JPH09148406A - 基板搬送装置 - Google Patents

基板搬送装置

Info

Publication number
JPH09148406A
JPH09148406A JP7329890A JP32989095A JPH09148406A JP H09148406 A JPH09148406 A JP H09148406A JP 7329890 A JP7329890 A JP 7329890A JP 32989095 A JP32989095 A JP 32989095A JP H09148406 A JPH09148406 A JP H09148406A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
transfer
arm
transfer arm
pressure contact
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP7329890A
Other languages
English (en)
Inventor
Manabu Yabe
学 矢部
Koji Uchitani
耕二 内谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Priority to JP7329890A priority Critical patent/JPH09148406A/ja
Publication of JPH09148406A publication Critical patent/JPH09148406A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 基板搬送中の搬送アームからの基板の飛び出
しを防止する。 【解決手段】 基板Wの外周端部付近を支持するC型の
搬送アーム1と、搬送アーム1を駆動する搬送駆動機構
2とを有し、搬送アーム1に基板Wが支持された状態で
搬送アーム1が搬送駆動機構2に駆動されてその基板W
が搬送されるとともに、所定の受渡し位置で搬送アーム
1と所定の基板受渡し対象との間で基板Wの受渡しが行
なわれる基板搬送装置3において、基板Wの外周端部付
近を下方から載置支持する載置支持部材4と、基板Wの
外周端縁に非接触な非作用状態と、基板Wの外周端縁を
圧接する作用状態とをとりように開閉自在に構成された
圧接部材5とが搬送アーム1に付設され、圧接部材5を
開閉駆動する開閉駆動機構6を備えた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えば、半導体製
造装置(基板処理装置)などに備えられる基板搬送装置
に係り、特には、半導体ウエハ(基板)の外周端部付近
を支持するC型の搬送アームと、搬送アームを駆動する
搬送駆動手段とを有し、搬送アームに基板が支持された
状態で搬送アームが搬送駆動手段に駆動されてその基板
が搬送されるとともに、所定の受渡し位置で搬送アーム
と所定の基板受渡し対象との間で基板の受渡しが行なわ
れる基板搬送装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来のこの種の基板搬送装置は、基板の
外周端部付近を支持するC型の搬送アームを備えてい
る。この搬送アームには、基板の外周端部付近を下方か
ら載置支持する載置支持部材と、載置支持部材に載置支
持された基板の水平方向への移動を規制するための水平
規制部材とが付設されている。水平規制部材は、基板が
載置支持部材に載置支持された状態で基板の外周端縁の
外側に配置されるような予め決められた所定の位置に配
置されて搬送アームに固設されている。
【0003】また、基板搬送装置には、上記搬送アーム
を駆動する搬送駆動機構が備えられている。この搬送駆
動機構が搬送アームを駆動することで、基板は、外周端
部付近が載置支持部材に載置支持され、水平規制部材に
よって水平方向への移動が規制された状態で基板の搬送
が行なわれるとともに、所定の受渡し位置で搬送アーム
と基板処理部などの受渡し対象との間で基板の受渡しが
行なわれる。
【0004】この種の基板搬送装置は、例えば、基板
(半導体ウエハ)に対してフォトリソグラフィ工程のう
ちの露光処理前後の各種の基板処理(レジスト塗布や現
像、各種のベーク処理など)を施すための、レジスト塗
布用のスピンコーターや、現像用のスピンデベロッパ
ー、ベーク処理用の熱処理部(複数台の基板加熱処理部
や基板冷却処理部が鉛直方向に積層されるとともに、水
平1軸方向にも並設されて構成される)などを備えた基
板処理装置に備えられ、基板処理装置内での基板の搬送
や、スピンコーターやスピンデベロッパー、基板加熱処
理部、基板冷却処理部などの各種の基板処理部に対する
基板の搬入/搬出(各基板処理部に対する基板の受渡
し)などを行なう。
【0005】このような基板処理装置は、基板加熱処理
部や基板冷却処理部が並設される水平1軸方向に、スピ
ンコーターやスピンデベロッパーなどの薬液を使う基板
処理部を並設し、熱処理部と、スピンコーターやスピン
デベロッパーとを対向配置させ、その間に基板搬送装置
の基板搬送路を配置するように構成されている。
【0006】従って、基板搬送装置の搬送アームは、上
記基板搬送路に沿った水平1軸方向への移動が行なわれ
るとともに、基板搬送路上の搬送位置と、各基板処理部
内で基板を受け渡す受渡し位置との間で出退移動(水平
移動)されるように構成されている。また、例えば、鉛
直方向に積層される基板加熱処理部と基板冷却処理部と
の間の基板の搬送などのために鉛直方向に昇降可能に構
成され、さらに、例えば、対向配置される基板冷却処理
部とスピンコーターとの間の基板搬送において、上記出
退移動の方向を略180°転換するために、鉛直軸周り
に旋回されるようにも構成されている。このように、こ
の種の基板搬送装置は、搬送アームが複数の動作を行な
えるように構成されていて、搬送アームを駆動する搬送
駆動機構は、例えば、搬送アームを基板搬送路に沿った
水平1軸方向へ移動させる水平移動駆動機構や、鉛直方
向へ昇降させる昇降駆動機構、鉛直軸周りに旋回させる
旋回駆動機構、搬送位置と受渡し位置との間で搬送アー
ムを出退移動させる出退駆動機構などを備えて構成され
ている。なお、それぞれの駆動機構にはモーターなどの
駆動源を備えている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、基板処理装置全体のスループットの向
上を図るために、最近では、基板搬送装置による基板の
搬送時間の短縮化が図られる傾向にある。そのため、上
記搬送アームの基板搬送中の動作速度(水平移動や昇
降、旋回などの速度)を高速化させるとともに、可能な
限り2つの動作を同時に行なわせるようにしている。
【0008】しかしながら、例えば、搬送アームを急速
に降下させながら急速に旋回させた場合のように、2つ
の動作を同時に、かつ、高速で行なった場合に、基板が
搬送アームから飛び出し、基板の一部が水平規制部材の
上に乗り上げて搬送アームが基板を斜めに支持した状態
になったり、場合によっては基板を落下させるような問
題が発生していた。
【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、基板搬送中における搬送アームからの
基板の飛び出しを防止し得る基板搬送装置を提供するこ
とを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記基板搬
送中の搬送アームからの基板の飛び出しの発生原因を調
査した結果、以下のような原因によることを突き止め
た。
【0011】すなわち、従来の基板搬送装置の水平規制
部材は、載置支持部材に載置支持された基板の水平方向
への移動を規制するために設けているに過ぎないので、
実質的には、基板は載置支持部材に外周端縁付近が下方
から載置支持されているだけであり、搬送アームが基板
を支持する力は、基板の重力による鉛直下方に向く力だ
けである。従って、搬送アームを急速に降下させながら
旋回させた場合のように、2つの動作が同時に、かつ、
高速で行なわれた場合には、搬送アームが基板を支持す
る力では、搬送アームの動きに追従できず、基板が搬送
アームから飛び出してしまうものと推測される。
【0012】また、基板の寸法(直径)には規格上、許
容誤差が認められているので、誤差許容範囲内の寸法の
大きな基板が水平規制部材の内側に収まるように水平規
制部材の取付け位置が決められている。従って、標準の
寸法の基板を含む誤差許容範囲内の寸法の小さな基板が
搬送アームに支持された状態では、その基板の外周端縁
と水平規制部材との間には若干ながら隙間が形成される
ことになり、そのような隙間によって、上記搬送アーム
からの基板の飛び出しが起き易くなることも考えられ
る。
【0013】さらに、基板処理装置自体からの機械振動
や、基板処理装置の周囲に配置される装置、例えば、基
板を複数枚収納した搬送用のキャリアを複数の基板処理
装置間で搬送するキャリアの自動搬送装置(Auto Guide
d Vehicle :AGV)などからの振動が、搬送中の基板
に伝わることも考えられ、このような振動の影響によっ
