JPH09181142A - Substrate conveying equipment and intermediate delivering equipment - Google Patents
Substrate conveying equipment and intermediate delivering equipmentInfo
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- JPH09181142A JPH09181142A JP33528095A JP33528095A JPH09181142A JP H09181142 A JPH09181142 A JP H09181142A JP 33528095 A JP33528095 A JP 33528095A JP 33528095 A JP33528095 A JP 33528095A JP H09181142 A JPH09181142 A JP H09181142A
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- substrate
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、露光処理
前後のレジスト塗布、ベーク、現像などの各種の基板処
理を行なうための処理ユニットと、露光処理を行なうた
めの露光ユニットとの間等、異なるユニット間で基板の
搬送(中間受渡し)を行なうための基板搬送装置および
その中間受渡し装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to, for example, a processing unit for performing various substrate processings such as resist coating before and after exposure processing, baking, and development, and an exposure unit for performing exposure processing. The present invention relates to a substrate transfer device and an intermediate transfer device for transferring (intermediate transfer) of substrates between different units.
【0002】[0002]
【従来の技術】基板に対してフォトリソグラフィ工程の
各種の基板処理を行なうための基板処理装置において
は、従来、フォトリソグラフィ工程のうち、露光処理前
後の各種の基板処理を行なうための処理ユニットと、露
光処理を行なうための露光ユニットとに分けられて構成
されている。2. Description of the Related Art In a substrate processing apparatus for performing various substrate processing in a photolithography process on a substrate, a processing unit for performing various substrate processing before and after the exposure process in the photolithography process has been conventionally used. , And an exposure unit for performing an exposure process.
【0003】処理ユニットは、レジスト塗布、プリベー
クなどの露光処理前の各基板処理や、現像、ポストベー
クなどの露光処理後の各基板処理を行なうためのスピン
コーター、スピンディベロッパー、ベークユニット(ホ
ットプレートやクールプレートを含んでいる)などの各
種装置や、処理ユニット内で基板の搬送などを行なう基
板搬送ロボットなどを一体的にユニット化して構成して
いる。The processing unit is a spin coater, a spin developer, a bake unit (hot plate) for performing each substrate processing before exposure processing such as resist coating and pre-baking, and each substrate processing after exposure processing such as development and post-baking. (Including a cool plate) and various devices, such as a substrate transfer robot that performs substrate transfer within the processing unit, etc.
【0004】露光ユニットは、露光を行なうための、例
えば、縮小投影露光機(ステッパ)などの露光機や、露
光機での露光パターンの焼き付けのための位置決めを行
なうアライメント機構、露光ユニット内で基板の搬送な
どを行なう基板搬送ロボットなどを一体的にユニット化
して構成している。The exposure unit is an exposure machine such as a reduction projection exposure machine (stepper) for performing exposure, an alignment mechanism for performing positioning for printing an exposure pattern in the exposure machine, and a substrate in the exposure unit. Substrate transfer robots for carrying out the above are integrated into a unit and configured.
【0005】このような基板処理装置では、まず、処理
ユニットで露光処理前の基板処理が行なわれ、次に、露
光ユニットで露光処理が行なわれ、そして、再び処理ユ
ニットで露光処理後の基板処理が行なわれる。したがっ
て、処理ユニットと露光ユニットとの間で基板を搬送
(中間受渡し)する必要があり、通常、これらユニット
間の基板の搬送を行なうための中間受渡し装置を備えて
いる。この中間受渡し装置は、従来、処理ユニット側基
板搬送ロボットと基板を受渡しする基板受渡し台、処理
ユニットまたは露光ユニットにトラブルがあったとき等
に基板を一時的に収納しておくバッファ部、前記基板受
渡し台やバッファ部に移動して基板を搬送する基板搬送
ロボットの他、通常、露光前基板を露光ユニットに受渡
すための基板搬入装置と、露光処理が終了した露光済基
板を露光ユニットから搬出して中間受渡し装置内に取り
込むための基板搬出装置とを備えている。図8および図
9は、基板搬入装置および基板搬出装置(以後、これら
の装置を総称するときは「IF基板搬送部」と呼ぶこと
にする)を示した図である。このIF基板搬送部は、基
板を載置して搬送するアーム101と、このアーム10
1を回転支持する支持アーム102とを備え、これらは
パルスモータ103および動力伝達手段104によって
駆動される。In such a substrate processing apparatus, first, the processing unit performs the substrate processing before the exposure processing, then the exposure unit performs the exposure processing, and the processing unit again performs the substrate processing after the exposure processing. Is performed. Therefore, it is necessary to transfer (intermediate transfer) the substrate between the processing unit and the exposure unit, and usually an intermediate transfer device for transferring the substrate between these units is provided. This intermediate delivery device is conventionally provided with a substrate transfer table for delivering a substrate to a processing unit side substrate transfer robot, a buffer section for temporarily storing the substrate when a trouble occurs in the processing unit or the exposure unit, and the substrate. In addition to a substrate transfer robot that moves substrates to a transfer table or a buffer unit, usually, a substrate loading device for delivering a pre-exposure substrate to an exposure unit, and an exposed substrate that has been subjected to exposure processing from the exposure unit. And a substrate unloading device for loading into the intermediate delivery device. FIG. 8 and FIG. 9 are diagrams showing a substrate carry-in device and a substrate carry-out device (hereinafter, these devices will be collectively referred to as “IF substrate carrying section”). The IF substrate transfer unit includes an arm 101 for mounting and transferring a substrate and an arm 10 for transferring the substrate.
1. A support arm 102 for rotatably supporting 1 is driven by a pulse motor 103 and a power transmission means 104.
【0006】ここで、動力伝達手段104は、4個のプ
ーリ105,117,118,121と、2個のタイミ
ングベルト111,112とから構成されている。アー
ム101とプーリ105とは軸115によって互いに固
定されている。また、支持アーム102とシャフト11
6とは互いに固定され、シャフト116の下端にはプー
リ117が固定されており、タイミングベルト111を
介してモータ103の回転軸118に固定されたプーリ
119に連結されている。さらに、シャフト116を遊
嵌するプーリ121は、図示しないIF基板搬送部本体
のベースに回転不可能に固定されており、タイミングベ
ルト112を介してプーリ105に連結されている。そ
して、プーリ105とプーリ121の径比は1対2とさ
れており、故に軸115とシャフト116の回転速度比
は2対1とされている。また、アーム101の基板載置
領域の中心点から軸115までの距離を「アーム長」、
軸115からシャフト116までの距離を「支持アーム
長」とすると、アーム長と支持アーム長とは共に同一寸
法Raに設定されている。Here, the power transmission means 104 is composed of four pulleys 105, 117, 118, 121 and two timing belts 111, 112. The arm 101 and the pulley 105 are fixed to each other by a shaft 115. In addition, the support arm 102 and the shaft 11
6 is fixed to each other, a pulley 117 is fixed to the lower end of the shaft 116, and is connected to a pulley 119 fixed to the rotary shaft 118 of the motor 103 via the timing belt 111. Further, the pulley 121 on which the shaft 116 is loosely fitted is non-rotatably fixed to the base of the IF substrate transport unit main body (not shown), and is connected to the pulley 105 via the timing belt 112. The diameter ratio between the pulley 105 and the pulley 121 is 1: 2, so that the rotation speed ratio between the shaft 115 and the shaft 116 is 2: 1. Further, the distance from the center point of the substrate mounting area of the arm 101 to the axis 115 is defined as “arm length”,
Assuming that the distance from the shaft 115 to the shaft 116 is “support arm length”, both arm length and support arm length are set to the same dimension Ra.
【0007】かかる構成における動作を説明する。ま
ず、図9の如く、基板の受渡しを行うための待機ポジシ
ョンPwの載置具124aの3個のピン124上に基板
が載置されると、モータ103の駆動力によって支持ア
ーム102がRr方向に回動し、これに同期して、軸1
15が前述の動力伝達手段によって逆方向のQr方向に
回動する。これによって、アーム101の載置部101
aはRev方向に直進する。このとき、アーム101は
ピン124上の基板よりも低い位置で動作している。そ
して、アーム101が待機ポジションPwの載置具12
4aに達したら、図示しないシリンダによってアーム1
01が上昇し、載置部101aで基板をすくい上げて受
け取る。次に、モータ103の駆動力によって支持アー
ム102がRf方向に回動し、これに同期して、軸11
5が前述の動力伝達手段によって逆方向のQf方向に回
動する。これによって、アーム101の載置部101a
上の基板はFor方向に直進する。アーム101が露光
ユニット内の所定位置Plに達したら、図示しないシリ
ンダによってアーム101が下降し、基板を露光ユニッ
ト内のピン125上に載置する。その後、アーム101
はRev方向に退去され、所定位置Poにて停止する。The operation of this configuration will be described. First, as shown in FIG. 9, when the substrate is placed on the three pins 124 of the placing tool 124a at the standby position Pw for transferring the substrate, the supporting arm 102 is moved in the Rr direction by the driving force of the motor 103. To the axis 1, and in synchronization with this, the axis 1
15 is rotated in the opposite Qr direction by the aforementioned power transmission means. As a result, the mounting portion 101 of the arm 101
a goes straight in the Rev direction. At this time, the arm 101 is operating at a position lower than the substrate on the pin 124. Then, the arm 101 moves the mounting tool 12 at the standby position Pw.
When reaching 4a, the arm 1 is moved by a cylinder (not shown).
01 moves up, and the substrate is picked up by the mounting portion 101a and received. Next, the support arm 102 is rotated in the Rf direction by the driving force of the motor 103, and in synchronization with this, the shaft 11
5 is rotated in the opposite Qf direction by the aforementioned power transmission means. As a result, the mounting portion 101a of the arm 101 is
The upper substrate goes straight in the For direction. When the arm 101 reaches a predetermined position Pl in the exposure unit, the arm 101 is lowered by a cylinder (not shown), and the substrate is placed on the pin 125 in the exposure unit. Then the arm 101
Moves away in the Rev direction and stops at a predetermined position Po.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】従来の技術では、次の
問題点が指摘されていた。In the prior art, the following problems have been pointed out.
【0009】(1)従来では、アーム101の載置部1
01aは、図8および図9の如く、ピン124,125
に抵触しないような形状を採用する必要がある。しかし
ながら、アーム101は軸115周りにQf・Qr方向
に回動しながらFor・Rev方向に進退するため、動
作が複雑になり、よって載置部101aの形状はピン回
避用切欠101bを形成するなどして複雑なものとなら
ざるを得ない。そうすると、金型製造等の段階で製造コ
ストが高くつくといった問題があった。(1) Conventionally, the mounting portion 1 of the arm 101
01a has pins 124 and 125 as shown in FIGS.
It is necessary to adopt a shape that does not interfere with. However, since the arm 101 moves back and forth in the For / Rev directions while rotating in the Qf / Qr directions around the shaft 115, the operation becomes complicated, and thus the mounting portion 101a has a pin avoiding notch 101b. Then it has to be complicated. Then, there is a problem that the manufacturing cost becomes high at the stage of mold manufacturing.
