JPH09171769A - Method of forming septum of plasma display panel - Google Patents
Method of forming septum of plasma display panelInfo
- Publication number
- JPH09171769A JPH09171769A JP7331722A JP33172295A JPH09171769A JP H09171769 A JPH09171769 A JP H09171769A JP 7331722 A JP7331722 A JP 7331722A JP 33172295 A JP33172295 A JP 33172295A JP H09171769 A JPH09171769 A JP H09171769A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass
- metal film
- display panel
- plasma display
- metallic film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Landscapes
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明はプラズマディスプレ
ーパネルの隔壁形成方法に係り、特に、プラズマディス
プレーパネルの基板に隔壁を形成するに当り、電着法を
採用することにより容易且つ高精度に隔壁を形成する方
法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of forming barrier ribs of a plasma display panel, and more particularly, to forming barrier ribs on a substrate of a plasma display panel by employing an electrodeposition method so that the barrier ribs can be easily and accurately formed. It relates to a method of forming.
【０００２】[0002]
【従来の技術】プラズマディスプレー(plasma display)
は、気体放電を利用した画像表示装置であって、通常、
多数の微小な放電セルを縦横（マトリクス状）に配列
し、必要な部分のセルを放電発光させて文字や図形を表
示する。この平面表示パネルはプラズマディスプレーパ
ネル (plasma display panel, ＰＤＰ）と称される。プ
ラズマディスプレーパネルは、構造が簡単で大形化が容
易である；メモリ機能を有する；カラー化が可能であ
る；などの様々な利点を有することから、テレビなどで
用いられているブラウン管よりもはるかに大きく且つ奥
行きが小さいＰＤＰの開発研究が進められている。2. Description of the Related Art Plasma display
Is an image display device using gas discharge, and usually,
A large number of minute discharge cells are arranged vertically and horizontally (in a matrix), and a required portion of cells is discharged to emit light to display characters and figures. This flat display panel is called a plasma display panel (plasma display panel, PDP). The plasma display panel has various advantages such as simple structure and easy enlargement; has a memory function; can be colored; and is much more than a CRT used in a television or the like. Research and development of a large and small depth PDP is being pursued.
【０００３】図３はプラズマディスプレーパネルの一般
的な構造を示す分解斜視図、図４は図３の両ガラス基板
を組み立てたときのIV部の詳細を示す断面の拡大図であ
る。図中、１は表面ガラス基板であり、表示電極２、誘
電体層３及びＭｇＯ（酸化マグネシウム）等の保護膜４
が設けられている。５は背面ガラス基板であり、隔壁６
が所定間隔で形成されている。この表面ガラス基板１、
背面ガラス基板５及び隔壁６，６で区画形成される微細
空間（放電セル）内に、アドレス用電極７及び蛍光体８
が形成され、放電ガス９が注入されている。FIG. 3 is an exploded perspective view showing a general structure of a plasma display panel, and FIG. 4 is an enlarged cross-sectional view showing details of an IV portion when both glass substrates of FIG. 3 are assembled. In the figure, 1 is a surface glass substrate, and a display electrode 2, a dielectric layer 3 and a protective film 4 such as MgO (magnesium oxide).
Is provided. 5 is a rear glass substrate, and a partition wall 6
Are formed at predetermined intervals. This surface glass substrate 1,
In the fine space (discharge cell) defined by the rear glass substrate 5 and the partitions 6 and 6, the address electrode 7 and the phosphor 8 are provided.
Is formed and the discharge gas 9 is injected.
【０００４】このようなプラズマディスプレーパネルで
は、電極２，７間に電圧を印加して隔壁６，６間に形成
された放電セル内の蛍光体８を選択的に放電発光させる
ことで、文字や図形を表示する。In such a plasma display panel, a voltage is applied between the electrodes 2 and 7 to selectively cause the phosphor 8 in the discharge cell formed between the barrier ribs 6 and 6 to discharge and emit light. Display a figure.