て上記搬送アームからの基板の飛び出しが一層助長され
るものと考えられる。
【0014】そこで、このような事実に鑑み、本発明者
は、上記不都合を解消し得る以下の発明をなした。
【0015】すなわち、本発明者がなした発明のうち、
請求項1に記載の発明は、半導体ウエハ(以下、「基
板」という)の外周端部付近を支持するC型の搬送アー
ムと、前記搬送アームを駆動する搬送駆動手段とを有
し、前記搬送アームに基板が支持された状態で前記搬送
アームが前記搬送駆動手段に駆動されてその基板が搬送
されるとともに、所定の受渡し位置で前記搬送アームと
所定の基板受渡し対象との間で基板の受渡しが行なわれ
る基板搬送装置において、前記基板の外周端部付近を下
方から載置支持する載置支持手段と、前記基板の外周端
縁に非接触な非作用状態と、前記基板の外周端縁を圧接
する作用状態とをとるように開閉自在に構成された圧接
手段と、が前記搬送アームに付設され、かつ、前記圧接
手段を開閉駆動する開閉駆動手段を備えたものである。
【0016】また、請求項2に記載の発明は、上記請求
項1に記載の基板搬送装置において、前記開閉駆動手段
の駆動源を、前記搬送駆動手段の駆動源と別に設けたも
のである。
【0017】また、請求項3に記載の発明は、上記請求
項1に記載の基板搬送装置において、前記搬送アーム
は、前記基板の受渡しのために、前記受渡し位置と、前
記基板を搬送する所定の搬送位置との間で出退移動さ
れ、前記搬送駆動手段は、前記搬送アームの受渡し位置
と搬送位置との間の出退移動を行なう出退駆動手段を備
えており、かつ、前記開閉駆動手段は、前記出退駆動手
段により搬送アームが出退移動する過程で、前記受渡し
位置の近傍に固定設置された部材に係合して前記圧接手
段の開閉が行なわれる機械機構で構成されているもので
ある。
【0018】
【作用】本発明の作用は次のとおりである。すなわち、
請求項1に記載の発明によれば、開閉駆動手段は、基板
の搬送中、圧接手段を作用状態にし、基板の受渡しの際
には圧接手段を非作用状態にするように開閉駆動する。
従って、基板の搬送中、基板の外周端縁付近が載置支持
手段に下方から載置支持され、かつ、圧接手段が基板の
外周端縁を圧接しており、基板の重力による力に加え
て、圧接手段が圧接する力が基板の外周端縁に作用する
ので、基板の搬送中に搬送アームから基板が飛び出すの
を防止し得るようになった。また、基板の受渡しの際に
は圧接手段が非作用状態になって、圧接手段が基板の外
周端縁に非接触になり、基板は載置支持手段に載置支持
されているだけになるので、基板の受渡しのために搬送
アームから基板が取り出されたり、搬送アームが基板を
受け取ったりする動作を圧接手段が妨げない。
【0019】請求項2に記載の発明によれば、圧接手段
の開閉を駆動する開閉駆動手段の駆動源を、搬送アーム
の搬送駆動手段の駆動源と別に設けたので、搬送アーム
の駆動と独立して圧接手段の開閉を行なわせることがで
き、搬送アームの駆動のタイミングに拘束されずに、圧
接手段の開閉を任意(所望)のタイミングで行なわせる
ことが可能となる。
【0020】また、請求項3に記載の発明では、搬送ア
ームは、基板の受渡しのために、受渡し位置と、基板を
搬送する所定の搬送位置との間で出退移動され、搬送駆
動手段は、搬送アームの受渡し位置と搬送位置との間の
出退移動を行なう出退駆動手段を備えている。そして、
圧接手段の開閉を駆動する開閉駆動手段は、出退駆動手
段により搬送アームが出退移動する過程で、受渡し位置
の近傍に固定設置された部材に係合して圧接手段の開閉
が行なわれる機械機構で構成されている。つまり、開閉
駆動手段に特別な駆動源を設けずに、出退駆動手段によ
る搬送アームの出退移動を利用した機械的な機構で開閉
駆動手段を構成したので、上記請求項2に記載の発明に
比べて構成が簡単になる。
【0021】
【発明の実施の形態】請求項1に記載の発明の実施の形
態を図1を参照して説明する。図1(a)は、請求項1
に記載の発明の実施の形態に係る基板搬送装置の概略構
成を示す平面図、図1(b)は、図1(a)の要部の構
成を示す縦断面図である。なお、図1(b)は、図1
(a)のA1部分の要部の縦断面図であるが、他のA
2、A3部分の要部も図1(b)と同様に構成されてい
る。
【0022】図1に示すように、請求項1に記載の発明
は、半導体ウエハ(基板)Wの外周端部付近を支持する
C型の搬送アーム1と、この搬送アーム1を駆動する搬
送駆動機構(搬送駆動手段)2とを有し、搬送アーム1
に基板Wが支持された状態で搬送アーム1が搬送駆動機
構2に駆動されてその基板Wが搬送されるとともに、所
定の受渡し位置で搬送アーム1と所定の基板受渡し対象
(例えば、この基板搬送装置3が備えられる基板処理装
置内の基板処理部など)との間で基板Wの受渡しが行な
われる基板搬送装置3において、基板Wの外周端部付近
を下方から載置支持する載置支持部材(載置支持手段)
4と、基板Wの外周端縁に非接触な非作用状態(図の想
像線で示す状態)と、基板Wの外周端縁を圧接する(基
板Wの外周端縁に接触し、かつ、基板Wの外周端縁を内
側に押し込む)作用状態(図の実線で示す状態)とをと
るように開閉自在に構成された圧接部材(圧接手段)5
とが搬送アーム1に付設され、かつ、圧接部材5を開閉
駆動する開閉駆動機構(開閉駆動手段)6を備えたこと
を特徴としている。
【0023】なお、図の搬送アーム1は、基板Wの外周
端縁に沿った形状の湾曲部1aと、湾曲部1aの複数か
所(図では3か所)に形成された部材支持部1bと、搬
送アーム1とアーム支持台7とを連結する連結部1c
と、湾曲部1aと連結部1cとを連結するブリッジ部1
dを有している。部材支持部1bは、湾曲部1aの上面
より1段低く形成され、その上面に圧接部材5が付設さ
れ、その側面に載置支持部材4が付設されている。
【0024】また、この種の搬送アーム1は、連結部1
cを介して搬送アーム1を支持するアーム支持台7とと
もに、例えば、水平移動(図のX軸方向の移動)や昇降
(図1(a)の紙面に垂直な方向で、図1(b)のZ軸
方向への移動)、鉛直軸(図1(a)の紙面に垂直な軸
で、図1(b)のZ軸に平行な軸)周りの旋回などがな
されて基板Wの搬送が行なわれるとともに、例えば、図
1(a)において連結部1cをアーム支持台7に対して
Y軸方向にスライド移動させることでアーム支持台7に
対して搬送アーム1が出退され、搬送アーム1がアーム
支持台7上に後退した状態(搬送位置)と、アーム支持
台7から搬送アーム1が送り出された状態(受渡し位
置)との間で搬送アーム1が水平移動され、受渡し位置
において基板Wの受渡しが行なわれる。
【0025】そのため、搬送駆動機構2は、搬送アーム
1の複数の動作を実現するために、例えば、水平移動駆
動機構2aや昇降駆動機構2b、旋回駆動機構2c、出
退駆動機構2dなどを備えている。これら駆動機構2a
〜2dは従来の基板搬送装置にも備えられているもの
で、例えば、水平移動駆動機構2aや昇降駆動機構2
b、出退駆動機構2dは、モーター(駆動源)、ネジ
軸、ガイド軸などで構成される周知の1軸方向駆動機構
で構成され、旋回駆動機構2cはモーター(駆動源)の
回転力を伝導させることにより実現される。これら各駆
動機構2a〜2dは、搬送駆動制御部8により制御され
る。
【0026】開閉駆動機構6の具体的な構成は、後述す
る請求項2、3に記載の発明の実施の形態において明ら
かにする。
【0027】図1においては、3個の圧接部材5が設け
られていて、これら圧接部材5が作用状態において、基
板Wの外周端縁を3か所から圧接する。
【0028】この図1に示す基板搬送装置3によれば、
開閉駆動機構6は、基板Wの搬送中、圧接部材5を作用
状態にし、基板Wの受渡しの際には圧接部材5を非作用
状態にするように開閉駆動する。これにより、基板Wの
搬送中、基板Wの外周端縁付近が載置支持部材4に下方
から載置支持され、かつ、圧接部材5が基板Wの外周端
縁を(3か所から)圧接しており、基板Wの重力による
力に加えて、圧接部材5が圧接する力が基板Wの外周端
縁に作用するので、基板Wの搬送中に搬送アーム1から
基板Wが飛び出すのを防止することができる。また、基
板Wの受渡しの際には圧接部材5が非作用状態になっ
て、圧接部材5が基板Wの外周端縁に非接触になり、基
板Wは載置支持部材4に載置支持されているだけになる
ので、基板Wの受渡しのために搬送アーム1から基板W
が取り出されたり、搬送アーム1が基板Wを受け取った
りする動作を圧接部材5が妨げることがない。
【0029】次に、請求項2に記載の発明の実施の形態
を図2を参照して説明する。図2(a)は、請求項2に
記載の発明の実施の形態に係る基板搬送装置の概略構成
を示す平面図、図2(b)は、図2(a)の要部を拡大
した拡大平面図、図2(c)は、図2(a)の要部の構
成を示す縦断面図、図2(d)は、搬送アームを基端部
側から見た一部省略背面図である。なお、図2(b)、
図2(c)は、図2(a)のA1部分の要部の拡大図、
縦断面図であるが、他のA2、A3部分の要部も図2
(b)、図2(c)と同様に構成されている。また、図
1と同一符号を付している部分で、特に説明しない部分
は図1と同一構成である。
【0030】この請求項2に記載の発明は、上記請求項
