JPH09118717A - 架橋結合しうる光活性の重合体材料 - Google Patents

架橋結合しうる光活性の重合体材料

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 液晶の配向層として利用しうる、３−アリー
ルアクリル酸のエステル及びアミドである新規な架橋結
合しうる光活性の重合体材料。 【解決手段】 一般式（Ｉ）： 【化４１】 〔式中、Ｍ1 は、アクリル酸エステルなどの繰り返し単
量体単位；Ｓ1 は、−（ＣＨ2)1-20−などの連結基；環
Ａ、Ｂ及びＣは、フェニレン、ピリジン−２，５−ジイ
ルなど；Ｙ1 及びＹ2 は、−（ＣＨ2)1-4 −など；ｍ及
びｎは、０又は１；Ｚは、−Ｏ−若しくは−ＮＲ5 −
（Ｒ5 は、水素又は低級アルキル）など；Ｄは、Ｃ1 〜
Ｃ20アルキレン基又は環員原子数３〜８のシクロアルキ
ル残基を表す〕で示される繰り返し単位を有する重合
体。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、３−アリールアク
リル酸のエステル及びアミドである新規な架橋結合しう
る光活性の重合体材料、並びに液晶の配向層のためのそ
れらの用途、並びにそれぞれ非−構造化又は構造化光学
要素及び多層系の製造のためのそれらの用途に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】配向層
は、（電気光学的）液晶表示器では特別な意義を有す
る。それは、分子軸の対称的かつ乱れのない直接的配向
を保証する目的に役立つ。
【０００３】液晶表示器（ＬＣＤ）の液晶分子を配向さ
せるには、通常、単一の軸方向にラビング（rubbing)し
た、例えばポリアミドのような重合体の配向層が用いら
れる。この方法では、ラビングの方向が配向の方向を与
える。ところが、ラビングには、液晶表示器の光学的品
質に重大な影響を及ぼしうる数多くの深刻な欠点が付随
する。すなわち、ラビングによって塵埃が形成され、こ
れは、ディスプレーに光学的欠陥部位を招きうる。同時
に、重合体層が静電的に帯電し、例えば薄膜トランジス
ター（ＴＦＴ）−ＴＮ−ＬＣＤの場合、その下にある薄
層トランジスターを破損することになりうる。これらの
理由から、ＬＣＤの製造における光学的に完全なディス
プレーの歩留りは、これまで最適ではなかった。
【０００４】ラビングのもう一つの短所は、ラビングの
際に配向の方向を局所的に変えられないために、構造化
された配向層の簡単な方法による製造ができないという
ことである。したがって、基本的に均一に方向付けられ
た大面積の層は、ラビングで製造できる。しかし、構造
化された配向層は、ディスプレー技術及び集積光学の多
くの分野で大きな関心が持たれている。例えば、ねじれ
ネマチック（ＴＮ）−ＬＣＤの視角依存性は、これらを
用いて形成させることができる。
【０００５】配向の方向を偏光による照射によって与え
うる配向層は、以前から公知である。それによって、ラ
ビングに固有の問題を回避できる。その上、配向の方向
の局所的な変更を与え、そうして配向層を構造化するこ
との可能性が存在する。
【０００６】液晶の構造化された配向に対する一つの可
能性は、ある種の染料分子が、適切な波長の偏光による
照射によって、異なる方向を光化学的に誘導するように
異性化しうる能力を利用することである。これは、例え
ば、配向性重合体と染料を混合し、次いで、偏光を照射
することによって達成される。そのようなゲスト／ホス
ト系は、例えば米国特許第４，９７４，９４１号明細書
に記載されている。この系では、アゾベンゼン類をポリ
イミド配向層に組込み、次いで、偏光を照射する。こう
して露光させた層の表面に接する液晶を、それに応じ
て、この優位方向に配向させる。この配向方法は可逆的
である、すなわち、既に刻み込まれた配向方向は、偏光
の別の方向の光による層照射を反復することによって、
逆転できる。この再配向の操作は、随意に反復できるこ
とから、これに基づく配向層は、ＬＣＤの用途に非常に
適しているとはいえない。
【０００７】液晶層に高解像度の配向パターンを形成す
るもう一つの可能性は、Jpn. J. Appl. Phys. Vol.31(1
992), 2, 155に記載されている。この方法では、直線偏
光による照射によって誘導された、重合体に結合した光
反応性ケイ皮酸基の二量化を、液晶の構造化された配向
に利用する。上記の可逆的な配向方法とは対照的に、Jp
n. J. Appl. Phys. Vol.31(1992), 2, 155に記載の光構
造化しうる配向層の場合は、重合体の異方性の網目構造
が構築される。これらの光で配向された重合体の網目構
造は、構造化又は非構造化液晶配向層が必要とされる場
合に、主として役立つ。更に、そのような配向層は、例
えば、ヨーロッパ公開特許出願第０，６１１，９８１
号、同第０，６８９，０８４号及び同第０，６８９，０
６５号明細書並びにスイス国特許出願第２０３６／９５
号明細書に例示されたような、いわゆるハイブリッド層
の形成のためにＬＣＤに用いることもできる。例えば非
吸収性着色フィルター、直線及び円偏光子、光学的阻害
層などのような光学要素は、光構造化された配向重合
体、及び架橋結合しうる低分子液晶から得たこれらのハ
イブリッド層によって実現できる。
【０００８】液晶のためのそのような等方性の、架橋結
合しうる光構造化された配向層の製造に原則として適す
るケイ皮酸重合体は、例えばヨーロッパ公開特許出願第
６１１，７８６号明細書に記載されている。これらの架
橋結合しうるケイ皮酸誘導体は、原則として、ケイ皮酸
（フェニルアクリル酸）のカルボキシル官能基と連結基
を介して重合体の主鎖に結合されている。これらの重合
体では、ケイ皮酸の二量化しうるアクリルエステルの基
は、常に、それぞれ連結基及び重合体骨格に対し、「内
部」から方向付けられているのに対して、芳香族残基
は、常に、重合体骨格から「外に」配向されている。
【０００９】ここで、公知の光重合体においてケイ皮酸
を方向付けるこの方法は、決して最適ではないことが見
出された。同時に生じる光化学反法は、配向の能力に対
して損傷効果を有する。公知のケイ皮酸重合体は、不充
分な光化学的長期安定性が際立っている。例えば、紫外
線による仕上げ前の配向層の長期照射は、初めに存在し
た配向の損傷を招く。所定の刻み込まれたパターンを有
する既存の配向層を再度露光させて、未露光領域を異な
る方向に配向する多重露光は、先に露光した部位をマス
クで被覆したときにのみ実施できるにすぎない。さもな
ければ、層の既に配向した領域は、光化学の副反応によ
ってそれらの構造を完全にか、又は部分的に失うことが
ある。
【００１０】従来から用いられるケイ皮酸重合体のもう
一つの短所は、偏光への単純な露光によって、これらの
材料から配向面を形成する場合には、視角が全く生じな
いことである。しかし、特にＬＣＤの用途には、配向層
は、配向の方向だけでなく、視角をも与えなければなら
ない。
【００１１】前述の単軸ラビングの重合配向層の場合
は、この視角は、重合体表面でのラビング方法によって
既に形成されている。液晶をそのような表面に接触させ
ると、液晶分子は、表面に平行にではなく傾いて位置
し、こうして、液晶に視角を付与する。このように、視
角の角度は、例えば横断速度及び接触圧のようなラビン
グのパラメータばかりではなく、重合体の化学構造によ
っても決定される。液晶表示器の製造には、型式に応じ
て１°〜１５°の視角が必要である。特に超ねじれネマ
チック（ＳＴＮ）ＬＣＤには、いわゆる指紋組織の出現
を避けるために、より大きな視角が必要である。ＴＮ及
びＴＦＴ−ＴＮ−ＬＣＤにおける回転方向及び透視方向
は、視角によって決定され、これによって、「逆ねじ
れ」及び「逆傾斜」の現象が防止される。スイッチオフ
状態での逆ねじれが、表示器の斑点入りの外見として光
学的に目立つ、誤った回転方向を有する領域を招くのに
対し、逆傾斜は、主としてＬＣＤを起動する際の、液晶
が異なる方向に角度をなすことによる多大な光学的乱れ
によって目立つ。逆ねじれは、適切な回転方向を有する
キラルなドーピング剤で、液晶混合物をドーピングする
ことによって防止できる。しかし、逆傾斜の抑止には、
視角を有する配向層の使用に代る可能性は、これまで皆
無であった。
【００１２】したがって、本発明の目的は、従来から用
いられるケイ皮酸重合体の上記の短所、すなわち、光化
学的貯蔵安定性の欠如と、主として、偏光による照射後
の視角の欠如とを保有せず、そのため、安定的な高解像
度の配向パターンが形成できる光反応性重合体を製造す
ることにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】３−アリールアクリル酸
誘導体が、それぞれ連結基と重合体の主鎖に、従来より
公知のケイ皮酸重合体のように、カルボキシル官能基を
介して「内向きに」結合せず、芳香族残基を介して結合
し、そのため、それらの光反応性アクリル酸単位は、重
合体の骨格から「外向に」配向されている、光反応性単
位としての３−アリールアクリル酸誘導体を有する側鎖
重合体は、これらの条件を満たし、液晶用配向層として
傑出して適切であることが意外にも発見された。配向層
の著しく高い光化学的安定性、及び視角に加え、本発明
による重合体の場合には、例えば、明らかに改善された
コントラストに導く、実質的により優れた液晶の配向が
達成される。
【００１４】本発明の目的は、一般式（Ｉ）：
【００１５】
【化６】
【００１６】〔式中、Ｍ1 は、アクリル酸エステル、メ
タクリル酸エステル、２−クロロアクリル酸エステル及
び２−フェニルアクリル酸エステル；場合によりＮ−低
級アルキル置換されていてもよい、アクリルアミド、メ
タクリルアミド、２−クロロアクリルアミド及び２−フ
ェニルアクリルアミド；ビニルエーテル、ビニルエステ
ル、スチレン誘導体、並びにシロキサンよりなる群の繰
り返し単量体単位を表し、Ｓ1 は、共有単結合、又は−
（ＣＨ2)r −、−（ＣＨ2)r −Ｏ−、−（ＣＨ2)r −Ｏ
−（ＣＨ2)s −、−（ＣＨ2)r −Ｏ−（ＣＨ2)s −Ｏ
−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−Ｏ
−、−（ＣＨ2)r −Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ2)r−ＮＲ2
−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−ＮＲ2 −、−（ＣＨ2)r −Ｎ
Ｒ2 −ＣＯ−、−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −ＣＯ−Ｏ−若し
くは−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −ＣＯ−ＮＲ3 −（ここで、
これらは、場合によりフッ素、塩素若しくはシアノでモ
ノ−又は多置換されていてもよく、ｒ及びｓは、それぞ
れ１〜２０の整数であるが、但しｒ＋ｓ≦２０であり、
そしてＲ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に、水素若しくは
低級アルキルを表す）で示される、直鎖又は分岐鎖アル
キレンのような連結基単位を表し、環Ａは、非置換、又
は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくは
アルコキシ置換のフェニレン、あるいはピリジン−２，
５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，３−ジ
オキサン−２，５−ジイル、シクロヘキサン−１，４−
ジイル、ピペリジン−１，４−ジイル又はピペラジン−
１，４−ジイルを表し、環Ｂは、非置換、又は場合によ
り、フッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキ
シ置換のフェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイ
ル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，４−若しくは
２，６−ナフチレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジ
イル又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、Ｙ1
及びＹ2 は、それぞれ独立に、共有単結合、又は−（Ｃ
Ｈ2)t −、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−Ｏ
Ｃ−、−ＮＲ4 −、−ＣＯ−ＮＲ4 −、−Ｒ4 Ｎ−ＣＯ
−、−（ＣＨ2)u −Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2)u −、−（Ｃ
Ｈ2)u −ＮＲ4 −若しくは−ＮＲ4 −（ＣＨ2)u −（こ
こで、Ｒ4 は、水素又は低級アルキルを表し、ｔは、１
〜４の整数を表し、ｕは、１〜３の整数を表す）を表
し、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表し、環
Ｃは、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、
アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるい
はピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジ
イル、２，５−チオフェニレン、２，５−フラニレン又
は１，４−若しくは２，６−ナフチレンを表し、Ｚは、
−Ｏ−若しくは−ＮＲ5 −（ここで、Ｒ5 は、水素又は
低級アルキルを表す）、又は式：Ｄの別の基を表し、Ｄ
は、炭素原子数１〜２０の直鎖若しくは分枝鎖アルキレ
ン基（ここで、これらは、場合によりフッ素又は塩素で
置換されていてもよい）、又は環員原子数３〜８のシク
ロアルキル残基（ここで、これらは、場合によりフッ
素、塩素、アルキル又はアルコキシで置換されていても
よい）を表す〕で示される繰り返し単位を有する重合体
に関する。
【００１７】液晶の配向層としての本発明による重合体
の用途、並びに、特にハイブリッド層の要素の製造のた
めの光学的構成部品でのそれらの用途も、本発明の目的
である。
【００１８】本発明による重合体材料は、一般式（Ｉ）
の繰り返し単位からのみで合成できるか（単独重合
体）、又は、一般式（Ｉ）の繰り返し単位に加えて、更
なる繰り返し単位を含むことができる（共重合体）。好
ましいのは、異なる繰り返し単位を有する共重合体であ
る。一般式（Ｉ）の構造単位を含む単独重合体は、特に
好ましい。本発明による重合体は、分子量ＭW が１，０
００〜５，０００，０００、好ましくは５，０００〜
２，０００，０００、特に好都合には１０，０００〜
１，０００，０００である。
【００１９】本発明による重合体材料の、主鎖にＣ−Ｃ
結合を有する共重合体単位は、一般式（Ｉ）の更なる構
造、及び／又は、例えば、アクリル酸若しくはメタクリ
ル酸の直鎖若しくは分枝鎖アルキルエステル、アクリル
酸若しくはメタクリル酸のアリルエステル、アルキルビ
ニルエーテル若しくはエステル、アクリル酸フェノキシ
アルキルエステル若しくはメタクリル酸フェノキシアル
キルエステル、アクリル酸フェニルアルキルエステル若
しくはメタクリル酸フェニルアルキルエステル、アクリ
ル酸ヒドロキシアルキルエステル若しくはメタクリル酸
ヒドロキシアルキルエステル（ここで、これらのアルキ
ル残基の炭素原子数は、１〜２０、好ましくは１〜１
０、特に１〜６である）、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル、スチレン又は４−メチルスチレンなどのよ
うな、重合体化学に常用される他の構造であることもで
きる。好ましい共重合体単位は、式（Ｉ）の構造、アク
リル酸若しくはメタクリル酸のアルキルエステル、アク
リル酸ヒドロキシアルキルエステル、メタクリル酸ヒド
ロキシアルキルエステル、アクリロニトリル、メタクリ
ロニトリル又はスチレンであるが、特に式（Ｉ）の構
造、アクリル酸若しくはメタクリル酸のアルキルエステ
ル、アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル又はメタク
リル酸ヒドロキシアルキルエステルである。
【００２０】シロキサンについての共単量体単位は、式
（Ｉ）の更なるシロキサン構造及び／又はジメチルシロ
キサンの基が好ましい。
【００２１】本発明による重合体中の、式（Ｉ）の構造
に対応しない共単量体単位の含量は、５０％以下、好ま
しくは３０％以下、しかし特に１５％以下である。
【００２２】用語「共重合体」のもとに、例えば、アク
リル酸、メタクリル酸又はスチレン誘導体との、式
（Ｉ）の異なる誘導体もしくは式（Ｉ）の構造からの共
重合体のような統計的共重合体が好ましいと理解すべき
である。単独重合体は、線状及び例えば環状ポリシロキ
サンのような環状重合体、好ましくは線状重合体を包含
する。
【００２３】繰り返し単量体単位（Ｍ1)は、下記式：
【００２４】
【化７】
【００２５】で示されるようなアクリル酸エステル、下
記式：
【００２６】
【化８】
【００２７】〔式中、Ｒ1 は、水素又は低級アルキルを
表す〕で示されるようなアクリルアミド、下記式：
【００２８】
【化９】
【００２９】で示されるようなビニルエーテル及びビニ
ルエステル、下記式：
【００３０】
【化１０】
【００３１】で示されるようなスチレン誘導体、並びに
下記式：
【００３２】
【化１１】
【００３３】で示されるようなシロキサンである。
【００３４】好ましい「単量体単位」Ｍ1 は、アクリル
酸エステル、メタクリル酸エステル、２−クロロアクリ
ル酸エステル、アクリルアミド、メタクリルアミド、２
−クロロアクリルアミド、スチレン誘導体及びシロキサ
ンである。アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル、スチレン誘導体及びシロキサンは、特に好ましい
「単量体単位」Ｍ1 である。極めて好ましい「単量体単
位」Ｍ1 は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステ
ル及びスチレン誘導体である。
【００３５】単独での、又は「低級アルコキシ」、「ヒ
ドロキシ低級アルキル」、「フェノキシ低級アルキル」
「フェニル低級アルキル」のような組み合わせでの用語
「低級アルキル」は、上記及び以下で、炭素原子数１〜
６、好ましくは１〜３の直鎖又は分枝鎖の飽和炭化水素
残基、例えばメチル、エチル、プロピル又はｉ−プロピ
ルを意味する。
【００３６】単独での、又は「アルコキシ」のような組
み合わせでの用語「アルキル」は、上記及び以下で、炭
素原子数２０を最高とする直鎖又は分枝鎖の飽和炭化水
素残基を意味する。
【００３７】本発明の範囲内で好ましい「連結基単位」
は、共有単結合、又は、−（ＣＨ2)r −、−（ＣＨ2)r
−Ｏ−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ2)r −Ｏ
−ＣＯ−、−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −、−（ＣＨ2)r −Ｃ
Ｏ−ＮＲ2 −又は−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −ＣＯ−（ここ
で、ｒは、１〜８、特に１〜６の整数であり、そしてＲ
2 は、水素又は低級アルキルを表す）で示される直鎖又
は分岐鎖アルキレンの群である。
【００３８】好ましい「連結基単位」の例は、単結合、
メチレン、１，２−エチレン、１，３−プロピレン、
１，４−ブチレン、１，５−ペンチレン、１，６−ヘキ
シレン、１，７−ヘプチレン、１，８−オクチレン、
１，２−プロピレン、２−メチル−１，２−プロピレ
ン、１，３−ブチレン、エチレンオキシ、エチレンオキ
