JPH09181142A - Substrate conveying equipment and intermediate delivering equipment - Google Patents

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To increase the maximum range while restraining the arm moving radius. SOLUTION: Three arms 41, 42, 43 are linked together, and an arm linkage body is made. The base end portion of the body is subjected to pivotal motion control by a motor 44. The power of the motor 44 is transmitted by pulleys 61, 62, 64, 65 and belts 63, 66. While the joint part linking together the arms 42, 43 is bent, the attitude facing an exposure unit of the substrate mounting arm 41 is maintained. In this state, the substrate mounting arm 41 is rectilinearly moved. Thereby the arm moving radius is restrained in the length range of one out of the arms 42, 43, and the maximum range to the exposure unit side can be inceased up to the sum length of the three arms 41, 42, 43.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、露光処理
前後のレジスト塗布、ベーク、現像などの各種の基板処
理を行なうための処理ユニットと、露光処理を行なうた
めの露光ユニットとの間等、異なるユニット間で基板の
搬送（中間受渡し）を行なうための基板搬送装置および
その中間受渡し装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to, for example, a processing unit for performing various substrate processings such as resist coating before and after exposure processing, baking, and development, and an exposure unit for performing exposure processing. The present invention relates to a substrate transfer device and an intermediate transfer device for transferring (intermediate transfer) of substrates between different units.

【０００２】[0002]

【従来の技術】基板に対してフォトリソグラフィ工程の
各種の基板処理を行なうための基板処理装置において
は、従来、フォトリソグラフィ工程のうち、露光処理前
後の各種の基板処理を行なうための処理ユニットと、露
光処理を行なうための露光ユニットとに分けられて構成
されている。2. Description of the Related Art In a substrate processing apparatus for performing various substrate processing in a photolithography process on a substrate, a processing unit for performing various substrate processing before and after the exposure process in the photolithography process has been conventionally used. , And an exposure unit for performing an exposure process.

【０００３】処理ユニットは、レジスト塗布、プリベー
クなどの露光処理前の各基板処理や、現像、ポストベー
クなどの露光処理後の各基板処理を行なうためのスピン
コーター、スピンディベロッパー、ベークユニット（ホ
ットプレートやクールプレートを含んでいる）などの各
種装置や、処理ユニット内で基板の搬送などを行なう基
板搬送ロボットなどを一体的にユニット化して構成して
いる。The processing unit is a spin coater, a spin developer, a bake unit (hot plate) for performing each substrate processing before exposure processing such as resist coating and pre-baking, and each substrate processing after exposure processing such as development and post-baking. (Including a cool plate) and various devices, such as a substrate transfer robot that performs substrate transfer within the processing unit, etc.

【０００４】露光ユニットは、露光を行なうための、例
えば、縮小投影露光機（ステッパ）などの露光機や、露
光機での露光パターンの焼き付けのための位置決めを行
なうアライメント機構、露光ユニット内で基板の搬送な
どを行なう基板搬送ロボットなどを一体的にユニット化
して構成している。The exposure unit is an exposure machine such as a reduction projection exposure machine (stepper) for performing exposure, an alignment mechanism for performing positioning for printing an exposure pattern in the exposure machine, and a substrate in the exposure unit. Substrate transfer robots for carrying out the above are integrated into a unit and configured.

【０００５】このような基板処理装置では、まず、処理
ユニットで露光処理前の基板処理が行なわれ、次に、露
光ユニットで露光処理が行なわれ、そして、再び処理ユ
ニットで露光処理後の基板処理が行なわれる。したがっ
て、処理ユニットと露光ユニットとの間で基板を搬送
（中間受渡し）する必要があり、通常、これらユニット
間の基板の搬送を行なうための中間受渡し装置を備えて
いる。この中間受渡し装置は、従来、処理ユニット側基
板搬送ロボットと基板を受渡しする基板受渡し台、処理
ユニットまたは露光ユニットにトラブルがあったとき等
に基板を一時的に収納しておくバッファ部、前記基板受
渡し台やバッファ部に移動して基板を搬送する基板搬送
ロボットの他、通常、露光前基板を露光ユニットに受渡
すための基板搬入装置と、露光処理が終了した露光済基
板を露光ユニットから搬出して中間受渡し装置内に取り
込むための基板搬出装置とを備えている。図８および図
９は、基板搬入装置および基板搬出装置（以後、これら
の装置を総称するときは「ＩＦ基板搬送部」と呼ぶこと
にする）を示した図である。このＩＦ基板搬送部は、基
板を載置して搬送するアーム１０１と、このアーム１０
１を回転支持する支持アーム１０２とを備え、これらは
パルスモータ１０３および動力伝達手段１０４によって
駆動される。In such a substrate processing apparatus, first, the processing unit performs the substrate processing before the exposure processing, then the exposure unit performs the exposure processing, and the processing unit again performs the substrate processing after the exposure processing. Is performed. Therefore, it is necessary to transfer (intermediate transfer) the substrate between the processing unit and the exposure unit, and usually an intermediate transfer device for transferring the substrate between these units is provided. This intermediate delivery device is conventionally provided with a substrate transfer table for delivering a substrate to a processing unit side substrate transfer robot, a buffer section for temporarily storing the substrate when a trouble occurs in the processing unit or the exposure unit, and the substrate. In addition to a substrate transfer robot that moves substrates to a transfer table or a buffer unit, usually, a substrate loading device for delivering a pre-exposure substrate to an exposure unit, and an exposed substrate that has been subjected to exposure processing from the exposure unit. And a substrate unloading device for loading into the intermediate delivery device. FIG. 8 and FIG. 9 are diagrams showing a substrate carry-in device and a substrate carry-out device (hereinafter, these devices will be collectively referred to as “IF substrate carrying section”). The IF substrate transfer unit includes an arm 101 for mounting and transferring a substrate and an arm 10 for transferring the substrate.
1. A support arm 102 for rotatably supporting 1 is driven by a pulse motor 103 and a power transmission means 104.

【０００６】ここで、動力伝達手段１０４は、４個のプ
ーリ１０５，１１７，１１８，１２１と、２個のタイミ
ングベルト１１１，１１２とから構成されている。アー
ム１０１とプーリ１０５とは軸１１５によって互いに固
定されている。また、支持アーム１０２とシャフト１１
６とは互いに固定され、シャフト１１６の下端にはプー
リ１１７が固定されており、タイミングベルト１１１を
介してモータ１０３の回転軸１１８に固定されたプーリ
１１９に連結されている。さらに、シャフト１１６を遊
嵌するプーリ１２１は、図示しないＩＦ基板搬送部本体
のベースに回転不可能に固定されており、タイミングベ
ルト１１２を介してプーリ１０５に連結されている。そ
して、プーリ１０５とプーリ１２１の径比は１対２とさ
れており、故に軸１１５とシャフト１１６の回転速度比
は２対１とされている。また、アーム１０１の基板載置
領域の中心点から軸１１５までの距離を「アーム長」、
軸１１５からシャフト１１６までの距離を「支持アーム
長」とすると、アーム長と支持アーム長とは共に同一寸
法Ｒａに設定されている。Here, the power transmission means 104 is composed of four pulleys 105, 117, 118, 121 and two timing belts 111, 112. The arm 101 and the pulley 105 are fixed to each other by a shaft 115. In addition, the support arm 102 and the shaft 11
6 is fixed to each other, a pulley 117 is fixed to the lower end of the shaft 116, and is connected to a pulley 119 fixed to the rotary shaft 118 of the motor 103 via the timing belt 111. Further, the pulley 121 on which the shaft 116 is loosely fitted is non-rotatably fixed to the base of the IF substrate transport unit main body (not shown), and is connected to the pulley 105 via the timing belt 112. The diameter ratio between the pulley 105 and the pulley 121 is 1: 2, so that the rotation speed ratio between the shaft 115 and the shaft 116 is 2: 1. Further, the distance from the center point of the substrate mounting area of the arm 101 to the axis 115 is defined as “arm length”,
Assuming that the distance from the shaft 115 to the shaft 116 is “support arm length”, both arm length and support arm length are set to the same dimension Ra.

【０００７】かかる構成における動作を説明する。ま
ず、図９の如く、基板の受渡しを行うための待機ポジシ
ョンＰｗの載置具１２４ａの３個のピン１２４上に基板
が載置されると、モータ１０３の駆動力によって支持ア
ーム１０２がＲｒ方向に回動し、これに同期して、軸１
１５が前述の動力伝達手段によって逆方向のＱｒ方向に
回動する。これによって、アーム１０１の載置部１０１
ａはＲｅｖ方向に直進する。このとき、アーム１０１は
ピン１２４上の基板よりも低い位置で動作している。そ
して、アーム１０１が待機ポジションＰｗの載置具１２
４ａに達したら、図示しないシリンダによってアーム１
０１が上昇し、載置部１０１ａで基板をすくい上げて受
け取る。次に、モータ１０３の駆動力によって支持アー
ム１０２がＲｆ方向に回動し、これに同期して、軸１１
５が前述の動力伝達手段によって逆方向のＱｆ方向に回
動する。これによって、アーム１０１の載置部１０１ａ
上の基板はＦｏｒ方向に直進する。アーム１０１が露光
ユニット内の所定位置Ｐｌに達したら、図示しないシリ
ンダによってアーム１０１が下降し、基板を露光ユニッ
ト内のピン１２５上に載置する。その後、アーム１０１
はＲｅｖ方向に退去され、所定位置Ｐｏにて停止する。The operation of this configuration will be described. First, as shown in FIG. 9, when the substrate is placed on the three pins 124 of the placing tool 124a at the standby position Pw for transferring the substrate, the supporting arm 102 is moved in the Rr direction by the driving force of the motor 103. To the axis 1, and in synchronization with this, the axis 1
15 is rotated in the opposite Qr direction by the aforementioned power transmission means. As a result, the mounting portion 101 of the arm 101
a goes straight in the Rev direction. At this time, the arm 101 is operating at a position lower than the substrate on the pin 124. Then, the arm 101 moves the mounting tool 12 at the standby position Pw.
When reaching 4a, the arm 1 is moved by a cylinder (not shown).
01 moves up, and the substrate is picked up by the mounting portion 101a and received. Next, the support arm 102 is rotated in the Rf direction by the driving force of the motor 103, and in synchronization with this, the shaft 11
5 is rotated in the opposite Qf direction by the aforementioned power transmission means. As a result, the mounting portion 101a of the arm 101 is
The upper substrate goes straight in the For direction. When the arm 101 reaches a predetermined position Pl in the exposure unit, the arm 101 is lowered by a cylinder (not shown), and the substrate is placed on the pin 125 in the exposure unit. Then the arm 101
Moves away in the Rev direction and stops at a predetermined position Po.

【０００８】[0008]

【発明が解決しようとする課題】従来の技術では、次の
問題点が指摘されていた。In the prior art, the following problems have been pointed out.

【０００９】（１）従来では、アーム１０１の載置部１
０１ａは、図８および図９の如く、ピン１２４，１２５
に抵触しないような形状を採用する必要がある。しかし
ながら、アーム１０１は軸１１５周りにＱｆ・Ｑｒ方向
に回動しながらＦｏｒ・Ｒｅｖ方向に進退するため、動
作が複雑になり、よって載置部１０１ａの形状はピン回
避用切欠１０１ｂを形成するなどして複雑なものとなら
ざるを得ない。そうすると、金型製造等の段階で製造コ
ストが高くつくといった問題があった。(1) Conventionally, the mounting portion 1 of the arm 101
01a has pins 124 and 125 as shown in FIGS.
It is necessary to adopt a shape that does not interfere with. However, since the arm 101 moves back and forth in the For / Rev directions while rotating in the Qf / Qr directions around the shaft 115, the operation becomes complicated, and thus the mounting portion 101a has a pin avoiding notch 101b. Then it has to be complicated. Then, there is a problem that the manufacturing cost becomes high at the stage of mold manufacturing.