【０００５】このプラズマディスプレーパネルの製造に
おいては、選択的放電発光が行える独立性に優れた放電
セルを形成し得る、比較的高さの高い隔壁を精度良く形
成することが、得られるプラズマディスプレーパネルの
表示特性上、極めて重要となる。In the production of this plasma display panel, it is possible to accurately form relatively high barrier ribs capable of forming highly independent discharge cells capable of selective discharge light emission. It is extremely important in terms of display characteristics.
【０００６】従来、プラズマディスプレーパネルの隔壁
は、ガラス基板上に、アドレス用の電極を所定のパター
ンで形成した後、セラミック又はガラスからなる無機ペ
ーストをスクリーン印刷法により付着させた後焼成する
ことにより、約７０μｍの幅で、１００〜１５０μｍの
高さに形成されている。Conventionally, a partition wall of a plasma display panel is formed by forming an address electrode in a predetermined pattern on a glass substrate, depositing an inorganic paste made of ceramic or glass by a screen printing method, and then firing the paste. The width is about 70 μm and the height is 100 to 150 μm.
【０００７】[0007]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、スクリ
ーン印刷法では、１００μｍ以上の高さを必要とする隔
壁の形成には、数十回に及ぶ印刷と焼成を繰り返し行わ
なければ、所望の高さのものを精度良く形成することが
できず、製造効率が悪い上に、スクリーン印刷版の加工
精度の限界等のために、形成される隔壁の位置精度や高
さ精度が悪いという欠点がある。However, in the screen printing method, in order to form the partition wall which requires a height of 100 μm or more, if the printing and firing are repeated dozens of times, the desired height is obtained. However, there is a drawback in that the partition cannot be formed with high accuracy, the manufacturing efficiency is poor, and the positional accuracy and height accuracy of the partition wall to be formed are poor due to the limitation of the processing accuracy of the screen printing plate.
【０００８】本発明は上記従来の問題点を解決し、プラ
ズマディスプレーパネルの隔壁を容易かつ高精度に形成
する方法を提供することを目的とする。It is an object of the present invention to solve the above-mentioned conventional problems and to provide a method for easily and highly accurately forming partition walls of a plasma display panel.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明のプラズマディス
プレーパネルの隔壁形成方法は、プラズマディスプレー
パネルのガラス基板上に放電セル形成のための隔壁を形
成する方法において、該ガラス基板上の隔壁形成予定部
に金属膜を形成した後、該金属膜と対向電極とをガラス
粉末のスラリーを介して配置し、該金属膜と対向電極と
の間に直流電圧を印加して、該金属膜上にガラス層を電
着し、その後焼成して隔壁を形成することを特徴とす
る。According to a method of forming barrier ribs of a plasma display panel of the present invention, a method of forming barrier ribs for forming discharge cells on a glass substrate of a plasma display panel is planned. After forming a metal film on the metal part, the metal film and the counter electrode are arranged via a slurry of glass powder, and a DC voltage is applied between the metal film and the counter electrode to form a glass film on the metal film. It is characterized in that the layers are electrodeposited and then fired to form partition walls.
【００１０】本発明に従って、電着法で隔壁を形成する
ことにより、高効率で、位置精度や高さ精度良く隔壁を
形成することができる。By forming the partition wall by the electrodeposition method according to the present invention, the partition wall can be formed with high efficiency and with high positional accuracy and high height accuracy.
【００１１】[0011]
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明を詳
細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail with reference to the drawings.
