JPH0917018A - 光ヘッドおよびこの光ヘッドを備える情報処理装置 - Google Patents

光ヘッドおよびこの光ヘッドを備える情報処理装置

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JPH0917018A
JPH0917018A JP7161629A JP16162995A JPH0917018A JP H0917018 A JPH0917018 A JP H0917018A JP 7161629 A JP7161629 A JP 7161629A JP 16162995 A JP16162995 A JP 16162995A JP H0917018 A JPH0917018 A JP H0917018A
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JP
Japan
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optical
light beam
base
semiconductor laser
recording medium
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Application number
JP7161629A
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English (en)
Inventor
Takashi Yoshizawa
隆 吉澤
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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  • Moving Of The Head For Recording And Reproducing By Optical Means (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は大型化することなく、シフト補正で
き、しかも、シフト量についても決め細かく行なえるよ
うにした光ヘッドを提供することを目的とする。 【構成】本発明は光学ベース3と、この光学ベース3に
設けられ半導体レーザ11からの光ビームRを所定方向
に導く光学系12,13,17と、前記半導体レーザ1
1の径方向に沿って移動自在に設けられ、前記光学系1
2,13,17により導かれて前記光学ベース3から出
射される光ビームRを前記光ディスク50に照射させる
対物レンズ43と、前記光学ベース3における光ビーム
出射部に前記光ビームRの光軸に対して、任意の方向に
任意の量だけ傾斜されて設けられ、前記光ビームRの強
度中心と前記対物レンズ43の光軸中心のずれを補正す
る平行平板21と、この平行平板21を前記光学ベース
3に固定する弾性接着剤22とを具備してなる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、たとえば、光ディスク
装置に適用される光ヘッドおよびこの光ヘッドを備える
情報処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図13は光ディスク装置の概略構成を示
すものである。図中50は光ディスクで、この光ディス
ク50の表面には、たとえば、スパイラル状の溝(記録
トラック)が形成されている。この光ディスク50は固
定部としてのベース4の上に固定されているスピンドル
モータ(図示せず)によって例えば一定の線速度で回転
される。
【0003】上記光ディスク50に対する情報の記録、
再生あるいは消去は、上記光ディスク50の下部に設け
られている光学ヘッド3によって行なわれる。この光学
ヘッド3は移動光学系5とベース4上に固定されている
固定光学系2によって構成されている。上記移動光学系
5は、リニアモータによって光ディスク50の半径方向
に駆動可能となっている。
【0004】さらに、上記固定光学系2は図14に示す
ように、ベース4に配設されている半導体レーザ11、
コリメータレンズ12、ビームスプリッタ13および1
7、シフト補正ユニット30、防塵カバーガラス10、
1/2波長板15、収束レンズ16および光検出器1
8、19によって構成されている。
【0005】一方、上記光学ヘッド3の移動光学系5は
立ち上げミラー41、対物レンズ43、フォーカシング
コイル44およびリニアモータ(図示せず)などにより
構成されている。
【0006】次に、上記光学ヘッド3における光ビーム
の流れについて説明する。半導体レーザ11から出射さ
れたレーザビームRはコリメータレンズ12により平行
光束に変換されて、ビームスプリッタ13を透過する。
この後、レーザビームRはシフト補正ユニット30を透
過する。シフト補正ユニット30の具体的な調整方法お
よび補正の原理については後述する。さらに、レーザビ
ームRは防塵カバーガラス10を通過して移動光学系5
へ向かう。
【0007】さて、上記固定光学系2から出射したレー
ザビームRは立ち上げミラー42により光路を90°変
更されて対物レンズ43に入射する。このとき、レーザ
ビームRは強度中心と対物レンズ43の光軸中心とは一
致した状態であることが望ましい。レーザビームRは対
物レンズ43により収束された後、スポットとして光デ
ィスク50に照射される。光ディスク50から反射され