1に記載の基板搬送装置3において、開閉駆動機構6の
駆動源を、搬送駆動機構2の駆動源と別に設けたことを
特徴としている。
【0031】具体的には、図2によって実現されてい
る。各圧接部材5は、「く」の字型の部材で構成され、
基端部側の揺動部5aと、作用状態において基板Wの外
周端縁を圧接する先端部側の圧接部5bとからなる。揺
動部5aの基端部は、搬送アーム1に立設された揺動支
点軸10に軸支されて圧接部材5は揺動可能に構成され
ている。この揺動支点軸10には、ネジリコイルバネ1
1が嵌め込まれ、ネジリコイルバネ11の基端部11a
は搬送アーム1の上面に固定されるとともに、先端部1
1bは圧接部材5(揺動部5a)の下面に固定されてい
る。これにより、各圧接部材5は、図の一点鎖線の矢印
方向に付勢され、後述するように非作用状態から作用状
態への閉動作がなされるとともに、作用状態で基板Wの
外周端縁を圧接する。
【0032】各圧接部材5の揺動部5aの基端部には、
ワイヤー12の一端側が連結されている。各ワイヤー1
2は、搬送アーム1の湾曲部1a、搬送アーム1に新た
に設けたブリッジ部1eに沿って配設されたチューブ1
3(なお、図2(a)ではチューブ13の図示を省略し
ている)内を通されて搬送アーム1の基端部に導かれ、
各ワイヤー12の他端側が搬送アーム1の基端面に固設
されているエアシリンダ14のロッド14aの先端部に
連結されている。
【0033】エアシリンダ14のロッド14aを収縮さ
せると、各ワイヤー12が搬送アーム1の基端部側に引
かれ、これにより、各圧接部材5は図2(b)の二点鎖
線に示すように作用状態から非作用状態へと開かれる。
一方、エアシリンダ14のロッド14aを伸長させる
と、エアシリンダ14のロッド14aを収縮させた状態
に比べて各ワイヤー12が緩み、各ネジリコイルバネ1
1の復元力によって、各圧接部材5は図2(b)の実線
に示すように非作用状態から作用状態へと閉じられる。
すなわち、この構成においては、符号10〜14などで
示す部材や、後述するエア供給管15、エア供給源1
6、開閉駆動制御部17などが開閉駆動機構6を構成
し、エアシリンダ14(より厳密にはエアシリンダ14
とネジリコイルバネ11)が開閉駆動機構6の駆動源に
なり、搬送駆動機構2の駆動源(モーターなど)と別に
設けている。
【0034】なお、エアシリンダ14のロッド14aが
伸長された状態で、各圧接部材5が基板Wの外周端縁に
接触しただけで各ワイヤー12の緩みが無くなると、各
圧接部材5が基板Wの外周端縁を圧接しないことになる
ので、作用状態において、各圧接部材5が基板Wの外周
端縁を圧接する(外周端縁に接触し、かつ、基板Wの外
周端縁を内側に押し込む力が働く)ようにするために、
各圧接部材5が基板Wの外周端縁に接触した状態でなお
各ワイヤー12に若干の緩みができるようにエアシリン
ダ14のロッド14aの伸縮のストロークがとられてい
る。
【0035】エアシリンダ14に駆動エアを供給するエ
ア供給管15は、アーム支持台7に導かれてエア供給源
16(このエア供給源16はアーム支持台7内に設けら
れていてもよい)に連通接続されている。なお、アーム
支持台7に対して搬送アーム1が出退される場合には、
搬送アーム1の出退を許容するようにエアシリンダ14
とアーム支持台7との間のエア供給管15の長さを充分
に長くすればよい。また、搬送アーム1がアーム支持台
7から送り出されるときには、エア供給管15がアーム
支持台7から引き出され、一方、搬送アーム1が後退さ
れるときには、余分なエア供給管15がアーム支持台7
内に収納されるように構成してもよい。
【0036】エア供給源16の駆動制御(エアシリンダ
14のロッド14aの伸縮の駆動制御)は、開閉駆動制
御部17が、例えば、搬送駆動制御部8からのタイミン
グ信号を受けて制御する。
【0037】例えば、所定の受渡し位置で搬送アーム1
が基板Wを受け取るときには、例えば、搬送アーム1が
所定の受渡し位置に位置されたことを示すタイミング信
号を搬送駆動制御部8から受け取り、この信号に基づ
き、搬送アーム1が基板Wを受け取る前にエアシリンダ
14のロッド14aを収縮させて各圧接部材5を非作用
状態に開かせておいて、各圧接部材5が搬送アーム1へ
の基板Wの受け取りの妨げにならないようにする。そし
て、基板Wが受け取られる(載置支部部材4に載置支持
される)と、例えば、基板搬送の開始を示すタイミング
信号を搬送駆動制御部8から受け取り、この信号に基づ
き、基板Wの搬送と同時にエアシリンダ14のロッド1
4aを伸長させて各圧接部材5を作用状態し、受け取っ
た基板Wの外周端縁が各圧接部材5に圧接されるように
する。そして、その状態を維持して基板Wの搬送が行な
われる。なお、本来の搬送の開始のタイミングで搬送駆
動制御部8が基板搬送の開始を示すタイミング信号を開
閉駆動制御部17に出し、基板Wの実際の搬送をそれか
ら若干遅らせて開始するようにすれば、基板Wの搬送の
前に、受け取った基板Wの外周端縁を各圧接部材5に圧
接させておくこともできる。
【0038】また、搬送アーム1が基板Wを支持した状
態で、所定の受渡し位置で搬送アーム1からその基板W
が取り出されるときには、例えば、搬送アーム1が所定
の受渡し位置に位置されたことを示すタイミング信号を
搬送駆動制御部8から受け取り、この信号に基づき、基
板Wが取り出される前にエアシリンダ14のロッド14
aを収縮させて各圧接部材5を非作用状態に開かせてお
いて、各圧接部材5が搬送アーム1からの基板Wの取り
出しの妨げにならないようにする。以後は上記したよう
に所定の受渡し位置で搬送アーム1が次の基板Wを受け
取る動作が繰り返される。
【0039】なお、搬送駆動制御部8は、搬送駆動機構
2(2a〜2d)の駆動源を駆動して搬送アーム1を駆
動するので、搬送アーム1が所定の受渡し位置に位置さ
れたことや、基板Wの受け取り後の搬送の開始のタイミ
ングなどを搬送駆動制御部8は認識している。
【0040】また、圧接部材5に対する開閉駆動制御
は、搬送駆動制御部8からのタイミング信号に基づいて
行なわれることに限らず、例えば、搬送アーム1が所定
の受渡し位置に位置したことを検出するセンサを設け、
このセンサからの検出信号に基づいて行なうことも可能
である。
【0041】次に、アーム支持台7に対して搬送アーム
1が出退され、搬送アーム1がアーム支持台7の上に後
退している状態の搬送アーム1の位置が搬送位置、搬送
アーム1がアーム支持台7から送り出された状態の搬送
アーム1の位置が受渡し位置とした場合の圧接部材5に
対する開閉駆動制御について説明する。
【0042】この場合、所定の受渡し位置で搬送アーム
1が基板Wを受け取るときには、まず、出退駆動機構2
dにより、搬送アーム1がアーム支持台7から送り出さ
れて搬送位置から受渡し位置へと移動される。このと
き、例えば、搬送アーム1の送り出しの開始を示すタイ
ミング信号を搬送駆動制御部8から受け取り、その信号
に基づき、搬送アーム1の搬送位置から受渡し位置への
送り出しと同時にエアシリンダ14のロッド14aを収
縮させて各圧接部材5を非作用状態に開かせるようにし
てもよいし、搬送アーム1の送り出しが完了し、搬送ア
ーム1が受渡し位置に位置していることを示すタイミン
グ信号を搬送駆動制御部8から受け取り、その信号に基
づき、搬送アーム1が受渡し位置に位置するとすぐにエ
アシリンダ14のロッド14aを収縮させてもよい。さ
らに、例えば、受渡し位置の手前の、搬送位置と受渡し
位置との間の所定の位置に搬送アーム1が位置したこと
を検出するセンサを設け、このセンサからの検出信号に
基づき、エアシリンダ14のロッド14aを収縮させ、
搬送アーム1が受渡し位置に位置したとき、あるいは、
受渡し位置に位置する直前に各圧接部材5が非作用状態
へ開く動作が完了しているようにしてもよい。
【0043】次に、基板Wが搬送アーム1に受け取られ
る(載置支部部材4に載置支持される)と、例えば、搬
送アーム1の受渡し位置から搬送位置への後退の開始を
示すタイミング信号を搬送駆動制御部8から受け取り、
この信号に基づき、搬送アーム1の後退と同時にエアシ
リンダ14のロッド14aを伸長させて各圧接部材5を
作用状態へ閉じさせるようにしてもよいし、本来の搬送
アーム1の後退の開始のタイミングで搬送駆動制御部8
が搬送アーム1の後退の開始を示すタイミング信号を開
閉駆動制御部17に出し、搬送アーム1の実際の後退を
それより若干遅らせて開始させ、搬送アーム1の後退の
開始の前に、受け取った基板Wの外周端縁を圧接部材5
に圧接されておくようにしてもよい。また、載置支持部
材4に基板Wが載置されたことを検出するセンサなどを
設け、このセンサからの検出信号に基づき、載置支持部
材4に基板Wが載置される(基板Wが受け取られる)と
すぐに、あるいは、若干の時間の経過後にエアシリンダ
14のロッド14aを伸長させてもよい。なお、この場
合、基板Wが受け取られた後、搬送アーム1の後退が開
始されるまでの間に、受け取った基板Wの外周端縁が圧
接部材5に圧接されているように制御する方が好まし
い。
【0044】そして、受け取った基板Wの外周端縁が圧
接部材5に圧接されている状態を維持し、搬送位置に位
置されてからアーム支持台7とともに搬送アーム1が水