【００１２】図１は本発明のプラズマディスプレーパネ
ルの隔壁形成方法の一実施例方法を示す断面図である。FIG. 1 is a sectional view showing a method of forming a partition wall of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
【００１３】本発明においては、まず、プラズマディス
プレーパネルのガラス基板（背面ガラス基板）１１上の
隔壁形成予定部に金属膜を形成する。この金属膜の形成
方法としては、例えば、図１（ａ）の如く、ガラス基板
１１の金属膜非形成部に成膜防止層としてのレジスト膜
１２を所定パターンに形成した後、図１（ｂ），（ｃ）
の如く、このレジスト膜１２非形成面に金属膜１３を形
成する方法が好適である。レジスト膜１２を所定パター
ンに形成するには、有機レジストを膜状に付着させた
後、所定パターン通りに露光し、次いで未露光部を除去
する等の通常の方法によれば良い。In the present invention, first, a metal film is formed on the glass substrate (rear glass substrate) 11 of the plasma display panel at the partition wall formation planned portion. As a method of forming this metal film, for example, as shown in FIG. 1A, a resist film 12 as a film formation preventing layer is formed in a predetermined pattern on a portion of the glass substrate 11 where the metal film is not formed, and then, as shown in FIG. ), (C)
As described above, the method of forming the metal film 13 on the surface on which the resist film 12 is not formed is preferable. In order to form the resist film 12 in a predetermined pattern, a usual method may be used, such as depositing an organic resist in a film shape, exposing the resist film 12 in a predetermined pattern, and then removing the unexposed portion.
【００１４】この所定パターンのレジスト膜１２を形成
した基板１１上にスパッタリング、、ＣＶＤ、イオンプ
レーティング、印刷等の各種手法により金属膜を付着さ
せた後、レジスト膜１２を溶剤によって溶解除去するこ
とにより、隔壁形成予定部にのみ金属膜１３が形成され
た基板１１が得られる。After depositing a metal film on the substrate 11 on which the resist film 12 having the predetermined pattern is formed by various methods such as sputtering, CVD, ion plating and printing, the resist film 12 is dissolved and removed by a solvent. As a result, the substrate 11 having the metal film 13 formed only on the partition formation planned portion is obtained.
【００１５】この金属膜１３の金属としては、Ａｇ
（銀），Ａｌ（アルミニウム）等が挙げられ、金属膜１
３の厚さは２００〜２０００Åとりわけ３００〜１００
０Åの範囲とするのが好ましい。この厚さが２００Å未
満ではガラス粉末を均一に付着させにくい。又、２００
０Åよりも厚いと、後工程でこの金属膜を酸化させてガ
ラス中に拡散ないし分散させる際の処理時間が徒に長く
なる。なお、金属膜をＡｇとした場合、酸化反応しない
ため金属膜はそのまま残る。しかし絶縁が取れていれば
問題はない。Ａｇの金属膜を過度に厚くコートすると、
絶縁が取れにくくなるというデメリットが生じる。The metal of the metal film 13 is Ag.
(Silver), Al (aluminum), etc., and the metal film 1
The thickness of 3 is 200 to 2000Å, especially 300 to 100
It is preferably in the range of 0Å. If this thickness is less than 200Å, it is difficult to uniformly attach the glass powder. Also, 200
If it is thicker than 0Å, the processing time for oxidizing and diffusing or dispersing this metal film in the glass in the subsequent step becomes unduly long. When the metal film is made of Ag, the metal film remains as it is because the oxidation reaction does not occur. However, if there is insulation, there is no problem. If the Ag metal film is coated too thickly,
There is a demerit that it becomes difficult to take insulation.
【００１６】このようにしてガラス基板１１上の隔壁形
成予定部に金属膜１３を形成した後は、電着法により、
金属膜１３上にガラスの電着層を堆積させる。After the metal film 13 is formed on the glass substrate 11 at the partition wall formation planned portion in this manner, it is formed by an electrodeposition method.
A glass electrodeposition layer is deposited on the metal film 13.
【００１７】この電着法に用いるガラス粉末としては、
軟化温度が５００℃以下（特に４５０〜４９０℃）のＰ
ｂＯ系ガラスの粉末が好ましい。好適なガラス組成の一
例としては、ＰｂＯ：２０〜８０ｗｔ％，ＳｉＯ2 ：１
０〜２０ｗｔ％，Ｂ2 Ｏ3 ：１０〜３０ｗｔ％が挙げら
れる。The glass powder used in this electrodeposition method is as follows:
P with a softening temperature of 500 ° C or less (particularly 450 to 490 ° C)
A powder of bO glass is preferable. An example of a suitable glass composition, PbO: 20~80wt%, SiO 2 : 1
0~20wt%, B 2 O 3: 10~30wt% can be mentioned.