【0010】(2)IF基板搬送部は、中間受渡し装置
内に配置されて、基板受渡しに使用されるが、アーム1
01は軸115周りにQf・Qr方向に回動しながらF
or・Rev方向に進退するため、中間受渡し装置内に
アーム101が回動して進退できるだけのスペースを確
保する必要があり、中間受渡し装置自体の大型化を招く
といった問題点があった。(2) The IF substrate transfer section is arranged in the intermediate transfer device and is used to transfer the substrate.
01 is rotating around the shaft 115 in the Qf and Qr directions and is F
Since it moves back and forth in the or. Rev direction, it is necessary to secure a space for the arm 101 to rotate and move back and forth in the intermediate delivery device, which causes a problem that the intermediate delivery device itself becomes large.
【0011】(3)またIF基板搬送部は、通常中間受
渡し装置内に配置されて、露光ユニットとの基板受渡し
に使用されるが、アーム101は軸115周りにQf・
Qr方向に回動しながらFor・Rev方向に進退する
ため、露光ユニット内への基板を受け入れ、また露光ユ
ニットからの基板の搬出にあって、露光ユニットの受渡
し部に、アーム101と干渉しないような大きさの開口
を形成しなければならず、この開口のため露光ユニット
内の処理雰囲気を乱すという問題点があった。(3) Further, the IF substrate transfer section is usually arranged in the intermediate transfer device and is used for transferring the substrate to and from the exposure unit.
Since it moves in the For / Rev direction while rotating in the Qr direction, the substrate is received in the exposure unit, and when the substrate is unloaded from the exposure unit, the transfer unit of the exposure unit does not interfere with the arm 101. Since an opening having a large size must be formed, the processing atmosphere in the exposure unit is disturbed due to this opening.
【0012】(4)IFユニット内に待機ポジションP
wの載置具124a自体を設けることで、IFユニット
の装置スペースが肥大化していた。(4) Standby position P in the IF unit
By providing the w mounting tool 124a itself, the device space of the IF unit was enlarged.
【0013】本発明は、上記課題に鑑み、アーム形状の
複雑化を防止し、アーム旋回半径を小さくできる基板搬
送装置を提供することを目的とするとともに、小型でコ
ンパクトにでき、さらには処理ユニットと露光ユニット
との中間受渡し装置に適用される際には露光装置内の処
理雰囲気を乱さない中間受渡し装置を提供することを目
的とする。In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a substrate transfer apparatus which can prevent the arm shape from becoming complicated and can reduce the arm turning radius, and also can be made small and compact, and further, a processing unit. It is an object of the present invention to provide an intermediate transfer device that does not disturb the processing atmosphere in the exposure device when applied to the intermediate transfer device between the exposure unit and the exposure unit.
【0014】[0014]
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、外部の所定の基板受渡し部に対して基板を進退させ
て受け渡す基板搬送装置であって、最も先端に配された
基板載置アームを含んで3個以上の奇数個のアームが連
結されてなるアーム連結体と、前記アーム連結体の基端
部を回動制御する回動手段と、前記回動手段の回動力を
伝達し、前記基板載置アーム以外の一対のアーム同士を
連結する少なくとも1個の関節部分を折り曲げつつ、前
記基板載置アームの前記所定の基板受渡し部に対峙する
姿勢を維持しながら、前記基板載置アームを直線状に移
動させる動力伝達手段と、を備える。According to a first aspect of the present invention, there is provided a substrate transfer device for advancing and retracting a substrate to and from an external predetermined substrate transfer part, the substrate transfer device being arranged at the most tip end. An arm connecting body in which three or more odd-numbered arms including the mounting arm are connected, a rotating means for controlling rotation of a base end portion of the arm connecting body, and a rotational force of the rotating means is transmitted. Then, while bending at least one joint part that connects a pair of arms other than the substrate mounting arm, while maintaining the posture of the substrate mounting arm facing the predetermined substrate transfer portion, Power transmission means for linearly moving the mounting arm.
【0015】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の基板搬送装置であって、前記アーム連結体は、最も先
端に連結された基板載置アームとしての第1のアーム
と、前記第1のアームの基端部を第1の回動軸を中心に
回動自在に支持する第2のアームと、その基端部が第3
の回動軸を中心に支持されるとともに前記第2のアーム
の基端部を第2の回動軸を中心に回動自在に支持する第
3のアームと、を少なくとも備え、前記第1の回動軸と
前記第2の回動軸間の距離と、前記第2の回動軸と前記
第3の回動軸間の距離とが同一に設定される。According to a second aspect of the present invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the first aspect, wherein the arm connecting member is a first arm as a substrate mounting arm connected to the most tip, and A second arm that rotatably supports the base end portion of the first arm around the first rotation shaft, and the base end portion of the second arm is the third arm.
A third arm that is supported about the rotation axis of the second arm and that rotatably supports the base end portion of the second arm about the second rotation axis. The distance between the rotary shaft and the second rotary shaft and the distance between the second rotary shaft and the third rotary shaft are set to be the same.
【0016】請求項3に記載の発明は、請求項1に記載
の基板搬送装置であって、前記アーム連結体は、最も先
端に連結された基板載置アームとしての第1のアーム
と、前記第1のアームの基端部に固定された第1の回動
軸を軸受けして回動自在に支持する第2のアームと、そ
の基端部が第3の回動軸を中心に支持されるとともに前
記第2のアームの基端部に固定された第2の回動軸を軸
受けして回動自在に支持する第3のアームと、を少なく
とも備え、前記第1の回動軸と前記第2の回動軸間の距
離と、前記第2の回動軸と前記第3の回動軸間の距離と
が同一に設定される。According to a third aspect of the invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the first aspect, wherein the arm coupling body includes a first arm as a substrate mounting arm which is coupled to a tip end of the arm. A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the base end of the first arm and that is rotatably supported by the second arm is supported around the third rotation shaft. And a third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the second arm and rotatably supports the second rotation shaft. The distance between the second rotating shafts and the distance between the second rotating shaft and the third rotating shaft are set to be the same.
【0017】また、前記動力伝達手段は、前記第1のア
ームの前記第1の回動軸に固定された第1の回動子と、
前記第3のアームの前記第2の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第2の回動子と、前記第1の回動子と前記
第2の回動子とを連結する第1の連結部材と、前記第2
のアームの前記第2の回動軸に固定された第3の回動子
と、基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前
記第3の回動軸を軸受けする不動子と、前記第3の回動
子と前記不動子とを連結する第2の連結部材と、を少な
くとも備える。そして、前記第1の回動子の径は前記第
2の回動子の径の2倍とされ、前記第3の回動子の径は
前記不動子の径の半分とされる。Further, the power transmission means includes a first rotator fixed to the first rotation shaft of the first arm,
An annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, and a first rotator connecting the first rotator and the second rotator. 1 connecting member and the second
A third rotator fixed to the second rotative shaft of the arm, and a stationary member that is unrotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotative shaft. And a second connecting member that connects the third rotating element and the stationary element. The diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is half the diameter of the stationary element.
【0018】請求項4に記載の発明は、請求項1に記載
の基板搬送装置であって、前記基板載置アームに、基板
を位置決めするための位置決め手段が設けられる。According to a fourth aspect of the present invention, there is provided the substrate transfer apparatus according to the first aspect, wherein the substrate mounting arm is provided with positioning means for positioning the substrate.
【0019】請求項5に記載の発明は、第1の基板処理
ユニットと第2の基板処理ユニットとの間に介在される
中間受渡し装置であって、前記中間受渡し装置の前記第
2の基板処理ユニットに対する境界に配置されて当該第
2の基板処理ユニット内の所定の基板受渡し部に対して
基板を進退させて受け渡す基板搬送装置を含み、前記基
板搬送装置は、最も先端に配された基板載置アームを含
んで3個以上の奇数個のアームが連結されてなるアーム
連結体と、前記アーム連結体の基端部を回動制御する回
動手段と、前記回動手段の回動力を伝達して、前記アー
ム連結体の前記基板載置アームを、前記所定の基板受渡
し部に対峙する姿勢を維持しながら直線状に進退させる
動力伝達手段と、を備える。According to a fifth aspect of the present invention, there is provided an intermediate transfer device interposed between the first substrate processing unit and the second substrate processing unit, wherein the second substrate processing of the intermediate transfer device is performed. The substrate transfer device is disposed at a boundary with respect to the unit, and advances and retracts the substrate to and from a predetermined substrate transfer part in the second substrate processing unit, wherein the substrate transfer device is disposed at the most tip end. An arm connecting body in which three or more odd-numbered arms including the mounting arm are connected, a rotating means for rotating and controlling a base end portion of the arm connecting body, and a rotating force of the rotating means. And a power transmission unit for linearly advancing and retreating the substrate mounting arm of the arm coupling body while maintaining a posture facing the predetermined substrate transfer portion.
【0020】請求項6に記載の発明は、請求項5に記載
の中間受渡し装置であって、前記アーム連結体は、最も
先端に連結された基板載置アームとしての第1のアーム
と、前記第1のアームの基端部を第1の回動軸を中心に
回動自在に支持する第2のアームと、その基端部が第3
の回動軸を中心に支持されるとともに前記第2のアーム
の基端部を第2の回動軸を中心に回動自在に支持する第
3のアームと、を少なくとも備え、前記第1の回動軸と
前記第2の回動軸間の距離と、前記第2の回動軸と前記
第3の回動軸間の距離とが同一に設定される。According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the intermediate transfer device according to the fifth aspect, wherein the arm connecting body is a first arm as a substrate mounting arm connected to the most tip, and A second arm that rotatably supports the base end portion of the first arm around the first rotation shaft, and the base end portion of the second arm is the third arm.
A third arm that is supported about the rotation axis of the second arm and that rotatably supports the base end portion of the second arm about the second rotation axis. The distance between the rotary shaft and the second rotary shaft and the distance between the second rotary shaft and the third rotary shaft are set to be the same.
【0021】請求項7に記載の発明は、請求項5に記載
の中間受渡し装置であって、前記アーム連結体は、最も
先端に連結された基板載置アームとしての第1のアーム
と、前記第1のアームの基端部に固定された第1の回動
軸を軸受けして回動自在に支持する第2のアームと、そ
の基端部が第3の回動軸を中心に支持されるとともに前
記第2のアームの基端部に固定された第2の回動軸を軸
受けして回動自在に支持する第3のアームと、を少なく
とも備え、前記第1の回動軸と前記第2の回動軸間の距
離と、前記第2の回動軸と前記第3の回動軸間の距離と
が同一に設定される。According to a seventh aspect of the invention, there is provided the intermediate transfer device according to the fifth aspect, wherein the arm connecting body is a first arm serving as a substrate mounting arm which is connected to the most distal end, and A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the base end of the first arm and that is rotatably supported by the second arm is supported around the third rotation shaft. And a third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the second arm and rotatably supports the second rotation shaft. The distance between the second rotating shafts and the distance between the second rotating shaft and the third rotating shaft are set to be the same.