【００１０】（２）ＩＦ基板搬送部は、中間受渡し装置
内に配置されて、基板受渡しに使用されるが、アーム１
０１は軸１１５周りにＱｆ・Ｑｒ方向に回動しながらＦ
ｏｒ・Ｒｅｖ方向に進退するため、中間受渡し装置内に
アーム１０１が回動して進退できるだけのスペースを確
保する必要があり、中間受渡し装置自体の大型化を招く
といった問題点があった。(2) The IF substrate transfer section is arranged in the intermediate transfer device and is used to transfer the substrate.
01 is rotating around the shaft 115 in the Qf and Qr directions and is F
Since it moves back and forth in the or. Rev direction, it is necessary to secure a space for the arm 101 to rotate and move back and forth in the intermediate delivery device, which causes a problem that the intermediate delivery device itself becomes large.

【００１１】（３）またＩＦ基板搬送部は、通常中間受
渡し装置内に配置されて、露光ユニットとの基板受渡し
に使用されるが、アーム１０１は軸１１５周りにＱｆ・
Ｑｒ方向に回動しながらＦｏｒ・Ｒｅｖ方向に進退する
ため、露光ユニット内への基板を受け入れ、また露光ユ
ニットからの基板の搬出にあって、露光ユニットの受渡
し部に、アーム１０１と干渉しないような大きさの開口
を形成しなければならず、この開口のため露光ユニット
内の処理雰囲気を乱すという問題点があった。(3) Further, the IF substrate transfer section is usually arranged in the intermediate transfer device and is used for transferring the substrate to and from the exposure unit.
Since it moves in the For / Rev direction while rotating in the Qr direction, the substrate is received in the exposure unit, and when the substrate is unloaded from the exposure unit, the transfer unit of the exposure unit does not interfere with the arm 101. Since an opening having a large size must be formed, the processing atmosphere in the exposure unit is disturbed due to this opening.

【００１２】（４）ＩＦユニット内に待機ポジションＰ
ｗの載置具１２４ａ自体を設けることで、ＩＦユニット
の装置スペースが肥大化していた。(4) Standby position P in the IF unit
By providing the w mounting tool 124a itself, the device space of the IF unit was enlarged.

【００１３】本発明は、上記課題に鑑み、アーム形状の
複雑化を防止し、アーム旋回半径を小さくできる基板搬
送装置を提供することを目的とするとともに、小型でコ
ンパクトにでき、さらには処理ユニットと露光ユニット
との中間受渡し装置に適用される際には露光装置内の処
理雰囲気を乱さない中間受渡し装置を提供することを目
的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus which can prevent the arm shape from becoming complicated and can reduce the arm turning radius, and also can be made small and compact, and further, a processing unit. It is an object of the present invention to provide an intermediate transfer device that does not disturb the processing atmosphere in the exposure device when applied to the intermediate transfer device between the exposure unit and the exposure unit.

【００１４】[0014]

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、外部の所定の基板受渡し部に対して基板を進退させ
て受け渡す基板搬送装置であって、最も先端に配された
基板載置アームを含んで３個以上の奇数個のアームが連
結されてなるアーム連結体と、前記アーム連結体の基端
部を回動制御する回動手段と、前記回動手段の回動力を
伝達し、前記基板載置アーム以外の一対のアーム同士を
連結する少なくとも１個の関節部分を折り曲げつつ、前
記基板載置アームの前記所定の基板受渡し部に対峙する
姿勢を維持しながら、前記基板載置アームを直線状に移
動させる動力伝達手段と、を備える。According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer device for advancing and retracting a substrate to and from an external predetermined substrate transfer part, the substrate transfer device being arranged at the most tip end. An arm connecting body in which three or more odd-numbered arms including the mounting arm are connected, a rotating means for controlling rotation of a base end portion of the arm connecting body, and a rotational force of the rotating means is transmitted. Then, while bending at least one joint part that connects a pair of arms other than the substrate mounting arm, while maintaining the posture of the substrate mounting arm facing the predetermined substrate transfer portion, Power transmission means for linearly moving the mounting arm.

【００１５】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の基板搬送装置であって、前記アーム連結体は、最も先
端に連結された基板載置アームとしての第１のアーム
と、前記第１のアームの基端部を第１の回動軸を中心に
回動自在に支持する第２のアームと、その基端部が第３
の回動軸を中心に支持されるとともに前記第２のアーム
の基端部を第２の回動軸を中心に回動自在に支持する第
３のアームと、を少なくとも備え、前記第１の回動軸と
前記第２の回動軸間の距離と、前記第２の回動軸と前記
第３の回動軸間の距離とが同一に設定される。According to a second aspect of the present invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the first aspect, wherein the arm connecting member is a first arm as a substrate mounting arm connected to the most tip, and A second arm that rotatably supports the base end portion of the first arm around the first rotation shaft, and the base end portion of the second arm is the third arm.
A third arm that is supported about the rotation axis of the second arm and that rotatably supports the base end portion of the second arm about the second rotation axis. The distance between the rotary shaft and the second rotary shaft and the distance between the second rotary shaft and the third rotary shaft are set to be the same.

【００１６】請求項３に記載の発明は、請求項１に記載
の基板搬送装置であって、前記アーム連結体は、最も先
端に連結された基板載置アームとしての第１のアーム
と、前記第１のアームの基端部に固定された第１の回動
軸を軸受けして回動自在に支持する第２のアームと、そ
の基端部が第３の回動軸を中心に支持されるとともに前
記第２のアームの基端部に固定された第２の回動軸を軸
受けして回動自在に支持する第３のアームと、を少なく
とも備え、前記第１の回動軸と前記第２の回動軸間の距
離と、前記第２の回動軸と前記第３の回動軸間の距離と
が同一に設定される。According to a third aspect of the invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the first aspect, wherein the arm coupling body includes a first arm as a substrate mounting arm which is coupled to a tip end of the arm. A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the base end of the first arm and that is rotatably supported by the second arm is supported around the third rotation shaft. And a third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the second arm and rotatably supports the second rotation shaft. The distance between the second rotating shafts and the distance between the second rotating shaft and the third rotating shaft are set to be the same.

【００１７】また、前記動力伝達手段は、前記第１のア
ームの前記第１の回動軸に固定された第１の回動子と、
前記第３のアームの前記第２の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第２の回動子と、前記第１の回動子と前記
第２の回動子とを連結する第１の連結部材と、前記第２
のアームの前記第２の回動軸に固定された第３の回動子
と、基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前
記第３の回動軸を軸受けする不動子と、前記第３の回動
子と前記不動子とを連結する第２の連結部材と、を少な
くとも備える。そして、前記第１の回動子の径は前記第
２の回動子の径の２倍とされ、前記第３の回動子の径は
前記不動子の径の半分とされる。Further, the power transmission means includes a first rotator fixed to the first rotation shaft of the first arm,
An annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, and a first rotator connecting the first rotator and the second rotator. 1 connecting member and the second
A third rotator fixed to the second rotative shaft of the arm, and a stationary member that is unrotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotative shaft. And a second connecting member that connects the third rotating element and the stationary element. The diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is half the diameter of the stationary element.

【００１８】請求項４に記載の発明は、請求項１に記載
の基板搬送装置であって、前記基板載置アームに、基板
を位置決めするための位置決め手段が設けられる。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the first aspect, wherein the substrate mounting arm is provided with positioning means for positioning the substrate.

【００１９】請求項５に記載の発明は、第１の基板処理
ユニットと第２の基板処理ユニットとの間に介在される
中間受渡し装置であって、前記中間受渡し装置の前記第
２の基板処理ユニットに対する境界に配置されて当該第
２の基板処理ユニット内の所定の基板受渡し部に対して
基板を進退させて受け渡す基板搬送装置を含み、前記基
板搬送装置は、最も先端に配された基板載置アームを含
んで３個以上の奇数個のアームが連結されてなるアーム
連結体と、前記アーム連結体の基端部を回動制御する回
動手段と、前記回動手段の回動力を伝達して、前記アー
ム連結体の前記基板載置アームを、前記所定の基板受渡
し部に対峙する姿勢を維持しながら直線状に進退させる
動力伝達手段と、を備える。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an intermediate transfer device interposed between the first substrate processing unit and the second substrate processing unit, wherein the second substrate processing of the intermediate transfer device is performed. The substrate transfer device is disposed at a boundary with respect to the unit, and advances and retracts the substrate to and from a predetermined substrate transfer part in the second substrate processing unit, wherein the substrate transfer device is disposed at the most tip end. An arm connecting body in which three or more odd-numbered arms including the mounting arm are connected, a rotating means for rotating and controlling a base end portion of the arm connecting body, and a rotating force of the rotating means. And a power transmission unit for linearly advancing and retreating the substrate mounting arm of the arm coupling body while maintaining a posture facing the predetermined substrate transfer portion.

【００２０】請求項６に記載の発明は、請求項５に記載
の中間受渡し装置であって、前記アーム連結体は、最も
先端に連結された基板載置アームとしての第１のアーム
と、前記第１のアームの基端部を第１の回動軸を中心に
回動自在に支持する第２のアームと、その基端部が第３
の回動軸を中心に支持されるとともに前記第２のアーム
の基端部を第２の回動軸を中心に回動自在に支持する第
３のアームと、を少なくとも備え、前記第１の回動軸と
前記第２の回動軸間の距離と、前記第２の回動軸と前記
第３の回動軸間の距離とが同一に設定される。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the intermediate transfer device according to the fifth aspect, wherein the arm connecting body is a first arm as a substrate mounting arm connected to the most tip, and A second arm that rotatably supports the base end portion of the first arm around the first rotation shaft, and the base end portion of the second arm is the third arm.
A third arm that is supported about the rotation axis of the second arm and that rotatably supports the base end portion of the second arm about the second rotation axis. The distance between the rotary shaft and the second rotary shaft and the distance between the second rotary shaft and the third rotary shaft are set to be the same.

【００２１】請求項７に記載の発明は、請求項５に記載
の中間受渡し装置であって、前記アーム連結体は、最も
先端に連結された基板載置アームとしての第１のアーム
と、前記第１のアームの基端部に固定された第１の回動
軸を軸受けして回動自在に支持する第２のアームと、そ
の基端部が第３の回動軸を中心に支持されるとともに前
記第２のアームの基端部に固定された第２の回動軸を軸
受けして回動自在に支持する第３のアームと、を少なく
とも備え、前記第１の回動軸と前記第２の回動軸間の距
離と、前記第２の回動軸と前記第３の回動軸間の距離と
が同一に設定される。According to a seventh aspect of the invention, there is provided the intermediate transfer device according to the fifth aspect, wherein the arm connecting body is a first arm serving as a substrate mounting arm which is connected to the most distal end, and A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the base end of the first arm and that is rotatably supported by the second arm is supported around the third rotation shaft. And a third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the second arm and rotatably supports the second rotation shaft. The distance between the second rotating shafts and the distance between the second rotating shaft and the third rotating shaft are set to be the same.

