JPH09180974A - エアフィルタを備えた基板処理装置 - Google Patents
エアフィルタを備えた基板処理装置Info
- Publication number
- JPH09180974A JPH09180974A JP7351770A JP35177095A JPH09180974A JP H09180974 A JPH09180974 A JP H09180974A JP 7351770 A JP7351770 A JP 7351770A JP 35177095 A JP35177095 A JP 35177095A JP H09180974 A JPH09180974 A JP H09180974A
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- filter
- substrate processing
- fan
- processing apparatus
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機成分による基板処理装置の汚染を防止す
る。 【解決手段】 本発明による基板処理装置は、基板の処
理を行なう基板処理部と、基板処理部の上部空間を覆う
ように配設され、前記基板処理部に対して下向きにクリ
ーンエアーを供給するクリーンベンチ２６と、前記クリ
ーンベンチを通るエアーを駆動するファン３４と、前記
ファンよりも下流側の位置に設けられた有機物質除去用
フィルタ３６と、を備える。また、ファン３４よりも上
流側の位置にアルカリ成分除去用またはパーティクル除
去用のフィルタ３６を備えている。
る。 【解決手段】 本発明による基板処理装置は、基板の処
理を行なう基板処理部と、基板処理部の上部空間を覆う
ように配設され、前記基板処理部に対して下向きにクリ
ーンエアーを供給するクリーンベンチ２６と、前記クリ
ーンベンチを通るエアーを駆動するファン３４と、前記
ファンよりも下流側の位置に設けられた有機物質除去用
フィルタ３６と、を備える。また、ファン３４よりも上
流側の位置にアルカリ成分除去用またはパーティクル除
去用のフィルタ３６を備えている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウェハや
液晶表示基板などの基板を処理する基板処理装置に関
し、特に、エアフィルタを備えた基板処理装置に関す
る。
液晶表示基板などの基板を処理する基板処理装置に関
し、特に、エアフィルタを備えた基板処理装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体ウェハや液晶表示基板などの基板
を処理する基板処理装置では、その処理環境を清浄に保
つことが要求される。このために、基板処理装置は、い
わゆるクリーンルーム内に設けられるが、環境の清浄度
をさらに向上させたい場合がある。このような場合に
は、基板処理装置の本体の上部に、クリーンエアー（清
浄空気）を下方に吹き出すためのクリーンベンチが設け
られる。
を処理する基板処理装置では、その処理環境を清浄に保
つことが要求される。このために、基板処理装置は、い
わゆるクリーンルーム内に設けられるが、環境の清浄度
をさらに向上させたい場合がある。このような場合に
は、基板処理装置の本体の上部に、クリーンエアー（清
浄空気）を下方に吹き出すためのクリーンベンチが設け
られる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】クリーンベンチでは、
クリーンエアーを吹き出すためのファンが用いられてい
る。このファンには潤滑油が使用されており、潤滑油に
は有機成分が含まれているので、クリーンベンチから基
板処理装置内に供給されるクリーンエアーにも有機成分
が混入する。このため、従来は、基板処理装置内の搬送
路や各処理ユニットに有機成分が流れ込み、基板を汚染
する可能性があるという問題があった。
クリーンエアーを吹き出すためのファンが用いられてい
る。このファンには潤滑油が使用されており、潤滑油に
は有機成分が含まれているので、クリーンベンチから基
板処理装置内に供給されるクリーンエアーにも有機成分
が混入する。このため、従来は、基板処理装置内の搬送