【0022】また、前記動力伝達手段は、前記第1のア
ームの前記第1の回動軸に固定された第1の回動子と、
前記第3のアームの前記第2の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第2の回動子と、前記第1の回動子と前記
第2の回動子とを連結する第1の連結部材と、前記第2
のアームの前記第2の回動軸に固定された第3の回動子
と、基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前
記第3の回動軸を軸受けする不動子と、前記第3の回動
子と前記不動子とを連結する第2の連結部材と、を少な
くとも備える。そして、前記第1の回動子の径は前記第
2の回動子の径の2倍とされ、前記第3の回動子の径は
前記不動子の径の半分とされる。Further, the power transmission means includes a first rotary member fixed to the first rotary shaft of the first arm,
An annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, and a first rotator connecting the first rotator and the second rotator. 1 connecting member and the second
A third rotator fixed to the second rotative shaft of the arm, and a stationary member that is unrotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotative shaft. And a second connecting member that connects the third rotating element and the stationary element. The diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is half the diameter of the stationary element.
【0023】請求項8に記載の発明は、請求項5乃至請
求項7のいずれかに記載の中間受渡し装置であって、前
記第2の基板処理ユニットが露光装置である。The invention according to claim 8 is the intermediate transfer device according to any one of claims 5 to 7, wherein the second substrate processing unit is an exposure device.
【0024】[0024]
<構成>図1は本発明の一の実施の形態に係る基板搬送
装置を備えた基板処理装置全体の構成を示す平断面図、
図2は当該中間受渡し装置を露光ユニット側から見た正
面図である。図1以降の各図には、位置関係を明確にす
るためにXYZ直交座標系を付している。<Structure> FIG. 1 is a plan sectional view showing the structure of an entire substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a front view of the intermediate delivery device viewed from the exposure unit side. 1 and subsequent figures are provided with an XYZ orthogonal coordinate system in order to clarify the positional relationship.
【0025】なお、本実施形態およびや各種の変形例
は、半導体ウエハ(基板)に対してフォトリソグラフィ
工程の各基板処理を行なうための基板処理装置に本発明
を適用した場合を例に採っているが、本発明は、液晶表
示器用のガラス基板などの各種の基板の基板処理装置に
も同様に適用することができる。In the present embodiment and various modifications, the case where the present invention is applied to a substrate processing apparatus for performing each substrate processing in a photolithography process on a semiconductor wafer (substrate) is taken as an example. However, the present invention can be similarly applied to a substrate processing apparatus for various substrates such as a glass substrate for a liquid crystal display.
【0026】図1に示すように、本発明に係る基板搬送
装置が適用される基板処理装置は、インデクサ1、処理
ユニット2(第1の基板処理ユニット)、インターフェ
ースユニット(中間受渡し装置、以下、「IFユニッ
ト」と称す)3、露光ユニット4(第2の基板処理ユニ
ット)などを備えて構成されている。As shown in FIG. 1, a substrate processing apparatus to which a substrate transfer apparatus according to the present invention is applied includes an indexer 1, a processing unit 2 (first substrate processing unit), an interface unit (intermediate delivery apparatus, hereinafter, An “IF unit”) 3, an exposure unit 4 (second substrate processing unit), and the like are provided.
【0027】インデクサ1は、キャリアの自動搬送車
(Auto Guided Vehicle :以下「AGV」という)5と
のキャリアCの受渡しを行なうための搬入出テーブル1
1や、搬入出テーブル11に載置されているキャリアC
と後述する処理ユニット2内の基板搬送ロボット23と
の間の基板Wの受渡しを行なうための基板搬入出ロボッ
ト12などを備えて構成されている。The indexer 1 is a loading / unloading table 1 for delivering a carrier C to and from an automatic guided vehicle (hereinafter referred to as "AGV") 5 of the carrier.
1 or the carrier C placed on the loading / unloading table 11
And a substrate transfer robot 23 in the processing unit 2, which will be described later, and the like.
【0028】処理ユニット2は、第1の装置配置部21
と第2の装置配置部22と基板搬送ロボット23の搬送
経路24とを備えている。第1の装置配置部21には、
図1のX軸方向に沿って、レジスト塗布を行なうための
スピンコーターSCや、現像を行なうためのスピンディ
ベロッパーSDなどがそれぞれ複数台配設されている。
また、第2の装置配置部22には、プリベークやポスト
ベークなどを行なうためのベークユニットBUや、複数
台のエッジ露光部EEWなどが配設されている。The processing unit 2 includes a first device placement section 21.
And a second device placement section 22 and a transfer path 24 of the substrate transfer robot 23. In the first device placement unit 21,
A plurality of spin coaters SC for applying resist, spin developers SD for developing, and the like are provided along the X-axis direction in FIG.
In addition, the second device placement unit 22 is provided with a bake unit BU for performing pre-baking, post-baking, and the like, a plurality of edge exposure units EEW, and the like.
【0029】また、本実施形態では、第2の装置配置部
22のIFユニット3側の端部付近に、後述するIFユ
ニット3内の第1の基板搬送ロボット31と基板Wの受
渡しを行なうための基板受渡し台25を設けている。基
板受渡し台25には、複数本の基板支持ピン25aが鉛
直方向に固定立設されており、これら基板支持ピン25
aに基板Wが載置されて基板Wの受渡しが行なわれる。Further, in the present embodiment, in order to transfer the substrate W to the first substrate transfer robot 31 in the IF unit 3 which will be described later, in the vicinity of the end of the second apparatus placement portion 22 on the IF unit 3 side. The substrate transfer table 25 is provided. A plurality of substrate support pins 25 a are vertically fixed and erected on the substrate transfer table 25.
The substrate W is placed on a and the substrate W is delivered.
【0030】基板搬送ロボット23の搬送経路24は、
上記第1、第2の装置配置部21、22の間に設けられ
ている。基板搬送ロボット23は、ハンド23bの鉛直
(以下Z軸と称す)周りの回転や、X、Z軸方向(受渡
し位置調整方向)の移動、伸縮動作を適宜に組合わせ
て、スピンコーターSCやスピンディベロッパーSD、
ベークユニットBU、エッジ露光部EEWなどの処理装
置に対するアクセス(各装置に対する基板Wの搬入/搬
出動作)や、基板受渡し台25に対する基板Wの載置/
取り出し、処理ユニット2内の各装置などの間の基板W
の搬送などを行う。基板搬送ロボット23は、基板Wを
載置支持する複数の突起部23aを備えた馬蹄型のハン
ド23bと、ハンド23bを水平方向(X−Y平面)に
伸縮させる伸縮部23cとを備えて構成されている。伸
縮部23cは、図示しないネジ軸およびモータ等からな
る周知の1軸方向移動機構で構成され、図示しない所定
のモータによってZ軸周りに回転する。The transfer path 24 of the substrate transfer robot 23 is
It is provided between the first and second device placement parts 21 and 22. The substrate transfer robot 23 appropriately rotates the hand 23b around a vertical axis (hereinafter referred to as the Z axis), moves in the X and Z axis directions (delivery position adjustment direction), and expands and contracts to appropriately combine the spin coater SC and the spin coater SC. Developer SD,
Access to processing devices such as the bake unit BU and the edge exposure unit EEW (loading / unloading operation of the substrate W to / from each device), and placement / loading of the substrate W on the substrate transfer table 25.
Substrate W between each device in the take-out and processing unit 2
It is used for transportation. The substrate transfer robot 23 includes a horseshoe-shaped hand 23b having a plurality of protrusions 23a for placing and supporting the substrate W, and a telescopic unit 23c for expanding and contracting the hand 23b in the horizontal direction (XY plane). Has been done. The expansion / contraction part 23c is composed of a well-known uniaxial moving mechanism including a screw shaft (not shown), a motor, etc., and is rotated around the Z axis by a predetermined motor (not shown).
【0031】例えば、基板受渡し台25に基板Wを載置
する場合には、まず、ハンド23bのX軸方向およびZ
軸方向の移動とZ軸周りの回転を適宜行なって、ハンド
23bをその基板受渡し台25の上方に伸縮できるよう
にする。次に、ハンド23bを基板受渡し台25方向に
伸長させ、載置支持している基板Wを基板受渡し台25
の基板支持ピン25aの若干上方に位置させる。そし
て、ハンド23bをZ軸方向に降下させ、基板Wを基板
支持ピン25aに載置して受渡し、さらに若干降下させ
た位置でハンド23bを退出させる。基板受渡し台25
に載置された基板Wの取り出しは、上記と逆の動作でハ
ンド23bを基板受渡し台25に載置された基板Wの下
方から基板Wを持ち上げるようにして行なわれる。For example, when the substrate W is placed on the substrate transfer table 25, first, the X-axis direction of the hand 23b and the Z direction.
The hand 23b can be expanded and contracted above the substrate transfer table 25 by appropriately performing axial movement and rotation around the Z axis. Next, the hand 23b is extended in the direction of the substrate transfer table 25, and the substrate W supported and placed is placed on the substrate transfer table 25.
It is located slightly above the substrate support pin 25a. Then, the hand 23b is lowered in the Z-axis direction, the substrate W is placed on the substrate support pins 25a and delivered, and the hand 23b is retracted at a position further lowered. Substrate transfer table 25
The substrate W placed on the substrate W is taken out by the operation reverse to the above, so that the hand 23b lifts the substrate W from below the substrate W placed on the substrate delivery table 25.
【0032】IFユニット3は、本発明に係る中間受渡
し装置に相当する部分であり、図1ないし図2に示すよ
うに、第1の基板搬送ロボット31とバッファ部32と
第2の基板搬送ロボット33と基板搬入装置34と基板
搬出装置35とを一体的にユニット化して構成されてい
る。また、本実施形態では、IFユニット3内に、第
1、第2のカセット36a、36bをそれぞれセットし
ておくための2個のテーブル台37a、37bも備えら
れている。The IF unit 3 is a portion corresponding to the intermediate transfer device according to the present invention, and as shown in FIGS. 1 and 2, the first substrate transfer robot 31, the buffer section 32, and the second substrate transfer robot. 33, the substrate loading device 34, and the substrate unloading device 35 are integrally configured as a unit. Further, in the present embodiment, the IF unit 3 is also provided with two table bases 37a and 37b for respectively setting the first and second cassettes 36a and 36b.
【0033】第1の基板搬送ロボット31は、処理ユニ
ット2内の基板受渡し台25に対する基板Wの載置/取
り出しと、後述するバッファ部32の任意の収納棚32
aに対する基板Wの収納/取り出しを行なうものであっ
て、図2の如く、Z軸方向駆動部31a、連結部材31
b、回転駆動部31c、伸縮駆動部31d、基板支持部
31eなどで構成されている。The first substrate transfer robot 31 places / takes out the substrate W on / from the substrate transfer table 25 in the processing unit 2 and an arbitrary storage rack 32 of the buffer section 32 which will be described later.
The substrate W is stored / removed in / from the a, and as shown in FIG.
b, a rotation driving unit 31c, a telescopic driving unit 31d, a substrate supporting unit 31e, and the like.
【0034】Z軸方向駆動部31aは、IFユニット3
の下面に固定され、ネジ軸31aaがZ軸方向に回動自
在に内設され、ネジ軸31aaに平行にガイド軸(図示
せず)が内設され、また、ネジ軸31aaを正逆方向に
回転させるモータ31abも内設されている。The Z-axis direction drive section 31a is provided in the IF unit 3
Is fixed to the lower surface of the screw shaft 31aa, a screw shaft 31aa is rotatably provided in the Z-axis direction, a guide shaft (not shown) is provided parallel to the screw shaft 31aa, and the screw shaft 31aa is provided in the forward and reverse directions. A motor 31ab for rotating the motor is also provided inside.