【００２２】また、前記動力伝達手段は、前記第１のア
ームの前記第１の回動軸に固定された第１の回動子と、
前記第３のアームの前記第２の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第２の回動子と、前記第１の回動子と前記
第２の回動子とを連結する第１の連結部材と、前記第２
のアームの前記第２の回動軸に固定された第３の回動子
と、基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前
記第３の回動軸を軸受けする不動子と、前記第３の回動
子と前記不動子とを連結する第２の連結部材と、を少な
くとも備える。そして、前記第１の回動子の径は前記第
２の回動子の径の２倍とされ、前記第３の回動子の径は
前記不動子の径の半分とされる。Further, the power transmission means includes a first rotary member fixed to the first rotary shaft of the first arm,
An annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, and a first rotator connecting the first rotator and the second rotator. 1 connecting member and the second
A third rotator fixed to the second rotative shaft of the arm, and a stationary member that is unrotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotative shaft. And a second connecting member that connects the third rotating element and the stationary element. The diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is half the diameter of the stationary element.

【００２３】請求項８に記載の発明は、請求項５乃至請
求項７のいずれかに記載の中間受渡し装置であって、前
記第２の基板処理ユニットが露光装置である。The invention according to claim 8 is the intermediate transfer device according to any one of claims 5 to 7, wherein the second substrate processing unit is an exposure device.

【００２４】[0024]

【発明の実施の形態】BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION

＜構成＞図１は本発明の一の実施の形態に係る基板搬送
装置を備えた基板処理装置全体の構成を示す平断面図、
図２は当該中間受渡し装置を露光ユニット側から見た正
面図である。図１以降の各図には、位置関係を明確にす
るためにＸＹＺ直交座標系を付している。<Structure> FIG. 1 is a plan sectional view showing the structure of an entire substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view of the intermediate delivery device viewed from the exposure unit side. 1 and subsequent figures are provided with an XYZ orthogonal coordinate system in order to clarify the positional relationship.

【００２５】なお、本実施形態およびや各種の変形例
は、半導体ウエハ（基板）に対してフォトリソグラフィ
工程の各基板処理を行なうための基板処理装置に本発明
を適用した場合を例に採っているが、本発明は、液晶表
示器用のガラス基板などの各種の基板の基板処理装置に
も同様に適用することができる。In the present embodiment and various modifications, the case where the present invention is applied to a substrate processing apparatus for performing each substrate processing in a photolithography process on a semiconductor wafer (substrate) is taken as an example. However, the present invention can be similarly applied to a substrate processing apparatus for various substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display.

【００２６】図１に示すように、本発明に係る基板搬送
装置が適用される基板処理装置は、インデクサ１、処理
ユニット２（第１の基板処理ユニット）、インターフェ
ースユニット（中間受渡し装置、以下、「ＩＦユニッ
ト」と称す）３、露光ユニット４（第２の基板処理ユニ
ット）などを備えて構成されている。As shown in FIG. 1, a substrate processing apparatus to which a substrate transfer apparatus according to the present invention is applied includes an indexer 1, a processing unit 2 (first substrate processing unit), an interface unit (intermediate delivery apparatus, hereinafter, An “IF unit”) 3, an exposure unit 4 (second substrate processing unit), and the like are provided.

【００２７】インデクサ１は、キャリアの自動搬送車
（Auto Guided Vehicle ：以下「ＡＧＶ」という）５と
のキャリアＣの受渡しを行なうための搬入出テーブル１
１や、搬入出テーブル１１に載置されているキャリアＣ
と後述する処理ユニット２内の基板搬送ロボット２３と
の間の基板Ｗの受渡しを行なうための基板搬入出ロボッ
ト１２などを備えて構成されている。The indexer 1 is a loading / unloading table 1 for delivering a carrier C to and from an automatic guided vehicle (hereinafter referred to as "AGV") 5 of the carrier.
1 or the carrier C placed on the loading / unloading table 11
And a substrate transfer robot 23 in the processing unit 2, which will be described later, and the like.

【００２８】処理ユニット２は、第１の装置配置部２１
と第２の装置配置部２２と基板搬送ロボット２３の搬送
経路２４とを備えている。第１の装置配置部２１には、
図１のＸ軸方向に沿って、レジスト塗布を行なうための
スピンコーターＳＣや、現像を行なうためのスピンディ
ベロッパーＳＤなどがそれぞれ複数台配設されている。
また、第２の装置配置部２２には、プリベークやポスト
ベークなどを行なうためのベークユニットＢＵや、複数
台のエッジ露光部ＥＥＷなどが配設されている。The processing unit 2 includes a first device placement section 21.
And a second device placement section 22 and a transfer path 24 of the substrate transfer robot 23. In the first device placement unit 21,
A plurality of spin coaters SC for applying resist, spin developers SD for developing, and the like are provided along the X-axis direction in FIG.
In addition, the second device placement unit 22 is provided with a bake unit BU for performing pre-baking, post-baking, and the like, a plurality of edge exposure units EEW, and the like.

【００２９】また、本実施形態では、第２の装置配置部
２２のＩＦユニット３側の端部付近に、後述するＩＦユ
ニット３内の第１の基板搬送ロボット３１と基板Ｗの受
渡しを行なうための基板受渡し台２５を設けている。基
板受渡し台２５には、複数本の基板支持ピン２５ａが鉛
直方向に固定立設されており、これら基板支持ピン２５
ａに基板Ｗが載置されて基板Ｗの受渡しが行なわれる。Further, in the present embodiment, in order to transfer the substrate W to the first substrate transfer robot 31 in the IF unit 3 which will be described later, in the vicinity of the end of the second apparatus placement portion 22 on the IF unit 3 side. The substrate transfer table 25 is provided. A plurality of substrate support pins 25 a are vertically fixed and erected on the substrate transfer table 25.
The substrate W is placed on a and the substrate W is delivered.

【００３０】基板搬送ロボット２３の搬送経路２４は、
上記第１、第２の装置配置部２１、２２の間に設けられ
ている。基板搬送ロボット２３は、ハンド２３ｂの鉛直
（以下Ｚ軸と称す）周りの回転や、Ｘ、Ｚ軸方向（受渡
し位置調整方向）の移動、伸縮動作を適宜に組合わせ
て、スピンコーターＳＣやスピンディベロッパーＳＤ、
ベークユニットＢＵ、エッジ露光部ＥＥＷなどの処理装
置に対するアクセス（各装置に対する基板Ｗの搬入／搬
出動作）や、基板受渡し台２５に対する基板Ｗの載置／
取り出し、処理ユニット２内の各装置などの間の基板Ｗ
の搬送などを行う。基板搬送ロボット２３は、基板Ｗを
載置支持する複数の突起部２３ａを備えた馬蹄型のハン
ド２３ｂと、ハンド２３ｂを水平方向（Ｘ−Ｙ平面）に
伸縮させる伸縮部２３ｃとを備えて構成されている。伸
縮部２３ｃは、図示しないネジ軸およびモータ等からな
る周知の１軸方向移動機構で構成され、図示しない所定
のモータによってＺ軸周りに回転する。The transfer path 24 of the substrate transfer robot 23 is
It is provided between the first and second device placement parts 21 and 22. The substrate transfer robot 23 appropriately rotates the hand 23b around a vertical axis (hereinafter referred to as the Z axis), moves in the X and Z axis directions (delivery position adjustment direction), and expands and contracts to appropriately combine the spin coater SC and the spin coater SC. Developer SD,
Access to processing devices such as the bake unit BU and the edge exposure unit EEW (loading / unloading operation of the substrate W to / from each device), and placement / loading of the substrate W on the substrate transfer table 25.
Substrate W between each device in the take-out and processing unit 2
It is used for transportation. The substrate transfer robot 23 includes a horseshoe-shaped hand 23b having a plurality of protrusions 23a for placing and supporting the substrate W, and a telescopic unit 23c for expanding and contracting the hand 23b in the horizontal direction (XY plane). Has been done. The expansion / contraction part 23c is composed of a well-known uniaxial moving mechanism including a screw shaft (not shown), a motor, etc., and is rotated around the Z axis by a predetermined motor (not shown).

【００３１】例えば、基板受渡し台２５に基板Ｗを載置
する場合には、まず、ハンド２３ｂのＸ軸方向およびＺ
軸方向の移動とＺ軸周りの回転を適宜行なって、ハンド
２３ｂをその基板受渡し台２５の上方に伸縮できるよう
にする。次に、ハンド２３ｂを基板受渡し台２５方向に
伸長させ、載置支持している基板Ｗを基板受渡し台２５
の基板支持ピン２５ａの若干上方に位置させる。そし
て、ハンド２３ｂをＺ軸方向に降下させ、基板Ｗを基板
支持ピン２５ａに載置して受渡し、さらに若干降下させ
た位置でハンド２３ｂを退出させる。基板受渡し台２５
に載置された基板Ｗの取り出しは、上記と逆の動作でハ
ンド２３ｂを基板受渡し台２５に載置された基板Ｗの下
方から基板Ｗを持ち上げるようにして行なわれる。For example, when the substrate W is placed on the substrate transfer table 25, first, the X-axis direction of the hand 23b and the Z direction.
The hand 23b can be expanded and contracted above the substrate transfer table 25 by appropriately performing axial movement and rotation around the Z axis. Next, the hand 23b is extended in the direction of the substrate transfer table 25, and the substrate W supported and placed is placed on the substrate transfer table 25.
It is located slightly above the substrate support pin 25a. Then, the hand 23b is lowered in the Z-axis direction, the substrate W is placed on the substrate support pins 25a and delivered, and the hand 23b is retracted at a position further lowered. Substrate transfer table 25
The substrate W placed on the substrate W is taken out by the operation reverse to the above, so that the hand 23b lifts the substrate W from below the substrate W placed on the substrate delivery table 25.

【００３２】ＩＦユニット３は、本発明に係る中間受渡
し装置に相当する部分であり、図１ないし図２に示すよ
うに、第１の基板搬送ロボット３１とバッファ部３２と
第２の基板搬送ロボット３３と基板搬入装置３４と基板
搬出装置３５とを一体的にユニット化して構成されてい
る。また、本実施形態では、ＩＦユニット３内に、第
１、第２のカセット３６ａ、３６ｂをそれぞれセットし
ておくための２個のテーブル台３７ａ、３７ｂも備えら
れている。The IF unit 3 is a portion corresponding to the intermediate transfer device according to the present invention, and as shown in FIGS. 1 and 2, the first substrate transfer robot 31, the buffer section 32, and the second substrate transfer robot. 33, the substrate loading device 34, and the substrate unloading device 35 are integrally configured as a unit. Further, in the present embodiment, the IF unit 3 is also provided with two table bases 37a and 37b for respectively setting the first and second cassettes 36a and 36b.

【００３３】第１の基板搬送ロボット３１は、処理ユニ
ット２内の基板受渡し台２５に対する基板Ｗの載置／取
り出しと、後述するバッファ部３２の任意の収納棚３２
ａに対する基板Ｗの収納／取り出しを行なうものであっ
て、図２の如く、Ｚ軸方向駆動部３１ａ、連結部材３１
ｂ、回転駆動部３１ｃ、伸縮駆動部３１ｄ、基板支持部
３１ｅなどで構成されている。The first substrate transfer robot 31 places / takes out the substrate W on / from the substrate transfer table 25 in the processing unit 2 and an arbitrary storage rack 32 of the buffer section 32 which will be described later.
The substrate W is stored / removed in / from the a, and as shown in FIG.
b, a rotation driving unit 31c, a telescopic driving unit 31d, a substrate supporting unit 31e, and the like.