【００１８】この粉末の平均粒径は１．０〜５．０μｍ
とりわけ２．５〜３．０μｍが好ましい。The average particle size of this powder is 1.0 to 5.0 μm.
Particularly, 2.5 to 3.0 μm is preferable.
【００１９】この粉末を分散させる分散媒としては、Ｉ
ＰＡ（イソプロピルアルコール）に水を２〜４ｖｏｌ％
添加し、更に電着性を向上させる為に酸を添加する事が
好ましい。酸の添加量は０．１〜０．５ｖｏｌ％が好ま
しい。The dispersion medium for dispersing this powder is I
2-4 vol% of water in PA (isopropyl alcohol)
It is preferable to add an acid to further improve the electrodeposition property. The addition amount of the acid is preferably 0.1 to 0.5 vol%.
【００２０】この媒体中にガラス粉末を分散させたスラ
リーの濃度は０．０２〜０．２ｗｔ％が好ましい。The concentration of the slurry in which glass powder is dispersed in this medium is preferably 0.02 to 0.2 wt%.
【００２１】対向電極としては、Ａｌ，ＳＵＳ等が好ま
しいが、Ａｌが最も好ましい。この対向電極は板状であ
ることが好ましい。As the counter electrode, Al, SUS and the like are preferable, but Al is most preferable. This counter electrode is preferably plate-shaped.
【００２２】本発明においては、このようなガラス粉末
のスラリー中に、金属膜１３を形成したガラス基板１１
と、対向電極を、金属膜１３と対向電極とが対向するよ
うに浸漬配置し、金属膜１３と対向電極との間に３００
〜８００Ｖ好ましくは４００〜７００Ｖ程度の直流電圧
（金属膜１３を正とする。）を印加して、金属膜１３上
にガラス粉末の電着層１４を形成する。In the present invention, the glass substrate 11 having the metal film 13 formed in the slurry of such glass powder is used.
And the counter electrode by immersing so that the metal film 13 and the counter electrode face each other.
A DC voltage of about 800 to 800 V, preferably about 400 to 700 V (the metal film 13 is positive) is applied to form an electrodeposition layer 14 of glass powder on the metal film 13.
【００２３】この電着層１４が所望の高さに形成された
後は、ガラス基板を取り出し、乾燥させた後、酸化雰囲
気中で焼成して隔壁を形成する。After the electrodeposition layer 14 is formed to a desired height, the glass substrate is taken out, dried and then fired in an oxidizing atmosphere to form partition walls.
【００２４】本発明において、この焼成は、まず、電着
層のガラスの軟化点よりも１０〜５０℃程度低く且つ金
属膜１３の酸化が進行する温度で焼成し、次いで該ガラ
スの軟化点よりも５０〜７０℃程度高い温度で焼成し
て、金属膜１３の酸化生成物をガラス中に拡散ないし分
散させるのが好ましい。このような２段階の焼成を行う
ことにより、ガラス基板１１に直接的に焼結結合した焼
結ガラスよりなる隔壁を形成することができる。In the present invention, the firing is performed at a temperature 10 to 50 ° C. lower than the softening point of the glass of the electrodeposition layer and at a temperature at which the metal film 13 is oxidized, and then from the softening point of the glass. It is also preferable that the oxidation product of the metal film 13 is diffused or dispersed in the glass by firing at a temperature as high as about 50 to 70 ° C. By performing such two-step firing, it is possible to form a partition wall made of sintered glass that is directly sintered and bonded to the glass substrate 11.
【００２５】また、２段階焼成とすることにより、焼成
収縮を均一化させ、隔壁１５の寸法精度を向上させる効
果も得られる。The two-stage firing also has the effect of making firing shrinkage uniform and improving the dimensional accuracy of the partition walls 15.