る反射光R´は上記の光路を逆走し、ビームスプリッタ
13へ達する。反射光R´はこのビームスプリッタ13
で反射され、1/2波長板15、収束レンズ16および
ビームスプリッタ17を透過して、光検出器18および
光検出器19に導かれる。これら光検出器18および光
検出器19の所定の光感受部に入射した光を光電変換し
て、情報信号、フォーカスエラー信号およびトラッキン
グエラー信号を得る。
【0008】トラッキングエラー信号をもとに、対物レ
ンズ43で収束された光スポットと光ディスク1の所定
トラック中心との半径方向のずれをなくす制御をかけ
る。一方、フォーカスエラー信号をもとに、対物レンズ
43で収束された光スポットの焦点と光ディスク50の
記録面との光軸方向のずれをなくす制御をかける。
【0009】以上のような構成をとる光ヘッドでは、部
材自身の加工精度や部材の取付け精度、あるいは半導体
レーザ11中の発光点の取付角度のずれ等のために、平
行光束の強度中心と対物レンズの光軸中心とのずれ(以
下、ビームシフトという)が生じる。
【0010】これは、フォーカスエラー信号あるいはト
ラッキングエラー信号にオフセットを発生させたり、情
報信号の読取りに関してC/Nを低下させたりという不
都合を引き起こす。
【0011】この問題点を解決するために、図15に示
すように従来はテーパ形状をした中空円筒32の端面に
光学ガラスより成る平行平板31を接合したユニット
(以下、シフト補正ユニット30という)を平行光束中
に挿入し、このシフト補正ユニット30全体を回転させ
て対物レンズ出射光の輝度分布の中心と対物レンズ中心
とができるだけ一致するように調整をする、という方法
をとっていた。このときのシフト補正量は次式で与えら
れる。
【0012】 d=t・sin Φ{1ーcos Φ/(n・cos Φ´)} ただし、d :シフト補正量 t :平行平板の厚さ Φ :平行平板に対する光軸の入射角 Φ´:平行平板に対する光軸の屈折角 n :平行平板の材質の屈折率 ここで、具体的なシフト補正の方法を簡単に述べる。
【0013】図16に示すように、対物レンズ43から
出射したパターンをCCDカメラ119で受光し、これ
をモニタ用CRT120に映し出す。図17に対物レン
ズを出射した直後の光束の輝度分布の中心位置と対物レ
ンズ外径との関係を模式的に示す。154は対物レンズ
外径であり、従来例では5.5mmである。まず、輝度
分布の中心が領域151にあるときには、出射光にビー
ムシフトが生じていても実用上問題がなく、シフト補正
は行なわない。すなわち、シフト補正ユニット30は挿
入しない。また、領域152(領域151の半径の約2
倍の半径の円内から領域151を除いたリング状の領
域)は従来例のシフト補正ユニット30を用いて補正が
可能な範囲である。
【0014】輝度中心が152内の場合について、補正
前後の輝度中心の様子を示す図18〜図20およびシフ
ト補正ユニット30の挿入方法を示す図21〜図24を
参照しながら、少し詳しく説明する。
【0015】まず、輝度中心が右方にずれている場合に
ついて説明する(図18、図21)。点P1、P2およ
びP3はすべて補正前の輝度中心位置の例である。この
場合、輝度中心を左方へ移動させなければならないの
で、シフト補正ユニット30は図21(a)の状態でビ
ームスプリッタ13の後に挿入する。(1)式で定めら
れる補正量は従来例の場合、約0.3mmであり、これ
は領域152の半径の約4分の3に相当する。これによ
り点P1、P2及びP3はそれぞれ点P1´、P2´及
びP3´に移動し、シフト補正がなされる。
【0016】なお、点P1は補正が可能な場合の中でも
最も大きなシフトを生じているときであり、点P3は最
も小さなシフトを生じているときである。輝度中心が左
方、上方あるいは下方にずれている場合についても同様
に補正される。すなわち、左方にずれている場合にはシ
フト補正ユニット30を図22に示す状態で挿入し、上
方にずれている場合にはシフト補正ユニット30を図2
3に示す状態で挿入し、下方にずれている場合にはシフ
ト補正ユニット30を図24に示す状態で挿入すればよ
い。このときの補正前後の輝度中心の様子を図19に示
す。なお、ここで述べる上方とは図14において図面の
表面側、下方とは図面の裏面側、右方とは図面に向かっ
て下側、および左方とは図面に向かって上側である。
【0017】また、ずれ方向がきれいに右方、左方、上
方あるいは下方でない場合、たとえば図20に示すよう
な方向の場合には、右方のときの補正方向(図21)と
上方のときの補正方向(図23)との中間の状態でシフ
ト補正ユニット30を挿入すればよい。一方、153は
ビームシフトが大きすぎて補正ができない範囲であり、
この場合光ヘッドは不良品となってしまう。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た中空円筒32は安定的に回転しなければならないこと
から、その長さは直径の1.5〜2倍程度必要になる。
具体的には7〜10mm程度の長さとなる。この結果、
ビームスプリッタ13と防塵カバーガラス10との間隔
が広がり、光ヘッドが大きくなってしまう。これは光デ
ィスクドライブ全体の小型化という要請には反する、と
いう不都合を招く。
【0019】さらに、一種類の中空円筒32では平行平
板31の傾斜角度は一通りしかとり得ず、一種類の平行
平板31では同じく厚みと屈折率は一通りに限定され
る。これはビームシフト補正の方向は任意にできるもの