平移動や昇降、旋回が高速に、かつ、可能な限り2つの
動作が同時になされて基板Wの搬送が行なわれる。
【0045】また、搬送アーム1が搬送位置から受渡し
位置に送り出され、受渡し位置で搬送アーム1が支持し
ている基板Wを取り出させるときの圧接部材5に対する
開閉駆動制御は、上述した受渡し位置で搬送アーム1が
基板Wを受け取るときの場合の圧接部材5に対する開閉
駆動制御と同様に行なえばよいが、この場合には、搬送
アーム1が受渡し位置に位置された後、基板Wが取り出
されるまでの間に、圧接部材5が非作用状態に開かれて
いるように開閉駆動制御する方が好ましい。
【0046】なお、各圧接部材5の開閉の駆動源をエア
シリンダ14に代えて、モーターなどで構成することも
可能である。例えば、モーターの回転軸に各ワイヤー1
2の端部(搬送アーム1の基端部側の端部)を巻回する
ボビンを連結すれば、モーターの正逆方向の回転駆動に
より各ワイヤー12のボビンへの巻取り(各ワイヤー1
2を搬送アーム1の基端部へ引っ張る動作)と、各ワイ
ヤー12のボビン21からの送り出し(各ワイヤー12
を緩ませる動作)とを行なわせることができる。
【0047】上記図2やその変形例のように開閉駆動機
構6の駆動源を搬送駆動機構2の駆動源と別に設けた基
板搬送装置3によれば、搬送アーム1の駆動と独立して
圧接部材5の開閉を行なわせることができ、後述する請
求項3に記載の発明の実施の形態のように搬送アーム1
の駆動のタイミングに拘束されず(従属せず)に、例え
ば、基板Wを受け取った後、搬送アーム1の動作と同時
に圧接部材5の開閉を行なわせたり、搬送アーム1の動
作の前に圧接部材5の開閉を行なわせるなど、圧接部材
5の開閉を任意(所望)のタイミングで行なわせること
ができる。
【0048】次に、請求項3に記載の発明の実施の形態
を図3を参照して説明する。図3(a)は、請求項3に
記載の発明の実施の形態に係る基板搬送装置の概略構成
を示す平面図、図3(b)は、搬送アームが受渡し位置
の若干手前に位置している状態を示す一部省略平面図、
図3(c)は、搬送アームが受渡し位置に位置している
状態を示す一部省略平面図である。なお、図1、図2と
同一符号を付している部分で、特に説明しない部分は、
図1、図2と同一構成である。
【0049】この請求項3に記載の発明は、上記請求項
1に記載の基板搬送装置3において、搬送アーム1は、
基板Wの受渡しのために、受渡し位置(搬送アーム1が
アーム支持台7から送り出された状態の搬送アーム1の
位置)と、基板Wを搬送する所定の搬送位置(搬送アー
ム1がアーム支持台7の上に後退された状態の搬送アー
ム1の位置)との間で出退移動され、搬送駆動機構2
は、搬送アーム1の受渡し位置と搬送位置との間の出退
移動を行なう出退駆動機構2d(出退駆動手段)を備え
ており、かつ、開閉駆動機構6は、出退移動駆動2dに
より搬送アーム1が出退移動する過程で、受渡し位置の
近傍に固定設置された部材に係合して圧接部材5の開閉
が行なわれる機械機構で構成されていることを特徴とし
ている。
【0050】具体的には、図3によって実現されてい
る。すなわち、搬送アーム1の基端部付近に、揺動部材
20が揺動支点軸21に軸支させて揺動自在に取り付け
られている。各ワイヤー12の、搬送アーム1の基端部
側の端部は、この揺動部材20に連結されている。ま
た、搬送アーム1がアーム支持台7から送り出され受渡
し位置に位置される直前に上記揺動部材20に係合する
係合ピン22がアーム支持台7に立設されている。その
他の構成は、図2の基板搬送装置と同様である。なお、
図3の場合、符号10〜13、20〜22で示す部材か
らなる機械機構で開閉駆動機構6が構成される。
【0051】この図3の基板搬送装置3は、基板Wの受
渡しのために、アーム支持台7から搬送アーム1が送り
出されると、搬送アーム1が受渡し位置に位置される直
前に揺動部材20が係合ピン22に係合されて搬送アー
ム1の基端部側に揺動され、これにより、各ワイヤー1
2が搬送アーム1の基端部側に引っ張られ、各圧接部材
5が非作用状態へ開かれる。一方、例えば、受渡し位置
で受け取った基板Wを搬送位置に移動させるために、受
渡し位置に位置している搬送アーム1が後退されると、
受渡し位置から若干後退されたときに係合ピン22によ
る揺動部材20の係合が解除され、各ワイヤー12が緩
むので、ネジリコイルバネ11の復元力によって各圧接
部材5が受け取った基板Wの外周端縁を圧接する。
【0052】この図3に示す基板搬送装置3では、圧接
部材5の開閉が、搬送アーム1の出退動作に従属的に行
なわれるが、図2の基板搬送装置のようにエアシリンダ
14などの駆動源(エアシリンダ14など)を特別に付
設する必要がなくなり、それだけ装置の構成が簡単にな
る。
【0053】なお、図4(a)に示すように、各ワイヤ
ー12を基端部側で1本に束ねて揺動部材20に連結す
ることで、揺動部材20が係合ピン22に係合されて揺
動されたときに各ワイヤー12が引っ張られる長さを同
じにすることができる。
【0054】なお、図4(b)に示すように、ネジリコ
イルバネ11によって揺動部材20が搬送アーム1の先
端部方向へ必要以上に揺動されるのを規制するためのス
トッパー23を搬送アーム1(ブリッジ部1e)に設け
てもよい。
【0055】ところで、図2や図3などに示す基板搬送
装置3は、圧接部材5や、この圧接部材5を開閉駆動す
る開閉駆動機構6を備えているが、従来の基板搬送装置
をそれ程大型化することなく、比較的コンパクトに構成
されている。基板搬送装置3、特に搬送アーム1部分が
大型化すれば、搬送アーム1の動作の遅れを招いて搬送
速度の高速化の妨げになったり、後述する実施例におけ
る各種の基板処理部の搬入出口を大きくつくり替えなけ
ればならないなどの不都合を招来するが、図2や図3な
どに示す基板搬送装置3ではそのような不都合も回避し
得る。
【0056】また、例えば、受渡し位置に既に位置され
ている基板Wを受け取り、他の基板Wをその受渡し位置
に引き渡す、基板Wの入替え作業などを効率良く、短時
間で行なうために、図5に示すような、独立して出退が
可能な2個の搬送アーム1を備えた、いわゆるダブルア
ーム式の基板搬送装置3が用いられることもある。この
ような構成の基板搬送装置3の場合、2個の搬送アーム
1が上下に積層される関係で、特に下の搬送アーム1の
大型化は許されない。しかしながら、図2や図3などに
示す構成によれば、このようなダブルアーム式の基板搬
送装置3の双方の搬送アーム1に、圧接部材5や、この
圧接部材5を開閉駆動する開閉駆動機構6を無理無く設
けることができる。
【0057】なお、載置支持部材4と圧接部材5とを一
体的に構成すれば、一層の構成の簡素化が図れる。
【0058】また、図6(a)、(b)に示すように、
圧接部材5の圧接部5bにひさし部材5cを設ければ、
仮に、圧接部材5による圧接力に抗して基板Wが搬送ア
ーム1から飛び出そうとしても、ひさし部材5cによっ
て基板Wの搬送アーム1からの飛び出しを阻止すること
ができる。
【0059】さらに、図6(c)に示すように、基板W
の外周端縁に当接する圧接部材5(圧接部5b)の側面
に、「く」の字型の傾斜を設けることにより、圧接部材
5による圧接力に抗した基板Wの搬送アーム1からの飛
び出しを一層好適に阻止することができる。
【0060】また、先にも説明したように、基板Wの寸
法(直径)には規格上、許容誤差が認められており、従
来装置の水平規制部材は、誤差許容範囲内の寸法の大き
な基板に合わせて水平規制部材の取付け位置(固定する
位置)が決められているので、図7(a)に示すよう
に、標準の寸法の基板を含む誤差許容範囲内の寸法の小
さな基板Wが搬送アーム1に支持された状態では、その
基板Wの外周端縁と水平規制部材100との間には隙間
Sが形成されることになり、その隙間Sの範囲内で基板
Wの水平方向の移動が許容される。しかしながら、この
隙間Sは基板Wの誤差許容範囲内のコンマ数mmであるの
で、その隙間Sの範囲内での基板Wの水平移動自体は従
来大きな問題となっていなかった。
【0061】ところで、本発明の場合、例えば、図7
(b)に示すように、非接触状態での圧接部材5の位置
が従来の水平規制部材100の位置(一点鎖線で示す)
よりも外側に設定されている場合、搬送アーム1の移動
の前に圧接部材5の作用状態への閉動作が完了して圧接
部材5が基板Wの外周端縁を圧接していれば問題ないの
であるが、例えば、搬送アーム1の移動と同時に圧接部
材5の作用状態への閉動作が開始されるような場合に
は、搬送アーム1の移動開始から圧接部材5が基板Wの
外周端縁を圧接するまでの若干の時間ではあるが、基板
Wの水平方向への移動を従来装置よりも大きな範囲で許
容することが懸念される。
【0062】そこで、図7(c)に示すように、非接触
状態での圧接部材5の位置を従来の水平規制部材100
の位置(一点鎖線で示す)と同じ位置に設定しておくこ
とが好ましい。この位置調節は、圧接部材5を開動作さ
せるときに各ワイヤー12を引っ張る長さで調節するこ
とができるので、図2の装置の場合ではエアシリンダ1
4のロッド14aの伸縮のストロークなどで調節すれば
よいし、図3の装置では、例えば、干渉ピン22と揺動