【００３４】Ｚ軸方向駆動部３１ａは、ＩＦユニット３
の下面に固定され、ネジ軸３１ａａがＺ軸方向に回動自
在に内設され、ネジ軸３１ａａに平行にガイド軸（図示
せず）が内設され、また、ネジ軸３１ａａを正逆方向に
回転させるモータ３１ａｂも内設されている。The Z-axis direction drive section 31a is provided in the IF unit 3
Is fixed to the lower surface of the screw shaft 31aa, a screw shaft 31aa is rotatably provided in the Z-axis direction, a guide shaft (not shown) is provided parallel to the screw shaft 31aa, and the screw shaft 31aa is provided in the forward and reverse directions. A motor 31ab for rotating the motor is also provided inside.

【００３５】連結部材３１ｂの基端部は、上記Ｚ軸方向
駆動部３１ａ内のネジ軸３１ａａに螺合され、ガイド軸
に摺動自在に嵌め付けられていて、ネジ軸３１ａａに正
逆方向に回転させることで連結部材３１ｂをＺ軸方向に
移動（鉛直方向へ昇降移動）させるように構成してい
る。また、連結部材３１ｂの先端部には回転駆動部３１
ｃが固設されている。The base end portion of the connecting member 31b is screwed onto the screw shaft 31aa in the Z-axis direction drive portion 31a, and is slidably fitted to the guide shaft. By rotating the connecting member 31b, the connecting member 31b is moved in the Z-axis direction (moving up and down in the vertical direction). Further, the rotation driving unit 31 is provided at the tip of the connecting member 31b.
c is fixed.

【００３６】回転駆動部３１ｃは、上方に回転軸３１ｃ
ａがＺ軸（鉛直）方向に回動自在に立設され、この回転
軸３１ｃａを正逆方向に回転させるモータ３１ｃｂが内
設されている。上記回転軸３１ｃａの先端部には、伸縮
駆動部３１ｄが固設されている。この伸縮駆動部３１ｄ
にはモータ３１ｄａで駆動されるタイミングベルト３１
ｄｂが内設されている。このタイミングベルト３１ｄｂ
の一部に基板支持部３１ｅの基端部が連結されていて、
タイミングベルト３１ｄｂを駆動させることで、伸縮駆
動部３１ｄに対して基板支持部３１ｅを伸縮させるよう
に構成している。また、上記回転駆動部３１ｃの回転軸
３１ｃａを正逆方向に回転させることで、伸縮駆動部３
１ｄおよび基板支持部３１ｅをＺ軸（鉛直）周りに回転
させ、Ｘ−Ｙ平面（水平面）内の任意の方向に基板支持
部３１ｅを伸縮可能に構成している。さらに、上記Ｚ軸
方向駆動部３１ａのネジ軸３１ａａを正逆方向に回転さ
せることで、連結部材３１ｂ、回転駆動部３１ｃ、伸縮
駆動部３１ｄを介して基板支持部３１ｅを伸縮させるＺ
軸（鉛直）方向の高さを調節可能に構成している。な
お、図２中の符号２ａは、処理ユニット２とＩＦユニッ
ト３との間で基板Ｗを受け渡すときに基板Ｗを支持した
上記第１の基板搬送ロボット３１が通過するための開口
を示している。The rotary drive unit 31c is provided with an upper rotary shaft 31c.
a is erected so as to be rotatable in the Z-axis (vertical) direction, and a motor 31cb for rotating the rotating shaft 31ca in the forward and reverse directions is internally provided. An extension / contraction drive unit 31d is fixed to the tip of the rotary shaft 31ca. This extension drive unit 31d
Is a timing belt 31 driven by a motor 31da
db is internally provided. This timing belt 31db
The base end of the substrate support 31e is connected to a part of
By driving the timing belt 31db, the board support portion 31e is expanded and contracted with respect to the expansion and contraction drive portion 31d. Further, by rotating the rotary shaft 31ca of the rotary drive unit 31c in the forward and reverse directions, the expansion and contraction drive unit 3 is rotated.
1d and the substrate support portion 31e are rotated around the Z axis (vertical), so that the substrate support portion 31e can be expanded and contracted in any direction within the XY plane (horizontal plane). Further, by rotating the screw shaft 31aa of the Z-axis direction driving portion 31a in the forward and reverse directions, the board supporting portion 31e is expanded and contracted through the connecting member 31b, the rotation driving portion 31c, and the expansion and contraction driving portion 31d.
The height in the axial (vertical) direction is adjustable. Reference numeral 2a in FIG. 2 indicates an opening through which the first substrate transfer robot 31 supporting the substrate W passes when the substrate W is transferred between the processing unit 2 and the IF unit 3. There is.

【００３７】また、基板支持部３１ｅを処理ユニット２
内の基板受渡し台２５および後述するバッファ部３２に
対して伸縮できるように、伸縮駆動部３１ｄは基板受渡
し台２５のＸ軸方向正面で、バッファ部３２のＹ軸方向
正面に配置されている。さらに、伸縮駆動部３１ｄがＺ
軸方向に降下された状態でも伸縮駆動部３１ｄがＺ軸周
りに回転できるように、Ｚ軸方向駆動部３１ａは、連結
部材３１ｂを介して伸縮駆動部３１ｄや回転駆動部３１
ｃの下方からずれた位置に配置されている。Further, the substrate supporting portion 31e is connected to the processing unit 2
The expansion / contraction drive unit 31d is arranged in front of the substrate transfer table 25 in the X-axis direction and in front of the buffer section 32 in the Y-axis direction so as to be expandable / contractible with respect to the substrate transfer table 25 and a buffer section 32 described later. Further, the extension / contraction drive unit 31d is Z
The Z-axis direction drive unit 31a includes the extension / contraction drive unit 31d and the rotation drive unit 31 via the connecting member 31b so that the extension / contraction drive unit 31d can rotate about the Z-axis even in the state of being lowered in the axial direction.
It is arranged at a position displaced from the lower side of c.

【００３８】バッファ部３２は、上記第１の基板搬送ロ
ボット３１と後述する第２の基板搬送ロボット３３とに
挟まれる位置に配置され、ＩＦユニット３の内側面に支
持されている。このバッファ部３２には、複数個（例え
ば５０個）の収納棚３２ａがＺ軸（鉛直）方向に多段状
に積層形成されている。また、各収納棚３２ａは、上記
第１の基板搬送ロボット３１、および、後述する第２の
基板搬送ロボット３３に向く面が開口されていて、これ
ら第１、第２の基板搬送ロボット３１、３３による基板
Ｗの収納／取り出しが行なえるように構成している。The buffer section 32 is arranged at a position sandwiched between the first substrate transfer robot 31 and a second substrate transfer robot 33 described later, and is supported on the inner surface of the IF unit 3. In the buffer section 32, a plurality of (for example, 50) storage shelves 32a are stacked and formed in a multi-step manner in the Z-axis (vertical) direction. In addition, each of the storage shelves 32a has an opening in a surface facing the first substrate transfer robot 31 and a second substrate transfer robot 33 described later, and these first and second substrate transfer robots 31 and 33 are opened. The substrate W is configured to be stored / removed.

【００３９】第２の基板搬送ロボット３３は、バッファ
部３２の任意の収納棚３２ａに対する基板Ｗの収納／取
り出しや、基板搬入装置３４への基板Ｗの載置、基板搬
出装置３５からの基板Ｗの取り出し、後述するカセット
３６ａ、３６ｂに対する基板Ｗの収納／取り出しなどを
行なうものであって、Ｙ軸方向駆動部３３ａ、第１の連
結部材３３ｂ、Ｚ軸方向駆動部３３ｃ、第２の連結部材
３３ｄ、回転駆動部３３ｅ、伸縮駆動部３３ｆ、基板支
持部３３ｇなどで構成されている。The second substrate transfer robot 33 stores / unloads the substrate W into / from the arbitrary storage rack 32 a of the buffer section 32, places the substrate W on the substrate loading device 34, and transfers the substrate W from the substrate unloading device 35. For loading / unloading the substrate W into / from cassettes 36a, 36b, which will be described later, and includes a Y-axis direction drive portion 33a, a first connecting member 33b, a Z-axis direction driving portion 33c, and a second connecting member. 33d, a rotation drive unit 33e, a telescopic drive unit 33f, a substrate support unit 33g, and the like.

【００４０】Ｙ軸方向駆動部３３ａは、ＩＦユニット３
の内側面に固定され、ネジ軸３３ａａがＹ軸方向に回動
自在に内設され、ネジ軸３３ａａに平行にガイド軸３３
ａｂが内設され、また、ネジ軸３３ａａを正逆方向に回
転させるモータ３３ａｃも内設されている。このＹ軸方
向駆動部３３ａは、第２の基板搬送ロボット３３の伸縮
駆動部３３ｆおよび基板支持部３３ｇを、バッファ部３
２のＹ軸方向正面と、後述する基板搬入装置３４のＸ軸
方向正面との間で移動可能に配置されている。The Y-axis direction drive unit 33a includes the IF unit 3
Is fixed to the inner side surface of the guide shaft 33, the screw shaft 33aa is rotatably provided in the Y-axis direction, and is parallel to the screw shaft 33aa.
ab is provided internally, and a motor 33ac for rotating the screw shaft 33aa in the forward and reverse directions is also provided internally. The Y-axis direction drive unit 33a includes the expansion / contraction drive unit 33f and the substrate support unit 33g of the second substrate transfer robot 33, and the buffer unit 3a.
It is movably arranged between the Y axis direction front surface 2 and the X axis direction front surface of the substrate loading device 34 described later.

【００４１】第１の連結部材３３ｂの基端部は、上記Ｙ
軸方向駆動部３３ａ内のネジ軸３３ａａに螺合され、ガ
イド軸３３ａｂに摺動自在に嵌め付けられていて、ネジ
軸３３ａａを正逆方向に回転させることで第１の連結部
材３３ｂをＹ軸方向（水平１軸方向）に移動させるよう
に構成している。また、第１の連結部材３３ｂの先端部
にはＺ軸方向駆動部３３ｃが固設されている。The base end of the first connecting member 33b has the above-mentioned Y
The first connecting member 33b is screwed onto the screw shaft 33aa in the axial drive unit 33a and is slidably fitted to the guide shaft 33ab, and the first connecting member 33b is rotated by rotating the screw shaft 33aa in the forward and reverse directions. It is configured to move in the direction (horizontal 1-axis direction). Further, a Z-axis direction driving portion 33c is fixedly provided on the tip end portion of the first connecting member 33b.