【００２６】金属膜１３がＡｌであり、ガラス粉末が軟
化点４５０〜４９０℃のＰｂＯ系ガラス粉末である場
合、第１段階目の焼成条件は、空気中で４００〜４３０
℃，１．０〜５Ｈｒとするのが好ましく、第２段階目の
焼成条件は空気中で５００〜５５０℃，０．５〜２．０
Ｈｒとするのが好ましい。When the metal film 13 is Al and the glass powder is PbO type glass powder having a softening point of 450 to 490 ° C., the firing conditions for the first stage are 400 to 430 in air.
C., preferably 1.0 to 5 hours, and the second stage firing conditions are 500 to 550.degree. C. and 0.5 to 2.0 in air.
It is preferably Hr.
【００２７】なお、焼成時の雰囲気は、金属膜の酸化が
十分に進行する酸化雰囲気とするのが好適であり、通常
は空気雰囲気を用いるのが好ましい。ただし、必要に応
じ酸素富化空気雰囲気としたり、純酸素雰囲気としても
良い。The firing atmosphere is preferably an oxidizing atmosphere in which the metal film is sufficiently oxidized, and it is usually preferable to use an air atmosphere. However, an oxygen-enriched air atmosphere or a pure oxygen atmosphere may be used if necessary.
【００２８】本発明においては、このような方法によ
り、幅６０〜７０μｍ程度で高さ１００〜１５０μｍ程
度の隔壁を、所望の位置に、容易かつ効率的に、高精度
に形成することができる。According to the present invention, a partition wall having a width of about 60 to 70 μm and a height of about 100 to 150 μm can be easily, efficiently and highly accurately formed at a desired position by such a method.
【００２９】[0029]
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明する。The present invention will be described more specifically with reference to the following examples.
【００３０】実施例１ 図１に示す本発明の方法に従って、プラズマディスプレ
ーパネルの隔壁を形成した。Example 1 A partition wall of a plasma display panel was formed according to the method of the present invention shown in FIG.
【００３１】まず、５０ｍｍ×７５ｍｍのガラス（組成
がＳｉＯ2 ：７１〜７３，Ｎａ2 Ｏ：１２〜１４，Ｃａ
Ｏ：１０〜１２，ＭｇＯ：１〜４，Ａｌ2 Ｏ3 ：０．５
〜１なる組成のソーダガラス）基板上に、５０〜７０μ
ｍのライン幅でレジスト膜を形成した後、レジスト膜間
に電着で必要な電極となる金属膜としてＡｌ金属膜をス
パッタリング法により３００〜４００Åの厚さに形成し
た。その後、レジスト膜を溶剤により剥離して十分に洗
浄した。First, 50 mm × 75 mm glass (composition: SiO 2 : 71-73, Na 2 O: 12-14, Ca
O: 10~12, MgO: 1~4, Al 2 O 3: 0.5
On the substrate of soda glass of 1 to 50 ~ 70μ
After forming a resist film with a line width of m, an Al metal film was formed between the resist films as a metal film to be a necessary electrode by electrodeposition with a thickness of 300 to 400 Å by a sputtering method. Thereafter, the resist film was peeled off with a solvent and sufficiently washed.
【００３２】これとは別に、イソプロピルアルコール
（ＩＰＡ）、３０体積部と酢酸エチル７０体積部及び酢
酸０．０５体積部の混合媒体を用意した。この媒体中に
平均粒径が３．０μｍであり、ＰｂＯ７６％（ｗｔ），
ＳｉＯ2 １０％，Ｂ2 Ｏ3 １４％なるガラス組成を有し
軟化点が４５０℃のＰｂＯ系ガラス粉末を０．２ｇ
（０．０４重量％）添加して超音波をかけて均一に分散
させてガラススラリーを調製した。Separately, a mixed medium of 30 parts by volume of isopropyl alcohol (IPA), 70 parts by volume of ethyl acetate and 0.05 parts by volume of acetic acid was prepared. In this medium, the average particle size is 3.0 μm, PbO 76% (wt),
0.2 g of PbO glass powder having a glass composition of 10% SiO 2 and 14% B 2 O 3 and a softening point of 450 ° C.