の、シフト量については決め細かくは行なえない、とい
う不都合も生じることを意味している。そこで、本発明
は大型化することなく、シフト補正でき、しかも、シフ
ト量についても決め細かく行なえるようにした光ヘッド
を提供することを目的とする。
【0020】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、請求項1記載のものは、情報記録媒体に光ビ
ームを供給する半導体レーザと、この半導体レーザを固
定する光学ベースと、この光学ベースに設けられ前記半
導体レーザからの光ビームを所定方向に導く光学系と、
前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
ンズと、前記光学ベースにおける光ビーム出射部に前記
光ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾
斜されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物
レンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、この補
正部材を前記光学ベースに固定する固定部材とを具備し
てなる。
【0021】請求項2記載のものは、情報記録媒体に光
ビームを供給する半導体レーザと、この半導体レーザを
固定する光学ベースと、この光学ベースに形成された溝
部と、この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光
ビームを所定方向に導く光学系と、前記情報記録媒体の
径方向に沿って移動自在に設けられ、前記光学系により
導かれて前記光学ベースから出射される光ビームを前記
情報記録媒体に照射させる対物レンズと、前記光学ベー
スにおける溝部の光ビーム出射部に前記光ビームの光軸
に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて設けら
れ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの光軸中
心のずれを補正する補正部材と、この補正部材を前記光
学ベースの溝部に固定するとともに前記溝部を封止する
固定部材と、前記光学ベースの開口部分を覆う防塵カバ
ーとを具備してなる。
【0022】請求項3記載のものは、情報記録媒体に光
ビームを供給する半導体レーザと、この半導体レーザを
固定する光学ベースと、この光学ベースに形成された溝
部と、この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光
ビームを所定方向に導く光学系と、前記情報記録媒体の
径方向に沿って移動自在に設けられ、前記光学系により
導かれて前記光学ベースから出射される光ビームを前記
情報記録媒体に照射させる対物レンズと、前記光学ベー
スにおける溝部の光ビーム出射部に前記光ビームの光軸
に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて設けら
れ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの光軸中
心のずれを補正する補正部材と、この補正部材を前記光
学ベースの溝部に固定するとともに前記溝部を封止する
弾性接着剤と、前記光学ベースの溝部の開口部分を覆う
防塵カバーとを具備してなる。
【0023】請求項4記載のものは、情報記憶媒体に対
し、光ビームを照射し、情報を記憶及び情報を再生する
情報処理装置において、情報記録媒体に光ビームを供給
する半導体レーザと、この半導体レーザを固定する光学
ベースと、この光学ベースに設けられ前記半導体レーザ
からの光ビームを所定方向に導く光学系と、前記情報記
録媒体の径方向に沿って移動自在に設けられ、前記光学
系により導かれて前記光学ベースから出射される光ビー
ムを前記情報記録媒体に集光させる対物レンズと、前記
光学ベースにおける光ビーム出射部に前記光ビームの光
軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて設け
られ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの光軸
中心のずれを補正する補正部材と、この補正部材を前記
光学ベースに固定する固定部材とからなることを特徴と
する光ヘッドとを具備してなる。
【0024】請求項5記載のものは、情報記憶媒体に対
し、光ビームを照射し、情報を記憶及び情報を再生する
情報処理装置において、情報記録媒体に光ビームを供給
する半導体レーザと、この半導体レーザを固定する光学
ベースと、この光学ベースに形成された溝部と、この溝
部内に配設され前記半導体レーザからの光ビームを所定
方向に導く光学系と、前記情報記録媒体の径方向に沿っ
て移動自在に設けられ、前記光学系により導かれて前記
光学ベースから出射される光ビームを前記情報記録媒体
に照射させる対物レンズと、前記光学ベースにおける溝
部の光ビーム出射部に前記光ビームの光軸に対して、任
意の方向に任意の量だけ傾斜されて設けられ、前記光ビ
ームの強度中心と前記対物レンズの光軸中心のずれを補
正する補正部材と、この補正部材を前記光学ベースの溝
部に固定するとともに前記溝部を封止する固定部材と、
前記光学ベースの開口部分を覆う防塵カバーとからなる
光ヘッドとを具備してなる。
【0025】請求項6記載のものは、情報記憶媒体に対
