheral wall portion.
【００１９】特に、第３の発明に係る回転式基板処理装
置用カップにおいては、第２の発明の構成に加え、さら
に迫り出し部の内面と下カップ部材の周壁部の内面とが
面一に形成されている。したがって、上カップ部材の迫
り出し部と下カップ部材の内面上端部との対向部分にお
いて、気流の乱れを防止することができるとともに、上
カップ部材の迫り出し部の内面を伝って落ちた廃液をさ
らに下カップ部材の周壁部の内面を伝って滑らかに下方
側に流れ落ちるように導くことができる。これにより、
上カップ部材と下カップ部材の嵌合部分周辺に廃液が付
着するのを防止することができる。Particularly, in the cup for a rotary substrate processing apparatus according to the third invention, in addition to the structure of the second invention, the inner surface of the protruding portion and the inner surface of the peripheral wall portion of the lower cup member are flush with each other. Has been formed. Therefore, turbulence of the airflow can be prevented at the portion where the protruding portion of the upper cup member and the upper end portion of the inner surface of the lower cup member are opposed to each other, and the waste liquid dropped along the inner surface of the protruding portion of the upper cup member can be prevented. Further, it can be guided along the inner surface of the peripheral wall portion of the lower cup member so as to smoothly flow downward. This allows
It is possible to prevent the waste liquid from adhering to the periphery of the fitting portion of the upper cup member and the lower cup member.
【００２０】特に、第４の発明に係る回転式基板処理装
置用カップにおいては、上カップ部材の迫り出し部と下
カップ部材の周壁部との間に構成された空間内を廃液が
逆流した場合に、下カップ部材に設けた支持部の下面が
廃液の流れを阻止し、廃液が上カップ部材と下カップ部
材の接合部に侵入することを防止する。これにより、カ
ップの接合部への廃液の侵入によって上カップ部材と下
カップ部材とが分離困難となることを防止することがで
きる。Particularly, in the rotary substrate processing apparatus cup according to the fourth aspect of the present invention, when the waste liquid flows backward through the space formed between the protruding portion of the upper cup member and the peripheral wall portion of the lower cup member. In addition, the lower surface of the support portion provided on the lower cup member blocks the flow of the waste liquid, and prevents the waste liquid from entering the joint between the upper cup member and the lower cup member. Accordingly, it is possible to prevent the upper cup member and the lower cup member from being difficult to separate due to the invasion of the waste liquid into the joint portion of the cup.
【００２１】[0021]
【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施例によるカ
ップの接合部を示す断面斜視図である。なお、本実施例
における回転式基板処理装置の概略構造は、図３に示す
回転式基板処理装置の構造と同様であり、ここでの詳細
な説明は省略する。1 is a sectional perspective view showing a joint portion of a cup according to an embodiment of the present invention. The schematic structure of the rotary substrate processing apparatus in this embodiment is similar to that of the rotary substrate processing apparatus shown in FIG. 3, and detailed description thereof will be omitted here.
【００２２】本実施例によるカップは、環状の上カップ
１と下カップ１０とから構成されている。図１におい
て、上カップ１の周壁部２の下端には下方に延びる迫り
出し部４が延設されている。迫り出し部４は、周壁部２
よりも薄く形成されている。The cup according to the present embodiment comprises an annular upper cup 1 and a lower cup 10. In FIG. 1, a protruding portion 4 extending downward is provided at the lower end of the peripheral wall portion 2 of the upper cup 1. The protruding portion 4 is the peripheral wall portion 2.
It is formed thinner than.
【００２３】また、周壁部２の下端外周面にはフランジ
状の突起部３が周壁部２と一体的に形成されている。上
カップ１の周壁部２および迫り出し部４の内面は互いに
面一に形成されている。On the outer peripheral surface of the lower end of the peripheral wall portion 2, a flange-shaped protrusion 3 is formed integrally with the peripheral wall portion 2. Inner surfaces of the peripheral wall portion 2 and the protruding portion 4 of the upper cup 1 are flush with each other.