【００４２】第２の基板搬送ロボット３３のＺ軸方向駆
動部３３ｃ、第２の連結部材３３ｄ、回転駆動部３３
ｅ、伸縮駆動部３３ｆ、基板支持部３３ｇは、上記第１
の基板搬送ロボット３１のＺ軸方向駆動部３１ａ、連結
部材３１ｂ、回転駆動部３１ｃ、伸縮駆動部３１ｄ、基
板支持部３１ｅと同様の構成を有しており、同様の動作
を行なう。すなわち、基板支持部３３ｇは伸縮駆動部３
３ｆに対して伸縮可能で、回転駆動部３３ｅによって伸
縮駆動部３３ｆおよび基板支持部３３ｇはＺ軸（鉛直）
周りに回転され、Ｘ−Ｙ平面（水平面）内の任意の方向
に基板支持部３３ｇが伸縮できるようになっている。ま
た、Ｚ軸方向駆動部３３ｃによって第２の連結部材３３
ｄ、回転駆動部３３ｅ、伸縮駆動部３３ｆを介して基板
支持部３３ｇを伸縮させるＺ軸（鉛直）方向の高さ調節
が可能である。さらに、この第２の基板搬送ロボット３
３では、Ｙ軸方向駆動部３３ａによって第１の連結部材
３３ｂ、Ｚ軸方向駆動部３３ｃ、第２の連結部材３３
ｄ、回転駆動部３３ｅを介して伸縮駆動部３３ｆおよび
基板支持部３３ｇのＹ軸方向の位置を変位可能にしてい
る。The Z-axis direction drive unit 33c of the second substrate transfer robot 33, the second connecting member 33d, and the rotation drive unit 33.
e, the expansion / contraction drive unit 33f, and the substrate support unit 33g are the first
The substrate transport robot 31 has the same configuration as the Z-axis direction drive unit 31a, the connecting member 31b, the rotation drive unit 31c, the expansion / contraction drive unit 31d, and the substrate support unit 31e, and performs the same operation. That is, the substrate support portion 33g is the extension drive unit 3
It is expandable / contractible with respect to 3f, and the expansion / contraction drive unit 33e and the substrate support unit 33g are Z-axis (vertical) by the rotation drive unit 33e.
The substrate support portion 33g can be expanded and contracted in an arbitrary direction within the XY plane (horizontal plane) by being rotated around. In addition, the Z-axis direction driving portion 33c causes the second connecting member 33
It is possible to adjust the height in the Z-axis (vertical) direction in which the substrate support portion 33g is expanded and contracted via d, the rotation drive portion 33e, and the expansion / contraction drive portion 33f. Furthermore, this second substrate transfer robot 3
In 3, the first connecting member 33b, the Z-axis driving portion 33c, and the second connecting member 33 are driven by the Y-axis direction driving portion 33a.
The position of the expansion / contraction drive unit 33f and the substrate support unit 33g in the Y-axis direction can be displaced via the rotation drive unit 33e.

【００４３】なお、本実施形態では、第１の基板搬送ロ
ボット３１、バッファ部３２、第２の基板搬送ロボット
３３がその順で第２の基板搬送ロボット３３のＹ軸方向
駆動部３３ａ（１軸方向移動手段）の移動方向（Ｙ軸方
向）に平行に一直線状に配設されている。In the present embodiment, the first substrate transfer robot 31, the buffer unit 32, and the second substrate transfer robot 33 are arranged in that order in the Y-axis direction drive unit 33a (one axis) of the second substrate transfer robot 33. (Direction moving means) is arranged in a straight line in parallel with the moving direction (Y-axis direction).

【００４４】基板搬入装置３４は、露光前基板を露光ユ
ニット４の基板受渡し部４ａに受渡すものであって、基
板搬出装置３５は、露光ユニット４で露光処理が終了し
た露光済基板を露光ユニット４の基板受渡し部４ｂから
搬出してＩＦユニット３内に取り込むものである。な
お、以下の説明でＩＦユニット３内の基板搬入装置３４
および基板搬出装置３５を総称するときは従来技術での
説明と同様に、単に「ＩＦ基板搬送部」と呼ぶことにす
る。このＩＦ基板搬送部３４，３５は、図３〜図７の如
く、基板Ｗを載置する第１のアーム（基板載置アーム）
４１と、この第１のアーム４１を水平面内で回動自在に
支持する第２のアーム４２と、この第２のアーム４２を
水平面内で回動自在に支持する第３のアーム４３と、こ
の第３のアーム４３を水平面内で回動させる回動手段４
４（電動モータ）と、第３のアーム４３を上方に支持す
るアーム台４５と、回動手段４４で第３のアーム４３を
回動させたときに第２のアーム４２および第１のアーム
４１に動力を伝達してこれらの姿勢および移動方向を制
御する動力伝達手段４６と、を備える。なお、３個のア
ーム４１，４２，４３を連結したものを「アーム連結
体」と呼ぶことにする。そして、このアーム連結体は、
３個の関節を有するものである。The substrate carry-in device 34 delivers the pre-exposure substrate to the substrate delivery section 4a of the exposure unit 4, and the substrate carry-out device 35 delivers the exposed substrate which has been exposed by the exposure unit 4 to the exposure unit. 4 is taken out from the substrate transfer part 4b and is taken into the IF unit 3. In the following description, the board loading device 34 in the IF unit 3 will be described.
The substrate unloading device 35 will be generically referred to as an "IF substrate transporting unit" as in the case of the conventional technique. As shown in FIGS. 3 to 7, the IF substrate transfer parts 34 and 35 are provided with a first arm (substrate mounting arm) for mounting the substrate W thereon.
41, a second arm 42 that rotatably supports the first arm 41 in a horizontal plane, and a third arm 43 that rotatably supports the second arm 42 in a horizontal plane. Rotating means 4 for rotating the third arm 43 in a horizontal plane
4 (electric motor), an arm base 45 for supporting the third arm 43 upward, and a second arm 42 and a first arm 41 when the third arm 43 is rotated by the rotating means 44. Power transmission means 46 for transmitting power to control these postures and movement directions. In addition, what connected three arms 41, 42, 43 is called an "arm connection body." And this arm connection body,
It has three joints.

【００４５】第１のアーム４１は、基板Ｗを載置するよ
う平行に並べられた短冊状の２個の載置片５１と、これ
らの載置片５１の基端部同士を連結する１個の短冊状の
連結部５２とから、平面視略コ字形に形成されており、
各載置片５１の基端部及び先端部には、基板Ｗに当接し
て位置決めするためのストッパ５４（第１の位置決め手
段）がピン等によって固着されている。また、連結部５
２の一部には、後方から後述する位置決めガイドピン８
８を嵌合して基板の第１のアーム４１上での位置決めを
行う位置決め用切欠５４ａ（第２の位置決め手段）が形
成されている。さらに、連結部５２の中央部には、図５
に示した第１の回動軸５５が下方に垂設固定されてい
る。The first arm 41 has two strip-shaped mounting pieces 51 arranged in parallel so as to mount the substrate W, and one connecting the base end portions of these mounting pieces 51. Is formed into a substantially U-shape in a plan view from the strip-shaped connecting portion 52 of
A stopper 54 (first positioning means) for contacting and positioning the substrate W is fixed to the base end and the tip of each mounting piece 51 by a pin or the like. Also, the connecting portion 5
A part of 2 has a positioning guide pin 8 which will be described later from the rear.
A positioning notch 54a (second positioning means) is formed to fit 8 to position the substrate on the first arm 41. Further, in the central portion of the connecting portion 52, as shown in FIG.
The first rotating shaft 55 shown in FIG.

【００４６】第２のアーム４２の先端部には、第１の回
動軸５５を回動自在に軸受けする第１の軸受け孔５６が
穿設されている。また、第２のアーム４２の基端部に
は、第２の回動軸５７が下方に垂設固定されている。A first bearing hole 56 for rotatably bearing the first rotating shaft 55 is formed at the tip of the second arm 42. A second rotating shaft 57 is vertically fixed to the base end of the second arm 42.

【００４７】第３のアーム４３は第２のアーム４２と同
じ長さ寸法に設定されており、その先端部には、第２の
回動軸５７を回動自在に軸受けする第２の軸受け孔５８
が穿設されている。また、第３のアーム４３の基端部に
は、回動手段４４の回動力がカップリング連結機構等を
介して伝達される第３の回動軸５９が、下方に向けて垂
設固定されている。The third arm 43 is set to have the same length dimension as the second arm 42, and a tip end portion thereof has a second bearing hole for rotatably bearing the second rotating shaft 57. 58
Are drilled. A third rotating shaft 59, to which the turning force of the rotating means 44 is transmitted via a coupling coupling mechanism or the like, is vertically fixed to the base end portion of the third arm 43. ing.

【００４８】動力伝達手段４６は、前述した回動手段４
４の第３の回動軸５９と、第１の回動軸５５の下端に固
定された第１のプーリ（第１の回動子）６１と、第３の
アーム４３の第２の軸受け孔５８の上面側に固定された
第２のプーリ（第２の回動子）６２と、第１のプーリ６
１と第２のプーリ６２との間に架け渡された第１のタイ
ミングベルト（第１の連結部材）６３と、第３のアーム
４３の第２の軸受け孔５８の下面側に固定された第３の
プーリ（第３の回動子）６４と、アーム４５に対して固
定されて第３の回動軸５９を遊嵌する第４のプーリ（第
４の回動子）６５と、第３のプーリ６４と第４のプーリ
６５との間に架け渡された第２のタイミングベルト（第
２の連結部材）６６と、を備える。ここで、第１のプー
リ６１の径と第２のプーリ６２の径は２対１に設定さ
れ、また、第３のプーリ６４の径と第４のプーリ６５の
径は１対２に設定されている。The power transmission means 46 is the rotation means 4 described above.
4, a third rotating shaft 59, a first pulley (first rotating member) 61 fixed to the lower end of the first rotating shaft 55, and a second bearing hole of the third arm 43. A second pulley (second rotator) 62 fixed to the upper surface side of 58 and the first pulley 6
The first timing belt (first connecting member) 63 laid between the first and second pulleys 62 and the first timing belt fixed to the lower surface side of the second bearing hole 58 of the third arm 43. A third pulley (third rotator) 64, a fourth pulley (fourth rotator) 65 fixed to the arm 45 and loosely fitted to the third rotation shaft 59, and a third A second timing belt (second connecting member) 66 spanned between the pulley 64 and the fourth pulley 65. Here, the diameter of the first pulley 61 and the diameter of the second pulley 62 are set to 2 to 1, and the diameter of the third pulley 64 and the diameter of the fourth pulley 65 are set to 1 to 2. ing.

【００４９】また、図７に示すように、第１のアーム４
１の基板載置領域の中心点から第１の回動軸５５までの
距離を「第１のアーム長Ｒｗ」とする。さらに、第１の
回動軸５５から第２の回動軸５７までの距離（以後、
「第２のアーム長」と呼ぶ）と、第２の回動軸５７から
第３の回動軸５９までの距離（以後、「第３のアーム
長」と呼ぶ）は、同一の長さＲａに設定されており、基
板の待機位置から露光ユニット内の所定位置までの搬送
距離を２Ｌｒとした場合に、ＲａはＬｒの約２分の１に
設定されている。そして、回動手段４４の取り付け位置
Ｐｍは、露光ユニット４内でできるだけ奥まで基板を届
けるように、ＩＦユニット３と露光ユニット４の境界線
上に配置される。Further, as shown in FIG. 7, the first arm 4
The distance from the center point of the first substrate mounting area to the first rotating shaft 55 is defined as "first arm length Rw". Furthermore, the distance from the first rotation shaft 55 to the second rotation shaft 57 (hereinafter,
The “second arm length”) and the distance from the second rotation shaft 57 to the third rotation shaft 59 (hereinafter, referred to as “third arm length”) have the same length Ra. When the transport distance from the standby position of the substrate to the predetermined position in the exposure unit is 2Lr, Ra is set to about ½ of Lr. Then, the mounting position Pm of the rotating means 44 is arranged on the boundary line between the IF unit 3 and the exposure unit 4 so that the substrate is delivered as far as possible in the exposure unit 4.