し、光ビームを照射し、情報を記憶及び情報を再生する
情報処理装置において、情報記録媒体に光ビームを供給
する半導体レーザと、この半導体レーザを固定する光学
ベースと、この光学ベースに形成された溝部と、この溝
部内に配設され前記半導体レーザからの光ビームを所定
方向に導く光学系と、前記情報記録媒体の径方向に沿っ
て移動自在に設けられ、前記光学系により導かれて前記
光学ベースから出射される光ビームを前記情報記録媒体
に照射させる対物レンズと、前記光学ベースにおける溝
部の光ビーム出射部に前記光ビームの光軸に対して、任
意の方向に任意の量だけ傾斜されて設けられ、前記光ビ
ームの強度中心と前記対物レンズの光軸中心のずれを補
正する補正部材と、この補正部材を前記光学ベースの溝
部に固定するとともに前記溝部を封止する弾性接着剤
と、前記光学ベースの溝部の開口部分を覆う防塵カバー
とからなる光ヘッドとを具備してなる。
【0026】請求項7記載のものは、情報記憶媒体に対
し、光ビームを照射し、情報記憶媒体から情報を再生す
る情報処理装置において、情報記録媒体に光ビームを供
給する半導体レーザと、この半導体レーザを固定する光
学ベースと、この光学ベースに設けられ前記半導体レー
ザからの光ビームを所定方向に導く光学系と、前記情報
記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けられ、前記光
学系により導かれて前記光学ベースから出射される光ビ
ームを前記情報記録媒体に集光させる対物レンズと、前
記光学ベースにおける光ビーム出射部に前記光ビームの
光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて設
けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの光
軸中心のずれを補正する補正部材と、この補正部材を前
記光学ベースに固定する固定部材とからなる光ヘッドと
を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
【0027】請求項8記載のものは、情報記憶媒体に対
し、光ビームを照射し、情報記憶媒体から情報を再生す
る情報処理装置において、情報記録媒体に光ビームを供
給する半導体レーザと、この半導体レーザを固定する光
学ベースと、この光学ベースに形成された溝部と、この
溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビームを所
定方向に導く光学系と、前記情報記録媒体の径方向に沿
って移動自在に設けられ、前記光学系により導かれて前
記光学ベースから出射される光ビームを前記情報記録媒
体に照射させる対物レンズと、前記光学ベースにおける
溝部の光ビーム出射部に前記光ビームの光軸に対して、
任意の方向に任意の量だけ傾斜されて設けられ、前記光
ビームの強度中心と前記対物レンズの光軸中心のずれを
補正する補正部材と、この補正部材を前記光学ベースの
溝部に固定するとともに前記溝部を封止する固定部材
と、前記光学ベースの開口部分を覆う防塵カバーとから
なる光ヘッドとを具備してなる。
【0028】請求項9記載のものは、情報記憶媒体に対
し、光ビームを照射し、情報記憶媒体から情報を再生す
る情報処理装置において、情報記録媒体に光ビームを供
給する半導体レーザと、この半導体レーザを固定する光
学ベースと、この光学ベースに形成された溝部と、この
溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビームを所
定方向に導く光学系と、前記情報記録媒体の径方向に沿
って移動自在に設けられ、前記光学系により導かれて前
記光学ベースから出射される光ビームを前記情報記録媒
体に照射させる対物レンズと、前記光学ベースにおける
溝部の光ビーム出射部に前記光ビームの光軸に対して、
任意の方向に任意の量だけ傾斜されて設けられ、前記光
ビームの強度中心と前記対物レンズの光軸中心のずれを
補正する補正部材と、この補正部材を前記光学ベースの
溝部に固定するとともに前記溝部を封止する弾性接着剤
と、前記光学ベースの溝部の開口部分を覆う防塵カバー
と、からなる光ヘッドとを具備してなる。
【0029】
【作用】請求項1〜9記載のものは、補正部材を任意の
方向に任意の量だけ光軸に対して傾斜させて補正するこ
とにより、あらゆる方向のビームスフトに対してきめ細
かに対応することができるようにする。
【0030】請求項2,5,8記載のものは、光学ベー
スにおける溝部の光ビーム出射部に補正部材を設けて固
定部材により固定するとともに前記溝部を封止し、前記
光学ベースの開口部分を防塵カバーにより覆うことによ
り、補正部材を防塵カバーとして兼用できるようにす
る。
【0031】請求項3,6,9記載のものは、補正部材
を弾性接着剤で接着することにより、補正部材に対して
不要な歪みを与えることなく、光学ベースに対して安定
的に接合保持することができるようにする。
【0032】
【実施例】以下、本発明を図1乃至図12に示す一実施
例を参照して説明する。図1、図2はこの実施例に係る
シフト補正機構20が取り付けられた光ディスク装置の
光学系を示す平面図および斜視図である。
【0033】なお、従来例で説明した部分と同一部分に
ついては、同一番号を付する。図中2は固定光学系で、
この固定光学系2は半導体レーザ11、コリメータレン
ズ12、ビームスプリッタ13および17、シフト補正