路や各処理ユニットに有機成分が流れ込み、基板を汚染
する可能性があるという問題があった。
【０００４】この発明は、従来技術における上述の課題
を解決するためになされたものであり、有機成分による
基板処理装置の汚染を防止することを目的とする。
を解決するためになされたものであり、有機成分による
基板処理装置の汚染を防止することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段およびその作用・効果】上
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明
は、基板処理装置であって、基板の処理を行なう基板処
理部と、基板処理部の上部空間を覆うように配設され、
前記基板処理部に対して下向きにクリーンエアーを供給
するクリーンベンチと、前記クリーンベンチを通るエア
ーを駆動するファンと、前記ファンよりも下流側の位置
に設けられた有機物質除去用フィルタと、を備えること
を特徴とする。
述の課題の少なくとも一部を解決するため、第１の発明
は、基板処理装置であって、基板の処理を行なう基板処
理部と、基板処理部の上部空間を覆うように配設され、
前記基板処理部に対して下向きにクリーンエアーを供給
するクリーンベンチと、前記クリーンベンチを通るエア
ーを駆動するファンと、前記ファンよりも下流側の位置
に設けられた有機物質除去用フィルタと、を備えること
を特徴とする。
【０００６】ファンの下流側に有機物質除去用フィルタ
を設けたので、ファンから発生した有機物質が除去され
たよりクリーンなエアを基板処理部に供給することがで
きる。従って、有機成分による基板処理装置の汚染を防
止することができる。
を設けたので、ファンから発生した有機物質が除去され
たよりクリーンなエアを基板処理部に供給することがで
きる。従って、有機成分による基板処理装置の汚染を防
止することができる。
【０００７】前記有機物質除去用フィルタは活性炭を含
むことが好ましい。活性炭をフィルタエレメントとして
用いれば、有機物質を効率良く除去するフィルタを比較
的安価に構成できる。
むことが好ましい。活性炭をフィルタエレメントとして
用いれば、有機物質を効率良く除去するフィルタを比較
的安価に構成できる。
【０００８】また、基板処理装置は、さらに、前記ファ
ンよりも上流側の位置にアルカリ成分除去用の第２のフ
ィルタを備えることが好ましい。こうすれば、有機成分
のみでなく、アルカリ成分も除去することができるの
で、清浄度をさらに向上させることができる。
ンよりも上流側の位置にアルカリ成分除去用の第２のフ
ィルタを備えることが好ましい。こうすれば、有機成分
のみでなく、アルカリ成分も除去することができるの
で、清浄度をさらに向上させることができる。
【０００９】あるいは、基板処理装置は、さらに、前記
ファンよりも上流側の位置にパーティクル除去用の第２
のフィルタを備えることが好ましい。こうすれば、有機
成分のみでなく、パーティクル（微小物質）も除去する
ことができるので、清浄度をさらに向上させることがで
きる。
ファンよりも上流側の位置にパーティクル除去用の第２
のフィルタを備えることが好ましい。こうすれば、有機
成分のみでなく、パーティクル（微小物質）も除去する
ことができるので、清浄度をさらに向上させることがで
きる。
【００１０】なお、前記第２のフィルタは、前記基板処
理装置の運転中に交換可能なフィルタエレメントを有す
ることが好ましい。基板処理装置の運転を継続しながら
第２のフィルタのフィルタエレメントを交換するように
すれば、基板処理装置のスループットを向上させること
ができる。
理装置の運転中に交換可能なフィルタエレメントを有す
ることが好ましい。基板処理装置の運転を継続しながら
第２のフィルタのフィルタエレメントを交換するように
すれば、基板処理装置のスループットを向上させること
ができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態を実施
例に基づき説明する。図１は、本発明の一実施例として
の基板処理装置の概略平面図であり、図２は、その概略
正面図である。但し、図１においては、クリーンベンチ
を取り外した状態を示している。
例に基づき説明する。図１は、本発明の一実施例として