【0035】連結部材31bの基端部は、上記Z軸方向
駆動部31a内のネジ軸31aaに螺合され、ガイド軸
に摺動自在に嵌め付けられていて、ネジ軸31aaに正
逆方向に回転させることで連結部材31bをZ軸方向に
移動(鉛直方向へ昇降移動)させるように構成してい
る。また、連結部材31bの先端部には回転駆動部31
cが固設されている。The base end portion of the connecting member 31b is screwed onto the screw shaft 31aa in the Z-axis direction drive portion 31a, and is slidably fitted to the guide shaft. By rotating the connecting member 31b, the connecting member 31b is moved in the Z-axis direction (moving up and down in the vertical direction). Further, the rotation driving unit 31 is provided at the tip of the connecting member 31b.
c is fixed.
【0036】回転駆動部31cは、上方に回転軸31c
aがZ軸(鉛直)方向に回動自在に立設され、この回転
軸31caを正逆方向に回転させるモータ31cbが内
設されている。上記回転軸31caの先端部には、伸縮
駆動部31dが固設されている。この伸縮駆動部31d
にはモータ31daで駆動されるタイミングベルト31
dbが内設されている。このタイミングベルト31db
の一部に基板支持部31eの基端部が連結されていて、
タイミングベルト31dbを駆動させることで、伸縮駆
動部31dに対して基板支持部31eを伸縮させるよう
に構成している。また、上記回転駆動部31cの回転軸
31caを正逆方向に回転させることで、伸縮駆動部3
1dおよび基板支持部31eをZ軸(鉛直)周りに回転
させ、X−Y平面(水平面)内の任意の方向に基板支持
部31eを伸縮可能に構成している。さらに、上記Z軸
方向駆動部31aのネジ軸31aaを正逆方向に回転さ
せることで、連結部材31b、回転駆動部31c、伸縮
駆動部31dを介して基板支持部31eを伸縮させるZ
軸(鉛直)方向の高さを調節可能に構成している。な
お、図2中の符号2aは、処理ユニット2とIFユニッ
ト3との間で基板Wを受け渡すときに基板Wを支持した
上記第1の基板搬送ロボット31が通過するための開口
を示している。The rotary drive unit 31c is provided with an upper rotary shaft 31c.
a is erected so as to be rotatable in the Z-axis (vertical) direction, and a motor 31cb for rotating the rotating shaft 31ca in the forward and reverse directions is internally provided. An extension / contraction drive unit 31d is fixed to the tip of the rotary shaft 31ca. This extension drive unit 31d
Is a timing belt 31 driven by a motor 31da
db is internally provided. This timing belt 31db
The base end of the substrate support 31e is connected to a part of
By driving the timing belt 31db, the board support portion 31e is expanded and contracted with respect to the expansion and contraction drive portion 31d. Further, by rotating the rotary shaft 31ca of the rotary drive unit 31c in the forward and reverse directions, the expansion and contraction drive unit 3 is rotated.
1d and the substrate support portion 31e are rotated around the Z axis (vertical), so that the substrate support portion 31e can be expanded and contracted in any direction within the XY plane (horizontal plane). Further, by rotating the screw shaft 31aa of the Z-axis direction driving portion 31a in the forward and reverse directions, the board supporting portion 31e is expanded and contracted through the connecting member 31b, the rotation driving portion 31c, and the expansion and contraction driving portion 31d.
The height in the axial (vertical) direction is adjustable. Reference numeral 2a in FIG. 2 indicates an opening through which the first substrate transfer robot 31 supporting the substrate W passes when the substrate W is transferred between the processing unit 2 and the IF unit 3. There is.
【0037】また、基板支持部31eを処理ユニット2
内の基板受渡し台25および後述するバッファ部32に
対して伸縮できるように、伸縮駆動部31dは基板受渡
し台25のX軸方向正面で、バッファ部32のY軸方向
正面に配置されている。さらに、伸縮駆動部31dがZ
軸方向に降下された状態でも伸縮駆動部31dがZ軸周
りに回転できるように、Z軸方向駆動部31aは、連結
部材31bを介して伸縮駆動部31dや回転駆動部31
cの下方からずれた位置に配置されている。Further, the substrate supporting portion 31e is connected to the processing unit 2
The expansion / contraction drive unit 31d is arranged in front of the substrate transfer table 25 in the X-axis direction and in front of the buffer section 32 in the Y-axis direction so as to be expandable / contractible with respect to the substrate transfer table 25 and a buffer section 32 described later. Further, the extension / contraction drive unit 31d is Z
The Z-axis direction drive unit 31a includes the extension / contraction drive unit 31d and the rotation drive unit 31 via the connecting member 31b so that the extension / contraction drive unit 31d can rotate about the Z-axis even in the state of being lowered in the axial direction.
It is arranged at a position displaced from the lower side of c.
【0038】バッファ部32は、上記第1の基板搬送ロ
ボット31と後述する第2の基板搬送ロボット33とに
挟まれる位置に配置され、IFユニット3の内側面に支
持されている。このバッファ部32には、複数個(例え
ば50個)の収納棚32aがZ軸(鉛直)方向に多段状
に積層形成されている。また、各収納棚32aは、上記
第1の基板搬送ロボット31、および、後述する第2の
基板搬送ロボット33に向く面が開口されていて、これ
ら第1、第2の基板搬送ロボット31、33による基板
Wの収納/取り出しが行なえるように構成している。The buffer section 32 is arranged at a position sandwiched between the first substrate transfer robot 31 and a second substrate transfer robot 33 described later, and is supported on the inner surface of the IF unit 3. In the buffer section 32, a plurality of (for example, 50) storage shelves 32a are stacked and formed in a multi-step manner in the Z-axis (vertical) direction. In addition, each of the storage shelves 32a has an opening in a surface facing the first substrate transfer robot 31 and a second substrate transfer robot 33 described later, and these first and second substrate transfer robots 31 and 33 are opened. The substrate W is configured to be stored / removed.
【0039】第2の基板搬送ロボット33は、バッファ
部32の任意の収納棚32aに対する基板Wの収納/取
り出しや、基板搬入装置34への基板Wの載置、基板搬
出装置35からの基板Wの取り出し、後述するカセット
36a、36bに対する基板Wの収納/取り出しなどを
行なうものであって、Y軸方向駆動部33a、第1の連
結部材33b、Z軸方向駆動部33c、第2の連結部材
33d、回転駆動部33e、伸縮駆動部33f、基板支
持部33gなどで構成されている。The second substrate transfer robot 33 stores / unloads the substrate W into / from the arbitrary storage rack 32 a of the buffer section 32, places the substrate W on the substrate loading device 34, and transfers the substrate W from the substrate unloading device 35. For loading / unloading the substrate W into / from cassettes 36a, 36b, which will be described later, and includes a Y-axis direction drive portion 33a, a first connecting member 33b, a Z-axis direction driving portion 33c, and a second connecting member. 33d, a rotation drive unit 33e, a telescopic drive unit 33f, a substrate support unit 33g, and the like.
【0040】Y軸方向駆動部33aは、IFユニット3
の内側面に固定され、ネジ軸33aaがY軸方向に回動
自在に内設され、ネジ軸33aaに平行にガイド軸33
abが内設され、また、ネジ軸33aaを正逆方向に回
転させるモータ33acも内設されている。このY軸方
向駆動部33aは、第2の基板搬送ロボット33の伸縮
駆動部33fおよび基板支持部33gを、バッファ部3
2のY軸方向正面と、後述する基板搬入装置34のX軸
方向正面との間で移動可能に配置されている。The Y-axis direction drive unit 33a includes the IF unit 3
Is fixed to the inner side surface of the guide shaft 33, the screw shaft 33aa is rotatably provided in the Y-axis direction, and is parallel to the screw shaft 33aa.
ab is provided internally, and a motor 33ac for rotating the screw shaft 33aa in the forward and reverse directions is also provided internally. The Y-axis direction drive unit 33a includes the expansion / contraction drive unit 33f and the substrate support unit 33g of the second substrate transfer robot 33, and the buffer unit 3a.
It is movably arranged between the Y axis direction front surface 2 and the X axis direction front surface of the substrate loading device 34 described later.
【0041】第1の連結部材33bの基端部は、上記Y
軸方向駆動部33a内のネジ軸33aaに螺合され、ガ
イド軸33abに摺動自在に嵌め付けられていて、ネジ
軸33aaを正逆方向に回転させることで第1の連結部
材33bをY軸方向(水平1軸方向)に移動させるよう
に構成している。また、第1の連結部材33bの先端部
にはZ軸方向駆動部33cが固設されている。The base end of the first connecting member 33b has the above-mentioned Y
The first connecting member 33b is screwed onto the screw shaft 33aa in the axial drive unit 33a and is slidably fitted to the guide shaft 33ab, and the first connecting member 33b is rotated by rotating the screw shaft 33aa in the forward and reverse directions. It is configured to move in the direction (horizontal 1-axis direction). Further, a Z-axis direction driving portion 33c is fixedly provided on the tip end portion of the first connecting member 33b.
【0042】第2の基板搬送ロボット33のZ軸方向駆
動部33c、第2の連結部材33d、回転駆動部33
e、伸縮駆動部33f、基板支持部33gは、上記第1
の基板搬送ロボット31のZ軸方向駆動部31a、連結
部材31b、回転駆動部31c、伸縮駆動部31d、基
板支持部31eと同様の構成を有しており、同様の動作
を行なう。すなわち、基板支持部33gは伸縮駆動部3
3fに対して伸縮可能で、回転駆動部33eによって伸
縮駆動部33fおよび基板支持部33gはZ軸(鉛直)
周りに回転され、X−Y平面(水平面)内の任意の方向
に基板支持部33gが伸縮できるようになっている。ま
た、Z軸方向駆動部33cによって第2の連結部材33
d、回転駆動部33e、伸縮駆動部33fを介して基板
支持部33gを伸縮させるZ軸(鉛直)方向の高さ調節
が可能である。さらに、この第2の基板搬送ロボット3
3では、Y軸方向駆動部33aによって第1の連結部材
33b、Z軸方向駆動部33c、第2の連結部材33
d、回転駆動部33eを介して伸縮駆動部33fおよび
基板支持部33gのY軸方向の位置を変位可能にしてい
る。The Z-axis direction drive unit 33c of the second substrate transfer robot 33, the second connecting member 33d, and the rotation drive unit 33.
e, the expansion / contraction drive unit 33f, and the substrate support unit 33g are the first
The substrate transport robot 31 has the same configuration as the Z-axis direction drive unit 31a, the connecting member 31b, the rotation drive unit 31c, the expansion / contraction drive unit 31d, and the substrate support unit 31e, and performs the same operation. That is, the substrate support portion 33g is the extension drive unit 3
It is expandable / contractible with respect to 3f, and the expansion / contraction drive unit 33e and the substrate support unit 33g are Z-axis (vertical) by the rotation drive unit 33e.
The substrate support portion 33g can be expanded and contracted in an arbitrary direction within the XY plane (horizontal plane) by being rotated around. In addition, the Z-axis direction driving portion 33c causes the second connecting member 33
It is possible to adjust the height in the Z-axis (vertical) direction in which the substrate support portion 33g is expanded and contracted via d, the rotation drive portion 33e, and the expansion / contraction drive portion 33f. Furthermore, this second substrate transfer robot 3
In 3, the first connecting member 33b, the Z-axis driving portion 33c, and the second connecting member 33 are driven by the Y-axis direction driving portion 33a.