(0.04% by weight) was added, and ultrasonic waves were applied to disperse the solution uniformly to prepare a glass slurry.
【００３３】このガラススラリー中に、前記ガラス基板
と、６０ｍｍ×８０ｍｍの金属アルミニウム板よりなる
対向電極とを、ガラス板のＡｌ金属膜形成面と対向電極
とが対面するように配置し、金属板とガラス基板のＡｌ
金属膜との間にＡｌ金属膜が正となるように６００Ｖの
直流電圧を印加してＡｌ金属膜上にガラス粉の電着層を
形成した。In this glass slurry, the glass substrate and the counter electrode made of a metal aluminum plate of 60 mm × 80 mm are arranged so that the Al metal film forming surface of the glass plate and the counter electrode face each other. And glass substrate Al
A DC voltage of 600 V was applied so that the Al metal film was positive between the metal film and the metal film, and an electrodeposition layer of glass powder was formed on the Al metal film.
【００３４】この電着の進行状況を、ガラススラリーの
濁度により観察した。本実施例では目視により観察し
て、ガラススラリーが透明になるまで約０．５時間にわ
たって電着を行った。The progress of this electrodeposition was observed by the turbidity of the glass slurry. In this example, visual observation was performed and electrodeposition was performed for about 0.5 hours until the glass slurry became transparent.
【００３５】電着終了後はガラス板を十分に乾燥させ、
図２に示す焼成温度プロファイルによる焼成を行うこと
により、隔壁を形成した。その結果、幅の誤差±５μｍ
以内、高さは１５０μｍで高さムラの無い隔壁を、高い
寸法精度、位置精度にて容易に形成することができた。After completion of electrodeposition, the glass plate is thoroughly dried,
By performing firing according to the firing temperature profile shown in FIG. 2, partition walls were formed. As a result, width error ± 5 μm
In the inside, a partition having a height of 150 μm and no height unevenness could be easily formed with high dimensional accuracy and positional accuracy.
【００３６】[0036]
【発明の効果】以上詳述した通り、本発明のプラズマデ
ィスプレーパネルの隔壁形成方法によれば、プラズマデ
ィスプレーパネルの隔壁を容易かつ効率的に、所望の位
置に、所望の高さ及び幅で精度良く形成することができ
る。As described in detail above, according to the partition wall forming method of the plasma display panel of the present invention, the partition wall of the plasma display panel can be easily and efficiently located at a desired position with a desired height and width. It can be formed well.
【００３７】従って、本発明によれば、発光特性に優れ
たプラズマディスプレーパネルを高い生産性にて工業的
に有利に製造することができる。Therefore, according to the present invention, it is possible to industrially advantageously manufacture a plasma display panel having excellent light emitting characteristics with high productivity.
【図１】本発明のプラズマディスプレーパネルの隔壁形
成方法の一実施例方法を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a method of forming a partition wall of a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.
【図２】実施例１における焼成プロファイルを示すグラ
フである。FIG. 2 is a graph showing a firing profile in Example 1.
【図３】プラズマディスプレーパネルの一般的な構成を
示す分解斜視図である。FIG. 3 is an exploded perspective view showing a general configuration of a plasma display panel.
【図４】図３の部の断面の拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of a cross section of the portion of FIG.