【００２４】下カップ１０の周壁部１５は、図３に示す
ように基板４０の下方に配置されており、その底面の一
部にはドレン配管３４が接続されている。図１におい
て、下カップ１０の周壁部１５の上端には、周壁部１５
の外側に向かって斜め上方に張り出した傾斜壁面１４
と、傾斜壁面１４の上端部から鉛直上方に延びる垂直壁
面１３と、垂直壁面１３の内面から下カップ１０の内側
に環状に突出した支持突起部１２とが一体的に形成され
ている。The peripheral wall portion 15 of the lower cup 10 is arranged below the substrate 40 as shown in FIG. 3, and a drain pipe 34 is connected to a part of the bottom surface thereof. In FIG. 1, at the upper end of the peripheral wall portion 15 of the lower cup 10, the peripheral wall portion 15
Wall surface 14 that projects diagonally upward toward the outside of the
A vertical wall surface 13 that extends vertically upward from the upper end of the inclined wall surface 14 and a support projection 12 that annularly projects from the inner surface of the vertical wall surface 13 to the inside of the lower cup 10 are integrally formed.
【００２５】図１に示すように、上カップ１および下カ
ップ１０の組み立て状態では、上カップ１の突起部３と
下カップ１０の垂直壁面１３の上端部とが嵌め合い構造
に形成されている。また、上カップ１の突起部３の下面
は、下カップ１０の支持突起部１２上面によって支持さ
れている。As shown in FIG. 1, in the assembled state of the upper cup 1 and the lower cup 10, the projection 3 of the upper cup 1 and the upper end of the vertical wall surface 13 of the lower cup 10 are formed in a fitting structure. . Further, the lower surface of the protrusion 3 of the upper cup 1 is supported by the upper surface of the support protrusion 12 of the lower cup 10.
【００２６】図２は、カップ接合部の作用を説明するた
めの断面図である。本実施例のカップ接合部では、上カ
ップ１の周壁部２の下端に迫り出し部４を形成してい
る。迫り出し部４は、上カップ１の突起部３と下カップ
１０の垂直壁面１３および支持突起部１２との接触部を
覆い隠すように設けられている。このために、基板４０
から飛散する処理液がこの接触部に直接付着することを
防止することができる。FIG. 2 is a sectional view for explaining the action of the cup joint portion. In the cup joining portion of this embodiment, the protruding portion 4 is formed at the lower end of the peripheral wall portion 2 of the upper cup 1. The protruding portion 4 is provided so as to cover the contact portion between the protrusion 3 of the upper cup 1 and the vertical wall surface 13 of the lower cup 10 and the support protrusion 12. To this end, the substrate 40
It is possible to prevent the processing liquid scattered from the substrate from directly adhering to this contact portion.
【００２７】また、迫り出し部４の先端４ａは尖頭形状
に形成されている。このため、基板４０から飛散し、上
カップ１の周壁部２の内壁面を伝って流れ落ちてきた処
理液の廃液は、迫り出し部４の鋭利な下端から落下しや
すくなる。これによって、処理液の廃液が迫り出し部４
の外周面側に回り込みにくくし、上カップ１の突起部３
と下カップ１０の垂直壁面１３および支持突起部１２と
の接触部に処理液の廃液が侵入するのを防止することが
できる。The tip 4a of the protruding portion 4 is formed in a pointed shape. For this reason, the waste liquid of the processing liquid that has scattered from the substrate 40 and has flowed down along the inner wall surface of the peripheral wall portion 2 of the upper cup 1 easily falls from the sharp lower end of the protruding portion 4. As a result, the waste liquid of the processing liquid squeezes out.
Around the outer peripheral surface of the upper cup 1
Therefore, it is possible to prevent the waste liquid of the processing liquid from entering the contact portion between the vertical wall surface 13 of the lower cup 10 and the supporting protrusion 12.