シカルボニル、エチレノイルオキシ、プロピレンオキ
シ、プロピレンオキシカルボニル、プロピレノイルオキ
シ、ブチレンオキシ、ブチレンオキシカルボニル、ブチ
レノイルオキシ、ペンチレンオキシ、ペンチレンオキシ
カルボニル、ペンチレノイルオキシ、ヘキシレンオキ
シ、ヘキシレンオキシカルボニル、ヘキシレノイルオキ
シ、ヘプチレンオキシ、ヘプチレンオキシカルボニル、
ヘプチレノイルオキシ、オクチレンオキシ、オクチレン
オキシカルボニル、オクチレノイルオキシ、エチレンア
ミノ、プロピレンアミノ、ブチレンアミノ、ペンチレン
アミノ、ヘキシレンアミノ、ヘプチレンアミノ、オクチ
レンアミノ、エチレンアミノカルボニル、プロピレンア
ミノカルボニル、ブチレンアミノカルボニル、ペンチレ
ンアミノカルボニル、ヘキシレンアミノカルボニル、ヘ
プチレンアミノカルボニル、オクチレンアミノカルボニ
ル、エチレンカルボニルアミノ、プロピレンカルボニル
アミノ、ブチレンカルボニルアミノ、ペンチレンカルボ
ニルアミノ、ヘキシレンカルボニルアミノ、ヘプチレン
カルボニルアミノ、オクチレンカルボニルアミノなどで
ある。
【００３９】特に好ましい「連結基単位」は、共有単結
合、又は、−（ＣＨ2)r −、−（ＣＨ2)r −Ｏ−、−
（ＣＨ2)r −ＣＯ−Ｏ−及び−（ＣＨ2)r −Ｏ−ＣＯ−
（ここで、ｒは、１〜６の整数である）で示される直鎖
アルキルの群である。
【００４０】特に好ましい「連結基単位」の例は、単結
合、メチレン、１，２−エチレン、１，３−プロピレ
ン、１，４−ブチレン、１，５−ペンチレン、１，６−
ヘキシレン、エチレンオキシ、エチレンオキシカルボニ
ル、エチレノイルオキシ、プロピレンオキシ、プロピレ
ンオキシカルボニル、プロピレノイルオキシ、ブチレン
オキシ、ブチレンオキシカルボニル、ブチレノイルオキ
シ、ペンチレンオキシ、ペンチレンオキシカルボニル、
ペンチレノイルオキシ、ヘキシレンオキシ、ヘキシレン
オキシカルボニル及びヘキシレノイルオキシである。
【００４１】用語「非置換、又は場合によりフッ素、塩
素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニ
レン」は、本発明の範囲内で、非置換であるか、又は、
フッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ、
好ましくはフッ素、メチル、エチル、プロピル、ブチ
ル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、ブトキシ若しく
はシアノでモノ又は多置換された、１，２−、１，３−
又は１，４−フェニレン、しかし特に１，３−又は１，
４−フェニレンを包含する。特に好ましいのは、１，４
−フェニレン残基である。
【００４２】好ましいフェニレン残基の例は、１，３−
又は１，４−フェニレン、４−又は５−メチル−１，３
−フェニレン、４−又は５−メトキシ−１，３−フェニ
レン、４−又は５−エチル−１，３−フェニレン、４−
又は５−エトキシ−１，３−フェニレン、２−又は３−
メチル−１，４−フェニレン、２−又は３−エチル−
１，４−フェニレン、２−又は３−プロピル−１，４−
フェニレン、２−又は３−ブチル−１，４−フェニレ
ン、２−又は３−メトキシ−１，４−フェニレン、２−
又は３−エトキシ−１，４−フェニレン、２−又は３−
プロポキシ−１，４−フェニレン、２−又は３−ブトキ
シ−１，４−フェニレン、２，３−、２，６−又は３，
５−ジメチル−１，４−フェニレン、２，６−又は３，
５−ジメトキシ−１，４−フェニレン、２−又は３−フ
ルオロ−１，４−フェニレン、２，３−、２，６−又は
３，５−ジフルオロ−１，４−フェニレン、２−又は３
−クロロ−１，４−フェニレン、２，３−、２，６−又
は３，５−ジクロロ−１，４−フェニレン、２−又は３
−シアノ−１，４−フェニレンなどである。
【００４３】本発明の好ましい重合体材料は、環Ａが、
非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキ
ル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるいはピリ
ジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル又
はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、環Ｂが、非
置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキル
若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるいはピリジ
ン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、
１，４−若しくは２，６−ナフチレン又はシクロヘキサ
ン−１，４−ジイルを表し、Ｙ1 及びＹ2 が、それぞれ
独立に、共有単結合、−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−Ｃ
Ｈ2 Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−Ｏ
Ｃ−を表し、ｍ及びｎが、それぞれ独立に、０又は１を
表し、環Ｃが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、
シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレ
ン、あるいはピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−
２，５−ジイル、２，５−フラニレン又は１，４−若し
くは２，６−ナフチレンを表し、Ｚが、−Ｏ−を表し、
そしてＤが、炭素原子数１〜２０、特に１〜１２の直鎖
若しくは分枝鎖アルキレン基、又は環員原子数５〜６の
シクロアルキル残基（ここで、これらは、場合により、
アルキル若しくはアルコキシ、特にメチル若しくはメト
キシ置換で置換されていてもよい）を表し、そしてＭ1
及びＳ1 が、上記の意味を有する式（Ｉ）の化合物より
なる。
【００４４】特に好ましい重合体材料は、ｎ＝０であ
り、環Ｂが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シ
アノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、
あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，
５−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表
し、Ｙ2 が、共有単結合、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＯＣ
−を表し、ｍが、０又は１を表し、環Ｃが、非置換、又
は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくは
アルコキシ置換のフェニレン、あるいは１，４−又は
２，６−ナフチレンを表し、Ｚが、−Ｏ−を表し、Ｄ
が、炭素原子数１〜１２の直鎖又は分枝鎖アルキレン基
を表し、そしてＭ1 及びＳ1 が、上記の意味を有する式
（Ｉ）の化合物よりなる。
【００４５】本発明は、一般式（Ｉａ）：
【００４６】
【化１２】
【００４７】〔式中、Ｍ1 及びＭ2 は、それぞれ独立
に、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、２−
クロロアクリル酸エステル及び２−フェニルアクリル酸
エステル；場合によりＮ−低級アルキル置換であっても
よい、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロロ
アクリルアミド及び２−フェニルアクリルアミド；ビニ
ルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体並びにシ
ロキサンよりなる群の繰り返し単量体単位を表し、Ｓ1
及びＳ2 は、それぞれ独立に、例えば、共有単結合、又
は−（ＣＨ2)r −、−（ＣＨ2)r −Ｏ−，−（ＣＨ2)r
−Ｏ−（ＣＨ2)s −、−（ＣＨ2)r −Ｏ−（ＣＨ2)s −
Ｏ−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−Ｏ
−、−（ＣＨ2)r −Ｏ−ＣＯ−、−（ＣＨ2)r −ＮＲ2
−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−ＮＲ2 −、−（ＣＨ2)r −Ｎ
Ｒ2 −ＣＯ−、−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −ＣＯ−Ｏ−若し
くは−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −ＣＯ−ＮＲ3 −（ここで、
これらは、場合によりフッ素、塩素若しくはシアノでモ
ノ又は多置換されていてもよく、ｒ及びｓは、それぞれ
１〜２０の整数であるが、ただしｒ＋ｓ≦２０であり、
Ｒ2 及びＲ3 は、それぞれ独立に、水素若しくは低級ア
ルキルを表す）で示される、直鎖又は分枝鎖アルキレン
のような連結基単位を表し、環Ａ及びＡ′は、それぞれ
独立に、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
−ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、シク
ロヘキサン−１，４−ジイル、ピペリジン−１，４−ジ
イル又はピペラジン−１，４−ジイルを表し、環Ｂ及び
Ｂ′は、それぞれ独立に、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、１，４−若しくは２，６−ナ
フチレン、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル又はシ
クロヘキサン−１，４−ジイルを表し、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ
1'及びＹ2 ' は、それぞれ独立に、共有単結合、又は−
（ＣＨ2)t −、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ
−ＯＣ−、−ＮＲ4 −、−ＣＯ−ＮＲ4 −、−Ｒ4 Ｎ−
ＣＯ−、−（ＣＨ2)u −Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2)u −、−
（ＣＨ2)u −ＮＲ4 −若しくは−ＮＲ4 −（ＣＨ2)u −
（ここで、Ｒ4 及びＲ4'は、それぞれ独立に、水素又は
低級アルキルを表し、ｔ及びｔ′は、それぞれ独立に、
１〜４の整数を表し、そしてｕ及びｕ′は、それぞれ独
立に、１〜３の整数を表す）を表し、ｍ、ｎ、ｍ′及び
ｎ′は、それぞれ独立に、０又は１を表し、環Ｃ及び
Ｃ′は、それぞれ独立に、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリミジン−２，５−ジイル、ピ
リジン−２，５−ジイル、２，５−チオフェニレン、
２，５−フラニレン又は１，４−若しくは２，６−ナフ
チレンを表し、Ｚ及びＺ′は、それぞれ独立に、−Ｏ
−、若しくは−ＮＲ5 −（ここで、Ｒ5は、水素又は低
級アルキルを表す）、又は式：Ｄの別の基を表し、Ｄ及
びＤ′は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０の、直
鎖又は分枝鎖アルキレン基（ここで、これらは、場合に
よりフッ素若しくは塩素で置換されていてもよい）、又
は環員原子数３〜８のシクロアルキル残基（ここで、こ
れらは、場合によりフッ素、塩素、アルキル若しくはア
ルコキシで置換されていてもよい）を表し、Ｍ2 は、ア
クリル酸エステル、メタクリル酸エステル、２−クロロ
アクリル酸エステル若しくは２−フェニルアクリル酸エ
ステル；場合によりＮ−低級アルキル置換されていても
よい、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−クロロ
アクリルアミド若しくは２−フェニルアクリルアミド；
ビニルエーテル若しくはビニルエステル；アクリル酸若
しくはメタクリル酸の、直鎖若しくは分枝鎖アルキルエ
ステル、アクリル酸若しくはメタクリル酸のアリルエス
テル、アルキルビニルエーテル若しくはエステル、アク
リル酸フェノキシアルキルエステル若しくはメタクリル
酸フェノキシアルキルエステル、アクリル酸フェニルア
ルキルエステル若しくはメタクリル酸フェニルアルキル
エステル、アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル若し
くはメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル（ここ
で、これらのアルキル残基は、炭素原子数１〜２０、好
ましくは１〜１０、特に１〜６である）；あるいはアク
リロニトリル、メタクリロニトリル、スチレン、４−メ
チルスチレン又はシロキサンよりなる群からの繰り返し
単量体単位を表し、ｗ、ｗ1 及びｗ2 は、０＜ｗ＜１、
０＜ｗ1 ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．５である共単量体の
モル分率である〕で示される繰り返し単位を有する共重
合体を提供する。
【００４８】好ましいのは、Ｍ1 及びＳ1 、並びにＭ1'
及びＳ1'、並びにＭ2 が、上記と同義であり、環Ａ及び
Ａ′が、それぞれ独立に、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−
ジイルを表し、環Ｂ及びＢ′が、それぞれ独立に、非置
換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキル若
しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるいはピリジン
−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，
４−若しくは２，６−ナフチレン又はシクロヘキサン−
１，４−ジイルを表し、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ1'及びＹ2'が、
それぞれ独立に、共有単結合、又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −、
−Ｏ−、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯ−Ｏ
−若しくは−Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍ、ｎ、ｍ′及びｎ′
が、それぞれ独立に、０又は１を表し、環Ｃ及びＣ′
が、それぞれ独立に、非置換、又は場合によりフッ素、
塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェ
ニレン、あるいはピリミジン−２，５−ジイル、ピリジ
ン−２，５−ジイル、２，５−フラニレン又は１，４−
若しくは２，６−ナフチレンを表し、Ｚ及びＺ′が、−
Ｏ−を表し、Ｄ及びＤ′が、それぞれ独立に、炭素原子
数１〜２０、好ましくは１〜１２の、直鎖若しくは分枝
鎖アルキレン基、又は環員原子数５〜６のシクロアルキ
ル残基（ここで、これらは、場合によりアルキル若しく
はアルコキシ、特にメチル若しくはメトキシで置換され
ていてもよい）を表し、そしてｗ、ｗ1 及びｗ2 が、０
＜ｗ＜１、０＜ｗ1 ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．５である
共単量体のモル分率である一般式（Ｉａ）の繰り返し単
位を有する共重合体である。
【００４９】特に好ましいのは、Ｍ1 及びＳ1 、並びに
Ｍ1'及びＳ1'、並びにＭ2 が、上記と同義であり、環Ｂ
及びＢ′が、それぞれ独立に、非置換、又は場合により
フッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置
換のフェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、
ピリミジン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−１，
４−ジイルを表し、Ｙ2 及びＹ2'が、それぞれ独立に、
共有単結合、又は−ＣＯ−Ｏ−若しくは−Ｏ−ＯＣ−を
表し、ｍ及びｍ′が、それぞれ独立に、０又は１を表
し、ｎ及びｎ′が、０を表し、環Ｃ及びＣ′が、それぞ
れ独立に、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
るいは１，４−又は２，６−ナフチレンを表し、Ｚ及び
Ｚ′が、−Ｏ−を表し、Ｄ及びＤ′が、それぞれ独立
に、炭素原子数１〜１２の直鎖又は分枝鎖アルキレン基
を表し、そしてｗ、ｗ1 及びｗ2 が、０＜ｗ＜１、０＜
ｗ1 ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．５である共単量体のモル
分率である一般式（Ｉａ）の繰り返し単位を有する共重
合体である。
【００５０】式（Ｉａ）のそのような化合物、すなわち
ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２
−プロポキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシ
カルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−
ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕は、実施例３に従って製造することができる。
【００５１】重合体化学に常用される構造を含む式
（Ｉ）の更に好ましい共重合体は、式（Ｉｂ）：
【００５２】
【化１３】
【００５３】〔式中、Ｍ1 、Ｍ2 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、
Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎは、上記と同義であり、
そしてｗ及びｗ2 は、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．
５である共単量体のモル分率である〕で示される化合物
よりなる。
【００５４】好ましいのは、Ｍ1 、Ｍ2 及びＳ1 が、上
記と同義であり、環Ａが、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−
ジイルを表し、環Ｂが、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、１，４−若しくは２，６−ナ
フチレン又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、
Ｙ1 及びＹ2 が、それぞれ独立に、共有単結合、又は−
ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ
2 −、−ＣＯ−Ｏ−若しくは−Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍ及
びｎが、それぞれ独立に、０又は１を表し、環Ｃが、非
置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキル
若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるいはピリミ
ジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、