The position of the expansion / contraction drive unit 33f and the substrate support unit 33g in the Y-axis direction can be displaced via the rotation drive unit 33e.
【0043】なお、本実施形態では、第1の基板搬送ロ
ボット31、バッファ部32、第2の基板搬送ロボット
33がその順で第2の基板搬送ロボット33のY軸方向
駆動部33a(1軸方向移動手段)の移動方向(Y軸方
向)に平行に一直線状に配設されている。In the present embodiment, the first substrate transfer robot 31, the buffer unit 32, and the second substrate transfer robot 33 are arranged in that order in the Y-axis direction drive unit 33a (one axis) of the second substrate transfer robot 33. (Direction moving means) is arranged in a straight line in parallel with the moving direction (Y-axis direction).
【0044】基板搬入装置34は、露光前基板を露光ユ
ニット4の基板受渡し部4aに受渡すものであって、基
板搬出装置35は、露光ユニット4で露光処理が終了し
た露光済基板を露光ユニット4の基板受渡し部4bから
搬出してIFユニット3内に取り込むものである。な
お、以下の説明でIFユニット3内の基板搬入装置34
および基板搬出装置35を総称するときは従来技術での
説明と同様に、単に「IF基板搬送部」と呼ぶことにす
る。このIF基板搬送部34,35は、図3〜図7の如
く、基板Wを載置する第1のアーム(基板載置アーム)
41と、この第1のアーム41を水平面内で回動自在に
支持する第2のアーム42と、この第2のアーム42を
水平面内で回動自在に支持する第3のアーム43と、こ
の第3のアーム43を水平面内で回動させる回動手段4
4(電動モータ)と、第3のアーム43を上方に支持す
るアーム台45と、回動手段44で第3のアーム43を
回動させたときに第2のアーム42および第1のアーム
41に動力を伝達してこれらの姿勢および移動方向を制
御する動力伝達手段46と、を備える。なお、3個のア
ーム41,42,43を連結したものを「アーム連結
体」と呼ぶことにする。そして、このアーム連結体は、
3個の関節を有するものである。The substrate carry-in device 34 delivers the pre-exposure substrate to the substrate delivery section 4a of the exposure unit 4, and the substrate carry-out device 35 delivers the exposed substrate which has been exposed by the exposure unit 4 to the exposure unit. 4 is taken out from the substrate transfer part 4b and is taken into the IF unit 3. In the following description, the board loading device 34 in the IF unit 3 will be described.
The substrate unloading device 35 will be generically referred to as an "IF substrate transporting unit" as in the case of the conventional technique. As shown in FIGS. 3 to 7, the IF substrate transfer parts 34 and 35 are provided with a first arm (substrate mounting arm) for mounting the substrate W thereon.
41, a second arm 42 that rotatably supports the first arm 41 in a horizontal plane, and a third arm 43 that rotatably supports the second arm 42 in a horizontal plane. Rotating means 4 for rotating the third arm 43 in a horizontal plane
4 (electric motor), an arm base 45 for supporting the third arm 43 upward, and a second arm 42 and a first arm 41 when the third arm 43 is rotated by the rotating means 44. Power transmission means 46 for transmitting power to control these postures and movement directions. In addition, what connected three arms 41, 42, 43 is called an "arm connection body." And this arm connection body,
It has three joints.
【0045】第1のアーム41は、基板Wを載置するよ
う平行に並べられた短冊状の2個の載置片51と、これ
らの載置片51の基端部同士を連結する1個の短冊状の
連結部52とから、平面視略コ字形に形成されており、
各載置片51の基端部及び先端部には、基板Wに当接し
て位置決めするためのストッパ54(第1の位置決め手
段)がピン等によって固着されている。また、連結部5
2の一部には、後方から後述する位置決めガイドピン8
8を嵌合して基板の第1のアーム41上での位置決めを
行う位置決め用切欠54a(第2の位置決め手段)が形
成されている。さらに、連結部52の中央部には、図5
に示した第1の回動軸55が下方に垂設固定されてい
る。The first arm 41 has two strip-shaped mounting pieces 51 arranged in parallel so as to mount the substrate W, and one connecting the base end portions of these mounting pieces 51. Is formed into a substantially U-shape in a plan view from the strip-shaped connecting portion 52 of
A stopper 54 (first positioning means) for contacting and positioning the substrate W is fixed to the base end and the tip of each mounting piece 51 by a pin or the like. Also, the connecting portion 5
A part of 2 has a positioning guide pin 8 which will be described later from the rear.
A positioning notch 54a (second positioning means) is formed to fit 8 to position the substrate on the first arm 41. Further, in the central portion of the connecting portion 52, as shown in FIG.
The first rotating shaft 55 shown in FIG.
【0046】第2のアーム42の先端部には、第1の回
動軸55を回動自在に軸受けする第1の軸受け孔56が
穿設されている。また、第2のアーム42の基端部に
は、第2の回動軸57が下方に垂設固定されている。A first bearing hole 56 for rotatably bearing the first rotating shaft 55 is formed at the tip of the second arm 42. A second rotating shaft 57 is vertically fixed to the base end of the second arm 42.
【0047】第3のアーム43は第2のアーム42と同
じ長さ寸法に設定されており、その先端部には、第2の
回動軸57を回動自在に軸受けする第2の軸受け孔58
が穿設されている。また、第3のアーム43の基端部に
は、回動手段44の回動力がカップリング連結機構等を
介して伝達される第3の回動軸59が、下方に向けて垂
設固定されている。The third arm 43 is set to have the same length dimension as the second arm 42, and a tip end portion thereof has a second bearing hole for rotatably bearing the second rotating shaft 57. 58
Are drilled. A third rotating shaft 59, to which the turning force of the rotating means 44 is transmitted via a coupling coupling mechanism or the like, is vertically fixed to the base end portion of the third arm 43. ing.
【0048】動力伝達手段46は、前述した回動手段4
4の第3の回動軸59と、第1の回動軸55の下端に固
定された第1のプーリ(第1の回動子)61と、第3の
アーム43の第2の軸受け孔58の上面側に固定された
第2のプーリ(第2の回動子)62と、第1のプーリ6
1と第2のプーリ62との間に架け渡された第1のタイ
ミングベルト(第1の連結部材)63と、第3のアーム
43の第2の軸受け孔58の下面側に固定された第3の
プーリ(第3の回動子)64と、アーム45に対して固
定されて第3の回動軸59を遊嵌する第4のプーリ(第
4の回動子)65と、第3のプーリ64と第4のプーリ
65との間に架け渡された第2のタイミングベルト(第
2の連結部材)66と、を備える。ここで、第1のプー
リ61の径と第2のプーリ62の径は2対1に設定さ
れ、また、第3のプーリ64の径と第4のプーリ65の
径は1対2に設定されている。The power transmission means 46 is the rotation means 4 described above.
4, a third rotating shaft 59, a first pulley (first rotating member) 61 fixed to the lower end of the first rotating shaft 55, and a second bearing hole of the third arm 43. A second pulley (second rotator) 62 fixed to the upper surface side of 58 and the first pulley 6
The first timing belt (first connecting member) 63 laid between the first and second pulleys 62 and the first timing belt fixed to the lower surface side of the second bearing hole 58 of the third arm 43. A third pulley (third rotator) 64, a fourth pulley (fourth rotator) 65 fixed to the arm 45 and loosely fitted to the third rotation shaft 59, and a third A second timing belt (second connecting member) 66 spanned between the pulley 64 and the fourth pulley 65. Here, the diameter of the first pulley 61 and the diameter of the second pulley 62 are set to 2 to 1, and the diameter of the third pulley 64 and the diameter of the fourth pulley 65 are set to 1 to 2. ing.
【0049】また、図7に示すように、第1のアーム4
1の基板載置領域の中心点から第1の回動軸55までの
距離を「第1のアーム長Rw」とする。さらに、第1の
回動軸55から第2の回動軸57までの距離(以後、
「第2のアーム長」と呼ぶ)と、第2の回動軸57から
第3の回動軸59までの距離(以後、「第3のアーム
長」と呼ぶ)は、同一の長さRaに設定されており、基
板の待機位置から露光ユニット内の所定位置までの搬送
距離を2Lrとした場合に、RaはLrの約2分の1に
設定されている。そして、回動手段44の取り付け位置
Pmは、露光ユニット4内でできるだけ奥まで基板を届
けるように、IFユニット3と露光ユニット4の境界線
上に配置される。Further, as shown in FIG. 7, the first arm 4
The distance from the center point of the first substrate mounting area to the first rotating shaft 55 is defined as "first arm length Rw". Furthermore, the distance from the first rotation shaft 55 to the second rotation shaft 57 (hereinafter,
The “second arm length”) and the distance from the second rotation shaft 57 to the third rotation shaft 59 (hereinafter, referred to as “third arm length”) have the same length Ra. When the transport distance from the standby position of the substrate to the predetermined position in the exposure unit is 2Lr, Ra is set to about ½ of Lr. Then, the mounting position Pm of the rotating means 44 is arranged on the boundary line between the IF unit 3 and the exposure unit 4 so that the substrate is delivered as far as possible in the exposure unit 4.
【0050】なお、アーム連結体は、支持プレート87
に固定されるとともに、アーム台45にロッドを連結さ
れた昇降シリンダ80によって支持プレート87に対し
て昇降制御される。また、両IF基板搬送部34,35
をY軸方向に移動調整するため、図3および図4の如
く、支持プレート87は摺動部材76を通じて2本のY
軸レール73に摺動自在に支持されている。また支持プ
レート87には、その処理ユニット2側の位置に2本の
位置決めガイドピン88が立設されるとともに、この位
置決めガイドピン88を第1のアーム41と同じ進退方
向へ移動させるガイドピン移動用シリンダ89が設けら
れている。また、このY軸レール73は、4本のZ軸レ
ール81によってZ軸方向に移動調整可能に支持されて
いる。図3中の符号85は4本のZ軸レール81を互い
に連結支持する支持柱を示している。Incidentally, the arm connecting body is the supporting plate 87.
The lifting / lowering cylinder 80 has a rod connected to the arm base 45 and is vertically moved with respect to the support plate 87. In addition, both the IF substrate transfer units 34 and 35
In order to move and adjust the Y-axis in the Y-axis direction, the support plate 87 is moved through the sliding member 76 as shown in FIGS.
It is slidably supported by the shaft rail 73. Further, two positioning guide pins 88 are erected on the support plate 87 at a position on the processing unit 2 side, and the guide pin movement for moving the positioning guide pins 88 in the same advancing and retreating direction as the first arm 41. A cylinder 89 for use is provided. The Y-axis rail 73 is supported by four Z-axis rails 81 so as to be movable and adjustable in the Z-axis direction. Reference numeral 85 in FIG. 3 indicates a support column for connecting and supporting the four Z-axis rails 81 to each other.