機構20、1/2波長板15、収束レンズ16および光
検出器18、19によって構成されている。
【0034】上記半導体レーザ11から出射されたレー
ザビームRはコリメータレンズ12により平行光束に変
換され、ビームスプリッタ13を透過する。この後、レ
ーザビームRはシフト補正機構20を透過する。シフト
補正機構20の具体的な調整方法および補正の原理につ
いては後述する。
【0035】さて、固定光学系2から出射したレーザビ
ームRは図13で説明した移動光学系5へと導かれる。
すなわち、レーザビームRは立ち上げミラー41により
光路を90°変更され、レーザビームRの強度中心と対
物レンズ43の中心とがほぼ一致した状態で対物レンズ
43に入射する。レーザビームRは対物レンズ43に導
かれ収束された後、スポットとして光ディスク50へ照
射される。光ディスク50での反射光R´は逆走し、ビ
ームスプリッタ13へ達する。反射光R´はこのビーム
スプリッタ13で反射され、1/2波長板15、収束レ
ンズ16、ビームスプリッタ17を透過して、光検出器
18および光検出器19に導かれる。この後、電気信号
に変換されてからの処理については従来例と同様であ
る。
【0036】次に、上記シフト補正機構20の構造につ
いて図3を参考にしながら説明する。本実施例における
シフト補正機構20は、光学ガラス(BKー7)より成
る補正部材としての平行平板21と固定部材としての弾
性接着剤22とから構成されている。
【0037】上記平行平板21の大きさは、縦8mm、
横6mm、厚み2mmである。上記弾性接着剤22はよ
り具体的には、たとえばセメダイン株式会社製EPー0
01やコニシ株式会社製ボンドMOS7などが用いられ
る。
【0038】次に、具体的なシフト補正方法について説
明する。まず、従来例の図16で説明したように、対物
レンズ43に、CCDカメラ119を対向させ、このC
CDカメラ119により対物レンズ43から出射される
出射光をモニタ用CRT120に映し出し、出射光の輝
度分布を観察する。
【0039】次に、調整装置60の構成について図8に
基づいて説明する。図中68は固定台で、この固定台6
8にはポール67が立設されていて、このポール67の
上端部にはアーム66が回転部65を介して取り付けら
れている。上記アーム66は上記回転部65を中心とし
て回転可能な構造となっている。上記アーム66の先端
部にはゴニオステージ62が取り付けられていて、さら
に、このゴニオステージ62の傾斜面62aには回転ス
テージ61が取り付けられている。また、上記回転ステ
ージ61の回転面61aには掴みブロック63が取り付
けられている。上記アーム66を上げた状態にして、平
行平板21を光学ベース3のうち光ビームRの出射端に
挿入して、平行平板21の下端部が光学ベース3に接触
するまで落とし込む。この状態でゴニオステージ62を
動かすと、平行平板21は倒れ方向の傾斜を生じ、ビー
ムは上方または下方にシフトする。
【0040】一方、上記回転ステージ61を回転させる
と、平行平板21は回転しビームは右方または左方にシ
フトする。しかして、モニタ用CRT120に映し出さ
れた対物レンズ出射光の輝度分布パターンを見ながら、
輝度中心が領域18b内に入るよう、ゴニオステージ6
2および回転ステージ61を所定量だけ調整すればよ
い。
【0041】シフト補正の補正が必要ない場合には、平
行平板21が光軸に対して略90°となるよう配設すれ
ばよい。また、シフト補正が必要な場合、たとえば、輝
度中心が右方にずれている場合には図4に示すような状
態で平行平板21を光軸に対して配設し、さらに、ビー
ムの輝度中心と対物レンズ中心とが一致するよう微細な
角度調整を行えばよい。
【0042】この原理は従来例で説明したのと全く同じ
である。また、シフト方向が左方、上方あるいは下方の
場合はそれぞれ図5、図6、図7に示すような状態で平
行平板21を光軸に対して配設し、同様にビームの輝度
中心と対物レンズ中心とが一致するように微細な角度調
整を行えばよい。
【0043】以上の作業が完了したならば、弾性接着剤
たとえばボンドMOS7(コニシ(株)製を平行平板2
1と光学ベース3との間隙に隙間なく塗布する。この塗
布後、約30分で初期硬化が完了するので、この後は平
行平板21を調整治具から解放すればよい。
【0044】なお、平行平板21の材質としては、BK
ー7、SFー11といった光学ガラスに限るものではな
く、ポリカーボネイト樹脂の他にアクリル樹脂、アモル
ファスポリオレフィン樹脂といった透明な樹脂材料でも
構わない。
【0045】次に、防塵カバーについて説明する。従来
は図11、図12に示すように、防塵カバー40は光学
ベース2が大きいために、かなり大きなものにならざる
を得なかった。
【0046】ところが、前述したように、本実施例の構
成をとることにより、光学ベース2を小型化でき、これ
により防塵カバー40も小さくすることができる。本実
施例の防塵カバー40とこの防塵カバー40を取り付け
た状態をそれぞれ図9および図10に示す。
【0047】光学系の調整がすべて完了したならば、防
塵カバー40を光学ベース2に被せる。上記防塵カバー
40と平行平板21との間隙には同様に隙間なく弾性接
着剤たとえばボンドMOS7(コニシ(株)製)を塗布
する。このように、平行平板21と光学ベース2との接
合、及び平行平板21と光学ベース2、防塵カバー40
との封止に弾性接着剤22を用いることにより、平行平