２，５−フラニレン又は１，４−若しくは２，６−ナフ
チレンを表し、Ｚが、−Ｏ−を表し、Ｄが、炭素原子数
１〜２０、好ましくは１〜１２の直鎖若しくは分枝鎖ア
ルキレン基、又は環員原子数５〜６のシクロアルキル残
基（ここで、これらは、場合によりアルキル若しくはア
ルコキシ、特にメチル若しくはメトキシで置換されてい
てもよい）を表し、そしてｗ及びｗ2 が、０＜ｗ＜１、
かつ０＜ｗ2 ≦０．５である共単量体のモル分率である
一般式（Ｉｂ）の繰り返し単位を有する共重合体であ
る。
【００５５】特に好ましいのは、Ｍ1 、Ｍ2 及びＳ1
が、上記と同義であり、環Ｂが、非置換、又は場合によ
りフッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ
置換のフェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイ
ル、ピリミジン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−
１，４−ジイルを表し、Ｙ2 が、共有単結合、又は−Ｃ
Ｏ−Ｏ−若しくは−Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍが、０又は１
を表し、ｎが、０を表し、環Ｃが、非置換、又は場合に
よりフッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキ
シ置換のフェニレン、又は１，４−若しくは２，６−ナ
フチレンを表し、Ｚが、−Ｏ−を表し、Ｄが、炭素原子
数１〜１２の直鎖又は分枝鎖アルキレン基を表し、そし
てｗ及びｗ2 が、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．５で
ある共単量体のモル分率である一般式（Ｉｂ）の繰り返
し単位を有する共重合体である。
【００５６】重合体化学に常用される式（Ｉｂ）の構造
を有するそのような化合物は、実施例７に記載されてい
る、すなわちポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシルオキシ
カルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６
−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン
−ＣＯ−１−エトキシカルボニル−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン〕〕である。
【００５７】本発明の重合体は、一般式（Ｉｃ）：
【００５８】
【化１４】
【００５９】〔式中、Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎ、並びにＭ1'、Ｓ1'、Ａ′、
Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ1'、Ｙ2'、ｍ′及びｎ′
は、上記と同義であり、そしてｗ及びｗ1 は、０＜ｗ＜
１、かつ０＜ｗ1 ＜１である共単量体のモル分率であ
る〕で示される繰り返し単位を有する化合物よりなる式
（Ｉ）の共重合体でもある。
【００６０】好ましいのは、Ｍ1 及びＳ1 並びにＭ1'及
びＳ1'が、上記と同義であり、環Ａ及びＡ′が、それぞ
れ独立に、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、
環Ｂ及びＢ′が、それぞれ独立に、非置換、又は場合に
よりフッ素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキ
シ置換のフェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイ
ル、ピリミジン−２，５−ジイル、１，４−若しくは
２，６−ナフチレン又はシクロヘキサン−１，４−ジイ
ルを表し、Ｙ1 、Ｙ2 、Ｙ1'及びＹ2'が、それぞれ独立
に、共有単結合、又は−ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−Ｃ
Ｈ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、−ＣＯ−Ｏ−若しくは−
Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍ、ｎ、ｍ′及びｎ′が、それぞれ
独立に、０又は１を表し、環Ｃ及びＣ′が、それぞれ独
立に、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、
アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるい
はピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジ
イル、２，５−フラニレン又は１，４−若しくは２，６
−ナフチレンを表し、Ｚ及びＺ′が、−Ｏ−を表し、Ｄ
及びＤ′が、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０、好
ましくは１〜１２の直鎖若しくは分枝鎖アルキレン基、
又は環員原子数５〜６のシクロアルキル残基（ここで、
これらは、場合によりアルキル若しくはアルコキシ、特
にメチル若しくはメトキシで置換されていてもよい）を
表し、そしてｗ及びｗ1 が、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ1
＜１である共単量体のモル分率である一般式（Ｉｃ）の
繰り返し単位を有する共重合体である。
【００６１】特に好ましいのは、Ｍ1 及びＳ1 、並び
に、Ｍ1'及びＳ1'が上記と同義であり、環Ｂ及びＢ′
が、それぞれ独立に、非置換、又は場合によりフッ素、
塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェ
ニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジ
ン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−ジイ
ルを表し、Ｙ2 及びＹ2'が、それぞれ独立に、共有単結
合、又は−ＣＯ−Ｏ−若しくは−Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍ
及びｍ′が、それぞれ独立に、０又は１を表し、ｎ及び
ｎ′が、０を表し、環Ｃ及びＣ′が、それぞれ独立に、
非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキ
ル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるいは１，
４−又は２，６−ナフチレンを表し、Ｚ及びＺ′が、−
Ｏ−を表し、Ｄ及びＤ′が、それぞれ独立に、炭素原子
数１〜１２の直鎖又は分枝鎖アルキレン基を表し、そし
てｗ及びｗ1 が、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ1 ＜１である
共単量体のモル分率である一般式（Ｉｃ）の繰り返し単
位を有する共重合体である。
【００６２】そのような好ましい化合物は、実施例９に
記載されている、すなわちポリ〔１−〔６−〔４−〔２
−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオ
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−
〔２−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノ
キシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕で
ある。
【００６３】好ましいのは、式（Ｉａ）の共重合体であ
る。
【００６４】特に好ましいのは、式（Ｉｂ）及び（Ｉ
ｃ）の共重合体である。
【００６５】極めて好ましいのは、単独重合体である。
【００６６】単独重合体に関しては、式（Ｉ）：
【００６７】
【化１５】
【００６８】〔式中、Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎは、上記と同義である〕で示
される繰り返し単位を有する重合体が好ましい。
【００６９】そのような好ましい単独重合体は、ポリ
〔１−〔３−〔４−〔４′−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕ビフェニル−４−イル〕シクロヘキシ
ル〕プロポキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕
（実施例６）である。
【００７０】特に好ましいのは、Ｍ1 及びＳ1 が、上記
と同義であり、環Ａが、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−
ジイルを表し、環Ｂが、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル、１，４−若しくは２，６−ナ
フチレン又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、
Ｙ1 及びＹ2 が、それぞれ独立に、共有単結合、又は−
ＣＨ2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−ＣＨ2 −Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ
2 −、−ＣＯ−Ｏ−若しくは−Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍ及
びｎが、それぞれ独立に、０又は１を表し、環Ｃが、非
置換、又は場合によりフッ素、塩素、シアノ、アルキル
若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あるいはピリミ
ジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５−ジイル、
２，５−フラニレン又は１，４−若しくは２，６−ナフ
チレンを表し、Ｚが、−Ｏ−を表し、Ｄが、炭素原子数
１〜２０、好ましくは１〜１２の直鎖若しくは分枝鎖ア
ルキレン基、又は環員原子数５〜６のシクロアルキル残
基（ここで、これらは、場合によりアルキル若しくはア
ルコキシ、特にメチル若しくはメトキシで置換されてい
てもよい）を表す一般式（Ｉ）の繰り返し単位を有する
単独重合体である。
【００７１】極めて好ましいのは、Ｍ1 及びＳ1 が、上
記と同義であり、環Ｂが、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいはピリジン−２，５−ジイル、ピリ
ミジン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−１，４−
ジイルを表し、Ｙ2 が、共有単結合、又は−ＣＯ−Ｏ−
若しくは−Ｏ−ＯＣ−を表し、ｍが、０又は１を表し、
ｎが、０を表し、環Ｃが、非置換、又は場合によりフッ
素、塩素、シアノ、アルキル若しくはアルコキシ置換の
フェニレン、あるいは１，４−又は２，６−ナフチレン
を表し、Ｚが、−Ｏ−を表し、Ｄが、炭素原子数１〜１
２の直鎖若しくは分枝鎖アルキレン基を表す一般式
（Ｉ）の繰り返し単位を有する単独重合体である。
【００７２】そのような極めて好ましい単独重合体は、
ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕
（実施例１）、ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェニルアミノカルボニル〕−１
−メチルエチレン〕（実施例１）、ポリ〔１−〔２−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕
（実施例２及び３）、ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メ
トキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン〕（実施例４）、
ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕（実施例４）、ポリ〔オキシ−〔４−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ブチル〕−メチルシリレン〕
（実施例５）、及びポリ〔１−〔２−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕ナフタリン−６−イルオキシ
カルボニル〕−１−メチルエチレン〕（実施例８）であ
る。
【００７３】式（Ｉ）の重合体は、容易に入手できるこ
とを特徴とする。その製造方法は、当業者には公知であ
ると思われる。
【００７４】式（Ｉ）の重合体は、原則として、二つの
異なる方法に従って製造することができる。仕上げ前の
単量体の直接重合に加え、官能性重合体との反応性ケイ
皮酸誘導体との重合体類似の反応の可能性が存在する。
【００７５】直接重合については、初めに、単量体及び
共単量体を個々の成分から別個に製造する。次いで、そ
れ自体は公知である方式で、ＵＶ照射若しくは熱の影響
下で、又はラジカル若しくはイオンの触媒の作用によっ
て、重合体の形成を実施する。ペルオキソ二硫酸カリウ
ム、過酸化ジベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル
又はジ−tert−ブチルペルオキシドは、ラジカル開始剤
の例である。イオン触媒は、フェニルリチウム若しくは
ナフチルナトリウムのようなアルカリ有機化合物、又は
ＢＦ3 、ＡｌＣｌ3 、ＳｎＣｌ3 若しくはＴｉＣｌ4 の
ようなルイス酸である。これらの単量体は、溶液、懸濁
液、乳濁液又は塊中で重合させることができる。
【００７６】別の方法では、式（Ｉ）の重合体は、仕上
げ前の官能性重合体と適切な官能化ケイ皮酸誘導体とか
らも、重合体類似の反応で製造できる。例えば、エステ
ル化、エステル交換反応、アミド化又はエーテル化のよ
うな、公知の多くの方法が重合体類似反応に適してい
る。
【００７７】ここで、Mitsunobu 反応の条件下、溶液中
でのポリヒドロキシアルキルアクリレート又はポリヒド
ロキシアルキルメタクリレートとのヒドロキシケイ皮酸
誘導体のエーテル化が、好都合であることが見出されて
いる。すなわち、この反応は、例えば、すべてのヒドロ
キシル基を反応させるということ（単独重合体）、又
は、反応後も、ヒドロキシル基が重合体上でなおも遊離
していて、その後の重合体類似反応で更に官能化するこ
とができ、この手段によって共重合体を合成できるとい
うことで、実施することができる。この方法による共重
合体の製造の別の可能性は、異なるケイ皮酸誘導体の混
合物の使用が含まれる。
【００７８】ケイ皮酸は、商業的に入手できるか、ある
いは、例えば、商業的に入手できるアルデヒドから、又
は対応するアルデヒドへと予め還元することで得られる
シアノ化合物からのクネベナーゲル反応若しくはウィッ
ティッヒ反応のような、文献に公知の方法に従って得る
ことができる。次いで、公知のエステル化の方法に従っ
て、ケイ皮酸からケイ皮酸エステル又はアミドが製造で
きる。
【００７９】重合体層を担体に塗布した後に、直線偏光
の照射によって、一般式（Ｉ）のケイ皮酸単位を二量化
することができる。これで、式（Ｉ）の分子単位の空間
選択的な照射によって、表面の所定の領域が指定でき、
同時に、二量化によって安定化させることもできる。
【００８０】こうして、領域によって選択的に限定され
た領域での重合体配向層の形成のために、例えば、得ら
れた重合体材料の溶液を初めに形成させることができ、
回転被覆装置中で、場合により電極で被覆した担体（例
えばインジウム−スズ酸化物で被覆したガラス板（ＩＴ
Ｏ））に、０．０５〜５０μm の厚さの均質な層が得ら
れるよう、回転することができる。次いで、配向させよ
うとする領域を、偏光子及び、場合により、構造を形成
させるためのマスクを用いて、例えば高圧水銀灯、キセ
ノン灯又はパルスＵＶレーザーに露光させることができ
る。露光の持続時間は、個々の灯火の出力に依存し、数
分間から数時間まで変動させうる。しかし、二量化は、
例えば架橋結合反応に適した放射線のみを透過させるフ
ィルターを用い、均質な層を照射することによっても、
実施することができる。
【００８１】下記の実施例によって、本発明による重合
体を更に詳細に例示する。以下の実施例では、Ｔg はガ
ラス転移温度を表し、εはモル吸光係数を表し、Ｇはガ
ラス状固化を表し、Ｃは結晶相を表し、Ｓはスメクチッ
ク相を表し、Ｎはネマチック相を表し、Ｉは等方相を表
し、ｐは、１，０００〜５，０００，０００、好ましく
は５，０００〜２，０００，０００、特に好都合には１
０，０００〜１，０００，０００の分子量Ｍw を有する
重合体が得られる繰り返し単位の数を表し、ｗ、ｗ1 及
びｗ2 は、０＜ｗ＜１、０＜ｗ1 ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦
０．５である共単量体のモル分率を表す。
【００８２】
【実施例】
実施例１ ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕
【００８３】
【化１６】
【００８４】４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェニル＝２−メチルアクリラート０．５ｇ
（２．０３ミリモル）及び２，２′−アゾ−ビス−イソ
ブチロニトリル（ＡＩＢＮ）１．６７mg（０．０１ミリ
モル）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４．１mlに溶解
した。この溶液に弱いアルゴン気流を１５分間通気し
た。次いで、反応容器を気密に密閉し、６０℃に加熱し
た。２４時間後、容器を開放し、溶液をＴＨＦ４mlで希
釈し、激しく攪拌しつつ、ジエチルエーテル８００mlに
室温で滴加した。分離した重合体を濾取し、水流減圧下
で６０℃で乾燥した。更に精製するため、重合体をジク
ロロメタン１０mlに溶解し、ジエチルエーテル８０ml中
で再び沈澱させた。単量体がそれ以上薄層クロマトグラ
フィーで検出されなくなるまで、この操作を反復した。
濾過し、減圧下、６０℃での乾燥により、ポリ〔１−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕０．３７ｇ
を、Ｔg ＝１４５℃のガラス段階、λmax （ＣＨ2 Ｃｌ
2 中）＝２７５．２nmの最大吸光度（ε＝２１，４３０
Ｉ／モルcm）を有する白色粉末として得た。
【００８５】出発材料として用いた４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェニル＝２−メチルアク
リラートは、下記の操作に従って調製した：メチル＝３
−（４−ヒドロキシフェニル）アクリラート
【００８６】
【化１７】
【００８７】ｐ−クマル酸５１．２ｇ（３１２ミリモ
ル）をメタノール３３０mlに溶解し、濃硫酸１０mlで処
理した。溶液を還流下で２時間加熱した。次いで、メタ
ノールの大部分（約２００ml）を留去し、後に残った残
渣を氷冷水１．３リットル中に注いだ。分離したエステ
ルを吸引下で濾取し、冷水、少量の冷ＮａＨＣＯ3 溶
液、再び冷水で逐次洗浄した。水流減圧下、５０℃で乾
燥して、メチル＝３−（４−ヒドロキシフェニル）アク
リラート５１．１ｇを、淡褐色を帯びた粉末の形態で得
た。
【００８８】４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェニル＝２−メチルアクリラート
【００８９】
【化１８】
【００９０】メチル＝３−（４−ヒドロキシフェニル）