支点軸21との間の間隔d(図3(b)参照)を調節す
るなどで揺動部材20の揺動角度を調節すればよい。な
お、このとき、非作用状態の圧接部材5で基板Wの水平
移動の規制を確実に行なうために、図7(c)、(d)
に示すように、圧接部材5に水平規制部5dを形成して
もよい。
【0063】また、従来装置と同様の水平規制部材10
0を図7(b)の二点鎖線のように設ければ、図7
(b)のように、非接触状態での圧接部材5の位置が従
来の水平規制部材100の位置(一点鎖線で示す)より
も外側に設定されていてもよい。
【0064】次に、基板(半導体ウエハ)に対してフォ
トリソグラフィ工程のうちの露光処理前後の各種の基板
処理(レジスト塗布や現像、各種のベーク処理など)を
施す基板処理装置に本発明に係る基板搬送装置を付設し
た実施例を説明する。
【0065】
【実施例】図8は、本発明に係る基板搬送装置を付設し
た基板処理装置の外観を示す一部省略斜視図であり、図
9は、その基板処理装置とインターフェースユニット
(I/Fユニット)と露光ユニット(一部)の概略構成
を示す平断面図、図10は、その基板処理装置の縦断面
図である。
【0066】この基板処理装置40は、本装置40に対
する基板Wの搬入出を行なうインデクサ50や、レジス
ト塗布用のスピンコーターSC(図では1台設置されて
いるが複数台設置されることもある)、現像用のスピン
デベロッパーSD(図では2台設置されているが、1台
または3台以上設置されることもある)、ベーク処理用
の熱処理部60、本発明に係る基板搬送装置3などをユ
ニット化して構成されている。
【0067】インデクサ50は、フォトリソグラフィ工
程の前工程の基板処理を施す前工程装置や、フォトリソ
グラフィ工程の次工程の基板処理を施す次工程装置との
間で複数枚の基板Wを収納して搬送するためのキャリア
Cを複数個(図では4個)載置するキャリア載置テーブ
ル51や、キャリア載置テーブル51に載置されたキャ
リアCと、基板搬送装置3との間の基板Wの受渡しを行
なうための基板搬入出ロボット52などを備えている。
なお、前工程装置とキャリア載置テーブル51との間の
キャリアCの搬送、および、キャリア載置テーブル51
と次工程装置との間のキャリアCの搬送は、図示しない
キャリアの自動搬送装置(AGV)によって行なわれ
る。
【0068】基板搬送装置3は、この装置40に付設さ
れた場合、搬送アーム1は、アーム支持台7に対して出
退可能に構成され、アーム支持台7から送り出された受
渡し位置で、後述するようにスピンコーターSCやスピ
ンデベロッパーSD、基板加熱処理部61、基板冷却処
理部62などに対する基板Wの受渡し(基板Wの搬入/
搬出)などが行なわれ、搬送アーム1がアーム支持台7
の上に後退された搬送位置において、搬送アーム1は、
アーム支持台7とともに水平移動(図のX軸方向に沿っ
て設けられている基板搬送路TRに沿った移動)、昇降
(図のZ軸方向の移動)、鉛直軸(図のZ軸に平行な
軸)周りの旋回が行なわれてスピンコーターSCやスピ
ンデベロッパーSD、基板加熱処理部61、基板冷却処
理部62などの間で基板Wを搬送する。なお、インデク
サ50の基板搬入出ロボット52との間の基板Wの受渡
しも、搬送アーム1がアーム支持台7から送り出された
受渡し位置で行なわれる。
【0069】この装置40に付設する基板搬送装置3
は、図2、図3やその変形例などのいずれの構成、また
は、図1の構成を実現するその他の構成であってもよ
い。また、図では、搬送アーム1が1個設けられてい
る、いわゆるシングルアーム式の基板搬送装置3を示し
ているが、図5で説明したダブルアーム式の基板搬送装
置3(載置支持部材4や圧接部材5、開閉駆動機構6な
どを備えている)であってもよく、基板処理装置40の
スループットの向上のためにはダブルアーム式の基板搬
送装置3である方が好ましい。
【0070】スピンコーターSCは、基板Wを水平姿勢
で保持し、モーター71によって鉛直軸周りに回転され
るスピンチャック72やレジスト液の供給機構73、レ
ジスト塗布処理中にレジスト液の周囲への飛散を防止す
る飛散防止カップ74などを備えている。スピンチャッ
ク72と飛散防止カップ74とは相対的に昇降可能に構
成されていて、基板搬送装置3の搬送アーム1による基
板WのスピンコーターSCへの搬入/搬出のとき、スピ
ンチャック72に対して飛散防止カップ74が相対的に
下方に降下され、飛散防止カップ74の干渉を無くして
基板搬送装置3の搬送アーム1とスピンチャック72と
の間の基板Wの受渡しが許容されるようになっている。
また、スピンコーターSCの側方および上方はカバーな
どで覆われ、そのカバー内に、レジスト塗布処理に適し
た温度、湿度に調節された気流がスピンコーターSCの
上方よりダウンフローで流されるようになっている。基
板搬送装置3側のカバーには、基板搬送装置3による基
板WのスピンコーターSCへの搬入/搬出のために搬送
アーム1が通る搬入出口75が設けられている。この搬
入出口75には開閉自在のシャッター76が設けられて
いて、基板搬送装置3による基板WのスピンコーターS
Cへの搬入/搬出のときだけ搬入出口75が開かれるよ
うに構成されている。
【0071】基板搬送装置3からスピンコーターSCへ
の基板Wの引渡しは、例えば、以下のように行なわれ
る。まず、シャッター76が開かれ、スピンチャック7
2に対して飛散防止カップ74が相対的に降下される。
次に、基板Wを支持している搬送アーム1が、アーム支
持台7から送り出されて搬入出口75を通り、スピンチ
ャック1の若干上方に進入する。そして、圧接部材5が
非作用状態に開かれた状態で、搬送アーム1(アーム支
持台7)が所定量降下して基板Wをスピンチャック1の
上に載置させ、搬送アーム1が後退されて搬送位置に戻
される。搬送アーム1の後退後にシャッター76が閉じ
られ、スピンチャック72に対して飛散防止カップ74
が相対的に上昇され、スピンチャック72に載置支持さ
れた基板Wはスピンチャック72に真空吸着される。
【0072】基板搬送装置3によるスピンコーターSC
からの基板Wの受け取りは、例えば、上記引渡しと略逆
の動作で行なわれる。すなわち、まず、シャッター76
が開かれ、スピンチャック72に対して飛散防止カップ
74が相対的に降下され、空の搬送アーム1が、スピン
チャック1に支持されている基板Wの若干下方に進入す
る。そして、スピンチャック72は基板Wの吸着を解除
し、圧接部材5が非作用状態に開かれた状態で搬送アー
ム1(アーム支持台7)が所定量上昇して基板Wを搬送
アーム1の載置支持部材4に載置して受け取る。その
後、圧接部材5が作用状態に閉じられ基板Wの外周端縁
を圧接部材5に圧接させるとともに、搬送アーム1が搬
送位置に後退される。搬送アーム1の後退後にシャッタ
ー76が閉じられ、スピンチャック72に対して飛散防
止カップ74が相対的に上昇される。
【0073】スピンデベロッパーSDは、スピンチャッ
ク81、現像液供給機構82、現像液などの周囲への飛
散を防止する飛散防止カップ83などを備え、その側方
および上方がカバーで覆われ、現像処理に適した温度、
湿度の気流がダウンフローで流されるように構成されて
いる。また、基板搬送装置3の搬送アーム1による基板
WのスピンデベロッパーSDへの搬入/搬出のために、
スピンチャック81と飛散防止カップ83とは相対的に
昇降可能に構成されている。さらに、このスピンデベロ
ッパーSDの基板搬送装置3側のカバーにも、スピンデ
ベロッパーSDへの基板Wの搬入/搬出用の搬入出口8
4が設けられ、搬入出口84には開閉自在のシャッター
(図示せず)も設けられている。
【0074】このスピンデベロッパーSDと基板搬送装
置3との間の基板Wの受渡しは、上述したスピンコータ
ーSCと基板搬送装置3との間の基板Wの受渡しと略同
様の動作で行なわれる。
【0075】スピンコーターSCとスピンデベロッパー
SDは図のX軸方向に並設されている。
【0076】熱処理部60は、基板Wを所定温度に加熱
するためのホットプレートHPを備えた基板加熱処理部
61や、基板加熱処理部61で加熱された基板Wを常温
付近の所定温度に冷却するためのクールプレートCPを
備えた基板冷却処理部62が複数個、図のZ軸方向に積
層されるとともに、図のX軸方向にも並設されて構成さ
れている。これら各基板加熱処理部61、基板冷却処理
部62には、基板Wを搬入/搬出するための搬入出口6
3、64が設けられ、それぞれ開閉自在のシャッター6
5、66も設けられていて、基板搬送装置3による基板
加熱処理部61や基板冷却処理部62に対する基板Wの
搬入/搬出のときだけ搬入出口63や64が開かれるよ
うに構成されている。また、基板加熱処理部61や基板
冷却処理部62にはそれぞれ、ホットプレートHPやク
ールプレートCPを貫通して昇降可能な複数本の昇降ピ
ン67が備えられている。
【0077】基板加熱処理部61と基板搬送装置3との
間の基板Wの受渡しと、基板冷却処理部62と基板搬送
装置3との間の基板Wの受渡しとは略同じであるので、
基板加熱処理部61と基板搬送装置3との間の基板Wの
受渡しを例に採って説明する。
【0078】基板搬送装置3から基板加熱処理部61へ
の基板Wの引渡しは、例えば、以下のように行なわれ