【0051】<動作>次に、上記構成を有する基板処理
装置の動作を説明する。図1の如く、まずAGV5によ
って搬入出テーブル11へキャリアCをセットし、キャ
リアCから処理ユニット2内の基板搬送ロボット23へ
処理前基板Wを受渡した後、ベークユニットBUによる
ベーク、スピンコーターSCによるレジスト塗布、およ
びエッジ露光部EEWによるエッジ露光等の各種処理を
行う。<Operation> Next, the operation of the substrate processing apparatus having the above configuration will be described. As shown in FIG. 1, first, the carrier C is set on the loading / unloading table 11 by the AGV 5, the unprocessed substrate W is transferred from the carrier C to the substrate transfer robot 23 in the processing unit 2, and then the baking by the bake unit BU and the spin coater SC are performed. Various processes such as resist coating by the above and edge exposure by the edge exposure unit EEW are performed.
【0052】そして、IFユニット3によって、処理ユ
ニット2から露光ユニット4への露光前基板Wの受渡し
を行う。この際、図1および図2の如く、基板受渡し台
25に載置された露光前基板Wは、IFユニット3内の
第1の基板搬送ロボット31によって取り出され、バッ
ファ部32の任意の収納棚32aに収納される。この収
納棚32aに収納された露光前基板Wは、第2の基板搬
送ロボット33によって取り出され、基板搬入装置34
に載置される。この際、第2の基板搬送ロボット33
は、基板搬入装置34の載置片51に基板を直接載置し
た後、載置片51と連結部52の段差分のスペースから
第2の基板搬送ロボット33のアーム(図示せず)を抜
き取ればよい。そして、ガイドピン移動用シリンダ89
を駆動して位置決めガイドピン89を露光ユニット4側
に移動させ、この位置決めガイドピン88と載置片51
の先端部のストッパ54との間で基板Wを挟みこんで位
置決めを行う。Then, the IF unit 3 transfers the pre-exposure substrate W from the processing unit 2 to the exposure unit 4. At this time, as shown in FIGS. 1 and 2, the pre-exposure substrate W placed on the substrate transfer table 25 is taken out by the first substrate transfer robot 31 in the IF unit 3 and is stored in an arbitrary storage shelf of the buffer section 32. It is stored in 32a. The pre-exposure substrate W stored in the storage rack 32 a is taken out by the second substrate transfer robot 33, and the substrate loading device 34
Placed on At this time, the second substrate transfer robot 33
After placing the substrate directly on the placing piece 51 of the substrate carry-in device 34, remove the arm (not shown) of the second substrate transfer robot 33 from the space corresponding to the step between the placing piece 51 and the connecting portion 52. Just take it. Then, the guide pin moving cylinder 89
Is driven to move the positioning guide pin 89 to the exposure unit 4 side, and the positioning guide pin 88 and the mounting piece 51 are moved.
The substrate W is sandwiched between it and the stopper 54 at the front end of the substrate for positioning.
【0053】次に、図示しない制御装置の制御に従って
回動手段44が第3の回動軸59を通じて第3のアーム
43を図6中のAωの方向(左回り)に回動させると、
第2の軸受け孔58で軸受けされた第2の回動軸57
は、第2のベルト66および第3のプーリ64を通じて
第3の回動軸59の2倍の回動速度で図6中のBωの方
向(右回り)に回動する。これによって、第2のアーム
42の先端部に軸受けされた第1の回動軸55および第
1のアーム41は、図6中のxlの方向(X軸方向)に
直進する。Next, when the rotating means 44 rotates the third arm 43 in the direction of Aω (counterclockwise) in FIG. 6 through the third rotating shaft 59 under the control of the control device (not shown),
The second rotating shaft 57 that is supported by the second bearing hole 58.
Rotates in the direction of Bω (clockwise) in FIG. 6 at the double rotation speed of the third rotation shaft 59 through the second belt 66 and the third pulley 64. As a result, the first rotating shaft 55 and the first arm 41, which are borne by the tip end portion of the second arm 42, go straight in the xl direction (X-axis direction) in FIG.
【0054】この際、第1のプーリ61が第2のプーリ
62および第1のベルト63を通じて回動角を制御され
ている。ここで、第1のプーリ61の径は第2のプーリ
62の径の2倍であるため、仮に第2のアーム42を基
準とすると第2のプーリ62の1/2倍の回動速度で左
回りに回動することになるが、第2のアーム42自体が
回動しており、また、第4のプーリ65が支持プレート
87に対して不動であるため、第1のプーリ61の支持
プレート87に対する相対的回動角度が変化することな
く、図6中のxlの方向(X軸方向)に直進することに
なる。したがって、第1のアーム41は、支持プレート
87に対してxlの方向(露光ユニット4に向かう方
向)に対峙した姿勢を維持しながら直進する。このよう
にして、第1のアーム41に載置された露光前基板Wの
露光ユニット4内への取り込みが完了する。At this time, the rotation angle of the first pulley 61 is controlled by the second pulley 62 and the first belt 63. Here, since the diameter of the first pulley 61 is twice as large as the diameter of the second pulley 62, if the second arm 42 is used as a reference, the rotation speed is 1/2 times that of the second pulley 62. Although it rotates counterclockwise, since the second arm 42 itself is rotating and the fourth pulley 65 is immovable with respect to the support plate 87, the first pulley 61 is supported. The relative rotation angle with respect to the plate 87 does not change and the vehicle goes straight in the direction of xl in FIG. 6 (X-axis direction). Therefore, the first arm 41 moves straight while maintaining a posture facing the support plate 87 in the xl direction (direction toward the exposure unit 4). In this way, the loading of the pre-exposure substrate W placed on the first arm 41 into the exposure unit 4 is completed.
【0055】露光ユニット4内では、基板Wはアライメ
ント機構に引き渡されて位置決め処理が行なわれ、位置
決めされた状態で露光機に渡され、所定の露光パターン
が焼き付けられる。そして、露光処理が終了した露光済
基板Wは、基板搬出装置35によって露光ユニット4内
から搬出されIFユニット3内に排出される。In the exposure unit 4, the substrate W is delivered to the alignment mechanism for positioning processing, and is delivered to the exposure machine in the aligned state to print a predetermined exposure pattern. Then, the exposed substrate W for which the exposure processing has been completed is carried out of the exposure unit 4 by the substrate carry-out device 35 and discharged into the IF unit 3.
【0056】この際、図示しない制御装置の制御に従っ
て回動手段44が第3の回動軸59を通じて第3のアー
ム43を図6中のAμの方向(右回り)に回動させる
と、第2の軸受け孔58で軸受けされた第2の回動軸5
7は、第2のベルト66および第3のプーリ64を通じ
て第3の回動軸59の2倍の回動速度で図6中のBμの
方向(右回り)に回動する。これによって、第2のアー
ム42の先端部に軸受けされた第1の回動軸55および
第1のアーム41は、図6中のxμの方向に退去する。At this time, when the rotating means 44 rotates the third arm 43 in the direction of Aμ (clockwise) in FIG. 6 through the third rotating shaft 59 under the control of the control device (not shown), The second rotary shaft 5 bearing in the second bearing hole 58.
7 rotates in the direction of Bμ (clockwise) in FIG. 6 at a rotation speed twice as high as that of the third rotation shaft 59 through the second belt 66 and the third pulley 64. As a result, the first rotation shaft 55 and the first arm 41, which are borne by the tip end of the second arm 42, retreat in the xμ direction in FIG.
【0057】このとき、第1のプーリ61が第2のプー
リ62および第1のベルト63を通じて回動角を制御さ
れている。第1のプーリ61の径は第2のプーリ62の
径の2倍であるため、仮に第2のアーム42を基準とす
ると第2のプーリ62の1/2倍の回動速度で右回りに
回動することになるが、第2のアーム42自体が回動し
ており、また、第4のプーリ65が支持プレート87に
対して不動であるため、第1のプーリ61の支持プレー
ト87に対する相対的回動角度が変化することなく、図
6中のxμの方向に直進することになる。したがって、
第1のアーム41は、支持プレート87に対してxlの
方向(露光ユニット4に向かう方向)に対峙した姿勢を
維持しながらxμ方向に退去する。このようにして、露
光後基板Wの露光ユニット4からIFユニット3への退
去が完了した後、支持プレート87上のガイドピン移動
用シリンダ89を駆動して位置決めガイドピン88を露
光ユニット4側に移動させ、この位置決めガイドピン8
8と載置片51の先端部のストッパ54との間で基板W
を挟みこんで位置決めを行う。そして、載置片51と連
結部52の段差分のスペースから第2の基板搬送ロボッ
ト33のアーム(図示せず)を差し入れ、このアームに
基板を載置し、バッファ部32、第1の基板搬送ロボッ
ト31を経て処理ユニット2に露光後基板を戻す。At this time, the rotation angle of the first pulley 61 is controlled through the second pulley 62 and the first belt 63. Since the diameter of the first pulley 61 is twice the diameter of the second pulley 62, assuming that the second arm 42 is used as a reference, the first pulley 61 rotates clockwise at a rotation speed that is ½ times that of the second pulley 62. Although it rotates, the second arm 42 itself is rotating, and the fourth pulley 65 is immovable with respect to the support plate 87. Therefore, the first pulley 61 with respect to the support plate 87 is rotated. The vehicle moves straight in the direction of xμ in FIG. 6 without changing the relative rotation angle. Therefore,
The first arm 41 retreats in the xμ direction while maintaining a posture facing the support plate 87 in the xl direction (direction toward the exposure unit 4). In this way, after the post-exposure substrate W is completely withdrawn from the exposure unit 4 to the IF unit 3, the guide pin moving cylinder 89 on the support plate 87 is driven to move the positioning guide pin 88 to the exposure unit 4 side. Move this positioning guide pin 8
8 and the stopper 54 at the tip of the mounting piece 51
Position by sandwiching. Then, an arm (not shown) of the second substrate transfer robot 33 is inserted from the space corresponding to the step between the mounting piece 51 and the connecting portion 52, the substrate is mounted on this arm, and the buffer unit 32 and the first substrate are mounted. After exposure, the substrate is returned to the processing unit 2 via the transfer robot 31.
【0058】このように、各IF基板搬送部34,35
の関節を2関節としているので、基板を載置する第1の
アーム41の露光ユニット4に対する姿勢を変化させる
ことなく基板の受渡しを行うことができ、露光ユニット
4の開口寸法をほぼ基板径に等しい寸法にまで低減でき
る。そうすると、露光ユニット内の雰囲気の気体成分の
調整が容易になり、露光の質の向上を図ることができ
る。In this way, each IF board transport section 34, 35
Since the two joints are used, the substrate can be delivered without changing the attitude of the first arm 41 on which the substrate is placed with respect to the exposure unit 4, and the opening size of the exposure unit 4 can be made approximately the substrate diameter. It can be reduced to the same size. Then, the gas component of the atmosphere in the exposure unit can be easily adjusted, and the quality of exposure can be improved.
【0059】また、図7の如く、回動手段44の取り付
け位置Pmからの距離を、第2のアーム長と第3のアー
ム長の合計長2Raよりも、第1のアーム長Rwだけ長
く設定できる(すなわちLr+Rw)ため、従来に比べ
て、アームの旋回半径をのばさなくても、より深い奥行
きの露光ユニットにも対応できる。Further, as shown in FIG. 7, the distance from the mounting position Pm of the rotating means 44 is set to be longer than the total length 2Ra of the second arm length and the third arm length by the first arm length Rw. Since it is possible (that is, Lr + Rw), it is possible to deal with an exposure unit having a deeper depth than the conventional one without increasing the turning radius of the arm.