アクリラート１０．５ｇ（５９ミリモル）をテトラヒド
ロフラン１７０mlに溶解し、トリエチルアミン９．１ml
（６５ミリモル）及び４−ジメチルアミノピリジン（Ｄ
ＭＡＰ）０．０７９ｇ（０．６５ミリモル）で逐次処理
した。溶液に塩化メタクリロイル６．８ｇ（６５ミリモ
ル）を滴加し、３０分の期間にわたり約１５℃に冷却し
た。反応回分を室温で終夜攪拌し、次いで、薄いシリカ
ゲル層越しに濾過した。シリカゲル層をＴＨＦでよく洗
った。溶媒を蒸発させた後、粗生成物をエタノール約２
００mlから再結晶した。これを濾取し、乾燥し、再度エ
タノールから再結晶した。濾過し、水流減圧下、５０℃
での乾燥により、４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェニル＝２−メチルアクリラート１０．３
ｇを、７６〜８０℃の融点、及びλmax （ＣＨ2 Ｃｌ2
中）＝２８１．７nmの最大吸光度（ε＝２４，２９０
Ｉ／モルcm）を有する白色結晶として得た。
【００９１】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−エトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−プロポキ
シカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−ブト
キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−ヘ
キシルオキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔４−
〔（Ｅ）−２−ヘキシルオキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１
−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
ェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−〔４−〔（Ｅ）−２−オクチルオキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−エトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−
ＣＯ−１−〔４−〔（Ｅ）−２−ペンチルオキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチ
レン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカル
ボニルビニル〕フェニルアミノカルボニル〕−１−メチ
ルエチレン〕、Ｔg ＝２０７℃；ポリ〔１−〔４−
〔（Ｅ）−２−ブトキシカルボニルビニル〕フェニルア
ミノカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ニルアミノカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−
１−〔４−〔（Ｅ）−２−ペンチルオキシカルボニルビ
ニル〕フェニルアミノカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メチルアミノカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−ジメチル
アミノカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕フェノキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェニル〕シクロヘキシルオキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕シクロヘ
キシルメトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕。
【００９２】実施例２ ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン〕
【００９３】
【化１９】
【００９４】２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシ〕エチル＝２−メチルアクリラ
ート０．５５５ｇ（１．９１ミリモル）及び２，２′−
アゾ−ビス−イソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）３．１４
mg（０．０１９ミリモル）をテトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）３．８mlに溶解した。この溶液に弱いアルゴン気流
を１５分間通気した。次いで、反応容器を気密に密閉
し、５５℃に加熱した。２４時間後、容器を開放し、溶
液をＴＨＦ４mlで希釈し、激しく攪拌しつつ、ジエチル
エーテル８００mlに室温で滴加した。分離した重合体を
濾取し、水流減圧下で６０℃で乾燥した。更に精製する
ため、重合体をジクロロメタン１０mlに溶解し、ジエチ
ルエーテル８００ml中で再び沈澱させた。単量体がそれ
以上薄層クロマトグラフィーで検出されなくなるまで、
この操作を反復した。濾過し、減圧下、６０℃での乾燥
により、ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕０．３４ｇを、Ｔg ＝９２
℃のガラス段階、λmax （ＣＨ2 Ｃｌ2 中）＝２９６．
３nmの最大吸光度（ε＝２１，６８０ Ｉ／モルcm）を
有する白色粉末として得た。
【００９５】出発材料として用いた２−〔４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エチル
＝２−メチルアクリラートは、下記の操作に従って調製
した：メチル＝（Ｅ）−３−〔４−〔２−ヒドロキシエ
トキシ〕フェニル〕アクリラート
【００９６】
【化２０】
【００９７】メチル＝３−（４−ヒドロキシフェニル）
アクリラート３０ｇ（１６８ミリモル）、無水Ｋ2 ＣＯ
3 ２９ｇ（２１０ミリモル）及び少量のＫＩをジメチル
ホルムアミド２００mlに入れた。攪拌しつつ、２−クロ
ロエタノール１４．９１ｇ（１８５ミリモル）を８５℃
で５分以内に滴加した。回分を、８５℃で更に３日間攪
拌した。次いで、塩類を濾去し、濾液を水流減圧下で濃
縮乾燥した。ｉ−プロパノールからの再結晶の後、メチ
ル＝（Ｅ）−３−〔４−〔２−ヒドロキシエトキシ〕フ
ェニル〕アクリラート１６．１ｇを白色結晶の形態で得
た。
【００９８】２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシ〕エチル＝２−メチルアクリラ
ート
【００９９】
【化２１】
【０１００】ＴＨＦ１０ml中のメタクリル酸２．５６ｇ
（３０ミリモル）を、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）８
０ml中のメチル＝（Ｅ）−３−〔４−〔２−ヒドロキシ
エトキシ〕フェニル〕アクリラート６ｇ（２７ミリモ
ル）、Ｎ，Ｎ′−ジシクロヘキシルカルボジイミド（Ｄ
ＣＣ）５．８５ｇ（２８．３ミリモル）及び４−ジメチ
ルアミノピリジン０．３７ｇ（３ミリモル）の溶液に徐
々に滴加した。回分を室温で終夜攪拌した。反応を終了
させるため、初めに、ＤＣＣ１．４６ｇ（７．１ミリモ
ル）を更に加え、１時間攪拌後、メタクリル酸０．５ｇ
（５．９ミリモル）を更に加えた。回分を更に２４時間
攪拌し、濾過し、濾液を、それぞれ２００mlの５％酢酸
及び２００mlの水で３回抽出した。エーテル相をＮａ2
ＳＯ4 上で乾燥、蒸発させ、残渣をシクロヘキサンから
再結晶した。次いで、なおも僅かに不純な生成物を薄い
シリカゲル層越しに濾過した（溶離液：ジエチルエーテ
ル／ヘキサン＝１：１）。これによって、２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エチル＝２−メチルアクリラート８．３ｇを、８１
〜８２℃の融点、及びλmax （ＣＨ2 Ｃｌ2 中）＝３０
６．５nmの最大吸光度（ε＝２３，６７５ Ｉ／モルc
m）を有する白色粉末として得た。
【０１０１】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−エト
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−メチル−１−
〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕エチレン〕、Ｔ
g ＝６４℃；ポリ〔１−〔２−〔３−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔６
−メトキシ−３−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕メトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポ
リ〔１−〔２−〔２−エトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕メトキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔２
−フルオロ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシ〕メトキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕−２−メチルフェノキシ〕メ
トキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１
−〔１，１−ジメチル−２−〔４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ
−１−メチル−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−プロポ
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕エチレン〕（９：１）、Ｔg ＝８８℃；
【０１０２】ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−メチル−１−
〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕エチレン〕
（１：１）、Ｔg ＝７６℃；ポリ〔１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ
−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−ブトキシカルボニル
ビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチ
ルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４
−〔（Ｅ）−２−（２−メチルブトキシ）カルボニルビ
ニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−オクチルオキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−ドデシルオキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕−２−メチルフェノキシ〕エトキシ
カルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２
−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕
フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェニル〕フェノキシ〕ヘキ
シルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
〔１−〔２−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカル
ボニルビニル〕フェニル〕シクロヘキシルオキシ〕エト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
【０１０３】ポリ〔１−〔４−〔４−〔４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕シクロヘキ
シルオキシ〕ブトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔５−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕ピリジン−２−イル〕フェノ
キシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
ポリ〔１−〔２−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェニル〕ピリミジン−５−イルオ
キシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
ポリ〔１−〔２−〔６−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕ナフタリン−２−イルオキシ〕エトキシカ
ルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ナフ
タリン−１−イルオキシ〕エトキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔８−〔４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕ナフタリン−１−イル
オキシ〕オクチルオキシカルボニル〕−１−メチルエチ
レン〕。
【０１０４】実施例３ ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン〕 Mitsunobu による重合体類似のエーテル化による。
【０１０５】
【化２２】
【０１０６】ポリ（２−ヒドロキシエチルメタクリラー
ト）の市販溶液（ＤＭＡ中２１重量％）２．５ｇ（４．
０５ml）をアルゴン下でジメチルアセトアミド（ＤＭ
Ａ）７．５mlで希釈した。トリフェニルホスフィン２．
３２ｇ（８．８ミリモル）及びメチル＝３−（４−ヒド
ロキシフェニル）アクリラート１．４４ｇ（８．１ミリ
モル）を反応回分に、攪拌しつつ室温で溶解した。溶液
を０℃に冷却した。アゾジカルボン酸ジエチル（ＤＥＡ
Ｄ）１．４ml（８．８ミリモル）を４時間以内に滴加し
た。反応回分を更に１５分間０℃で放置し、次いで、氷
浴の撤去後、室温で１５時間攪拌した。次いで、激しく
攪拌しつつ、反応混合物をジエチルエーテル約９００ml
に滴加した。分離した重合体を濾取し、水流減圧下、６
０℃で乾燥した。精製するため、残渣をジクロロメタン
１０mlに溶解し、ジエチルエーテル中で再度沈澱させ
た。単量体が薄層クロマトグラフィーでそれ以上検出で
きなくなるまで、この操作を反復した。濾過し、減圧
下、６０℃での乾燥により、ポリ〔１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕０．
９３ｇを、Ｔg ＝８８℃のガラス段階、λmax （ＣＨ2
Ｃｌ2 中）＝２９６．６nmの最大吸光度（ε＝２０，６
１０ Ｉ／モルcm）を有する白色粉末として得た。
【０１０７】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキ
シエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、Ｔg
＝９０℃；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−エト
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキ
シエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
〔１−〔２−〔３−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニル
ビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチ
ルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−
〔３−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−
ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン〕（４：１）、Ｔg ＝７３℃；ポリ
〔１−〔２−〔６−メトキシ−３−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキ
シエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
〔１−〔２−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕、Ｔg ＝８４℃；ポリ〔１
−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェノキシ〕ブトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕、Ｔg ＝６０℃；ポリ〔１−
〔２−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシ〕メトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔２−エトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシ〕メトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔２−フルオロ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシ〕メトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
【０１０８】ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕−２−メチルフェノキシ〕メ
トキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−
〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン〕；ポリ〔１−〔１，１−ジメチル−２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ
−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２
−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカ
ルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−
〔４−〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニル〕フ
ェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン
−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン〕（１５：３：７）、Ｔg ＝１０１