板21の調整状態すなわち傾き具合がどのようなもので
あっても、安定的かつ高い信頼性をもって平行平板21
を光学ベース2に接合できる。
【0048】なお、上記弾性接着剤22はエポキシ樹脂
に加えて、変成シリコンポリマーも主成分として持って
いるため、硬化後にも弾性を有し、このために平行平板
21に不要な歪みを与えることもない。
【0049】このような構成をとることにより、従来は
シフト補正を行なうための部材と、固定光学系出射端で
の防塵用のカバーガラスとを別部材としていたものが、
一つで済むこととなり、部品コストの低減といった効果
が生まれる。
【0050】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
請求項1〜9記載のものは、補正部材を任意の方向に任
意の量だけ光軸に対して傾斜させて補正するから、あら
ゆる方向のビームスフトに対してきめ細かに対応するこ
とができる。
【0051】請求項2,5,8記載のものは、光学ベー
スにおける溝部の光ビーム出射部に補正部材を設けて固
定部材により固定するとともに前記溝部を封止し、前記
光学ベースの開口部分を防塵カバーにより覆うから、補
正部材を防塵カバーとして兼用でき、部材コストおよび
製造コストの低減という大きな効果が生まれる。
【0052】請求項3,6,9記載のものは、補正部材
を光学ベースに対し弾性接着剤で接着するから、補正部
材に対して不要な歪みを与えることなく、光学ベースに
対して安定的に接合保持することができるという効果を
奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例である固定光学系の構成を示
す平面図。
【図2】図1の固定光学系の構成を示す斜視図。
【図3】図2の固定光学系おける平行平板およびこの平
行平板の固定光学系への取り付け状態を示す射視図。
【図4】図3の平行平板により光ビームを左側へシフト
補正する状態を示す図。
【図5】図3の平行平板により光ビームを右側へシフト
補正する状態を示す図。
【図6】図3の平行平板により光ビームを下側へシフト
補正する状態を示す図。
【図7】図3の平行平板により光ビームを上側へシフト
補正する状態を示す図。
【図8】図3の平行平板の取付角度を調整する調整装置
を示す図。
【図9】本発明の一実施例である防塵カバーを示す斜視
図。
【図10】図9の防塵カバーを光学ベースに取付けた状
態を示す斜視図。
【図11】従来の防塵カバーを示す斜視図。
【図12】図11の防塵カバーを光学ヘッドに取付けた
状態を示す斜視図。
【図13】従来の光学ヘッドの全体構成を示す図。
【図14】図13の光学ヘッドの固定光学系の構成を示
す平面図。
【図15】図14の光学ヘッドにおけるシフト補正ユニ
ットを示すもので、図15(a)はその正面図、図15
(b)は図15(a)中A−A線に沿って示す断面図。
【図16】図13の光学ヘッドの固定光学系の対物レン
ズ出射光の輝度分布をモニタするための測定系を示す
図。
【図17】図16の測定系によって測定される対物レン
ズ出射光の輝度分布と対物レンズの外径との関係を説明
するための図。
【図18】図13の光学ヘッドにおける固定光学系の対
物レンズ出射光の補正前後の輝度中心の状態を示す図。
【図19】図13の光学ヘッドにおける固定光学系の対
物レンズ出射光の補正前後の輝度中心の状態を示す図。
【図20】図13の光学ヘッドにおける固定光学系の対
物レンズ出射光の補正前後の輝度中心の状態を示す図。
【図21】図15のシフト補正ユニットによる光ビーム
の左側へのシフト補正を示すもので、図21(a)はそ
の平面図、図21(b)はその側面図。
【図22】図15のシフト補正ユニットによる光ビーム
の右側へのシフト補正を示すもので、図22(a)はそ
の平面図、図22(b)はその側面図。
【図23】図15のシフト補正ユニットによる光ビーム
の下側へのシフト補正を示すもので、図23(a)はそ
の平面図、図23(b)はその側面図。
【図24】図15のシフト補正ユニットによる光ビーム
の上側へのシフト補正を示すもので、図24(a)はそ
の平面図、図24(b)はその側面図。
【符号の説明】
2…固定光学系、3…光学ヘッド、4…光学ベース、5
…移動光学系、11…半導体レーザ、12…コリメータ
レンズ(光学系)、13,17…ビームスプリッタ(光
学系)、18,19…光検出器、20…シフト補正機
構、21…平行平板(補正部材)、22…弾性接着剤
(固定部材)、40…防塵スバー、43…対物レンズ、
50…光ディスク(情報記録媒体)。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 情報記録媒体に光ビームを供給する半導
    体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに設けられ前記半導体レーザからの光ビ
    ームを所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける光ビーム出射部に前記光ビーム
    の光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて
    設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの
    光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースに固定する固定部材と、 を具備してなることを特徴とする光ヘッド。