の基板処理装置の概略平面図であり、図２は、その概略
正面図である。但し、図１においては、クリーンベンチ
を取り外した状態を示している。
【００１２】この基板処理装置１０は、インデクサ１２
と、スピンコータ１８と、スピンデベロッパ２０と、ホ
ットプレート２２と、クーリングプレート２４と、搬送
装置２５とを備えている。インデクサ１２は、複数の基
板を収納したカセットを載置するステージを有してお
り、図示しない移載装置を用いてカセットから基板を取
出したり、処理済み基板をカセット内に収納したりする
機能を有する。ホットプレート２２及びクーリングプレ
ート２４は、基板を所定の温度で加熱・冷却する処理ユ
ニットであり、それぞれ複数が上下方向に積み重ねて設
けられている。なお、図１に示す基板処理装置１０の構
成（すなわち、インデクサ１２と処理ユニット１８，２
０，２２，２４で構成される部分）を、以下では「基板
処理部」と呼ぶ。
と、スピンコータ１８と、スピンデベロッパ２０と、ホ
ットプレート２２と、クーリングプレート２４と、搬送
装置２５とを備えている。インデクサ１２は、複数の基
板を収納したカセットを載置するステージを有してお
り、図示しない移載装置を用いてカセットから基板を取
出したり、処理済み基板をカセット内に収納したりする
機能を有する。ホットプレート２２及びクーリングプレ
ート２４は、基板を所定の温度で加熱・冷却する処理ユ
ニットであり、それぞれ複数が上下方向に積み重ねて設
けられている。なお、図１に示す基板処理装置１０の構
成（すなわち、インデクサ１２と処理ユニット１８，２
０，２２，２４で構成される部分）を、以下では「基板
処理部」と呼ぶ。
【００１３】図２に示すように、この基板処理装置１０
には、基板処理部の上方空間を覆うようにクリーンベン
チ２６が配設されている。クリーンベンチ２６は、基板
処理部の上面に固着された支柱３０によって支持されて
いる。クリーンベンチ２６からは、基板処理装置１０内
の搬送路や各処理ユニットに対して下向きにクリーンエ
アー（清浄空気）が吹き出され、その環境が清浄にかつ
一定の状態に保たれるようになっている。
には、基板処理部の上方空間を覆うようにクリーンベン
チ２６が配設されている。クリーンベンチ２６は、基板
処理部の上面に固着された支柱３０によって支持されて
いる。クリーンベンチ２６からは、基板処理装置１０内
の搬送路や各処理ユニットに対して下向きにクリーンエ
アー（清浄空気）が吹き出され、その環境が清浄にかつ
一定の状態に保たれるようになっている。
【００１４】図３は、クリーンベンチ２６の構成を示す
概念図である。クリーンベンチ２６は、支柱３０の上に
設けられた空洞のチェンバー部３２を有している。チェ
ンバー部３２の内部には、クリーンエアーを下方に吹き
出すためのファン３４が設けられており、ファン３４の
下流側にあるエアー吹出口には２次フィルタ３６が設置
されている。また、クリーンベンチ２６の上部側面にあ
るエアー吸込口には１次フィルタ３８が設置されてい
る。なお、ファン３４は電動でもよく、他の駆動方式に
よって駆動されるものでもよい。
概念図である。クリーンベンチ２６は、支柱３０の上に
設けられた空洞のチェンバー部３２を有している。チェ
ンバー部３２の内部には、クリーンエアーを下方に吹き
出すためのファン３４が設けられており、ファン３４の
下流側にあるエアー吹出口には２次フィルタ３６が設置
されている。また、クリーンベンチ２６の上部側面にあ
るエアー吸込口には１次フィルタ３８が設置されてい
る。なお、ファン３４は電動でもよく、他の駆動方式に
よって駆動されるものでもよい。
【００１５】ファン３４が回転すると、外部のエアーが
１次フィルタ３８を通ってチェンバー部３２内に取り入
れられ、さらに、２次フィルタ３６を通過して下方の基
板処理部に供給される。チェンバー部３２内には、さら
に、１次フィルタ３８とファン３４の間の位置に第１の
センサ４０が設けられている。また、２次フィルタ３６
の下流側の位置には、第２のセンサ４２が支柱３０に取
付けられている。２つのセンサ４０，４２は、クリーン
エアー内の成分を分析するためのセンサであり、特に、
アンモニア濃度や有機成分濃度等を測定するようなセン
サが用いられる。
１次フィルタ３８を通ってチェンバー部３２内に取り入