【００２８】さらに、上カップ１の迫り出し部４と下カ
ップ１０の垂直壁面１３、傾斜壁面１４との間には、第
１の空間Ｘが形成されている。第１の空間Ｘは、迫り出
し部４の外周面と垂直壁面１３あるいは傾斜壁面１４の
内面との間で毛管現象が生じない程度に広く形成されて
いる。このため、上カップ１の周壁部２の内壁面を伝っ
て迫り出し部４の下端に流れ落ちた廃液が、迫り出し部
４と下カップ１０の周壁部１５との間の開口部Ｚを通し
て毛管現象によって突起部３と支持突起部１２との接触
部に侵入することを防止することができる。また、多量
の廃液が開口部Ｚから第１の空間Ｘ内に侵入したとして
も第１の空間Ｘが廃液によって完全に満たされない程度
に空間領域を広く形成している。Further, a first space X is formed between the protruding portion 4 of the upper cup 1 and the vertical wall surface 13 and the inclined wall surface 14 of the lower cup 10. The first space X is formed as wide as possible between the outer peripheral surface of the projecting portion 4 and the inner surface of the vertical wall surface 13 or the inclined wall surface 14 so that capillarity does not occur. Therefore, the waste liquid that has flowed down the inner wall surface of the peripheral wall portion 2 of the upper cup 1 and has flowed down to the lower end of the protruding portion 4 passes through the opening Z between the protruding portion 4 and the peripheral wall portion 15 of the lower cup 10 to cause a capillary phenomenon. Thus, it is possible to prevent the protrusion 3 and the supporting protrusion 12 from entering the contact portion. Further, even if a large amount of waste liquid enters the first space X through the opening Z, the space region is formed so wide that the first space X is not completely filled with the waste liquid.
【００２９】さらに、上カップ１の迫り出し部４の外周
面と下カップ１０の支持突起部１２の内周面との間には
第２の空間Ｙが形成されている。第２の空間Ｙは、万
一、廃液が第１の空間Ｘ内の上方に侵入してきた場合に
対して、さらに廃液が突起部３と支持突起部１２との接
触部に到達しにくくなるように作用する。Further, a second space Y is formed between the outer peripheral surface of the protruding portion 4 of the upper cup 1 and the inner peripheral surface of the support protrusion 12 of the lower cup 10. In the second space Y, it is more difficult for the waste liquid to reach the contact portion between the protrusion 3 and the support protrusion 12 as compared with the case where the waste liquid has entered the upper portion of the first space X. Act on.
【００３０】また、支持突起部１２の下面は、第１の空
間Ｘ内を上方に侵入してきた廃液を下方へ跳ね返すこと
ができる。上記のような構造によって、基板４０から飛
散する廃液は、上カップ１と下カップ１０の接合部であ
る突起部３と垂直壁面１３および支持突起部１２との接
触部に到達することなく、迫り出し部４から下カップ本
体１５の内面を伝って流れ、ドレン配管３４を通り外部
へ排出される。これにより、廃液によって上カップ１と
下カップ１０の接合部が接着され、メンテナンス時にお
ける上カップ１の分離動作を困難としたり、廃液の固化
物の付着によってカップ接合部の洗浄が困難になるとい
う事態を防止することができる。Further, the lower surface of the support projection 12 can repel the waste liquid that has invaded upward in the first space X downward. With the structure as described above, the waste liquid scattered from the substrate 40 does not reach the contact portion between the protrusion 3 which is the joint between the upper cup 1 and the lower cup 10 and the vertical wall surface 13 and the support protrusion 12, and approaches the contact portion. It flows from the outlet portion 4 along the inner surface of the lower cup body 15 and is discharged to the outside through the drain pipe 34. As a result, the joint portion between the upper cup 1 and the lower cup 10 is adhered by the waste liquid, which makes it difficult to separate the upper cup 1 during maintenance, and it becomes difficult to clean the cup joint portion due to the solidified waste liquid. The situation can be prevented.
【００３１】さらに、組み立てた状態において、上カッ
プ１の内面と下カップ１０の内面とは面一となるように
形成されている。このため、基板４０の上面の処理液の
ミストを排出する等の目的でカップ内に導入される清浄
な空気の流れが、上カップ１の迫り出し部４と下カップ
１０の周壁部１５の上端との対向部分によってほとんど
乱されることがない。したがって、気流の乱れが基板４
０の表面に悪影響を及ぼすことを防止することができ
る。Further, in the assembled state, the inner surface of the upper cup 1 and the inner surface of the lower cup 10 are formed so as to be flush with each other. For this reason, the flow of clean air introduced into the cup for the purpose of discharging the mist of the processing liquid on the upper surface of the substrate 40 is increased by the protruding portion 4 of the upper cup 1 and the upper ends of the peripheral wall portions 15 of the lower cups 10. It is hardly disturbed by the facing part. Therefore, the turbulence of the air flow is
It is possible to prevent the surface of 0 from being adversely affected.