【００５０】なお、アーム連結体は、支持プレート８７
に固定されるとともに、アーム台４５にロッドを連結さ
れた昇降シリンダ８０によって支持プレート８７に対し
て昇降制御される。また、両ＩＦ基板搬送部３４，３５
をＹ軸方向に移動調整するため、図３および図４の如
く、支持プレート８７は摺動部材７６を通じて２本のＹ
軸レール７３に摺動自在に支持されている。また支持プ
レート８７には、その処理ユニット２側の位置に２本の
位置決めガイドピン８８が立設されるとともに、この位
置決めガイドピン８８を第１のアーム４１と同じ進退方
向へ移動させるガイドピン移動用シリンダ８９が設けら
れている。また、このＹ軸レール７３は、４本のＺ軸レ
ール８１によってＺ軸方向に移動調整可能に支持されて
いる。図３中の符号８５は４本のＺ軸レール８１を互い
に連結支持する支持柱を示している。Incidentally, the arm connecting body is the supporting plate 87.
The lifting / lowering cylinder 80 has a rod connected to the arm base 45 and is vertically moved with respect to the support plate 87. In addition, both the IF substrate transfer units 34 and 35
In order to move and adjust the Y-axis in the Y-axis direction, the support plate 87 is moved through the sliding member 76 as shown in FIGS.
It is slidably supported by the shaft rail 73. Further, two positioning guide pins 88 are erected on the support plate 87 at a position on the processing unit 2 side, and the guide pin movement for moving the positioning guide pins 88 in the same advancing and retreating direction as the first arm 41. A cylinder 89 for use is provided. The Y-axis rail 73 is supported by four Z-axis rails 81 so as to be movable and adjustable in the Z-axis direction. Reference numeral 85 in FIG. 3 indicates a support column for connecting and supporting the four Z-axis rails 81 to each other.

【００５１】＜動作＞次に、上記構成を有する基板処理
装置の動作を説明する。図１の如く、まずＡＧＶ５によ
って搬入出テーブル１１へキャリアＣをセットし、キャ
リアＣから処理ユニット２内の基板搬送ロボット２３へ
処理前基板Ｗを受渡した後、ベークユニットＢＵによる
ベーク、スピンコーターＳＣによるレジスト塗布、およ
びエッジ露光部ＥＥＷによるエッジ露光等の各種処理を
行う。<Operation> Next, the operation of the substrate processing apparatus having the above configuration will be described. As shown in FIG. 1, first, the carrier C is set on the loading / unloading table 11 by the AGV 5, the unprocessed substrate W is transferred from the carrier C to the substrate transfer robot 23 in the processing unit 2, and then the baking by the bake unit BU and the spin coater SC are performed. Various processes such as resist coating by the above and edge exposure by the edge exposure unit EEW are performed.

【００５２】そして、ＩＦユニット３によって、処理ユ
ニット２から露光ユニット４への露光前基板Ｗの受渡し
を行う。この際、図１および図２の如く、基板受渡し台
２５に載置された露光前基板Ｗは、ＩＦユニット３内の
第１の基板搬送ロボット３１によって取り出され、バッ
ファ部３２の任意の収納棚３２ａに収納される。この収
納棚３２ａに収納された露光前基板Ｗは、第２の基板搬
送ロボット３３によって取り出され、基板搬入装置３４
に載置される。この際、第２の基板搬送ロボット３３
は、基板搬入装置３４の載置片５１に基板を直接載置し
た後、載置片５１と連結部５２の段差分のスペースから
第２の基板搬送ロボット３３のアーム（図示せず）を抜
き取ればよい。そして、ガイドピン移動用シリンダ８９
を駆動して位置決めガイドピン８９を露光ユニット４側
に移動させ、この位置決めガイドピン８８と載置片５１
の先端部のストッパ５４との間で基板Ｗを挟みこんで位
置決めを行う。Then, the IF unit 3 transfers the pre-exposure substrate W from the processing unit 2 to the exposure unit 4. At this time, as shown in FIGS. 1 and 2, the pre-exposure substrate W placed on the substrate transfer table 25 is taken out by the first substrate transfer robot 31 in the IF unit 3 and is stored in an arbitrary storage shelf of the buffer section 32. It is stored in 32a. The pre-exposure substrate W stored in the storage rack 32 a is taken out by the second substrate transfer robot 33, and the substrate loading device 34
Placed on At this time, the second substrate transfer robot 33
After placing the substrate directly on the placing piece 51 of the substrate carry-in device 34, remove the arm (not shown) of the second substrate transfer robot 33 from the space corresponding to the step between the placing piece 51 and the connecting portion 52. Just take it. Then, the guide pin moving cylinder 89
Is driven to move the positioning guide pin 89 to the exposure unit 4 side, and the positioning guide pin 88 and the mounting piece 51 are moved.
The substrate W is sandwiched between it and the stopper 54 at the front end of the substrate for positioning.

【００５３】次に、図示しない制御装置の制御に従って
回動手段４４が第３の回動軸５９を通じて第３のアーム
４３を図６中のＡωの方向（左回り）に回動させると、
第２の軸受け孔５８で軸受けされた第２の回動軸５７
は、第２のベルト６６および第３のプーリ６４を通じて
第３の回動軸５９の２倍の回動速度で図６中のＢωの方
向（右回り）に回動する。これによって、第２のアーム
４２の先端部に軸受けされた第１の回動軸５５および第
１のアーム４１は、図６中のｘｌの方向（Ｘ軸方向）に
直進する。Next, when the rotating means 44 rotates the third arm 43 in the direction of Aω (counterclockwise) in FIG. 6 through the third rotating shaft 59 under the control of the control device (not shown),
The second rotating shaft 57 that is supported by the second bearing hole 58.
Rotates in the direction of Bω (clockwise) in FIG. 6 at the double rotation speed of the third rotation shaft 59 through the second belt 66 and the third pulley 64. As a result, the first rotating shaft 55 and the first arm 41, which are borne by the tip end portion of the second arm 42, go straight in the xl direction (X-axis direction) in FIG.

【００５４】この際、第１のプーリ６１が第２のプーリ
６２および第１のベルト６３を通じて回動角を制御され
ている。ここで、第１のプーリ６１の径は第２のプーリ
６２の径の２倍であるため、仮に第２のアーム４２を基
準とすると第２のプーリ６２の１／２倍の回動速度で左
回りに回動することになるが、第２のアーム４２自体が
回動しており、また、第４のプーリ６５が支持プレート
８７に対して不動であるため、第１のプーリ６１の支持
プレート８７に対する相対的回動角度が変化することな
く、図６中のｘｌの方向（Ｘ軸方向）に直進することに
なる。したがって、第１のアーム４１は、支持プレート
８７に対してｘｌの方向（露光ユニット４に向かう方
向）に対峙した姿勢を維持しながら直進する。このよう
にして、第１のアーム４１に載置された露光前基板Ｗの
露光ユニット４内への取り込みが完了する。At this time, the rotation angle of the first pulley 61 is controlled by the second pulley 62 and the first belt 63. Here, since the diameter of the first pulley 61 is twice as large as the diameter of the second pulley 62, if the second arm 42 is used as a reference, the rotation speed is 1/2 times that of the second pulley 62. Although it rotates counterclockwise, since the second arm 42 itself is rotating and the fourth pulley 65 is immovable with respect to the support plate 87, the first pulley 61 is supported. The relative rotation angle with respect to the plate 87 does not change and the vehicle goes straight in the direction of xl in FIG. 6 (X-axis direction). Therefore, the first arm 41 moves straight while maintaining a posture facing the support plate 87 in the xl direction (direction toward the exposure unit 4). In this way, the loading of the pre-exposure substrate W placed on the first arm 41 into the exposure unit 4 is completed.

【００５５】露光ユニット４内では、基板Ｗはアライメ
ント機構に引き渡されて位置決め処理が行なわれ、位置
決めされた状態で露光機に渡され、所定の露光パターン
が焼き付けられる。そして、露光処理が終了した露光済
基板Ｗは、基板搬出装置３５によって露光ユニット４内
から搬出されＩＦユニット３内に排出される。In the exposure unit 4, the substrate W is delivered to the alignment mechanism for positioning processing, and is delivered to the exposure machine in the aligned state to print a predetermined exposure pattern. Then, the exposed substrate W for which the exposure processing has been completed is carried out of the exposure unit 4 by the substrate carry-out device 35 and discharged into the IF unit 3.

【００５６】この際、図示しない制御装置の制御に従っ
て回動手段４４が第３の回動軸５９を通じて第３のアー
ム４３を図６中のＡμの方向（右回り）に回動させる
と、第２の軸受け孔５８で軸受けされた第２の回動軸５
７は、第２のベルト６６および第３のプーリ６４を通じ
て第３の回動軸５９の２倍の回動速度で図６中のＢμの
方向（右回り）に回動する。これによって、第２のアー
ム４２の先端部に軸受けされた第１の回動軸５５および
第１のアーム４１は、図６中のｘμの方向に退去する。At this time, when the rotating means 44 rotates the third arm 43 in the direction of Aμ (clockwise) in FIG. 6 through the third rotating shaft 59 under the control of the control device (not shown), The second rotary shaft 5 bearing in the second bearing hole 58.
7 rotates in the direction of Bμ (clockwise) in FIG. 6 at a rotation speed twice as high as that of the third rotation shaft 59 through the second belt 66 and the third pulley 64. As a result, the first rotation shaft 55 and the first arm 41, which are borne by the tip end of the second arm 42, retreat in the xμ direction in FIG.

【００５７】このとき、第１のプーリ６１が第２のプー
リ６２および第１のベルト６３を通じて回動角を制御さ
れている。第１のプーリ６１の径は第２のプーリ６２の
径の２倍であるため、仮に第２のアーム４２を基準とす
ると第２のプーリ６２の１／２倍の回動速度で右回りに
回動することになるが、第２のアーム４２自体が回動し
ており、また、第４のプーリ６５が支持プレート８７に
対して不動であるため、第１のプーリ６１の支持プレー
ト８７に対する相対的回動角度が変化することなく、図
６中のｘμの方向に直進することになる。したがって、
第１のアーム４１は、支持プレート８７に対してｘｌの
方向（露光ユニット４に向かう方向）に対峙した姿勢を
維持しながらｘμ方向に退去する。このようにして、露
光後基板Ｗの露光ユニット４からＩＦユニット３への退
去が完了した後、支持プレート８７上のガイドピン移動
用シリンダ８９を駆動して位置決めガイドピン８８を露
光ユニット４側に移動させ、この位置決めガイドピン８
８と載置片５１の先端部のストッパ５４との間で基板Ｗ
を挟みこんで位置決めを行う。そして、載置片５１と連
結部５２の段差分のスペースから第２の基板搬送ロボッ
ト３３のアーム（図示せず）を差し入れ、このアームに
基板を載置し、バッファ部３２、第１の基板搬送ロボッ
ト３１を経て処理ユニット２に露光後基板を戻す。At this time, the rotation angle of the first pulley 61 is controlled through the second pulley 62 and the first belt 63. Since the diameter of the first pulley 61 is twice the diameter of the second pulley 62, assuming that the second arm 42 is used as a reference, the first pulley 61 rotates clockwise at a rotation speed that is ½ times that of the second pulley 62. Although it rotates, the second arm 42 itself is rotating, and the fourth pulley 65 is immovable with respect to the support plate 87. Therefore, the first pulley 61 with respect to the support plate 87 is rotated. The vehicle moves straight in the direction of xμ in FIG. 6 without changing the relative rotation angle. Therefore,
The first arm 41 retreats in the xμ direction while maintaining a posture facing the support plate 87 in the xl direction (direction toward the exposure unit 4). In this way, after the post-exposure substrate W is completely withdrawn from the exposure unit 4 to the IF unit 3, the guide pin moving cylinder 89 on the support plate 87 is driven to move the positioning guide pin 88 to the exposure unit 4 side. Move this positioning guide pin 8
8 and the stopper 54 at the tip of the mounting piece 51
Position by sandwiching. Then, an arm (not shown) of the second substrate transfer robot 33 is inserted from the space corresponding to the step between the mounting piece 51 and the connecting portion 52, the substrate is mounted on this arm, and the buffer unit 32 and the first substrate are mounted. After exposure, the substrate is returned to the processing unit 2 via the transfer robot 31.