【0060】さらに、図8および図9に示した従来の技
術のようにウェハ載置用のピンを複雑な形状で回避する
必要がなくなるので、短冊状の2個の載置片51と短冊
状の連結部52といった極めて簡単な構成を採用でき、
金型製造等の段階で製造コストを従来に比べて安くでき
る。Further, unlike the conventional technique shown in FIGS. 8 and 9, it is not necessary to avoid the pins for mounting the wafer in a complicated shape, and therefore, two strip-shaped mounting pieces 51 and strip-shaped mounting pieces 51 are provided. An extremely simple structure such as the connecting portion 52 of can be adopted,
Manufacturing cost can be reduced at the stage of mold manufacturing, etc.
【0061】また、この実施の形態では、待機位置に配
置した第1のアーム41の上に直接基板を載置している
ので、従来のように待機ポジションPwの載置具124
aを設ける必要がなくなり、IFユニットの省スペース
化を図ることができる。Further, in this embodiment, since the substrate is directly placed on the first arm 41 arranged at the standby position, the placing tool 124 at the standby position Pw is used as in the conventional case.
Since it is not necessary to provide a, the space of the IF unit can be saved.
【0062】また、この実施の形態では、待機位置に配
置した第1のアーム41上にて基板の位置決めを行って
いるので、IFユニット上に位置決め機構の専用スペー
スを設ける必要がないので、よりIFユニットの省スペ
ース化を図ることができる。Further, in this embodiment, since the substrate is positioned on the first arm 41 arranged at the standby position, it is not necessary to provide a dedicated space for the positioning mechanism on the IF unit. Space saving of the IF unit can be achieved.
【0063】また、この実施の形態では、第1のアーム
41を露光ユニット4に対峙する姿勢を維持しながら移
動させることができるので、中間受渡し装置内に基板を
載置するアームが回動して進出するためのスペースとい
うものを不要にでき、中間受渡し装置自体の小型化を図
ることができる。Further, in this embodiment, since the first arm 41 can be moved while maintaining the attitude facing the exposure unit 4, the arm for placing the substrate in the intermediate transfer device is rotated. It is possible to eliminate the need for a space for entering the market and reduce the size of the intermediate delivery device itself.
【0064】なお、上記した実施の形態では、処理ユニ
ット2と露光ユニット4の間に配されるIFユニット3
に適用した例について説明したが、本発明はこのような
装置に限られるものではない。In the above-described embodiment, the IF unit 3 arranged between the processing unit 2 and the exposure unit 4.
However, the present invention is not limited to such an apparatus.
【0065】さらに、上記した実施の形態では、第1の
アーム41、第2のアーム42および第3のアーム43
の3個のアームを有するものについて説明したが、例え
ば、5個、7個のように、3個以上の奇数個のアームを
備えるものであればどのようなものでもよい。この場
合、アーム連結体は、基板載置アーム以外の一対ずつの
アーム同士を連結する各関節部分を折り曲げながらジグ
ザグ状に伸縮し、先端の基板載置アームの所定の基板受
渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、基板載置アーム
を直線状に移動させることができるので、上記した実施
の形態と同様の効果が得られる。Further, in the above-described embodiment, the first arm 41, the second arm 42 and the third arm 43.
However, any number may be used as long as it has an odd number of arms of 3 or more, such as 5, 7, for example. In this case, the arm connecting body expands and contracts in a zigzag shape while bending each joint portion that connects a pair of arms other than the substrate mounting arm, and faces the predetermined substrate transfer part of the substrate mounting arm at the tip. Since the substrate mounting arm can be moved linearly while maintaining the above, the same effect as that of the above-described embodiment can be obtained.
【0066】[0066]
(1)請求項1および請求項5に記載の発明によれば、
動力伝達手段によって基板載置アームの基板受渡し部に
対峙する姿勢を維持しながら基板載置アームを直線状に
移動させるので、従来の技術のようにピン回避用切欠を
形成するなどして載置部の形状を複雑なものとする必要
がなくなり、したがって、金型製造等の段階で製造コス
トを従来の技術より軽減できる。(1) According to the inventions of claims 1 and 5,
Since the substrate placing arm is moved linearly while maintaining the posture facing the substrate passing portion of the substrate placing arm by the power transmission means, the pin avoiding notch is formed as in the conventional technique to place the substrate placing arm. It is not necessary to make the shape of the part complicated, so that the manufacturing cost can be reduced at the stage of manufacturing the mold or the like as compared with the conventional technique.
【0067】(2)請求項1、請求項2、請求項5およ
び請求項6に記載の発明によれば、3個以上の奇数個の
アームを互いに回動可能に連結してアーム連結体を構成
し、回動手段および動力伝達手段によって、基板載置ア
ーム以外の一対のアーム同士を連結する少なくとも1個
の関節部分を折り曲げつつ、基板載置アームの所定の基
板受渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、基板載置ア
ームを直線状に移動させるので、アームの旋回半径を、
一対で1組とされて関節部分が折り曲げられたアーム、
すなわち基板載置アーム以外のいずかのアームの1個分
の長さに抑えることができる。したがって、従来の技術
のように中間受渡し装置の大型化を防止できる。しか
も、3個以上のアームを使用しているので、アーム連結
体の最大到達距離を、3個以上のアームの合計長さに設
定でき、2個のアームしか使用していなかった従来に比
べて、設計の自由度を高めることができ、外部の所定の
基板受渡し部に対する汎用性を高めることができる。(2) According to the inventions of claim 1, claim 2, claim 5 and claim 6, an odd number of three or more arms are rotatably connected to each other to form an arm connecting body. And a posture in which at least one joint portion connecting the pair of arms other than the substrate placing arm is bent by the rotating means and the power transmitting means while facing the predetermined substrate passing portion of the substrate placing arm. Since the substrate mounting arm is moved linearly while maintaining it, the turning radius of the arm is
A pair of arms with a joint part bent,
That is, it is possible to suppress the length to one arm other than the substrate mounting arm. Therefore, it is possible to prevent the intermediate transfer device from increasing in size as in the conventional technique. Moreover, since three or more arms are used, the maximum reachable distance of the arm connecting body can be set to the total length of three or more arms, as compared to the conventional case where only two arms are used. In addition, the degree of freedom in design can be increased, and the versatility with respect to an external predetermined substrate transfer section can be increased.
【0068】(3)また、請求項5、請求項6、および
請求項7に記載の発明によれば(特に請求項8のよう
に、第2の基板処理ユニットが露光装置であるような場
合に)、第2の基板処理ユニットの製造元や製造時期等
が第1の基板処理ユニットに対して異なっており、これ
らの間の基板受渡し位置が第1の基板処理ユニットの予
定している基板受渡し位置と異なるような場合でも、第
2の基板処理ユニット側へのアーム連結体の最大到達距
離を高めることで、汎用性を飛躍的に向上できる。この
場合、アーム旋回角度を従来と同様に抑えることができ
る。特に、請求項3および請求項7に記載の発明によれ
ば、動力伝達手段を極めて簡単な構成としながらも、ア
ームの旋回半径を増大させずに、基板載置アームの所定
の基板受渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、基板載
置アームを直線状に移動させることができる。したがっ
て、第2の基板処理ユニット(請求項8では露光装置)
の開口部周りの省スペース化を図ることで、チャック洗
浄等のメンテナンス作業を行うための作業領域を大きく
確保できるとともに、開口寸法を小さくすることができ
ることから、第2の基板処理ユニットの内部雰囲気の調
整を容易にすることができる。(3) Further, according to the inventions of claim 5, claim 6, and claim 7, (especially when the second substrate processing unit is an exposure apparatus as in claim 8). In addition, the manufacturer and the manufacturing time of the second substrate processing unit are different from those of the first substrate processing unit, and the substrate transfer position between them is the substrate transfer scheduled by the first substrate processing unit. Even if the position is different, the versatility can be dramatically improved by increasing the maximum reachable distance of the arm coupling body to the second substrate processing unit side. In this case, the arm turning angle can be suppressed as in the conventional case. In particular, according to the invention described in claims 3 and 7, the power transmission means has an extremely simple structure, and the predetermined radius of the arm of the substrate mounting arm can be provided to the predetermined substrate transfer part without increasing the turning radius of the arm. The substrate mounting arm can be moved linearly while maintaining the facing position. Therefore, the second substrate processing unit (exposure device in claim 8)
Since the space around the opening of the second substrate processing unit can be saved, it is possible to secure a large working area for performing maintenance work such as chuck cleaning, and to reduce the size of the opening. Can be easily adjusted.
【0069】(4)請求項4に記載の発明によれば、従
来の技術のように、IFユニット内に待機ポジションの
載置具を設けなくても、基板載置アームの位置決め手段
によって、基板を容易に位置決めできる。したがって、
IFユニットの装置スペースを従来の技術に比べて軽減
できる。(4) According to the invention described in claim 4, the substrate mounting arm positioning means allows the substrate to be mounted by the positioning means of the substrate mounting arm without providing a mounting tool at the standby position in the IF unit as in the prior art. Can be easily positioned. Therefore,
The device space of the IF unit can be reduced as compared with the conventional technology.
【図1】本発明の一の実施の形態に係る基板搬送装置を
備えた基板処理装置全体の構成を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an overall configuration of a substrate processing apparatus including a substrate transfer apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図2】本発明の一の実施の形態に係る基板搬送装置を
露光ユニット側から見た正面図である。FIG. 2 is a front view of the substrate transfer device according to the embodiment of the present invention viewed from the exposure unit side.
【図3】本発明の一の実施の形態に係るIF基板搬送部
を示す一部破断斜視図である。FIG. 3 is a partially cutaway perspective view showing an IF substrate carrying section according to an embodiment of the present invention.
【図4】本発明の一の実施の形態に係るIF基板搬送部
を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing an IF substrate transport section according to an embodiment of the present invention.
【図5】本発明の一の実施の形態に係るIF基板搬送部
を示す一部破断側面図である。FIG. 5 is a partially cutaway side view showing an IF substrate transport section according to an embodiment of the present invention.
【図6】本発明の一の実施の形態に係る動力伝達手段の
動作原理を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing the operating principle of the power transmission means according to the embodiment of the present invention.
【図7】本発明の一の実施の形態に係るIF基板搬送部
の動作を示す図である。FIG. 7 is a diagram showing an operation of the IF substrate transport section according to the embodiment of the present invention.
【図8】従来の技術に係るIF基板搬送部を示す正面図
である。FIG. 8 is a front view showing an IF substrate transfer section according to a conventional technique.
【図9】従来の技術に係るIF基板搬送部を示す側面図
である。FIG. 9 is a side view showing an IF substrate transfer section according to a conventional technique.