る。まず、シャッター65が開かれ、基板Wを支持して
いる搬送アーム1が、アーム支持台7から送り出されて
搬入出口63を通り、ホットプレートHPの上方に進入
する。そして、圧接部材5が非作用状態に開かれた状態
で、昇降ピン67が上昇して搬送アーム1の基板Wを搬
送アーム1の上方へ持ち上げて基板Wを受け取り、その
後、搬送アーム1が後退されて搬送位置に戻され、一方
で昇降ピン67が降下して基板WをホットプレートHP
の上に支持させる。搬送アーム1の後退後にシャッター
65は閉じられる。なお、昇降ピン67の降下は、昇降
ピン67が支持する基板Wが搬送アーム1と干渉しない
位置まで搬送アーム1が後退されてから行なわれる。
【0079】基板搬送装置3による基板加熱処理部61
からの基板Wの受け取りは、例えば、上記引渡しと略逆
の動作で行なわれる。すなわち、まず、シャッター65
が開かれ、昇降ピン67が上昇してホットプレートHP
上の基板WをホットプレートHPの上方に持ち上げる。
次に、ホッププレートHPの上方で、昇降ピン67に持
ち上げられた基板Wの若干下方に搬送アーム1が進入す
る。そして、圧接部材5が非作用状態に開かれた状態
で、昇降ピン67が降下され、この降下途中で、載置支
持部材4に基板Wが載置されて搬送アーム1に基板Wが
受け取られる。昇降ピン67と搬送アーム1との干渉が
無くなるまで昇降ピン67が降下されると、圧接部材5
が作用状態に閉じられ基板Wの外周端縁を圧接部材5に
圧接させるとともに、搬送アーム1を搬送位置に後退さ
せる。搬送アーム1の後退後にシャッター65は閉じら
れる。
【0080】スピンコーターSCやスピンデベロッパー
SDと、熱処理部60とは基板搬送装置3の基板搬送路
TRを挟んで対向対置されている。
【0081】この基板処理装置40には、IFユニット
IFUを介して露光ユニットRUが付設されている。
【0082】露光ユニットRUは、フォトリソグラフィ
工程のうちの露光処理を行うためのユニットで、縮小投
影露光機(ステッパー)などの露光機や、露光機での露
光の際の基板Wの位置合わせを行うアライメント機構、
露光ユニットRU内での基板Wの搬送を行う基板搬送装
置など(いずれも図示せず)をユニット化して構成され
ている。
【0083】IFユニットIFUは、基板処理装置40
と露光ユニットRUとの間で基板Wの受渡しを行うため
のユニットで、基板処理装置40内の基板搬送装置3か
ら受け取った露光前の基板WをIFユニットIFU内で
搬送して露光ユニットRU内の基板搬送装置に引き渡し
たり、露光ユニットRU内の基板搬送装置から受け取っ
た露光済の基板WをIFユニットIFU内で搬送して基
板処理装置40内の基板搬送装置3に引き渡す基板受渡
しロボット(図示せず)などを備えている。
【0084】この基板処理装置40では、基板搬送装置
3がインデクサ50の基板搬入出ロボット52から基板
Wを受け取ると、その基板Wを露光処理前の各種の基板
処理(例えば、レジスト塗布前ベーク、レジスト塗布前
の基板冷却、レジスト塗布、プリベーク、プリベーク後
の基板冷却など)を行なわせるために、処理の順序に従
って、基板加熱処理部61、基板冷却処理部62、スピ
ンコーターSCに基板Wを順次搬送し、露光前の基板処
理が終了すると、IFユニットIFUを介して露光ユニ
ットRUにその基板Wを受渡す。露光処理が終了してI
FユニットIFUから露光済の基板Wが基板搬送装置3
に渡されると、その基板Wを露光処理後の各種の基板処
理(例えば、露光後ベーク、現像前の基板冷却、現像、
ポストベーク、ポストベーク後の基板冷却など)を行な
わせるために、処理の順序に従って、基板加熱処理部6
1、基板冷却処理部62、スピンデベロッパーSDに基
板Wを順次搬送し、最後の基板処理が終了すると、その
基板Wをインデクサ50の基板搬入ロボット52に引き
渡す。この基板処理装置40内における基板搬送装置3
による、基板搬入出ロボット52、スピンコーターS
C、スピンデベロッパーSD、基板加熱処理部61、基
板冷却処理部62、IFユニットIFUの間での基板W
の搬送においては、基板搬送路TRに沿った水平移動や
昇降、旋回などが高速で行なわれ、例えば、降下しなが
ら旋回されるというように可能な限り2つの動作が組合
わされて行なわれるが、この基板搬送中は、圧接部材5
が基板Wの外周端縁を圧接しているので、基板Wが搬送
アーム1から飛び出すような不都合は防止される。
【0085】なお、搬送アーム1の出退動作は、基板W
の受渡しのために行なわれるので、他の動作を組み合わ
されることはなく、搬送アーム1がアーム支持台7上に
後退されて搬送位置に位置された後、基板搬送路TRに
沿った水平移動や、昇降、旋回が高速で、可能な限り2
つの動作が組合わされて基板Wの搬送が行なわれる。
【0086】なお、上述した実施例では、基板(半導体
ウエハ)に対してフォトリソグラフィ工程のうちの露光
処理前後の基板処理を施す基板処理装置に本発明に係る
基板搬送装置3を付設した場合について説明したが、そ
の他の装置(例えば、上記IFユニットIFUや露光ユ
ニットRUなど)に本発明に係る基板搬送装置3を付設
することで、基板Wの搬送アーム1からの飛び出しを防
止しつつ、それら装置(ユニット)内における基板Wの
搬送の高速化を図ることが可能となる。
【0087】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の発明によれば、基板の搬送中に、圧接手段で
基板の外周端縁を圧接するように構成したので、基板の
搬送中に基板を搬送アームへ支持する力を強めることが
でき、基板の搬送中に基板が搬送アームから飛び出すよ
うな不都合を防止することができる。従って、基板搬送
の高速化を図ることができ、振動の影響も受けない基板
搬送装置を実現することができる。
【0088】また、圧接手段は、作用状態と非作用状態
との間で開閉させるように構成したので、基板の搬送中
は作用状態に、基板の受渡しの際には非作用状態にする
ことで、基板の搬送中は基板の外周端縁に圧接部材を圧
接させて搬送アームからの基板の飛び出しを防止しつ
つ、一方で基板の受渡しの際には、基板の受渡しのため
に搬送アームから基板が取り出されたり、搬送アームが
基板を受け取ったりする動作を圧接手段が妨げることも
ない。
【0089】請求項2に記載の発明によれば、圧接手段
の開閉を駆動する開閉駆動手段の駆動源を、搬送アーム
の搬送駆動手段の駆動源と別に設けたので、搬送アーム
の駆動と独立して圧接手段の開閉を行なわせることがで
き、搬送アームの駆動のタイミングに拘束されずに、圧
接手段の開閉を任意(所望)のタイミングで行なわせ得
る基板搬送装置を実現することができる。
【0090】請求項3に記載の発明によれば、開閉駆動
手段に特別な駆動源を設けずに、出退駆動手段による搬
送アームの出退移動を利用した機械的な機構で開閉駆動
手段を構成したので、上記請求項2に記載の発明に比べ
て構成が簡単な基板搬送装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】請求項1に記載の発明の実施の形態に係る基板
搬送装置の概略構成を示す平面図とその要部の構成を示
す縦断面図である。
【図2】請求項2に記載の発明の実施の形態に係る基板
搬送装置の概略構成を示す平面図、その要部を拡大した
拡大平面図、その縦断面図、搬送アームを基端部側から
見た一部省略背面図である。
【図3】請求項3に記載の発明の実施の形態に係る基板
搬送装置の概略構成を示す平面図、搬送アームが受渡し
位置の若干手前に位置している状態を示す一部省略平面
図、搬送アームが受渡し位置に位置している状態を示す
一部省略平面図である。
【図4】請求項3に記載の発明の実施の形態に係る基板
搬送装置の変形例の要部構成を示す平面図である。
【図5】ダブルアーム式の基板搬送装置の構成を示す側
面図と正面図である。
【図6】本発明の実施の形態に係る基板搬送装置の変形
例の要部構成を示す縦断面図と平面図である。
【図7】水平規制を好適に行なうための構成を説明する
ための要部平面図である。
【図8】本発明に係る基板搬送装置を付設した基板処理
装置の外観を示す一部省略斜視図である。
【図9】図8の基板処理装置とインターフェースユニッ
ト(I/Fユニット)と露光ユニット(一部)の概略構
成を示す平断面図である。
【図10】図8の基板処理装置の縦断面図である。
【符号の説明】
1 … 搬送アーム 2 … 搬送駆動機構(搬送駆動手段) 2a … 水平移動駆動機構 2b … 昇降駆動機構 2c … 旋回駆動機構 2d … 出退駆動機構(出退駆動手段) 3 … 基板搬送装置 4 … 載置支持部材(載置支持手段) 5 … 圧接部材(圧接手段) 6 … 開閉駆動機構(開閉駆動手段) 10、21 … 揺動支点軸 11 … ネジリコイルバネ 12 … ワイヤー 13 … チューブ 14 … エアシリンダ 15 … エア供給管 16 … エア供給源 17 … 開閉駆動制御部 20 … 揺動部材 22 … 係合ピン 40 … 基板処理装置 SC … スピンコーター SD … スピンデベロッパー 61 … 基板加熱処理部 62 … 基板冷却処理部 TR … 基板搬送路 W … 基板