℃；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）
−２−プロポキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−
〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン〕（１１：４：３）、Ｔg ＝９４℃；ポリ〔１−
〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−ブトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキ
シエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニル
ビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチ
ルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−
（２−メチルブトキシ）カルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ
−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２
−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカ
ルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−
〔４−〔（Ｅ）−２−オクチルオキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン／１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ
−１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−ドデシルオキシカル
ボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕−２−メチルフェノキシ〕エトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエト
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
【０１０９】ポリ〔１−〔２−〔４−〔４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ
−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕
フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕シクロヘキ
シルオキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔４−〔４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニ
ル〕シクロヘキシルオキシ〕ブトキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔４−〔５−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニル
ビニル〕ピリジン−２−イル〕フェノキシ〕エトキシカ
ルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒ
ドロキシエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔２−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェニル〕ピリミジン−５−
イルオキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔６−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ナフタレン
−２−イルオキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ナフタレ
ン−１−イルオキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチ
ルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔８−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ナフ
タレン−１−イルオキシ〕オクチルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−ヒドロキシエ
トキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕。
【０１１０】実施例４ ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕
【０１１１】
【化２３】
【０１１２】２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチ
ルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアート
２．５ｇ（５ミリモル）及び２，２′−アゾ−ビス−イ
ソブチロニトリル８．２mg（０．０５ミリモル）をテト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）１０mlに溶解した。この溶液
に弱いアルゴン気流を３０分間通気した。次いで、反応
容器を気密に密閉し、５５℃に加熱した。２４時間後、
容器を開放し、溶液をＴＨＦ８mlで希釈し、激しく攪拌
しつつ、エタノール１．６リットルに室温で滴加した。
分離した重合体を濾取し、水流減圧下、５０℃で乾燥し
た。更に精製するため、重合体をジクロロメタン約２５
mlに溶解し、メタノール１．７５リットル中で再び沈澱
させた。単量体がそれ以上薄層クロマトグラフィーで検
出されなくなるまで、この操作を反復した。水流減圧
下、５０℃での濾過及び乾燥により、分子量（Ｍw)が７
６９，０００（ゲル浸透クロマトグラフィー：ＴＨＦ、
３５℃、ポリスチロール基準）で、Ｔg ＝７４℃のガラ
ス段階及びλmax （ＣＨ2 Ｃｌ2 中）＝２７７．０nmの
最大吸光度（ε＝３１，５７５ Ｉ／モルcm）を有する
ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕２．１４ｇを得た。
【０１１３】出発材料として用いた２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル＝
４−〔６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシル
オキシ〕ベンゾアートは、下記の操作に従って調製し
た：４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸
【０１１４】
【化２４】
【０１１５】ｐ−ヒドロキシ安息香酸２２９．２ｇ
（１．６６モル）をメタノール６００mlに溶解し、Ｈ2
Ｏ４８０ml中のＮａＯＨ１５１ｇ（３．７７モル）の溶
液で、０℃、１０分以内で処理した。この溶液に、６−
クロロヘキサノール２７１．２ｇ（１．９９モル）を徐
々に滴加した。最後にヨウ化カリウム０．７５ｇを加
え、回分を還流下で６０時間沸騰させた。仕上げのた
め、この黄色溶液をＨ2 Ｏ３リットル中に注ぎ、pH１と
いう値が達成されるまで１０％ＨＣｌ（約６００ml）で
処理した。ミルク状の懸濁液を大型の吸引フィルター越
しに濾過した。残渣を吸引乾燥し、エタノール約１．５
リットルから２回再結晶した。これによって、４−（６
−ヒドロキシヘキシルオキシ）安息香酸２２９．６ｇを
微細白色粉末として得た；融点：１３６〜１４１℃。
【０１１６】４−〔６−（２−メチルアクリロイルオキ
シ）ヘキシルオキシ〕安息香酸
【０１１７】
【化２５】
【０１１８】４−（６−ヒドロキシヘキシルオキシ）安
息香酸７１．５ｇ（０．３モル）及びメタクリル酸１０
１．５ｇ（１．１８モル）をクロロホルム９５０mlに溶
解した。ヒドロキノン７．２ｇ（０．０７モル）及びｐ
−トルエンスルホン酸７．２ｇ（０．０４モル）の添加
後、回分を、還流下、水分離器上で４８時間沸騰させ
た。次いで、清澄な褐色溶液を蒸発させ、残渣をジエチ
ルエーテル１．５リットルに溶かし、濾過し、それぞれ
３００mlのＨ2 Ｏとともに５回振盪した。有機相をＮａ
2 ＳＯ4 上で乾燥し、蒸発させ、残渣をメタノールから
２回再結晶した。水流減圧下、４０℃で乾燥させた後、
４−〔６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘキシル
オキシ〕安息香酸４７．３３ｇが白色結晶として後に残
った；融点：８３℃。
【０１１９】メチル＝４−ヒドロキシ−３−メトキシシ
ンナマート
【０１２０】
【化２６】
【０１２１】実施例１と同様にして、触媒として濃硫酸
を用い、４−ヒドロキシ−３−メトキシケイ皮酸２５ｇ
（０．１２９モル）及びメタノール１８０mlから調製し
た。精製のため、ジクロロメタン／ジエチルエーテル
（１９：１）によるシリカゲルでのクロマトグラフィー
に付した。これによって、メチル＝４−ヒドロキシ−３
−メトキシシンナマート２１．７８ｇを淡黄色の油とし
て得た。
【０１２２】２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチ
ルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアート
【０１２３】
【化２７】
【０１２４】４−〔６−（２−メチルアクリロイルオキ
シ）ヘキシルオキシ〕安息香酸８．５ｇ（０．０２８モ
ル）を塩化チオニル６ml及びＤＭＦ３滴で処理し、混合
物を９０℃に２時間加熱した。過剰な塩化チオニルを、
初めに水流減圧下、次いで高真空下で完全に除去した。
残留酸塩化物をジクロロメタン２０mlに溶かし、ＴＨＦ
２５ml中のメチル＝４−ヒドロキシ−３−メトキシシン
ナマート５．２５ｇ（０．０２５モル）及びトリエチル
アミン４．２５mlの溶液に０℃で徐々に滴加した。回分
を室温で終夜攪拌し、濾過し、濾液を濃縮乾燥した。残
渣を、ジクロロメタン／ジエチルエーテル（１９：１）
によるシリカゲルでのカラムクロマトグラフィー、次い
でエタノール／ＴＨＦからの再結晶によって精製した。
２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニル
ビニル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチルアクリロイ
ルオキシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアート６．３１ｇが
白色粉末として単離された；融点：９２〜９４℃。
【０１２５】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２
−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕
フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕、相効果（℃）：Ｇ＝６４、ＬＣ１＝１３
５、ＬＣ２＝１６４ Ｉ；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２
−エトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオ
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕、Ｔg ＝６４
℃；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−プロポキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２
−ブトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオ
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔６−〔４−〔２−メチル−４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔４−〔４−〔２−メチル−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔２−
メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕、Ｔg ＝１１９℃；ポ
リ〔１−〔３−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕プロポキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕、Ｔg ＝１０２℃；ポリ〔１−〔２−〔２−
メトキシ−４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔２−メチル−４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
【０１２６】ポリ〔１−〔６−〔２−メトキシ−４−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔２
−メチル−４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
〔１−〔６−〔４−〔４−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカ
ルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−
〔４−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕シクロ
ヘキシル〕シクロヘキシルオキシ〕ヘキシルオキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕。
【０１２７】実施例５ ポリ〔オキシ−１−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕ブチル〕−１−メチルシリレン〕
【０１２８】
【化２８】
【０１２９】４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェニル＝４−（ブタ−３−エニルオキシ）ベン
ゾアート０．５ｇ（１．４ミリモル）及びポリ（メチル
水素シロキサン）０．０７１ｇをトルエン３mlに溶解し
た。反応容器の隔壁を通して弱い窒素気流を溶液に１０
分間通気した。次いで、攪拌しつつ、白金−ジビニルテ
トラメチルジシロキサン錯体溶液８μl を反応混合物に
室温で吹き付けた。回分を５５℃で２４時間攪拌した。
次いで、攪拌しつつ、重合体溶液を氷冷ｎ−ヘキサン４
００mlに滴加した。沈澱した重合体を分離、乾燥し、ト
ルエン約５mlに溶解し、メタノール４００ml中で沈澱さ
せた。この操作を２回繰り返した。高真空中で乾燥した
後、ポリ〔オキシ−１−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェ
ノキシ〕ブチル〕−１−メチルシリレン〕０．１５ｇ
が、相効果（℃）：Ｇ＝３５、Ｓ＝１９４、Ｉを有する
白色粉末として得られた。
【０１３０】出発材料として用いた４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェニル＝４−（ブタ−３
−エニルオキシ）ベンゾアートは、下記の操作に従って
調製した：４−（ブタ−３−エニルオキシ）安息香酸
【０１３１】
【化２９】
【０１３２】ｐ−ヒドロキシ安息香酸６９．１ｇ（０．
５モル）をエタノール４００mlに溶解し、水２５０ml中
のＫＯＨ５６．１ｇ（１モル）の溶液で処理した。反応
回分を還流下で加熱した。その間に、４−ブロモ−１−
ブテン７４．２６ｇ（０．５５モル）を徐々に滴加し
た。５時間後、エタノールをロータリーエバポレーター
で除去した。水相をＮａＯＨでpH１０の値とし、ジエチ
ルエーテルで繰り返し抽出した。水相を、濃ＨＣｌ４６
mlと氷冷水５００mlの混合物中に注いだ。分離した酸を
濾取し、少量の水で洗浄し、メタノール／水（２：１）
から再結晶した。水流減圧下、６０℃で乾燥した後、４
−（ブタ−３−エニルオキシ）安息香酸４０ｇが白色粉
末として後に残った；相遷移（℃）：Ｃ＝１２０、Ｎ＝
１４１、Ｉ。
【０１３３】４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェニル＝４−（ブタ−３−エニルオキシ）ベン
ゾアート
【０１３４】
【化３０】
【０１３５】４−（ブタ−３−エニルオキシ）安息香酸
８．７ｇ（０．０４５モル）を塩化チオニル７６ml及び
ＤＭＦ２滴で処理し、還流下で３．５時間沸騰させた。
過剰な塩化チオニルを、初めは水流減圧下、次いで高真
空下で完全に除去した。残留酸塩化物をジクロロメタン
１０mlに溶かし、ジクロロメタン４０mlへのメチル＝３
−（４−ヒドロキシフェニル）アクリラート（実施例
１）７．５９ｇ（０．０４２モル）とトリエチルアミン
６mlとの混合物に０℃で徐々に滴加した。回分を室温で
終夜攪拌した。反応混合物中の白色沈澱を、ジクロロメ
タンの添加によって溶解した。有機相を繰り返し水洗
し、Ｎａ2 ＳＯ4 上で乾燥し、濃縮乾燥した。精製のた
め、残渣をジクロロメタンによるシリカゲルでのクロマ
トグラフィーに付し、次いで、エタノールから再結晶し
た。４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
ェニル＝４−（ブタ−３−エニルオキシ）ベンゾアート
１２．６５ｇが白色粉末として単離された；相遷移
（℃）：Ｃ＝１０３、Ｎ＝１３８、Ｉ。
【０１３６】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔オキシ−４−〔４−〔２−メトキシ−
４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノ
キシカルボニル〕フェノキシ〕ブチル〕−１−メチルシ
リレン〕；Ｔg ＝４７℃；ポリ〔オキシ−４−〔４−
〔２−フルオロ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチ
ル〕−１−メチルシリレン〕；ポリ〔オキシ−６−〔４
−〔２−メチル−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ル〕−１−メチルシリレン〕；ポリ〔オキシ−４−〔４
−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
ェニル〕フェノキシ〕ブチル〕−１−メチルシリレ
ン〕；ポリ〔オキシ−６−〔６−〔４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕シクロヘキシル
オキシ〕ヘキシル〕−１−メチルシリレン〕；ポリ〔オ
キシ−４−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチ
ル〕メチルシリレン−ＣＯ−オキシ−４−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−ヘキシルオキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチル〕メチルシリレ
ン〕；ポリ〔オキシ−４−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フ