【００５８】このように、各ＩＦ基板搬送部３４，３５
の関節を２関節としているので、基板を載置する第１の
アーム４１の露光ユニット４に対する姿勢を変化させる
ことなく基板の受渡しを行うことができ、露光ユニット
４の開口寸法をほぼ基板径に等しい寸法にまで低減でき
る。そうすると、露光ユニット内の雰囲気の気体成分の
調整が容易になり、露光の質の向上を図ることができ
る。In this way, each IF board transport section 34, 35
Since the two joints are used, the substrate can be delivered without changing the attitude of the first arm 41 on which the substrate is placed with respect to the exposure unit 4, and the opening size of the exposure unit 4 can be made approximately the substrate diameter. It can be reduced to the same size. Then, the gas component of the atmosphere in the exposure unit can be easily adjusted, and the quality of exposure can be improved.

【００５９】また、図７の如く、回動手段４４の取り付
け位置Ｐｍからの距離を、第２のアーム長と第３のアー
ム長の合計長２Ｒａよりも、第１のアーム長Ｒｗだけ長
く設定できる（すなわちＬｒ＋Ｒｗ）ため、従来に比べ
て、アームの旋回半径をのばさなくても、より深い奥行
きの露光ユニットにも対応できる。Further, as shown in FIG. 7, the distance from the mounting position Pm of the rotating means 44 is set to be longer than the total length 2Ra of the second arm length and the third arm length by the first arm length Rw. Since it is possible (that is, Lr + Rw), it is possible to deal with an exposure unit having a deeper depth than the conventional one without increasing the turning radius of the arm.

【００６０】さらに、図８および図９に示した従来の技
術のようにウェハ載置用のピンを複雑な形状で回避する
必要がなくなるので、短冊状の２個の載置片５１と短冊
状の連結部５２といった極めて簡単な構成を採用でき、
金型製造等の段階で製造コストを従来に比べて安くでき
る。Further, unlike the conventional technique shown in FIGS. 8 and 9, it is not necessary to avoid the pins for mounting the wafer in a complicated shape, and therefore, two strip-shaped mounting pieces 51 and strip-shaped mounting pieces 51 are provided. An extremely simple structure such as the connecting portion 52 of can be adopted,
Manufacturing cost can be reduced at the stage of mold manufacturing, etc.

【００６１】また、この実施の形態では、待機位置に配
置した第１のアーム４１の上に直接基板を載置している
ので、従来のように待機ポジションＰｗの載置具１２４
ａを設ける必要がなくなり、ＩＦユニットの省スペース
化を図ることができる。Further, in this embodiment, since the substrate is directly placed on the first arm 41 arranged at the standby position, the placing tool 124 at the standby position Pw is used as in the conventional case.
Since it is not necessary to provide a, the space of the IF unit can be saved.

【００６２】また、この実施の形態では、待機位置に配
置した第１のアーム４１上にて基板の位置決めを行って
いるので、ＩＦユニット上に位置決め機構の専用スペー
スを設ける必要がないので、よりＩＦユニットの省スペ
ース化を図ることができる。Further, in this embodiment, since the substrate is positioned on the first arm 41 arranged at the standby position, it is not necessary to provide a dedicated space for the positioning mechanism on the IF unit. Space saving of the IF unit can be achieved.

【００６３】また、この実施の形態では、第１のアーム
４１を露光ユニット４に対峙する姿勢を維持しながら移
動させることができるので、中間受渡し装置内に基板を
載置するアームが回動して進出するためのスペースとい
うものを不要にでき、中間受渡し装置自体の小型化を図
ることができる。Further, in this embodiment, since the first arm 41 can be moved while maintaining the attitude facing the exposure unit 4, the arm for placing the substrate in the intermediate transfer device is rotated. It is possible to eliminate the need for a space for entering the market and reduce the size of the intermediate delivery device itself.

【００６４】なお、上記した実施の形態では、処理ユニ
ット２と露光ユニット４の間に配されるＩＦユニット３
に適用した例について説明したが、本発明はこのような
装置に限られるものではない。In the above-described embodiment, the IF unit 3 arranged between the processing unit 2 and the exposure unit 4.
However, the present invention is not limited to such an apparatus.

【００６５】さらに、上記した実施の形態では、第１の
アーム４１、第２のアーム４２および第３のアーム４３
の３個のアームを有するものについて説明したが、例え
ば、５個、７個のように、３個以上の奇数個のアームを
備えるものであればどのようなものでもよい。この場
合、アーム連結体は、基板載置アーム以外の一対ずつの
アーム同士を連結する各関節部分を折り曲げながらジグ
ザグ状に伸縮し、先端の基板載置アームの所定の基板受
渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、基板載置アーム
を直線状に移動させることができるので、上記した実施
の形態と同様の効果が得られる。Further, in the above-described embodiment, the first arm 41, the second arm 42 and the third arm 43.
However, any number may be used as long as it has an odd number of arms of 3 or more, such as 5, 7, for example. In this case, the arm connecting body expands and contracts in a zigzag shape while bending each joint portion that connects a pair of arms other than the substrate mounting arm, and faces the predetermined substrate transfer part of the substrate mounting arm at the tip. Since the substrate mounting arm can be moved linearly while maintaining the above, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained.

【００６６】[0066]

【発明の効果】【The invention's effect】

（１）請求項１および請求項５に記載の発明によれば、
動力伝達手段によって基板載置アームの基板受渡し部に
対峙する姿勢を維持しながら基板載置アームを直線状に
移動させるので、従来の技術のようにピン回避用切欠を
形成するなどして載置部の形状を複雑なものとする必要
がなくなり、したがって、金型製造等の段階で製造コス
トを従来の技術より軽減できる。(1) According to the inventions of claims 1 and 5,
Since the substrate placing arm is moved linearly while maintaining the posture facing the substrate passing portion of the substrate placing arm by the power transmission means, the pin avoiding notch is formed as in the conventional technique to place the substrate placing arm. It is not necessary to make the shape of the part complicated, so that the manufacturing cost can be reduced at the stage of manufacturing the mold or the like as compared with the conventional technique.

【００６７】（２）請求項１、請求項２、請求項５およ
び請求項６に記載の発明によれば、３個以上の奇数個の
アームを互いに回動可能に連結してアーム連結体を構成
し、回動手段および動力伝達手段によって、基板載置ア
ーム以外の一対のアーム同士を連結する少なくとも１個
の関節部分を折り曲げつつ、基板載置アームの所定の基
板受渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、基板載置ア
ームを直線状に移動させるので、アームの旋回半径を、
一対で１組とされて関節部分が折り曲げられたアーム、
すなわち基板載置アーム以外のいずかのアームの１個分
の長さに抑えることができる。したがって、従来の技術
のように中間受渡し装置の大型化を防止できる。しか
も、３個以上のアームを使用しているので、アーム連結
体の最大到達距離を、３個以上のアームの合計長さに設
定でき、２個のアームしか使用していなかった従来に比
べて、設計の自由度を高めることができ、外部の所定の
基板受渡し部に対する汎用性を高めることができる。(2) According to the inventions of claim 1, claim 2, claim 5 and claim 6, an odd number of three or more arms are rotatably connected to each other to form an arm connecting body. And a posture in which at least one joint portion connecting the pair of arms other than the substrate placing arm is bent by the rotating means and the power transmitting means while facing the predetermined substrate passing portion of the substrate placing arm. Since the substrate mounting arm is moved linearly while maintaining it, the turning radius of the arm is
A pair of arms with a joint part bent,
That is, it is possible to suppress the length to one arm other than the substrate mounting arm. Therefore, it is possible to prevent the intermediate transfer device from increasing in size as in the conventional technique. Moreover, since three or more arms are used, the maximum reachable distance of the arm connecting body can be set to the total length of three or more arms, as compared to the conventional case where only two arms are used. In addition, the degree of freedom in design can be increased, and the versatility with respect to an external predetermined substrate transfer section can be increased.

【００６８】（３）また、請求項５、請求項６、および
請求項７に記載の発明によれば（特に請求項８のよう
に、第２の基板処理ユニットが露光装置であるような場
合に）、第２の基板処理ユニットの製造元や製造時期等
が第１の基板処理ユニットに対して異なっており、これ
らの間の基板受渡し位置が第１の基板処理ユニットの予
定している基板受渡し位置と異なるような場合でも、第
２の基板処理ユニット側へのアーム連結体の最大到達距
離を高めることで、汎用性を飛躍的に向上できる。この
場合、アーム旋回角度を従来と同様に抑えることができ
る。特に、請求項３および請求項７に記載の発明によれ
ば、動力伝達手段を極めて簡単な構成としながらも、ア
ームの旋回半径を増大させずに、基板載置アームの所定
の基板受渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、基板載
置アームを直線状に移動させることができる。したがっ
て、第２の基板処理ユニット（請求項８では露光装置）
の開口部周りの省スペース化を図ることで、チャック洗
浄等のメンテナンス作業を行うための作業領域を大きく
確保できるとともに、開口寸法を小さくすることができ
ることから、第２の基板処理ユニットの内部雰囲気の調
整を容易にすることができる。(3) Further, according to the inventions of claim 5, claim 6, and claim 7, (especially when the second substrate processing unit is an exposure apparatus as in claim 8). In addition, the manufacturer and the manufacturing time of the second substrate processing unit are different from those of the first substrate processing unit, and the substrate transfer position between them is the substrate transfer scheduled by the first substrate processing unit. Even if the position is different, the versatility can be dramatically improved by increasing the maximum reachable distance of the arm coupling body to the second substrate processing unit side. In this case, the arm turning angle can be suppressed as in the conventional case. In particular, according to the invention described in claims 3 and 7, the power transmission means has an extremely simple structure, and the predetermined radius of the arm of the substrate mounting arm can be provided to the predetermined substrate transfer part without increasing the turning radius of the arm. The substrate mounting arm can be moved linearly while maintaining the facing position. Therefore, the second substrate processing unit (exposure device in claim 8)
Since the space around the opening of the second substrate processing unit can be saved, it is possible to secure a large working area for performing maintenance work such as chuck cleaning, and to reduce the size of the opening. Can be easily adjusted.

【００６９】（４）請求項４に記載の発明によれば、従
来の技術のように、ＩＦユニット内に待機ポジションの
載置具を設けなくても、基板載置アームの位置決め手段
によって、基板を容易に位置決めできる。したがって、
ＩＦユニットの装置スペースを従来の技術に比べて軽減
できる。(4) According to the invention described in claim 4, the substrate mounting arm positioning means allows the substrate to be mounted by the positioning means of the substrate mounting arm without providing a mounting tool at the standby position in the IF unit as in the prior art. Can be easily positioned. Therefore,
The device space of the IF unit can be reduced as compared with the conventional technology.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図１】本発明の一の実施の形態に係る基板搬送装置を
備えた基板処理装置全体の構成を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an overall configuration of a substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図２】本発明の一の実施の形態に係る基板搬送装置を
露光ユニット側から見た正面図である。FIG. 2 is a front view of the substrate transfer device according to the embodiment of the present invention viewed from the exposure unit side.

