JPH09162035A - コイル装置 - Google Patents

コイル装置

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JPH09162035A
JPH09162035A JP32178795A JP32178795A JPH09162035A JP H09162035 A JPH09162035 A JP H09162035A JP 32178795 A JP32178795 A JP 32178795A JP 32178795 A JP32178795 A JP 32178795A JP H09162035 A JPH09162035 A JP H09162035A
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JP
Japan
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coil
sheet
sheet coil
gap
core
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JP32178795A
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English (en)
Inventor
Masahiko Matsumoto
匡彦 松本
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Murata Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Murata Manufacturing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 エネルギ−損が小さく高効率な、積層シ−
トコイルを用いたコイル装置を提供する。 【解決手段】 積層シ−トコイルに装着されるコアに
は、インダクタンスを調整するためのギャップが設けら
れる。積層シ−トコイルを構成するシ−トコイルのう
ち、ギャップの位置に近いものほどギャップから離して
配置形成される。この結果、シ−トコイルを通過するギ
ャップからの漏洩磁界が減少し、エネルギ−損が低減さ
れる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、トランスやインダ
クタ等として利用される、積層シ−トコイルを用いたコ
イル装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】一般に電子機器等に用いられる電子回路
は、絶縁基板上に実装された種々の電子部品から構成さ
れる。電子回路として例えばトランスが必要な場合に
は、別途形成したトランスが絶縁基板に載置される。し
かし、この場合トランス自体が大きいため、取り付けス
ペ−スが大きくなってしまうという問題があった。
【0003】このため、最近は複数のシ−トコイルを積
層形成した積層シ−トコイルを用いたコイル装置が種々
開発されている。図2乃至図4を用いて、トランスとし
て利用されるコイル装置の一例を説明する。
【0004】コイル装置は、積層シ−トコイル1とコア
2とから構成される。
【0005】積層シ−トコイル1は、二枚の一次コイル
基板3と一枚の二次コイル基板4とから形成される。
【0006】一次コイル基板3は、円板状の絶縁基板5
と、絶縁基板5の表裏面に対向するように設けられた一
次コイルとなるシ−トコイル6とから形成される。シ−
トコイル6は、外周側から中心側に向かってスパイラル
状に形成される。なお、シ−トコイル6は、例えば銅箔
のような導電性薄膜で形成される。表裏面のシ−トコイ
ル6の中心側の端部は、絶縁基板5に設けられたスル−
ホ−ル7を介して相互に電気的に接続される。表裏面の
シ−トコイル6の外周側の端部は、入出力端子T1とT
2、T3とT4とにそれぞれ接続される。なお、絶縁基
板5の中央部には、開口形が円形の貫通孔8が設けられ
る。
【0007】二次コイル基板4は、円板状の絶縁基板9
と、絶縁基板9の表裏面に対向するように設けられた二
次コイルとなるシ−トコイル10とから形成される。シ
−トコイル10は、外周側から中心側に向かってスパイ
ラル状に形成される。なお、シ−トコイル10は、例え
ば銅箔のような導電性薄膜で形成される。表裏面のシ−
トコイル10の中心側の端部は、絶縁基板9に設けられ
たスル−ホ−ル11を介して相互に電気的に接続され