１ 表面ガラス基板 ２ 表示電極 ３ 誘電体層 ４ 保護膜 ５ 背面ガラス基板 ６ 隔壁 ７ アドレス電極 ８ 蛍光体 ９ 放電ガス １１ ガラス基板 １２ レジスト膜 １３ 金属膜 １４ 電着層 1 Surface Glass Substrate 2 Display Electrode 3 Dielectric Layer 4 Protective Film 5 Back Glass Substrate 6 Partition 7 Address Electrode 8 Phosphor 9 Discharge Gas 11 Glass Substrate 12 Resist Film 13 Metal Film 14 Electrodeposition Layer
Claims (1)
板上に放電セル形成のための隔壁を形成する方法におい
て、該ガラス基板上の隔壁形成予定部に金属膜を形成し
た後、該金属膜と対向電極とをガラス粉末のスラリーを
介して配置し、該金属膜と対向電極との間に直流電圧を
印加して、該金属膜上にガラス層を電着し、その後焼成
して隔壁を形成することを特徴とするプラズマディスプ
レーパネルの隔壁形成方法。1. A method of forming barrier ribs for forming discharge cells on a glass substrate of a plasma display panel, wherein a metal film is formed on a portion where the barrier rib is to be formed on the glass substrate, and then the metal film and a counter electrode are formed. Is placed via a slurry of glass powder, and a DC voltage is applied between the metal film and the counter electrode to electrodeposit a glass layer on the metal film, followed by firing to form partition walls. A method for forming partition walls of a plasma display panel, which is characterized.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7331722A JPH09171769A (en) | 1995-12-20 | 1995-12-20 | Method of forming septum of plasma display panel |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7331722A JPH09171769A (en) | 1995-12-20 | 1995-12-20 | Method of forming septum of plasma display panel |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09171769A true JPH09171769A (en) | 1997-06-30 |
Family
ID=18246872
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7331722A Withdrawn JPH09171769A (en) | 1995-12-20 | 1995-12-20 | Method of forming septum of plasma display panel |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09171769A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100340076B1 (en) * | 1999-06-28 | 2002-06-12 | 박종섭 | Method for simultaneous forming electrode and barrier rib of plasma display panel by electroplating |
| US6508685B1 (en) | 1998-07-21 | 2003-01-21 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and method of fabricating barrier rib therefor |
-
1995
- 1995-12-20 JP JP7331722A patent/JPH09171769A/en not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6508685B1 (en) | 1998-07-21 | 2003-01-21 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and method of fabricating barrier rib therefor |
| US6783416B2 (en) | 1998-07-21 | 2004-08-31 | Lg Electronics Inc. | Plasma display panel and method of fabricating barrier rib thereof |
| KR100340076B1 (en) * | 1999-06-28 | 2002-06-12 | 박종섭 | Method for simultaneous forming electrode and barrier rib of plasma display panel by electroplating |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6805601B2 (en) | Method for producing plasma display panel and the plasma display panel | |
| US5883462A (en) | AC gas discharging type display panel with metal partition member | |
| KR19990062519A (en) | Formation method of black matrix of plasma display panel | |
| JPH0745200A (en) | Plasma display panel | |
| JPH11500099A (en) | Method for producing glass substrate coated with metal oxide and glass substrate for electronic display | |
| KR20060090433A (en) | A flat display device and a method for preparing the same | |
| JPH09171769A (en) | Method of forming septum of plasma display panel | |
| US6410214B1 (en) | Method for manufacturing black matrix of plasma display panel | |
| KR20000009132A (en) | Manufacturing method of separating wall for plasma display panel and plasma display panel device using it | |
| JP2003115261A (en) | Method for manufacturing display panel | |
| JPH10321134A (en) | Manufacture of plasma display panle | |
| JPH10273341A (en) | Formation of ceramic rib | |
| JP3255092B2 (en) | Electrodeposition method | |
| JP2000011898A (en) | Plasma display panel | |
| JP3960022B2 (en) | Method for manufacturing plasma display panel | |
| JPH10116556A (en) | Plasma display diaphragm structure and its forming method | |
| KR100340076B1 (en) | Method for simultaneous forming electrode and barrier rib of plasma display panel by electroplating | |
| JP4078910B2 (en) | Method for manufacturing plasma display device | |
| KR100351149B1 (en) | Manufacturing method for display | |
| JP2000021314A (en) | Plasma display member | |
| JPS6343798Y2 (en) | ||
| JPH08293245A (en) | Gas-discharge display device and its manufacture | |
| JP2006294639A (en) | Plasma display panel and manufacturing method for the same | |
| JP2006114520A (en) | Plasma display panel and production method therefor | |
| JP2000067744A (en) | Manufacture of plasma display |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030304 |