1 インデクサ 2 処理ユニット 3 IFユニット 4 露光ユニット 5 AGV 31 第1の基板搬送ロボット 32 バッファ部 33 第2の基板搬送ロボット 34 基板搬入装置 35 基板搬出装置 41 第1のアーム 42 第2のアーム 43 第3のアーム 44 回動手段 46 動力伝達手段 47 位置調整手段 71 第1の調整部 72 第2の調整部 73 Y軸レール 74 案内溝 75 摺動部材 76 固定ねじ 77 ネジ孔 81 Z軸レール 82 案内溝 83 嵌合部材 87 支持プレート 1 Indexer 2 Processing Unit 3 IF Unit 4 Exposure Unit 5 AGV 31 First Substrate Transfer Robot 32 Buffer Section 33 Second Substrate Transfer Robot 34 Substrate Loading Device 35 Substrate Unloading Device 41 First Arm 42 Second Arm 43 No. 3 arm 44 rotation means 46 power transmission means 47 position adjustment means 71 first adjustment section 72 second adjustment section 73 Y-axis rail 74 guide groove 75 sliding member 76 fixing screw 77 screw hole 81 Z-axis rail 82 guide Groove 83 Fitting member 87 Support plate
Claims (8)
を進退させて受け渡す基板搬送装置であって、 最も先端に配された基板載置アームを含んで3個以上の
奇数個のアームが連結されてなるアーム連結体と、 前記アーム連結体の基端部を回動制御する回動手段と、 前記回動手段の回動力を伝達し、前記基板載置アーム以
外の一対のアーム同士を連結する少なくとも1個の関節
部分を折り曲げつつ、前記基板載置アームの前記所定の
基板受渡し部に対峙する姿勢を維持しながら、前記基板
載置アームを直線状に移動させる動力伝達手段と、を備
えることを特徴とする基板搬送装置。1. A substrate transfer device for advancing and retracting a substrate to and from an external predetermined substrate transfer part, wherein an odd number of three or more arms including a substrate mounting arm arranged at the most tip end. An arm connecting body, a rotating means for rotating the base end portion of the arm connecting body, and a pair of arms other than the substrate mounting arm for transmitting the turning force of the rotating means. A power transmission means for linearly moving the substrate mounting arm while bending at least one joint part connecting the substrate mounting arm and maintaining the posture of the substrate mounting arm facing the predetermined substrate transfer part; A substrate transfer apparatus comprising:
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第1のア
ームと、 前記第1のアームの基端部を第1の回動軸を中心に回動
自在に支持する第2のアームと、 その基端部が第3の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第2のアームの基端部を第2の回動軸を中心に回動
自在に支持する第3のアームと、を少なくとも備え、 前記第1の回動軸と前記第2の回動軸間の距離と、前記
第2の回動軸と前記第3の回動軸間の距離とが同一に設
定されたことを特徴とする基板搬送装置。2. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the arm coupling body has a first arm as a substrate mounting arm that is coupled to the most distal end, and a base end of the first arm. A second arm for rotatably supporting the portion around a first rotation axis, and a base end portion thereof supported around a third rotation axis and a base end portion of the second arm. A third arm that rotatably supports the second rotation shaft as a center, and a distance between the first rotation shaft and the second rotation shaft, and a second arm. A substrate transfer device, wherein a rotation axis and a distance between the third rotation axis are set to be the same.
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第1のア
ームと、 前記第1のアームの基端部に固定された第1の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第2のアームと、 その基端部が第3の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第2のアームの基端部に固定された第2の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第3のアームと、を少な
くとも備え、 前記第1の回動軸と前記第2の回動軸間の距離と、前記
第2の回動軸と前記第3の回動軸間の距離とが同一に設
定され、 前記動力伝達手段は、 前記第1のアームの前記第1の回動軸に固定された第1
の回動子と、 前記第3のアームの前記第2の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第2の回動子と、 前記第1の回動子と前記第2の回動子とを連結する第1
の連結部材と、 前記第2のアームの前記第2の回動軸に固定された第3
の回動子と、 基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前記第
3の回動軸を軸受けする不動子と、 前記第3の回動子と前記不動子とを連結する第2の連結
部材と、を少なくとも備え、 前記第1の回動子の径は前記第2の回動子の径の2倍と
され、 前記第3の回動子の径は前記不動子の径の半分とされた
ことを特徴とする基板搬送装置。3. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the arm connection body has a first arm as a substrate mounting arm that is connected to the most tip, and a base end of the first arm. A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the second portion, and a base end of the second arm that is supported around the third rotation shaft and the second arm. A third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the first rotation shaft between the first rotation shaft and the second rotation shaft. Is set to be equal to the distance between the second rotation shaft and the third rotation shaft, and the power transmission means is fixed to the first rotation shaft of the first arm. First done
Rotator, an annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, the first rotator and the second rotation. 1st connecting child
And a third member fixed to the second rotation shaft of the second arm.
Rotator, a stationary element that is non-rotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotational axis, and connects the third rotational element and the stationary element. And a second connecting member, wherein the diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is the same as that of the stationary element. A substrate transfer device characterized by being half the diameter.
て、前記基板載置アームに、基板を位置決めするための
位置決め手段が設けられたことを特徴とする基板搬送装
置。4. The substrate transfer apparatus according to claim 1, wherein the substrate mounting arm is provided with positioning means for positioning the substrate.
理ユニットとの間に介在される中間受渡し装置であっ
て、 前記中間受渡し装置の前記第2の基板処理ユニットに対
する境界に配置されて当該第2の基板処理ユニット内の
所定の基板受渡し部に対して基板を進退させて受け渡す
基板搬送装置を含み、 前記基板搬送装置は、 最も先端に配された基板載置アームを含んで3個以上の
奇数個のアームが連結されてなるアーム連結体と、 前記アーム連結体の基端部を回動制御する回動手段と、 前記回動手段の回動力を伝達して、前記アーム連結体の
前記基板載置アームを、前記所定の基板受渡し部に対峙
する姿勢を維持しながら直線状に進退させる動力伝達手
段と、を備えることを特徴とする中間受渡し装置。5. An intermediate transfer device interposed between a first substrate processing unit and a second substrate processing unit, the intermediate transfer device being disposed at a boundary of the intermediate transfer device with respect to the second substrate processing unit. The second substrate processing unit includes a substrate transfer device that advances and retracts a substrate to and from a predetermined substrate transfer unit, and the substrate transfer device includes a substrate mounting arm arranged at the most tip end. An arm connection body in which an odd number of arms or more is connected, rotation means for controlling rotation of a base end portion of the arm connection body, and rotational force of the rotation means is transmitted to the arm connection body. An intermediate transfer device comprising: a power transmission unit that linearly advances and retracts the substrate mounting arm of the body while maintaining an attitude facing the predetermined substrate transfer unit.
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第1のア
ームと、 前記第1のアームの基端部を第1の回動軸を中心に回動
自在に支持する第2のアームと、 その基端部が第3の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第2のアームの基端部を第2の回動軸を中心に回動
自在に支持する第3のアームと、を少なくとも備え、 前記第1の回動軸と前記第2の回動軸間の距離と、前記
第2の回動軸と前記第3の回動軸間の距離とが同一に設
定されたことを特徴とする中間受渡し装置。6. The intermediate transfer device according to claim 5, wherein the arm coupling body has a first arm as a substrate mounting arm that is coupled to the most distal end, and a base end of the first arm. A second arm for rotatably supporting the portion around a first rotation axis, and a base end portion thereof supported around a third rotation axis and a base end portion of the second arm. A third arm that rotatably supports the second rotation shaft as a center, and a distance between the first rotation shaft and the second rotation shaft, and a second arm. An intermediate delivery device, wherein the rotation axis and the distance between the third rotation axis are set to be the same.
て、 前記アーム連結体は、 最も先端に連結された基板載置アームとしての第1のア
ームと、 前記第1のアームの基端部に固定された第1の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第2のアームと、 その基端部が第3の回動軸を中心に支持されるとともに
前記第2のアームの基端部に固定された第2の回動軸を
軸受けして回動自在に支持する第3のアームと、を少な
くとも備え、 前記第1の回動軸と前記第2の回動軸間の距離と、前記
第2の回動軸と前記第3の回動軸間の距離とが同一に設
定され、 前記動力伝達手段は、 前記第1のアームの前記第1の回動軸に固定された第1
の回動子と、 前記第3のアームの前記第2の回動軸の軸受け部に固定
された環状の第2の回動子と、 前記第1の回動子と前記第2の回動子とを連結する第1
の連結部材と、 前記第2のアームの前記第2の回動軸に固定された第3
の回動子と、 基板搬送装置の本体に対して回動不可能とされて前記第
3の回動軸を軸受けする不動子と、 前記第3の回動子と前記不動子とを連結する第2の連結
部材と、を少なくとも備え、 前記第1の回動子の径は前記第2の回動子の径の2倍と
され、 前記第3の回動子の径は前記不動子の径の半分とされた
ことを特徴とする中間受渡し装置。7. The intermediate transfer device according to claim 5, wherein the arm connection body has a first arm as a substrate mounting arm connected to the most distal end, and a base end of the first arm. A second arm that rotatably supports a first rotation shaft fixed to the second portion, and a base end of the second arm that is supported around the third rotation shaft and the second arm. A third arm that rotatably supports a second rotation shaft fixed to a base end portion of the first rotation shaft between the first rotation shaft and the second rotation shaft. Is set to be equal to the distance between the second rotation shaft and the third rotation shaft, and the power transmission means is fixed to the first rotation shaft of the first arm. First done
Rotator, an annular second rotator fixed to a bearing portion of the second rotation shaft of the third arm, the first rotator and the second rotation. 1st connecting child
And a third member fixed to the second rotation shaft of the second arm.
Rotator, a stationary element that is non-rotatable with respect to the main body of the substrate transfer device and bears the third rotational axis, and connects the third rotational element and the stationary element. And a second connecting member, wherein the diameter of the first rotator is twice the diameter of the second rotator, and the diameter of the third rotator is the same as that of the stationary element. An intermediate delivery device characterized by being half the diameter.
の中間受渡し装置であって、前記第2の基板処理ユニッ
トが露光装置であることを特徴とする中間受渡し装置。8. The intermediate transfer device according to claim 5, wherein the second substrate processing unit is an exposure device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33528095A JPH09181142A (en) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | Substrate conveying equipment and intermediate delivering equipment |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33528095A JPH09181142A (en) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | Substrate conveying equipment and intermediate delivering equipment |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09181142A true JPH09181142A (en) | 1997-07-11 |
Family
ID=18286756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33528095A Pending JPH09181142A (en) | 1995-12-22 | 1995-12-22 | Substrate conveying equipment and intermediate delivering equipment |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09181142A (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11145246A (en) * | 1997-11-14 | 1999-05-28 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | Wafer processor |
WO2000042650A1 (en) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Tokyo Electron Limited | Vacuum treatment device |
KR100429435B1 (en) * | 1997-07-30 | 2004-07-07 | 동경 엘렉트론 주식회사 | Substrate transferring apparatus and substrate processing apparatus using the same |
JP2007221021A (en) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Seiko Instruments Inc | Transferring equipment |
KR100786232B1 (en) * | 2006-05-11 | 2007-12-17 | 두산메카텍 주식회사 | Deposition Source for Organic Material |
-
1995
- 1995-12-22 JP JP33528095A patent/JPH09181142A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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WO2000042650A1 (en) * | 1999-01-12 | 2000-07-20 | Tokyo Electron Limited | Vacuum treatment device |
US6746196B1 (en) | 1999-01-12 | 2004-06-08 | Tokyo Electron Limited | Vacuum treatment device |
JP2007221021A (en) * | 2006-02-20 | 2007-08-30 | Seiko Instruments Inc | Transferring equipment |
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