る。表裏面に形成されたシ−トコイル10の外周側の端
部は、入出力端子T5とT6にそれぞれ接続される。な
お、絶縁基板9の中央部には、開口形が円形の貫通孔1
2が設けられる。また、二次コイル基板9の外径および
貫通孔12の内径は、一次コイル基板5の外径および貫
通孔8の内径と同じ寸法に設定される。
【0008】シ−トコイル6およびシ−トコイル10の
タ−ン数は、トランスの特性に応じて定められる。な
お、シ−トコイル6と10のパタ−ン幅は、シ−トコイ
ル6と10のそれぞれの抵抗値およびタ−ン数とを考慮
して定められ、一般にタ−ン数が多くなればパタ−ン幅
は狭くなる。
【0009】積層シ−トコイル1は、下から一次コイル
基板3、二次コイル基板4、一次コイル基板3の順番に
積層することにより形成される。なお、一次コイル基板
3と二次コイル基板4の間には両者の接着および絶縁の
ためにプリプレグ13が挟み込まれ、真空加圧成形手段
によって一体に形成される。また、積層シ−トコイル1
の表裏面には絶縁層14が形成される。一次コイル基板
3および二次コイル基板4に設けられた貫通孔8と12
が重なり合って、コア2を装着するためのコア装着孔1
5が形成される。入出力端子T2とT3はリ−ド線16
を介して接続される。この結果、二枚の一次コイル基板
3のシ−トコイル6が直列に接続され、一次コイルのタ
−ン数が増加する。
【0010】コア2は、例えばフェライトを用いて形成
された一対の上部コア部2Aと下部コア部2Bとから構
成される。上部コア部2Aは、有底円筒部17と、有底
円筒部17の内側底面の中央部に立設して設けられた円
柱状の突起部18とから構成される。有底円筒部17の
内径は、一次コイル基板3の外径よりやや大きく設定さ
れる。下部コア部2Bも、上部コア部2Aと同様に構成
されるが、有底円筒部17の側面に切欠部19を設けた
点で相違する。この切欠部19からは、入出力端子T1
とT4とT5およびT6に接続されたリ−ド線(図示せ
ず)が、コア2の外部に引き出される。なお、突起部1
8の高さは、上部コア部2Aと下部コア部2Bの有底円
筒部17の端面を衝合した際に、上部コア部2Aと下部
コア部2Bの突起部17の端面間に所定寸法のギャップ
Gが形成されるように設定される。ギャップGは、コア
2内を通過する磁束密度が早期に飽和するのを防止する
ために設けられ、コイルシ−ト6と10のインダクタン
スが調整される。なお、このギャップGは、外部への漏
洩磁界を低減するため、積層シ−トコイル1の中央部に
設けられる。なお、積層シ−トコイル1の中央部に形成
されたコア装着孔15の内部に、上部コア部2Aと下部
コア部2Bの突起部18を挿入することによってコア2
は装着される。
【0011】一般に、高周波の電流を導体に流すと、電
流は導体の表面領域に偏って流れるという表皮効果が生
じる。このため、導体における抵抗値が大きくなり、エ
ネルギ−損が生じる。しかしながら、コイル装置では、
シ−トコイル6と10の厚みをあらかじめ設計すること
により、表皮効果の影響を低減することができる。ま
た、シ−トコイル6と10は、絶縁基板5と9の表裏面
に位置精度良く形成することができるので、コイル装置
における特性値のばらつきが小さくなり、さらに一次コ
イルと二次コイルの結合度が高くなるという特徴を有し
ている。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、積層シ
−トコイルに装着されたコアのギャップから生ずる漏洩
磁界により、シ−トコイルに渦電流が発生するという問
題が有った。ファラディ−の電磁誘導の法則から、渦電
流を発生させる磁束は、磁束密度の時間変化に比例す
る。従って、磁束密度の大きい場所、すなわち、ギャッ
プの近傍のシ−トコイルには大きな渦電流が発生するこ
ととなる。このため、ギャップの近傍に配置されたシ−
トコイルでのエネルギ−損が大きくなり、コイル装置に
おける効率が低下していた。一方、ギャップから離れる
につれて漏洩磁界の磁束密度が徐々に小さくなるので、
シ−トコイルに発生する渦電流の発生が小さくなり、エ
ネルギ−損は小さくなる。
【0013】そこで本発明は、上記問題を解決するため
のコイル装置の提供を目的とする。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明のコイル装置は、
上記目的を解決するため次のように構成される。すなわ
ち、複数のシ−トコイルが積層形成された積層シ−トコ