れられ、さらに、２次フィルタ３６を通過して下方の基
板処理部に供給される。チェンバー部３２内には、さら
に、１次フィルタ３８とファン３４の間の位置に第１の
センサ４０が設けられている。また、２次フィルタ３６
の下流側の位置には、第２のセンサ４２が支柱３０に取
付けられている。２つのセンサ４０，４２は、クリーン
エアー内の成分を分析するためのセンサであり、特に、
アンモニア濃度や有機成分濃度等を測定するようなセン
サが用いられる。
【００１６】１次フィルタ３８としては、アンモニア等
のアルカリ成分を除去するためのフィルタエレメントを
含むことが好ましい。このようなフィルタエレメントと
しては、例えばイオン交換膜や活性炭を使用することが
できる。イオン交換膜は、薄いので設置や交換の作業が
比較的容易であるが、その反面、比較的高価である。一
方、活性炭は、比較的安価であるが、かなり大量に使用
しなければならないので設置や交換の作業に比較的手間
がかかる。
のアルカリ成分を除去するためのフィルタエレメントを
含むことが好ましい。このようなフィルタエレメントと
しては、例えばイオン交換膜や活性炭を使用することが
できる。イオン交換膜は、薄いので設置や交換の作業が
比較的容易であるが、その反面、比較的高価である。一
方、活性炭は、比較的安価であるが、かなり大量に使用
しなければならないので設置や交換の作業に比較的手間
がかかる。
【００１７】１次フィルタ３８のフィルタエレメントと
しては、パーティクル（微小物質）を除去するためのフ
ィルタエレメントを使用してもよい。もちろん、１次フ
ィルタ３８に、アンモニア等のアルカリ成分を除去する
ためのフィルタエレメントと、パーティクルを除去する
ためのフィルタエレメントの両方を備えるようにしても
よい。
しては、パーティクル（微小物質）を除去するためのフ
ィルタエレメントを使用してもよい。もちろん、１次フ
ィルタ３８に、アンモニア等のアルカリ成分を除去する
ためのフィルタエレメントと、パーティクルを除去する
ためのフィルタエレメントの両方を備えるようにしても
よい。
【００１８】２次フィルタ３６は、ファン３４から発生
する油などの有機物質を除去するためのフィルタエレメ
ントを含んでいる。このようなフィルタエレメントとし
ては活性炭を使用することができる。２次フィルタ３６
は、ファンから発生する有機物質を除去するので、有機
物質が基板処理部内の搬送路や各処理ユニットに流れ込
んで基板を汚染することを防止することができる。
する油などの有機物質を除去するためのフィルタエレメ
ントを含んでいる。このようなフィルタエレメントとし
ては活性炭を使用することができる。２次フィルタ３６
は、ファンから発生する有機物質を除去するので、有機
物質が基板処理部内の搬送路や各処理ユニットに流れ込
んで基板を汚染することを防止することができる。
【００１９】なお、２次フィルタ３６のフィルタエレメ
ントとして活性炭を使用すれば、１次フィルタ３８と２
次フィルタ３６の両方でアンモニア等のアルカリ成分を
除去することができる。この結果、基板処理部内に供給
されるクリーンエアー内のアルカリ成分の濃度を極めて
低くすることができる。
ントとして活性炭を使用すれば、１次フィルタ３８と２
次フィルタ３６の両方でアンモニア等のアルカリ成分を
除去することができる。この結果、基板処理部内に供給
されるクリーンエアー内のアルカリ成分の濃度を極めて
低くすることができる。
【００２０】第１のセンサ４０において検出されたアル
カリ成分（または有機成分）の濃度が所定の許容値に達
すると、その旨が基板処理装置１０の図示しない表示パ
ネルに表示されるとともに警報が発生する。作業者は、
この警報に応じて１次フィルタ３８を交換する。１次フ
ィルタ３８は、クリーンベンチ２６の外部側から交換可
能に設けられているので、基板処理装置１０における基
板の処理を中断せずに１次フィルタ３８のフィルタエレ
メントを交換することができる。このためには、１次フ
ィルタ３８のフィルタエレメントをカセット交換式の形
状にしておくことが好ましい。こうすれば、新旧のカセ
ットを交換するだけで容易にフィルタエレメントを交換
することができる。
カリ成分（または有機成分）の濃度が所定の許容値に達
すると、その旨が基板処理装置１０の図示しない表示パ