【図３】本発明の一の実施の形態に係るＩＦ基板搬送部
を示す一部破断斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view showing an IF substrate carrying section according to an embodiment of the present invention.

【図４】本発明の一の実施の形態に係るＩＦ基板搬送部
を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an IF substrate transport section according to an embodiment of the present invention.

【図５】本発明の一の実施の形態に係るＩＦ基板搬送部
を示す一部破断側面図である。FIG. 5 is a partially cutaway side view showing an IF substrate transport section according to an embodiment of the present invention.

【図６】本発明の一の実施の形態に係る動力伝達手段の
動作原理を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing the operating principle of the power transmission means according to the embodiment of the present invention.

【図７】本発明の一の実施の形態に係るＩＦ基板搬送部
の動作を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an operation of the IF substrate transport section according to the embodiment of the present invention.

【図８】従来の技術に係るＩＦ基板搬送部を示す正面図
である。FIG. 8 is a front view showing an IF substrate transfer section according to a conventional technique.

【図９】従来の技術に係るＩＦ基板搬送部を示す側面図
である。FIG. 9 is a side view showing an IF substrate transfer section according to a conventional technique.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１ インデクサ ２ 処理ユニット ３ ＩＦユニット ４ 露光ユニット ５ ＡＧＶ ３１ 第１の基板搬送ロボット ３２ バッファ部 ３３ 第２の基板搬送ロボット ３４ 基板搬入装置 ３５ 基板搬出装置 ４１ 第１のアーム ４２ 第２のアーム ４３ 第３のアーム ４４ 回動手段 ４６ 動力伝達手段 ４７ 位置調整手段 ７１ 第１の調整部 ７２ 第２の調整部 ７３ Ｙ軸レール ７４ 案内溝 ７５ 摺動部材 ７６ 固定ねじ ７７ ネジ孔 ８１ Ｚ軸レール ８２ 案内溝 ８３ 嵌合部材 ８７ 支持プレート 1 Indexer 2 Processing Unit 3 IF Unit 4 Exposure Unit 5 AGV 31 First Substrate Transfer Robot 32 Buffer Section 33 Second Substrate Transfer Robot 34 Substrate Loading Device 35 Substrate Unloading Device 41 First Arm 42 Second Arm 43 No. 3 arm 44 rotation means 46 power transmission means 47 position adjustment means 71 first adjustment section 72 second adjustment section 73 Y-axis rail 74 guide groove 75 sliding member 76 fixing screw 77 screw hole 81 Z-axis rail 82 guide Groove 83 Fitting member 87 Support plate

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 外部の所定の基板受渡し部に対して基板
を進退させて受け渡す基板搬送装置であって、 最も先端に配された基板載置アームを含んで３個以上の
奇数個のアームが連結されてなるアーム連結体と、 前記アーム連結体の基端部を回動制御する回動手段と、 前記回動手段の回動力を伝達し、前記基板載置アーム以
外の一対のアーム同士を連結する少なくとも１個の関節
部分を折り曲げつつ、前記基板載置アームの前記所定の
基板受渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、前記基板
載置アームを直線状に移動させる動力伝達手段と、を備
えることを特徴とする基板搬送装置。1. A substrate transfer device for advancing and retracting a substrate to and from an external predetermined substrate transfer part, wherein an odd number of three or more arms including a substrate mounting arm arranged at the most tip end. An arm connecting body, a rotating means for rotating the base end portion of the arm connecting body, and a pair of arms other than the substrate mounting arm for transmitting the turning force of the rotating means. A power transmission means for linearly moving the substrate mounting arm while bending at least one joint part connecting the substrate mounting arm and maintaining the posture of the substrate mounting arm facing the predetermined substrate transfer part; A substrate transfer apparatus comprising: 【請求項２】 請求項１に記載の基板搬送装置であっ
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第１のア
ームと、 前記第１のアームの基端部を第１の回動軸を中心に回動
自在に支持する第２のアームと、 その基端部が第３の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第２のアームの基端部を第２の回動軸を中心に回動
自在に支持する第３のアームと、を少なくとも備え、 前記第１の回動軸と前記第２の回動軸間の距離と、前記
第２の回動軸と前記第３の回動軸間の距離とが同一に設
定されたことを特徴とする基板搬送装置。2. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the arm coupling body has a first arm as a substrate mounting arm that is coupled to the most distal end, and a base end of the first arm. A second arm for rotatably supporting the portion around a first rotation axis, and a base end portion thereof supported around a third rotation axis and a base end portion of the second arm. A third arm that rotatably supports the second rotation shaft as a center, and a distance between the first rotation shaft and the second rotation shaft, and a second arm. A substrate transfer device, wherein a rotation axis and a distance between the third rotation axis are set to be the same. 【請求項３】 請求項１に記載の基板搬送装置であっ
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第１のア
ームと、 前記第１のアームの基端部に固定された第１の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第２のアームと、 その基端部が第３の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第２のアームの基端部に固定された第２の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第３のアームと、を少な
くとも備え、 前記第１の回動軸と前記第２の回動軸間の距離と、前記
第２の回動軸と前記第３の回動軸間の距離とが同一に設
定され、 前記動力伝達手段は、 前記第１のアームの前記第１の回動軸に固定された第１
の回動子と、 前記第３のアームの前記第２の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第２の回動子と、 前記第１の回動子と前記第２の回動子とを連結する第１
の連結部材と、 前記第２のアームの前記第２の回動軸に固定された第３
の回動子と、 基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前記第
３の回動軸を軸受けする不動子と、 前記第３の回動子と前記不動子とを連結する第２の連結
部材と、を少なくとも備え、 前記第１の回動子の径は前記第２の回動子の径の２倍と
され、 前記第３の回動子の径は前記不動子の径の半分とされた
ことを特徴とする基板搬送装置。3. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the arm connection body has a first arm as a substrate mounting arm that is connected to the most tip, and a base end of the first arm. A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the second portion, and a base end of the second arm that is supported around the third rotation shaft and the second arm. A third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the first rotation shaft between the first rotation shaft and the second rotation shaft. Is set to be equal to the distance between the second rotation shaft and the third rotation shaft, and the power transmission means is fixed to the first rotation shaft of the first arm. First done
Rotator, an annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, the first rotator and the second rotation. 1st connecting child
And a third member fixed to the second rotation shaft of the second arm.
Rotator, a stationary element that is non-rotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotational axis, and connects the third rotational element and the stationary element. And a second connecting member, wherein the diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is the same as that of the stationary element. A substrate transfer device characterized by being half the diameter. 【請求項４】 請求項１に記載の基板搬送装置であっ
て、前記基板載置アームに、基板を位置決めするための
位置決め手段が設けられたことを特徴とする基板搬送装
置。4. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the substrate mounting arm is provided with positioning means for positioning the substrate. 【請求項５】 第１の基板処理ユニットと第２の基板処
理ユニットとの間に介在される中間受渡し装置であっ
て、 前記中間受渡し装置の前記第２の基板処理ユニットに対
する境界に配置されて当該第２の基板処理ユニット内の
所定の基板受渡し部に対して基板を進退させて受け渡す
基板搬送装置を含み、 前記基板搬送装置は、 最も先端に配された基板載置アームを含んで３個以上の
奇数個のアームが連結されてなるアーム連結体と、 前記アーム連結体の基端部を回動制御する回動手段と、 前記回動手段の回動力を伝達して、前記アーム連結体の
前記基板載置アームを、前記所定の基板受渡し部に対峙
する姿勢を維持しながら直線状に進退させる動力伝達手
段と、を備えることを特徴とする中間受渡し装置。5. An intermediate transfer device interposed between a first substrate processing unit and a second substrate processing unit, the intermediate transfer device being disposed at a boundary of the intermediate transfer device with respect to the second substrate processing unit. The second substrate processing unit includes a substrate transfer device that advances and retracts a substrate to and from a predetermined substrate transfer unit, and the substrate transfer device includes a substrate mounting arm arranged at the most tip end. An arm connection body in which an odd number of arms or more is connected, rotation means for controlling rotation of a base end portion of the arm connection body, and rotational force of the rotation means is transmitted to the arm connection body. An intermediate transfer device comprising: a power transmission unit that linearly advances and retracts the substrate mounting arm of the body while maintaining an attitude facing the predetermined substrate transfer unit. 【請求項６】 請求項５に記載の中間受渡し装置であっ
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第１のア
ームと、 前記第１のアームの基端部を第１の回動軸を中心に回動
自在に支持する第２のアームと、 その基端部が第３の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第２のアームの基端部を第２の回動軸を中心に回動
自在に支持する第３のアームと、を少なくとも備え、 前記第１の回動軸と前記第２の回動軸間の距離と、前記
第２の回動軸と前記第３の回動軸間の距離とが同一に設
定されたことを特徴とする中間受渡し装置。6. The intermediate transfer device according to claim 5, wherein the arm coupling body has a first arm as a substrate mounting arm that is coupled to the most distal end, and a base end of the first arm. A second arm for rotatably supporting the portion around a first rotation axis, and a base end portion thereof supported around a third rotation axis and a base end portion of the second arm. A third arm that rotatably supports the second rotation shaft as a center, and a distance between the first rotation shaft and the second rotation shaft, and a second arm. An intermediate delivery device, wherein the rotation axis and the distance between the third rotation axis are set to be the same. 【請求項７】 請求項５に記載の中間受渡し装置であっ
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第１のア
ームと、 前記第１のアームの基端部に固定された第１の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第２のアームと、 その基端部が第３の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第２のアームの基端部に固定された第２の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第３のアームと、を少な
くとも備え、 前記第１の回動軸と前記第２の回動軸間の距離と、前記
第２の回動軸と前記第３の回動軸間の距離とが同一に設
定され、 前記動力伝達手段は、 前記第１のアームの前記第１の回動軸に固定された第１
の回動子と、 前記第３のアームの前記第２の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第２の回動子と、 前記第１の回動子と前記第２の回動子とを連結する第１
の連結部材と、 前記第２のアームの前記第２の回動軸に固定された第３
の回動子と、 基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前記第
３の回動軸を軸受けする不動子と、 前記第３の回動子と前記不動子とを連結する第２の連結
部材と、を少なくとも備え、 前記第１の回動子の径は前記第２の回動子の径の２倍と
され、 前記第３の回動子の径は前記不動子の径の半分とされた
ことを特徴とする中間受渡し装置。7. The intermediate transfer device according to claim 5, wherein the arm connection body has a first arm as a substrate mounting arm connected to the most distal end, and a base end of the first arm. A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the second portion, and a base end of the second arm that is supported around the third rotation shaft and the second arm. A third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the first rotation shaft between the first rotation shaft and the second rotation shaft. Is set to be equal to the distance between the second rotation shaft and the third rotation shaft, and the power transmission means is fixed to the first rotation shaft of the first arm. First done
Rotator, an annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, the first rotator and the second rotation. 1st connecting child
And a third member fixed to the second rotation shaft of the second arm.
Rotator, a stationary element that is non-rotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotational axis, and connects the third rotational element and the stationary element. And a second connecting member, wherein the diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is the same as that of the stationary element. An intermediate delivery device characterized by being half the diameter. 【請求項８】 請求項５乃至請求項７のいずれかに記載
の中間受渡し装置であって、前記第２の基板処理ユニッ
トが露光装置であることを特徴とする中間受渡し装置。8. The intermediate transfer device according to claim 5, wherein the second substrate processing unit is an exposure device.