イルと、該積層シ−トコイルに設けられたコア装着孔
と、該コア装着孔の内部にギャップを設けて装着された
コアとを備えたコイル装置において、ギャップの位置に
近いほどシ−トコイルをギャップから離して形成したも
のである。
【0015】コアに設けられたギャップの近傍では、漏
洩磁界の磁束密度が大きい。このため、ギャップの近傍
に配置するシ−トコイルほど、コア装着孔の中心から半
径方向に離して形成する。この結果、シ−トコイルを通
過する漏洩磁界の磁束が減少し、渦電流が小さくなる。
また、ギャップから離れるほどシ−トコイルをコア装着
孔に隣接して形成することができるので、シ−トコイル
を形成できる領域が広がる。このため、シ−トコイルの
パタ−ン幅を広くすることができる。従って、直列接続
されたシ−トコイル全体の抵抗値は小さくなる。
【0016】
【発明の実施の形態】図1を用いて本発明に係るコイル
装置の実施例を説明する。なお、コイル装置は、積層シ
−トコイル20とコア2とから構成される。積層シ−ト
コイル20を構成する二枚の一次コイル基板21と一枚
の二次コイル基板22の表裏面に形成されたシ−トコイ
ル23と24以外は従来例と同じなため、シ−トコイル
23と24を中心に説明し、他の部分は説明は簡略化す
る。なお、コア2の説明は省略し、従来例と同じ構成部
分は同じ番号を用いて説明する。
【0017】一次コイル基板21は、円板状の絶縁基板
5と、絶縁基板5の表裏面に対向するように設けられた
一次コイルとなるシ−トコイル23とから形成される。
シ−トコイル23は、外周側から中心側に向かってスパ
イラル状に形成される。なお、表面に形成されるシ−ト
コイル23Aのパタ−ン幅は均一に形成される。裏面に
形成されるシ−トコイル23Bは、シ−トコイル23A
の形状から、コア装着孔15の中心軸Lから半径方向の
距離W1の領域内にある部分を取り除いた形状である。
このため、コア装着孔15に隣接するシ−トコイル23
Bのパタ−ン幅は、中心側の端部に向かって徐々に細く
なる。シ−トコイル23は、例えば銅箔のような導電性
薄膜で形成され、表裏面のシ−トコイル23Aと23B
の中心側の端部は、絶縁基板5に設けられたスル−ホ−
ル7を介して相互に電気的に接続される。表裏面のシ−
トコイル23Aと23Bの外周側の端部は、それぞれ入
出力端子T1とT2、T3とT4とに接続される。ま
た、絶縁基板5の中央部は、開口形が円形の貫通孔8が
設けられる。
【0018】二次コイル基板22は、円板状の絶縁基板
9と、絶縁基板9の表裏面に対向するように設けられた
二次コイルとなるシ−トコイル24とから形成される。
シ−トコイル24は、外周側から中心側に向かってスパ
イラル状に形成される。シ−トコイル24は、コア装着
孔15の中心軸Lから半径方向に距離W2だけ離れた領
域に形成される。なお、距離W2は距離W1よりも長く
設定される。シ−トコイル24は、例えば銅箔のような
導電性薄膜で形成され、表裏面のシ−トコイル24の中
心側の端部は、絶縁基板9に設けられたスル−ホ−ル1
1を介して相互に電気的に接続される。表裏面のシ−ト
コイル24の外周側の端部は、それぞれ入出力端子T5
とT6に接続される。なお、二次コイル基板22の外径
および貫通孔12の内径は、一次コイル基板21の外径
および貫通孔8の内径と同じ寸法に設定される。シ−ト
コイル24のタ−ン数は、シ−トコイル23のタ−ン数
との関係から定められる。
【0019】積層シ−トコイル20は、下から一次コイ
ル基板21、二次コイル基板22、一次コイル基板21
の順番に積層することにより形成される。なお、積層に
際して、一次コイル基板21のシ−トコイル23Bが積
層シ−トコイル20の内側となるようにする。一次コイ
ル基板21および二次コイル基板22に設けられた貫通
孔8と12が重なり合って、コア2を装着するためのコ
ア装着孔15が形成される。
【0020】上部コア部2Aおよび下部コア部2Bの突
起部18をコア装着孔15の内部に挿入することによ
り、コア2は積層シ−トコイル20に装着される。この
ときコア2に設けられたギャップGは、コア装着孔15
の中心部に形成される。従って、ギャップGから漏洩す
る磁束が最も多く通過するのは、ギャップGと隣接する
部分、すなわち二次コイル基板22のシ−トコイル24
である。しかしながら、シ−トコイル24は、コア装着
孔15の中心軸Lから半径方向に距離W2だけ離して形
成されるため、シ−トコイル24を通過する漏洩磁界の
磁束密度は少なくなる。この結果、シ−トコイル24に
発生する渦電流は小さくなる。