ェノキシ〕ブチル〕メチルシリレン−ＣＯ−オキシ−６
−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシル〕メ
チルシリレン〕；ポリ〔オキシ−４−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ブチル〕メチルシリレン−Ｃ
Ｏ−ジメチルオキシシリレン〕；ポリ〔オキシ−４−
〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ブチル〕メチ
ルシリレン−ＣＯ−オキシ−４−〔４−〔４−〔（Ｅ）
−２−ブトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ブチル〕メチルシリレン／ジメチルオ
キシシリレン〕。
【０１３７】実施例６ ポリ〔１−〔３−〔４−〔４′−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕ビフェニル−４−イル〕シクロヘ
キシル〕プロポキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕
【０１３８】
【化３１】
【０１３９】３−〔４−〔４′−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕ビフェニル−４−イル〕シクロヘ
キシル〕プロピル＝trans −２−メチルアクリラートか
らポリ〔１−〔３−〔４−〔４′−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕ビフェニル−４−イル〕シクロ
ヘキシル〕プロポキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕への重合を、実施例１と同様にして実施した。重合
体は、下記の相遷移（℃）を有した：Ｇ＝１５６、Ｃ＝
２０８、Ｉ
【０１４０】出発材料として用いた３−〔４−〔４′−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ビフェニル
−４−イル〕シクロヘキシル〕プロピル＝trans −２−
メチルアクリラートは、下記の操作に従って調製した：
trans −４′−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）シク
ロヘキシル〕ビフェニル−４−カルボニトリル
【０１４１】
【化３２】
【０１４２】メタノール／エーテル（９：１）１００ml
中のtrans −４′−〔４−（３−オキソプロピル）シク
ロヘキシル〕ビフェニル−４−カルボニトリル〔調製：
Mol.Cryst. Liq. Cryst. 1985, Vol.131, 327〕１２ｇ
の溶液を、メタノール／エーテル（９：１）３０ml中の
ホウ水素化ナトリウム１．３９ｇの懸濁液に０℃で５分
以内に滴加した。４５分後、更に１ｇのホウ水素化ナト
リウムを加えた。更に１時間後、反応を中断し、混合物
を塩化メチレンと１規定塩酸とに分配した。そうして、
有機相を数回水洗し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾
過、濃縮した。酢酸エチル／塩化メチレンからの結晶化
によって、trans −４′−〔４−（３−ヒドロキシプロ
ピル）シクロヘキシル〕ビフェニル−４−カルボニトリ
ル１１．５ｇを帯黄色結晶として得た。
【０１４３】trans −４′−〔４−（３−ヒドロキシプ
ロピル）シクロヘキシル〕ビフェニル−４−カルボキサ
ルデヒド
【０１４４】
【化３３】
【０１４５】水素化ジイソブチルアルミニウム溶液（ト
ルエン中２０％）３８．５mlを、トルエン１５０ml中の
trans −４′−〔４−（３−ヒドロキシプロピル）シク
ロヘキシル〕ビフェニル−４−カルボニトリル１１．５
ｇの懸濁液に０℃で１０分以内に滴加した。次いで、反
応混合物を室温まで徐々に加温し、更に３．５時間放置
して反応させた。次いで、１規定塩酸を徐々に滴加し、
反応混合物を１時間攪拌してから、水と塩化メチレンと
に分配した。その後、有機相を繰り返し水洗し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、濾過、濃縮した。酢酸エチル／
塩化メチレンからの析出によって、trans −４′−〔４
−（３−ヒドロキシプロピル）シクロヘキシル〕ビフェ
ニル−４−カルボキサルデヒド９．９ｇを淡黄色結晶と
して得た。
【０１４６】trans −４′−〔４−〔３−（２−メチル
アクリロイルオキシ）プロピル〕シクロヘキシル〕ビフ
ェニル−４−カルボキサルデヒド
【０１４７】
【化３４】
【０１４８】テトラヒドロフラン３０ml中のメタクリル
酸２．９mlの溶液に、初めトリエチルアミン９．４ml、
次いで塩化メタンスルホニル２．６３mlを−２５℃で滴
加した。その後、混合物を−２５℃で１時間攪拌し、次
いで、テトラヒドロフラン５０mlへのtrans −４′−
〔４−（３−ヒドロキシプロピル）シクロヘキシル〕ビ
フェニル−４−カルボキサルデヒド９．９ｇ及び４−ジ
メチルアミノピリジン１．１ｇの溶液を滴加した。その
後、０℃で２．５時間、次いで室温で１８時間放置して
反応させた。そうして、反応混合物をセライト越しに濾
過し、濾液をエーテルと水とに分配し、エーテル相を硫
酸マグネシウム上で乾燥し、濃縮した。これにより、粗
生のtrans −４′−〔４−〔３−（２−メチルアクリロ
イルオキシ）プロピル〕シクロヘキシル〕ビフェニル−
４−カルボキサルデヒド１１．５ｇを固体形態で得た。
【０１４９】３−〔４−〔４′−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕ビフェニル−４−イル〕シクロヘ
キシル〕プロピル＝trans −２−メチルアクリラート
【０１５０】
【化３５】
【０１５１】乾燥テトラヒドロフラン５０ml中のトリメ
チルホスホンアセタート６．４mlの溶液に、１．６規定
ブチルリチウム溶液２７．６mlを０℃で１０分以内に滴
加した。混合物を０℃で１．５時間攪拌し、その後、乾
燥テトラヒドロフラン５０ｍｌ中の粗生のｔｒａｎｓ
−４′−〔４−〔３−（２−メチルアクリロイルオキ
シ）プロピル〕シクロヘキシル〕ビフェニル−４−カル
ボキサルデヒド１１．５ｇの溶液を同じ温度で５分以内
に滴加した。次いで、混合物を室温へと徐々に加温し、
１５時間放置して反応させた。次いで、反応混合物を塩
化メチレンと１規定塩酸とに分配し、有機相を飽和重炭
酸ナトリウム溶液及び水で洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、濃縮した。酢酸エチル／ヘキサン（１：９）
によるシリカゲルでのクロマトグラフィー、それに続く
ヘキサン／酢酸エチルからの反復的再結晶によって、３
−〔４−〔４′−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕ビフェニル−４−イル〕シクロヘキシル〕プロピ
ル＝trans −２−メチルアクリラート０．７１ｇを無色
の結晶として得た。
【０１５２】実施例７ ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン
−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕
【０１５３】
【化３６】
【０１５４】〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチルアクリロイルオ
キシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアート０．４３ｇ（０．
９１ミリモル）、メタクリル酸２−エチルヘキシル（Fl
uka 64072)０．０１ｇ（０．０５ミリモル）及び２，
２′−アゾ−ビス−イソブチロニトリル１．６mg（０．
００９５ミリモル）をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
１．９mlに溶解した。この溶液に弱いアルゴン気流を３
０分間通気した。次いで、反応容器を気密に密閉し、５
５℃に加熱した。１５時間後、容器を開放し、溶液をＴ
ＨＦ２mlで希釈し、激しく攪拌しつつ、ジエチルエーテ
ル０．９リットルに室温で滴加した。分離した重合体を
濾取し、水流減圧下、５０℃で乾燥した。更に精製する
ため、重合体をジクロロメタン約５mlに溶解し、ジエチ
ルエーテル０．９リットル中で再び沈澱させた。単量体
がそれ以上薄層クロマトグラフィーで検出されなくなる
まで、この操作を反復した。濾過し、水流減圧下、５０
℃での乾燥により、相系列（℃）：Ｇ＝４２、Ｓ＝２０
５、Ｉを有するポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシルオキシ
カルボニル〕−１−メチルエチレン〕（１８：１）０．
３８５ｇを得た。
【０１５５】〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチルアクリロイルオ
キシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアートは、２−メトキシ
−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ニル＝４−〔６−（２−メチルアクリロイルオキシ）ヘ
キシルオキシ〕ベンゾアート（実施例４）と同様にして
調製した。
【０１５６】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２
−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕
フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシルオキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕（９：１）、相系列
（℃）：Ｇ＝４１、ＬＣ２＝２００、Ｉ；ポリ〔１−
〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニル
ビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシル
オキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−
〔２−エチルヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕（４：１）；ポリ〔１−〔３−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕プロポキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシルオ
キシカルボニル〕エチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ヘキシルオキシカル
ボニルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−メトキシカルボニル
−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−エトキシカルボ
ニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−プロポキシカ
ルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−
〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ブチ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１
−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−ペンチルオキシカルボニル−１−メチルエチレン〕；
ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
カルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン
−ＣＯ−１−ヘキシルオキシカルボニル−１−メチルエ
チレン〕；
【０１５７】ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−オクチルオキシカルボニル−
１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ドデシルオキシカル
ボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４
−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
ェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−オクタデシ
ルオキシカルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１
−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−アリルオキシカルボニル−１−メチルエチレン〕；ポ
リ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕
ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−Ｃ
Ｏ−１−フェニルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−メトキシカル
ボニルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ブチルオキシカルボ
ニルエチレン；ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−シアノエチレン〕；ポリ〔１
−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェ
ノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチ
レン−ＣＯ−１−メトキシカルボニル−１−メチルエチ
レン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−エトキシカルボニル
−１−メチルエチレン〕（１９：１）、Ｔg ＝７６℃；
【０１５８】ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−
４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノ
キシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−プロポキシカル
ボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４
−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキ
シルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−
１−〔２−メチルプロポキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−
４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノ
キシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ブチルオキシカ
ルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−
〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕
ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−Ｃ
Ｏ−１−ペンチルオキシカルボニル−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ヘキシルオキシカル
ボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４
−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキ
シルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−
１−〔２−エチルヘキシルオキシカルボニル−１−メチ
ルエチレン〕（２０：１）、Ｔg ＝７３℃；ポリ〔１−
〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノ
キシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン−ＣＯ−１−オクチルオキシカルボニル−１−メチル
エチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−
４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノ
キシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ドデシルオキシ
カルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−
〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕
ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−Ｃ
Ｏ−１−オクタデシルオキシカルボニル−１−メチルエ
チレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−アリルオキシカ
ルボニル−１−メチルエチレン〕；
【０１５９】ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−
４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノ
キシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−フェノキ
シエトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２
−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕
フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチル
エチレン−ＣＯ−１−〔２−フェニルエトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−
〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−フェニルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−
メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−シア
ノエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−フェニルエチレン〕；ポリ
〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−Ｃ
Ｏ−１−メトキシカルボニル−１−メチルエチレン〕；
ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−
ＣＯ−１−プロポキシカルボニル−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−メチルエチ
レン−ＣＯ−１−ヘキシルオキシカルボニル−１−メチ
ルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−メトキシカ
ルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔２−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−
ＣＯ−１−ブチルオキシカルボニル−１−メチルエチレ
ン〕；
【０１６０】ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボ
ニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−オクチルオキ
シカルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４
−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
ェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕−１−メチルエチ
レン−ＣＯ−１−メトキシカルボニル−１−メチルエチ
レン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ヘキシルオ
キシカルボニル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔２−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−ブチルオキシカルボニ
ル−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔４−〔２−メ
トキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシ〕ブチルオキシカルボニル〕−１−メチ
ルエチレン−ＣＯ−１−ペンチルオキシカルボニル−１
−メチルエチレン〕。
【０１６１】実施例８ ポリ〔１−〔２−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕ナフタレン−６−イルオキシカルボニル〕−１−
メチルエチレン〕
【０１６２】
【化３７】
【０１６３】（Ｅ）−２−（２−メトキシカルボニルビ
ニル）ナフタリン−６−イル＝２−メチルアクリラート
０．９ｇ（３．０４ミリモル）及び２，２′−アゾ−ビ
ス−イソブチロニトリル３．７mg（０．０２ミリモル）
をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）４．５mlに溶解した。
この溶液に弱いアルゴン気流を３０分間通気した。次い
で、反応容器を気密に密閉し、６０℃に加熱した。９時
間後、容器を開放し、溶液をＴＨＦ２mlで希釈し、激し
く攪拌しつつ、メタノール１リットルに室温で滴加し
た。分離した重合体を濾取し、減圧下、４０℃で乾燥し
た。更に精製するため、重合体をＴＨＦ約６mlに溶解
し、メタノール１リットル中で再び沈澱させた。単量体
がそれ以上薄層クロマトグラフィーで検出されなくなる
まで、この操作を反復した。濾過し、減圧下、４０℃で
の乾燥により、６２４，０００の分子量ＭW （ゲル浸透
クロマトグラフィー：ＴＨＦ、３５℃、ポリスチロール
基準）、並びにλmax （ＣＨＣｌ3 ）＝２６１．９nm、
２７０．９nm及び３０３．７nmに最大吸光度を有するポ
リ〔１−〔２−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕ナフタレン−６−イルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン〕０．１５ｇを得た。
【０１６４】出発材料として用いた（Ｅ）−２−（２−
メトキシカルボニルビニル）ナフタレン−６−イル＝２
−メチルアクリラートは、下記の操作に従って調製し
た：メチル＝（Ｅ）−３−（６−ヒドロキシナフタレン
−２−イル）アクリラート
【０１６５】
【化３８】
【０１６６】６−ブロモ−２−ナフトール５ｇ（２２．
４ミリモル）、アクリル酸メチル６ml（６７．２ミリモ
ル）、酢酸パラジウム１００mg（０．４５ミリモル）及
びトリエチルアミン２５mlを、窒素を満たしたフラスコ
に入れた。トリ−（ｏ−トリル）ホスフィン５４５mg
（１．７９ミリモル）を加えた後、反応混合物を還流下
で終夜沸騰させた。１５時間後、反応を中断し、混合物
を酢酸エチルと水とに分配した。有機相を水で３回逆洗
し、水相を、それぞれ、酢酸エチルで個別に２回逆洗し
た。合わせた有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し、セ
ライト越しに濾過し、減圧下で完全に濃縮した。トルエ
ン／酢酸エチル（３：２）によるシリカゲルでのクロマ
トグラフィー、それに続く酢酸エチルからの再結晶によ
り、メチル＝（Ｅ）−３−（６−ヒドロキシナフタレン
−２−イル）アクリラート３．６５ｇを得た。
【０１６７】（Ｅ）−２−（２−メトキシカルボニルビ
ニル）ナフタレン−６−イル＝２−メチルアクリラート
【０１６８】
【化３９】
【０１６９】メチル＝（Ｅ）−３−（６−ヒドロキシナ
フタレン−２−イル）アクリラート０．８９ｇ（３．９
ミリモル）、少量のＢＨＴ及びトリエチルアミン０．６
６mlをＴＨＦ１０mlに溶解した。０℃に冷却後、ＴＨＦ
４ml中の塩化メタクリロイル０．３９ml（４．０７ミリ
モル）の溶液を、３０分以内で滴加した。白色懸濁液を
０℃で更に１時間攪拌し、次いでエーテルと水とに分配
した。有機相を水で２回逆洗し、水相をジエチルエーテ
ルで２回逆洗した。合わせた有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥し、セライト越しに濾過し、減圧下で完全に濃
縮した。この粗生成物を、ヘキサン５mlとトルエン２０
mlの混合物から再結晶した。これによって、白色の
（Ｅ）−２−（２−メトキシカルボニルビニル）ナフタ
レン−６−イル＝２−メチルアクリラートを得た。
【０１７０】実施例９ ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔２−メトキシ
−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕
【０１７１】
【化４０】
【０１７２】２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチ
ルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアート
０．２２４ｇ（０．４５ミリモル）、２−メトキシ−４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル
＝４−〔２−（２−メチルアクリロイルオキシ）エトキ
シ〕ベンゾアート０．１９８ｇ（０．４５ミリモル）及
び２，２′−アゾ−ビス−イソブチロニトリル１．５mg
（０．００９ミリモル）をテトラヒドロフラン（ＴＨ
Ｆ）１．８mlに溶解した。この溶液に弱いアルゴン気流
を３０分間通気した。次いで、反応容器を気密に密閉
し、５５℃に加熱した。６時間後、容器を開放し、溶液
をＴＨＦ２mlで希釈し、激しく攪拌しつつ、ジエチルエ
ーテル０．９リットルに室温で滴加した。分離した重合
体を濾取し、水流減圧下、４０℃で乾燥した。更に精製
するため、重合体をジクロロメタン約５mlに溶解し、ジ
エチルエーテル０．９リットル中で再び沈澱させた。単
量体がそれ以上薄層クロマトグラフィーで検出されなく
なるまで、この操作を反復した。濾過し、水流減圧下で
の乾燥により、Ｔg ＝９２℃でのガラス段階、及びλ
max （ＣＨ2 Ｃｌ2 中）＝２７６．５nmに最大吸光度を
有するポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔２−
メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕（１：１）０．２６ｇ
を得た。
【０１７３】２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキ
シカルボニルビニル〕フェニル＝４−〔６−（２−メチ
ルアクリロイルオキシ）ヘキシルオキシ〕ベンゾアート
及び２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
ニルビニル〕フェニル＝４−〔２−（２−メチルアクリ
ロイルオキシ）エトキシ〕ベンゾアートは、実施例４に
記載した操作に従って調製した。
【０１７４】同様にして、下記の重合体を合成すること
ができた：ポリ〔１−〔３−〔４−〔２−メトキシ−４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シカルボニル〕フェノキシ〕プロポキシカルボニル〕−
１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔２−メ
トキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカル
ボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔３−
〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕
プロポキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−
１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−
メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フ
ェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン〕；ポリ〔１−〔２−〔４−〔２−メトキシ−４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１
−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔８−〔４−〔２−メト
キシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕
フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカ
ルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−
〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカ
ルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕
ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−Ｃ
Ｏ−１−〔２−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−
〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェ
ノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−〔２
−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
ニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオ
キシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−
〔２−〔４−〔２−フルオロ−４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノ
キシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；
ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔２−メトキシ
−４−〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニル〕フ
ェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−
〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−〔２−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−ヘ
キシルオキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエ
チレン〕；ポリ〔１−〔６−〔２−メトキシ−４−〔４
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−
〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エトキ
シカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−
〔６−〔２−メトキシ−４−〔４−〔（Ｅ）−２−メト
キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノ
キシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン−ＣＯ−１−〔２−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−ブチ
ルオキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フ
ェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；
【０１７５】ポリ〔１−〔６−〔２−メトキシ−４−
〔３−フルオロ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−〔２−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メ
トキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェ
ノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔６−〔２−メトキシ−４−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキ
シ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポ
リ〔１−〔６−〔４−〔２−フルオロ−４−〔（Ｅ）−
２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
チルエチレン−ＣＯ−１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）
−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニル〕フェノキ
シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
ン〕；ポリ〔１−〔８−〔４−〔２−メトキシ−４−
〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
カルボニル〕フェノキシ〕オクチルオキシカルボニル〕
−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔３−〔４−〔４′
−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ビフェニ
ル−４−イル〕シクロヘキシル〕プロポキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ〔１−〔６−〔４−
〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニ
ルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシ
ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１
−〔６−〔２−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニ
ル〕ナフタレン−６−イル〕ヘキシルオキシカルボニ
ル〕−１−メチルエチレン〕。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０８Ｇ 77/14 ＮＵＧ Ｃ０８Ｇ 77/14 ＮＵＧ Ｃ０９Ｋ 19/38 9279−4Ｈ Ｃ０９Ｋ 19/38 19/40 9279−4Ｈ 19/40 Ｇ０２Ｆ 1/1337 ５２０ Ｇ０２Ｆ 1/1337 ５２０ // Ｃ０８Ｆ 299/00 ＭＲＮ Ｃ０８Ｆ 299/00 ＭＲＮ (72)発明者 アンドレアス・シュースター ドイツ連邦共和国、デー−79110 フライ ブルク、ファルケンベルガーシュトラーセ 14

Claims (28)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 一般式（Ｉ）： 【化１】 〔式中、 Ｍ1 は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
    ２−クロロアクリル酸エステル及び２−フェニルアクリ
    ル酸エステル；場合によりＮ−低級アルキル置換であっ
    てもよい、アクリルアミド、メタクリルアミド、２−ク
    ロロアクリルアミド及び２−フェニルアクリルアミド；
    ビニルエーテル、ビニルエステル、スチレン誘導体並び
    にシロキサンよりなる群からの繰り返し単量体単位を表
    し、 Ｓ1 は、共有単結合、又は−（ＣＨ2)r −、−（ＣＨ2)
    r −Ｏ−、−（ＣＨ2)r −Ｏ−（ＣＨ2)s −、−（ＣＨ
    2)r −Ｏ−（ＣＨ2)s −Ｏ−、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−、
    −（ＣＨ2)r −ＣＯ−Ｏ−、−（ＣＨ2)r −Ｏ−ＣＯ
    −、−（ＣＨ2)r−ＮＲ2 −、−（ＣＨ2)r −ＣＯ−Ｎ
    Ｒ2 −、−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −ＣＯ−、−（ＣＨ2)r
    −ＮＲ2 −ＣＯ−Ｏ−若しくは−（ＣＨ2)r −ＮＲ2 −
    ＣＯ−ＮＲ3 −（ここで、これらは、場合によりフッ
    素、塩素若しくはシアノでモノ−又は多置換されていて
    もよく、ｒ及びｓは、それぞれ１〜２０の整数である
    が、但しｒ＋ｓ≦２０であり、そしてＲ2 及びＲ3 は、
    それぞれ独立に、水素若しくは低級アルキルを表す）で
    示される、直鎖又は分岐鎖アルキレンのような連結基単
    位を表し、 環Ａは、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
    −ジイル、１，３−ジオキサン−２，５−ジイル、シク
    ロヘキサン−１，４−ジイル、ピペリジン−１，４−ジ
    イル又はピペラジン−１，４−ジイルを表し、 環Ｂは、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