ネルに表示されるとともに警報が発生する。作業者は、
この警報に応じて１次フィルタ３８を交換する。１次フ
ィルタ３８は、クリーンベンチ２６の外部側から交換可
能に設けられているので、基板処理装置１０における基
板の処理を中断せずに１次フィルタ３８のフィルタエレ
メントを交換することができる。このためには、１次フ
ィルタ３８のフィルタエレメントをカセット交換式の形
状にしておくことが好ましい。こうすれば、新旧のカセ
ットを交換するだけで容易にフィルタエレメントを交換
することができる。
【００２１】１次フィルタ３８と２次フィルタ３６に、
どちらも活性炭のフィルタエレメントを使用するように
すれば、１次フィルタ３８のフィルタエレメントの交換
の間においても、２次フィルタ３６のみで十分なフィル
タ効果を得ることができるという利点がある。
どちらも活性炭のフィルタエレメントを使用するように
すれば、１次フィルタ３８のフィルタエレメントの交換
の間においても、２次フィルタ３６のみで十分なフィル
タ効果を得ることができるという利点がある。
【００２２】第２のセンサ４２において検出された有機
成分の濃度が所定の許容値に達すると、その旨の警報が
発生され、作業者が２次フィルタ３６を交換する。この
場合には、基板処理装置１０における基板の処理は中断
される。
成分の濃度が所定の許容値に達すると、その旨の警報が
発生され、作業者が２次フィルタ３６を交換する。この
場合には、基板処理装置１０における基板の処理は中断
される。
【００２３】図４は、他の実施例としてのクリーンベン
チ２６ａの構成を示す概念図である。このクリーンベン
チ２６ａは、ファン５０を有する送風器５２と、送風器
５２とチェンバー部３２とを接続するダクト５４とを備
えている。１次フィルタ３８は、送風器５２のファン５
０の上流側に設けられている。図４のように、ファン５
０で送り出されたクリーンエアーをダクト５４を経由し
てクリーンベンチ２６ａのチェンバー部３２に供給する
ようにすれば、ファン５０とその上流側に設けられた１
次フィルタ３８とを、これらの保守作業がしやすい位置
に設置することができる。特に、１次フィルタ３８のフ
ィルタエレメントを容易に交換できる位置に設置できる
という利点がある。
チ２６ａの構成を示す概念図である。このクリーンベン
チ２６ａは、ファン５０を有する送風器５２と、送風器
５２とチェンバー部３２とを接続するダクト５４とを備
えている。１次フィルタ３８は、送風器５２のファン５
０の上流側に設けられている。図４のように、ファン５
０で送り出されたクリーンエアーをダクト５４を経由し
てクリーンベンチ２６ａのチェンバー部３２に供給する
ようにすれば、ファン５０とその上流側に設けられた１
次フィルタ３８とを、これらの保守作業がしやすい位置
に設置することができる。特に、１次フィルタ３８のフ
ィルタエレメントを容易に交換できる位置に設置できる
という利点がある。
【００２４】このように、上記実施例では、ファン３
４，５０の下流側に有機成分除去用の２次フィルタ３６
を設けたので、ファンから発生する有機成分を除去し
た、よりクリーンな空気を基板処理装置１０に供給する
ことができる。また、１次フィルタ３８と２次フィルタ
３６で構成されたのフィルタを設け、１次フィルタ３８
をクリーンベンチ２６の外部側から交換可能な位置に設
けたので、基板処理装置１０の運転を継続したままで１
次フィルタ３８のフィルタエレメントを交換することが
できる。
４，５０の下流側に有機成分除去用の２次フィルタ３６
を設けたので、ファンから発生する有機成分を除去し
た、よりクリーンな空気を基板処理装置１０に供給する
ことができる。また、１次フィルタ３８と２次フィルタ
３６で構成されたのフィルタを設け、１次フィルタ３８
をクリーンベンチ２６の外部側から交換可能な位置に設
けたので、基板処理装置１０の運転を継続したままで１
次フィルタ３８のフィルタエレメントを交換することが
できる。
【００２５】なお、この発明は上記の実施例や実施形態
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能である。
に限られるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲に