【００３２】なお、上記実施例において、下カップ１０
の支持突起部１２は、カップの内部に向かって突出した
環状の連続体で構成されてもよく、あるいは複数個の突
起部を分散配置して構成してもよい。In the above embodiment, the lower cup 10
The support protrusion 12 may be formed of an annular continuous body protruding toward the inside of the cup, or may be formed by disposing a plurality of protrusions in a dispersed manner.
【図１】本発明の実施例によるカップ接合部の断面斜視
図である。FIG. 1 is a cross-sectional perspective view of a cup joint portion according to an embodiment of the present invention.
【図２】本発明の実施例によるカップ接合部の作用を説
明するための断面図である。FIG. 2 is a sectional view illustrating an operation of a cup joint according to an embodiment of the present invention.
【図３】回転式基板処理装置の概略断面図である。FIG. 3 is a schematic sectional view of a rotary substrate processing apparatus.
【図４】従来のカップ接合部の断面斜視図である。FIG. 4 is a cross-sectional perspective view of a conventional cup joint portion.
１ 上カップ ２ 上カップの周壁部 ３ 突起部 ４ 迫り出し部 １０ 下カップ １２ 支持突起部 １３ 垂直壁面 １４ 傾斜壁面 １５ 下カップの周壁部 Ｘ 第１の空間 Ｙ 第２の空間 1 Upper Cup 2 Peripheral Wall of Upper Cup 3 Protrusion 4 Protrusion 10 Lower Cup 12 Supporting Protrusion 13 Vertical Wall 14 Sloping Wall 15 Perimeter Wall of Lower Cup X First Space Y Second Space
Claims (4)
の周囲を取り囲む周壁部をそれぞれ有する上カップ部材
および下カップ部材が互いに嵌合可能に構成された回転
式基板処理装置用カップにおいて、 前記上カップ部材の周壁部から前記下カップ部材との接
合部よりも下方位置まで前記下カップ部材の周壁部の内
面に対して空間を隔てて延びる環状の迫り出し部が設け
られたことを特徴とする回転式基板処理装置用カップ。1. A cup for a rotary substrate processing apparatus, wherein an upper cup member and a lower cup member each having a peripheral wall portion surrounding a periphery of a substrate rotation holding portion that holds and rotates a substrate are configured to be fitted to each other. An annular protruding portion is provided extending from the peripheral wall portion of the upper cup member to a position lower than a joint portion with the lower cup member below the inner surface of the peripheral wall portion of the lower cup member with a space. And a cup for rotary substrate processing equipment.
ップ部材の周壁部の内側に嵌合可能に形成され、前記迫
り出し部の内面は前記上カップ部材の周壁部の内面と面
一に形成されたことを特徴とする請求項１記載の回転式
基板処理装置用カップ。2. The peripheral wall portion of the upper cup member is formed so that it can be fitted inside the peripheral wall portion of the lower cup member, and the inner surface of the protruding portion is flush with the inner surface of the peripheral wall portion of the upper cup member. The cup for a rotary substrate processing apparatus according to claim 1, wherein
おける前記下カップ部材の周壁部の内面と前記迫り出し
部の内面とが面一に形成されたことを特徴とする請求項
２記載の回転式基板処理装置用カップ。3. The inner surface of the peripheral wall portion of the lower cup member and the inner surface of the protruding portion at a position lower than the lower end of the protruding portion are flush with each other. Cup for rotary substrate processing equipment.
上カップ部材の周壁部を支持する支持部が形成されてい
ることを特徴とする請求項２または３記載の回転式基板
処理装置用カップ。4. The rotary substrate processing apparatus according to claim 2, wherein a support portion that supports the peripheral wall portion of the upper cup member is formed on the inner surface of the peripheral wall portion of the lower cup member. cup.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3789196A JPH09225376A (en) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | Cap for rotary substrate processing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3789196A JPH09225376A (en) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | Cap for rotary substrate processing apparatus |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09225376A true JPH09225376A (en) | 1997-09-02 |
Family
ID=12510172
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3789196A Pending JPH09225376A (en) | 1996-02-26 | 1996-02-26 | Cap for rotary substrate processing apparatus |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09225376A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10160012B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-12-25 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Cup and substrate processing apparatus |
-
1996
- 1996-02-26 JP JP3789196A patent/JPH09225376A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10160012B2 (en) | 2011-11-30 | 2018-12-25 | Screen Semiconductor Solutions Co., Ltd. | Cup and substrate processing apparatus |
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