  2. 【請求項2】 情報記録媒体に光ビームを供給する半導
    体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに形成された溝部と、 この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビーム
    を所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける溝部の光ビーム出射部に前記光
    ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜
    されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レ
    ンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースの溝部に固定するととも
    に前記溝部を封止する固定部材と、 前記光学ベースの開口部分を覆う防塵カバーと、 を具備してなることを特徴とする光ヘッド。
  3. 【請求項3】 情報記録媒体に光ビームを供給する半導
    体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに形成された溝部と、 この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビーム
    を所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける溝部の光ビーム出射部に前記光
    ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜
    されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レ
    ンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースの溝部に固定するととも
    に前記溝部を封止する弾性接着剤と、 前記光学ベースの溝部の開口部分を覆う防塵カバーと、 を具備してなることを特徴とする光ヘッド。
  4. 【請求項4】 情報記憶媒体に対し、光ビームを照射
    し、情報を記憶及び情報を再生する情報処理装置におい
    て、 情報記録媒体に光ビームを供給する半導体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに設けられ前記半導体レーザからの光ビ
    ームを所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に集光させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける光ビーム出射部に前記光ビーム
    の光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて
    設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの
    光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースに固定する固定部材と、
    からなる光ヘッドと、 を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
  5. 【請求項5】 情報記憶媒体に対し、光ビームを照射
    し、情報を記憶及び情報を再生する情報処理装置におい
    て、 情報記録媒体に光ビームを供給する半導体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに形成された溝部と、 この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビーム
    を所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける溝部の光ビーム出射部に前記光
    ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜
    されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レ
    ンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースの溝部に固定するととも
    に前記溝部を封止する固定部材と、 前記光学ベースの開口部分を覆う防塵カバーと、からな
    る光ヘッドと、 を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
  6. 【請求項6】 情報記憶媒体に対し、光ビームを照射
    し、情報を記憶及び情報を再生する情報処理装置におい
    て、 情報記録媒体に光ビームを供給する半導体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに形成された溝部と、 この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビーム
    を所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける溝部の光ビーム出射部に前記光
    ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜
    されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レ
    ンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースの溝部に固定するととも
    に前記溝部を封止する弾性接着剤と、 前記光学ベースの溝部の開口部分を覆う防塵カバーと、
    からなる光ヘッドと、 を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
  7. 【請求項7】 情報記憶媒体に対し、光ビームを照射
    し、情報記憶媒体から情報を再生する情報処理装置にお
    いて、 情報記録媒体に光ビームを供給する半導体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに設けられ前記半導体レーザからの光ビ
    ームを所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に集光させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける光ビーム出射部に前記光ビーム
    の光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜されて
    設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レンズの
    光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースに固定する固定部材と、
    からなることを特徴とする光ヘッドと、 を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
  8. 【請求項8】 情報記憶媒体に対し、光ビームを照射
    し、情報記憶媒体から情報を再生する情報処理装置にお
    いて、 情報記録媒体に光ビームを供給する半導体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに形成された溝部と、 この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビーム
    を所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける溝部の光ビーム出射部に前記光
    ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜
    されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レ
    ンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースの溝部に固定するととも
    に前記溝部を封止する固定部材と、 前記光学ベースの開口部分を覆う防塵カバーと、からな
    る光ヘッドと、 を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
  9. 【請求項9】 情報記憶媒体に対し、光ビームを照射
    し、情報記憶媒体から情報を再生する情報処理装置にお
    いて、 情報記録媒体に光ビームを供給する半導体レーザと、 この半導体レーザを固定する光学ベースと、 この光学ベースに形成された溝部と、 この溝部内に配設され前記半導体レーザからの光ビーム
    を所定方向に導く光学系と、 前記情報記録媒体の径方向に沿って移動自在に設けら
    れ、前記光学系により導かれて前記光学ベースから出射
    される光ビームを前記情報記録媒体に照射させる対物レ
    ンズと、 前記光学ベースにおける溝部の光ビーム出射部に前記光
    ビームの光軸に対して、任意の方向に任意の量だけ傾斜
    されて設けられ、前記光ビームの強度中心と前記対物レ
    ンズの光軸中心のずれを補正する補正部材と、 この補正部材を前記光学ベースの溝部に固定するととも
    に前記溝部を封止する弾性接着剤と、 前記光学ベースの溝部の開口部分を覆う防塵カバーと、
    からなる光ヘッドと、 を具備してなることを特徴とする情報処理装置。
JP7161629A 1995-06-28 1995-06-28 光ヘッドおよびこの光ヘッドを備える情報処理装置 Pending JPH0917018A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0926788A1 (en) * 1997-12-24 1999-06-30 TTS S.r.l. Optical assembly for laser diode

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EP0926788A1 (en) * 1997-12-24 1999-06-30 TTS S.r.l. Optical assembly for laser diode

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