おいて種々の態様において実施することが可能である。
【図１】本発明の一実施例としての基板処理装置の概略
平面図。
平面図。
【図２】本発明の一実施例としての基板処理装置の概略
正面図。
正面図。
【図３】クリーンベンチの構成を示す概念図。
【図４】クリーンベンチの他の構成を示す概念図。
１０…基板処理装置 １２…インデクサ １８…スピンコータ ２０…スピンデベロッパ ２２…ホットプレート ２４…クーリングプレート ２５…搬送装置 ２６，２６ａ…クリーンベンチ ３０…支柱 ３２…チェンバー部 ３４…ファン ３６…１次フィルタ（第２のフィルタ） ３８…２次フィルタ（有機成分除去用フィルタ） ４０，４２…センサ ５０…ファン ５２…送風器 ５４…ダクト
Claims (5)
- 【請求項１】 基板の処理を行なう基板処理部と、 基板処理部の上部空間を覆うように配設され、前記基板
処理部に対して下向きにクリーンエアーを供給するクリ
ーンベンチと、 前記クリーンベンチを通るエアーを駆動するファンと、 前記ファンよりも下流側の位置に設けられた有機物質除
去用フィルタと、を備えることを特徴とする基板処理装
置。 - 【請求項２】 請求項１記載の基板処理装置であって、 前記有機物質除去用フィルタは活性炭を含む、基板処理
装置。 - 【請求項３】 請求項１記載の基板処理装置であって、
さらに、 前記ファンよりも上流側の位置にアルカリ成分除去用の
第２のフィルタを備える、基板処理装置。 - 【請求項４】 請求項１記載の基板処理装置であって、
さらに、 前記ファンよりも上流側の位置にパーティクル除去用の
第２のフィルタを備える、基板処理装置。 - 【請求項５】 請求項３または４記載の基板処理装置で
あって、 前記第２のフィルタは、前記基板処理装置の運転中に交
換可能なフィルタエレメントを有する、基板処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35177095A JP3688784B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | エアフィルタを備えた基板処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35177095A JP3688784B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | エアフィルタを備えた基板処理装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09180974A true JPH09180974A (ja) | 1997-07-11 |
| JP3688784B2 JP3688784B2 (ja) | 2005-08-31 |
Family
ID=18419496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35177095A Expired - Fee Related JP3688784B2 (ja) | 1995-12-26 | 1995-12-26 | エアフィルタを備えた基板処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3688784B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007064619A (ja) * | 2006-09-21 | 2007-03-15 | Oki Electric Ind Co Ltd | 半導体素子製造装置 |
| KR100802299B1 (ko) * | 2003-12-26 | 2008-02-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 메가소닉 배스 내 암모니아 흄 제거장치 |
| KR100812091B1 (ko) * | 2003-12-30 | 2008-03-07 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 화학기계적 연마장비의 배기장치 |
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