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハ(以下、「基板」という)
    の外周端部付近を支持するC型の搬送アームと、前記搬
    送アームを駆動する搬送駆動手段とを有し、前記搬送ア
    ームに基板が支持された状態で前記搬送アームが前記搬
    送駆動手段に駆動されてその基板が搬送されるととも
    に、所定の受渡し位置で前記搬送アームと所定の基板受
    渡し対象との間で基板の受渡しが行なわれる基板搬送装
    置において、 前記基板の外周端部付近を下方から載置支持する載置支
    持手段と、 前記基板の外周端縁に非接触な非作用状態と、前記基板
    の外周端縁を圧接する作用状態とをとるように開閉自在
    に構成された圧接手段と、 が前記搬送アームに付設され、かつ、 前記圧接手段を開閉駆動する開閉駆動手段を備えたこと
    を特徴とする基板搬送装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載の基板搬送装置におい
    て、 前記開閉駆動手段の駆動源を、前記搬送駆動手段の駆動
    源と別に設けたことを特徴とする基板搬送装置。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載の基板搬送装置におい
    て、 前記搬送アームは、前記基板の受渡しのために、前記受
    渡し位置と、前記基板を搬送する所定の搬送位置との間
    で出退移動され、 前記搬送駆動手段は、前記搬送アームの受渡し位置と搬
    送位置との間の出退移動を行なう出退駆動手段を備えて
    おり、かつ、 前記開閉駆動手段は、前記出退駆動手段により搬送アー
    ムが出退移動する過程で、前記受渡し位置の近傍に固定
    設置された部材に係合して前記圧接手段の開閉が行なわ
    れる機械機構で構成されていることを特徴とする基板搬
    送装置。
JP7329890A 1995-11-24 1995-11-24 基板搬送装置 Pending JPH09148406A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7329890A JPH09148406A (ja) 1995-11-24 1995-11-24 基板搬送装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7329890A JPH09148406A (ja) 1995-11-24 1995-11-24 基板搬送装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH09148406A true JPH09148406A (ja) 1997-06-06