【0021】次にギャップGからの漏洩磁界の磁束密度
が多いのは、ギャップGからやや離れた領域、すなわち
一次コイル基板21のシ−トコイル23Bである。しか
しながら、シ−トコイル23Bは、コア装着孔15の中
心軸Lから半径方向に距離W1だけ離して形成される。
このため、漏洩磁界がシ−トコイル23Bに及ぼす影響
はここでも低減される。
【0022】ギャップGから遠く離れるにつれ、漏洩磁
界の影響は少なくなる。すなわち、一次コイル基板21
の表面に形成されたシ−トコイル23Aに漏洩磁界が及
ぼす影響は少なくなる。このため、ギャップGから遠く
離れるほど、コア装着孔15に隣接してシ−トコイルを
形成することができる。換言すると、ギャップGから遠
く離れるほど、シ−トコイルを形成することができる領
域が広くなる。従って、シ−トコイル24、23B、2
3Aの順番に、コア装着孔15に隣接する部分のシ−ト
コイルのパタ−ン幅を広くすることができる。このた
め、ギャップGから遠く離れるほどシ−トコイルの抵抗
が小さくなり、エネルギ−損が低減される。
【0023】なお、上述した実施例では、シ−トコイル
24からなる二次コイルが2タ−ンの場合を例示した。
シ−トコイル23からなる一次コイルとの関係からシ−
トコイル24が複数タ−ン設けられる場合には、コア装
着孔15に隣接するシ−トコイル24のパタ−ン幅は、
中心側の端部に向かって徐々に細くなるように形成され
る。
【0024】また、上述した実施例では、コア装着孔1
5の中心軸Lから半径方向の距離W1の領域内にシ−ト
コイル23Bを設けないようにするため、コア装着孔1
5に隣接するシ−トコイル23Bのパタ−ン幅を中心側
の端部に向かって徐々に細くなる場合を例示した。しか
しながら、シ−トコイル23Bは必ずしもこのようにす
る必要がなく、距離W1から一次コイル基板21の外周
端の間の領域にシ−トコイル23Bを設ければ良い。す
なわち、この領域に、タ−ン数を変えること無く均一の
パタ−ン幅のシ−トコイル23Bを配置形成しても良
い。なお、シ−トコイル24についても同様である。
【0025】
【発明の効果】本発明は、上述のような構成であるから
次のような効果を有する。すなわち、コイル装置を構成
する積層シ−トコイルに装着されたコアのギャップから
発生する漏洩磁界の磁束の通過を避けて、シ−トコイル
が配置形成される。このため、シ−トコイルに発生する
渦電流は小さくなる。またギャップから離れるほど、コ
ア装着孔に隣接してシ−トコイルを配置することができ
るので、シ−トコイルのパタ−ン幅を広くすることがで
きる。このため、シ−トコイルの抵抗が小さくなる。従
って、シ−トコイルにおけるエネルギ−損が低減され、
高効率のコイル装置を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のコイル装置の断面図である。
【図2】従来のコイル装置の分解斜視図である。
【図3】従来のコイル装置の断面図である。
【図4】従来の積層シ−トコイルを構成する一次コイル
基板と二次コイル基板の配置を示す図である。
【符号の説明】
1 積層シ−トコイル 2 コア 3、21 一次コイル基板 4、22 二次コイル基板 5、9 絶縁基板 8、12 貫通孔 6、10、23A、23B、24 コイルシ−ト 7、11 スル−ホ−ル 15 コア装着孔 G ギャップ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 複数のシ−トコイルが積層形成された積
    層シ−トコイルと、該積層シ−トコイルに設けられたコ
    ア装着孔と、該コア装着孔の内部にギャップを設けて装
    着されたコアとを備えたコイル装置において、前記ギャ
    ップの位置に近いほど前記シ−トコイルを前記ギャップ
    から離して形成したことを特徴とするコイル装置。
JP32178795A 1995-12-11 1995-12-11 コイル装置 Pending JPH09162035A (ja)

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JP32178795A JPH09162035A (ja) 1995-12-11 1995-12-11 コイル装置

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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20040113