Family

ID=18226406

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7329890A Pending JPH09148406A (ja) 1995-11-24 1995-11-24 基板搬送装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH09148406A (ja)

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2004109780A1 (ja) * 2003-06-04 2004-12-16 Nikon Corporation ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法
JP2007134526A (ja) * 2005-11-11 2007-05-31 Hitachi High-Tech Control Systems Corp 基板把持ハンド装置と基板把持方法及びそれを用いた基板搬送装置並びに基板処理装置
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method

Cited By (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9678437B2 (en) 2003-04-09 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction
US9885959B2 (en) 2003-04-09 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator
US8253929B2 (en) 2003-06-04 2012-08-28 Nikon Corporation Stage apparatus, fixation method, exposure apparatus, exposure method, and device-producing method
JPWO2004109780A1 (ja) * 2003-06-04 2006-07-20 株式会社ニコン ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法
WO2004109780A1 (ja) * 2003-06-04 2004-12-16 Nikon Corporation ステージ装置、固定方法、露光装置、露光方法、及びデバイスの製造方法
US7394526B2 (en) 2003-06-04 2008-07-01 Nikon Corporation Stage apparatus, fixation method, exposure apparatus, exposure method, and device-producing method
US9423698B2 (en) 2003-10-28 2016-08-23 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US9760014B2 (en) 2003-10-28 2017-09-12 Nikon Corporation Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus
US10281632B2 (en) 2003-11-20 2019-05-07 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction
US9885872B2 (en) 2003-11-20 2018-02-06 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light
US20130271945A1 (en) 2004-02-06 2013-10-17 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10241417B2 (en) 2004-02-06 2019-03-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10234770B2 (en) 2004-02-06 2019-03-19 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US10007194B2 (en) 2004-02-06 2018-06-26 Nikon Corporation Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method
US9891539B2 (en) 2005-05-12 2018-02-13 Nikon Corporation Projection optical system, exposure apparatus, and exposure method
JP2007134526A (ja) * 2005-11-11 2007-05-31 Hitachi High-Tech Control Systems Corp 基板把持ハンド装置と基板把持方法及びそれを用いた基板搬送装置並びに基板処理装置
JP4727393B2 (ja) * 2005-11-11 2011-07-20 株式会社日立ハイテクコントロールシステムズ 基板把持ハンド装置と基板把持方法及びそれを用いた基板搬送装置並びに基板処理装置
US10101666B2 (en) 2007-10-12 2018-10-16 Nikon Corporation Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9857599B2 (en) 2007-10-24 2018-01-02 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9341954B2 (en) 2007-10-24 2016-05-17 Nikon Corporation Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method
US9678332B2 (en) 2007-11-06 2017-06-13 Nikon Corporation Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI244118B (en) Exposure apparatus, substrate processing unit and lithographic system, and device manufacturing method
KR100199680B1 (ko) 레지스트처리장치 및 레지스트처리방법
JPH07130695A (ja) 回転式基板処理装置の基板回転保持具
JPH09148406A (ja) 基板搬送装置
US7229240B2 (en) Substrate processing apparatus and substrate processing method
JP3774314B2 (ja) 基板の保持装置
US6318948B1 (en) Substrate transfer apparatus and substrate processing apparatus
KR950001754B1 (ko) 기판처리장치간의 기판수도용 인터페이스 장치
JP3880769B2 (ja) 搬送装置の位置合わせ方法および基板処理装置
JP3960162B2 (ja) 基板搬送装置、基板処理システム及び基板搬送方法
JPH09162263A (ja) 基板処理装置及びこれに用いる基板搬送装置
JPH09232405A (ja) 基板処理装置
JP2000323553A (ja) 基板搬送装置および露光装置
JP2926703B2 (ja) 基板処理方法及び装置
JPH0484410A (ja) レジスト処理装置
KR100858430B1 (ko) 베이크 유닛 및 이를 이용한 기판처리방법
JP2003060011A (ja) 基板搬送装置及び基板処理システム
JP2003318245A (ja) 基板搬送機構及び基板搬送方法
JP3556068B2 (ja) 基板処理装置
JPH11163086A (ja) 基板処理装置
JP2926213B2 (ja) 基板処理装置
JP2926592B2 (ja) 基板処理装置
JP2003347181A (ja) 基板処理装置、基板処理方法および塗布・現像装置
JP3958613B2 (ja) 基板搬送方法、基板搬送装置および基板搬送アーム
JP3639150B2 (ja) 処理装置

Legal Events

Date Code Title Description
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 11

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090116

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116

Year of fee payment: 12

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 12

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100116

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 13

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110116

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 13

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110116