    −ジイル、１，４−若しくは２，６−ナフチレン、１，
    ３−ジオキサン−２，５−ジイル又はシクロヘキサン−
    １，４−ジイルを表し、 Ｙ1 及びＹ2 は、それぞれ独立に、共有単結合、又は−
    （ＣＨ2)t −、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ
    −ＯＣ−、−ＮＲ4 −、−ＣＯ−ＮＲ4 −、−Ｒ4 Ｎ−
    ＣＯ−、−（ＣＨ2)u −Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2)u −、−
    （ＣＨ2)u −ＮＲ4 −若しくは−ＮＲ4 −（ＣＨ2)u −
    （ここで、Ｒ4 は、水素又は低級アルキルを表し、ｔ
    は、１〜４の整数を表し、そしてｕは、１〜３の整数を
    表す）を表す、 ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表し、 環Ｃは、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５
    −ジイル、２，５−チオフェニレン、２，５−フラニレ
    ン又は１，４−若しくは２，６−ナフチレンを表し、 Ｚは、−Ｏ−若しくは−ＮＲ5 −（ここで、Ｒ5 は、水
    素又は低級アルキルを表す）、又は式：Ｄの別の基を表
    し、 Ｄは、炭素原子数１〜２０の直鎖若しくは分枝鎖アルキ
    レン基（ここで、これらは、場合によりフッ素又は塩素
    で置換されていてもよい）、又は環員原子数３〜８のシ
    クロアルキル残基（ここで、これらは、場合によりフッ
    素、塩素、アルキル又はアルコキシで置換されていても
    よい）を表す〕で示される繰り返し単位を有する重合
    体。
  2. 【請求項２】 Ｍ1 及びＭ2 が、請求項１と同義であ
    り、 環Ａが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
    −ジイル又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、 環Ｂが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
    −ジイル、１，４−若しくは２，６−ナフチレン又はシ
    クロヘキサン−１，４−ジイルを表し、 Ｙ1 及びＹ2 が、それぞれ独立に、共有単結合、−ＣＨ
    2 ＣＨ2 −、−Ｏ−、−ＣＨ2 Ｏ−、−Ｏ−ＣＨ2 −、
    −ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＯＣ−を表し、 ｍ及びｎが、それぞれ独立に、０又は１を表し、 環Ｃが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリミジン−２，５−ジイル、ピリジン−２，５
    −ジイル、２，５−フラニレン又は１，４−若しくは
    ２，６−ナフチレンを表し、 Ｚが、−Ｏ−を表し、そしてＤが、炭素原子数１〜２０
    の直鎖若しくは分枝鎖アルキレン基、又は場合によりア
    ルキル若しくはアルコキシで置換されていてもよい、環
    員原子数５〜６のシクロアルキル残基を表す、請求項１
    記載の重合体。
  3. 【請求項３】 Ｍ1 及びＭ2 が、請求項１と同義であ
    り、 環Ｂが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、あ
    るいはピリジン−２，５−ジイル、ピリミジン−２，５
    −ジイル又はシクロヘキサン−１，４−ジイルを表し、 Ｙ2 が、共有単結合、−ＣＯ−Ｏ−又は−Ｏ−ＯＣ−を
    表し、 ｍが、０又は１を表し、 ｎが、０を表し、 環Ｃが、非置換、又は場合によりフッ素、塩素、シア
    ノ、アルキル若しくはアルコキシ置換のフェニレン、又
    は１，４−若しくは２，６−ナフチレンを表し、 Ｚが、−Ｏ−を表し、そしてＤが、炭素原子数１〜１２
    の直鎖又は分枝鎖アルキレン基を表す、請求項１又は２
    記載の重合体。
  4. 【請求項４】 一般式（Ｉａ）： 【化２】 〔式中、 Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及び
    ｎは、請求項１と同義であり、 Ｍ1'、Ｓ1'、Ａ′、Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ1'、Ｙ
    2'、ｍ′及びｎ′は、Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
    Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎとして請求項１に表したもの
    と同義であり、 Ｍ2 は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、
    ２−クロロアクリル酸エステル若しくは２−フェニルア
    クリル酸エステル；場合によりＮ−低級アルキル置換で
    あってもよい、アクリルアミド、メタクリルアミド、２
    −クロロアクリルアミド若しくは２−フェニルアクリル
    アミド；ビニルエーテル若しくはビニルエステル；アク
    リル酸若しくはメタクリル酸の、直鎖若しくは分枝鎖ア
    ルキルエステル、アクリル酸若しくはメタクリル酸のア
    リルエステル、アルキルビニルエーテル若しくはエステ
    ル、アクリル酸フェノキシアルキルエステル若しくはメ
    タクリル酸フェノキシアルキルエステル、アクリル酸フ
    ェニルアルキルエステル若しくはメタクリル酸フェニル
    アルキルエステル、アクリル酸ヒドロキシアルキルエス
    テル若しくはメタクリル酸ヒドロキシアルキルエステル
    （ここで、これらのアルキル残基は、炭素原子数が１〜
    ２０である）；あるいはアクリロニトリル、メタクリロ
    ニトリル、スチレン、４−メチルスチレン又はシロキサ
    ンよりなる群からの繰り返し単量体単位を表し、 ｗ、ｗ1 及びｗ2 は、０＜ｗ＜１、０＜ｗ1 ＜１、かつ
    ０＜ｗ2 ≦０．５である共単量体のモル分率である〕で
    示される繰り返し単位を有する、請求項１記載の共重合
    体。
  5. 【請求項５】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ｍ1'及びＳ1'が、Ｍ1 及びＳ1 として請求項１に表した
    ものと同義であり、 Ｍ2 が、請求項４と同義であり、 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎが、請求項
    ２と同義であり、 Ａ′、Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ1'、Ｙ2'、ｍ′及び
    ｎ′が、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎと
    して請求項２に表したものと同義であり、 ｗ、ｗ1 及びｗ2 が、０＜ｗ＜１、０＜ｗ1 ＜１、かつ
    ０＜ｗ2 ≦０．５である共単量体のモル分率である一般
    式（Ｉａ）の繰り返し単位を有する、請求項４記載の共
    重合体。
  6. 【請求項６】 ｎ及びｎ′が、０を表す、請求項５記載
    の共重合体。
  7. 【請求項７】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ｍ1'及びＳ1'が、Ｍ1 及びＳ1 として請求項１に表した
    ものと同義であり、 Ｍ2 が、請求項４と同義であり、 Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ2 及びｍが、請求項３と同義であ
    り、 Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ2'及びｍ′が、Ｂ、Ｃ、
    Ｄ、Ｚ、Ｙ2 及びｍとして請求項３に表したものと同義
    であり、 ｗ、ｗ1 及びｗ2 が、０＜ｗ＜１、０＜ｗ1 ＜１、かつ
    ０＜ｗ2 ≦０．５である共単量体のモル分率である、請
    求項６記載の共重合体。
  8. 【請求項８】 ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−
    メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカル
    ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４
    −〔（Ｅ）−２−プロポキシカルボニルビニル〕フェノ
    キシ〕エトキシカルボニル〕−１−メチルエチレン−Ｃ
    Ｏ−１−〔２−ヒドロキシエトキシカルボニル〕−１−
    メチルエチレン〕である、請求項７記載の共重合体。
  9. 【請求項９】 一般式（Ｉｂ）： 【化３】 〔式中、 Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及び
    ｎは、請求項１と同義であり、 Ｍ2 は、請求項４と同義であり、 ｗ及びｗ2 は、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．５であ
    る共単量体のモル分率である〕で示される繰り返し単位
    を有する、請求項１記載の共重合体。
  10. 【請求項１０】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ｍ2 が、請求項４と同義であり、 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎが、請求項
    ２と同義であり、 ｗ及びｗ2 が、０＜ｗ＜１かつ０＜ｗ2 ≦０．５である
    共単量体のモル分率である一般式（Ｉｂ）の繰り返し単
    位を有する、請求項９記載の共重合体。
  11. 【請求項１１】 ｎが、０を表す、請求項１０記載の共
    重合体。
  12. 【請求項１２】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ｍ2 が、請求項４と同義であり、 Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ2 及びｍが、請求項３と同義であ
    り、 ｗ及びｗ2 が、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ2 ≦０．５であ
    る共単量体のモル分率である、請求項１１記載の共重合
    体。
  13. 【請求項１３】 ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−
    〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシ
    カルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕
    −１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−エチルヘキシ
    ルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕；ポリ
    〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２
    −メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕
    フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチル
    エチレン−ＣＯ−１−エトキシカルボニル−１−メチル
    エチレン〕；又はポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキ
    シ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
    ェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカル
    ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−エチ
    ルヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕
    である、請求項１２記載の共重合体。
  14. 【請求項１４】 一般式（Ｉｃ）： 【化４】 〔式中、 Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及び
    ｎは、請求項１と同義であり、 Ｍ1'、Ｓ1'、Ａ′、Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ1'、Ｙ
    2'、ｍ′及びｎ′は、Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、
    Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎとして請求項１に表したもの
    と同義であり、 ｗ及びｗ1 は、０＜ｗ＜１かつ０＜ｗ1 ＜１である共単
    量体のモル分率である〕で示される繰り返し単位を有す
    る、請求項１記載の共重合体。
  15. 【請求項１５】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ｍ1'及びＳ1'が、Ｍ1 、Ｓ1 として請求項１に表したも
    のと同義であり、 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎが、請求項
    ２と同義であり、 Ａ′、Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ1'、Ｙ2'、ｍ′及び
    ｎ′が、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎと
    して請求項２に表したものと同義であり、 ｗ及びｗ1 が、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ1 ＜１である共
    単量体のモル分率である一般式（Ｉｃ）の繰り返し単位
    を有する、請求項１４記載の共重合体。
  16. 【請求項１６】 ｎ及びｎ′が、０を表す、請求項１５
    記載の共重合体。
  17. 【請求項１７】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１に同義であ
    り、 Ｍ1'及びＳ1'が、Ｍ1 及びＳ1 として請求項１に表した
    ものと同義であり、 Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ2 及びｍが、請求項３と同義であ
    り、 Ｂ′、Ｃ′、Ｄ′、Ｚ′、Ｙ2'及びｍ′が、Ｂ、Ｃ、
    Ｄ、Ｚ、Ｙ2 及びｍとして請求項３に表したものと同義
    であり、 ｗ及びｗ1 が、０＜ｗ＜１、かつ０＜ｗ1 ＜１である共
    単量体のモル分率である、請求項１６記載の共重合体。
  18. 【請求項１８】 ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキ
    シ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
    ェノキシカルボニル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカル
    ボニル〕−１−メチルエチレン−ＣＯ−１−〔２−〔４
    −〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
    ニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキシ〕エト
    キシカルボニル〕−１−メチルエチレン〕である、請求
    項１７記載の共重合体。
  19. 【請求項１９】 一般式（Ｉ）： 【化５】 〔式中、 Ｍ1 、Ｓ1 、Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及び
    ｎは、請求項１と同義である〕で示される繰り返し単位
    を有する、請求項１記載の単独重合体。
  20. 【請求項２０】 ポリ〔１−〔３−〔４−〔４′−
    〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ビフェニル
    −４−イル〕シクロヘキシル〕プロポキシカルボニル〕
    −１−メチルエチレン〕である、請求項１９記載の単独
    重合体。
  21. 【請求項２１】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ1 、Ｙ2 、ｍ及びｎが、請求項
    ２と同義である一般式（Ｉ）の繰り返し単位を有する、
    請求項１９記載の単独重合体。
  22. 【請求項２２】 ｎが、０を表す、請求項１９記載の単
    独重合体。
  23. 【請求項２３】 Ｍ1 及びＳ1 が、請求項１と同義であ
    り、 Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｚ、Ｙ2 及びｍが、請求項３と同義で
    ある、請求項２２記載の単独重合体。
  24. 【請求項２４】 ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メト
    キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕−１−
    メチルエチレン〕、 ポリ〔１−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビ
    ニル〕フェニルアミノカルボニル〕−１−メチルエチレ
    ン〕、 ポリ〔１−〔２−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボ
    ニルビニル〕フェノキシ〕エトキシカルボニル〕−１−
    メチルエチレン〕、 ポリ〔１−〔６−〔４−〔２−メトキシ−４−〔（Ｅ）
    −２−メトキシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニ
    ル〕フェノキシ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メ
    チルエチレン〕、 ポリ〔１−〔６−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メトキシ
    カルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノキ
    シ〕ヘキシルオキシカルボニル〕−１−メチルエチレ
    ン〕、 ポリ〔オキシ−〔４−〔４−〔４−〔（Ｅ）−２−メト
    キシカルボニルビニル〕フェノキシカルボニル〕フェノ
    キシ〕ブチル〕−メチルシリレン〕、又はポリ〔１−
    〔２−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕ナフ
    タリン−６−イルオキシカルボニル〕−１−メチルエチ
    レン〕である、請求項２３記載の単独重合体。
  25. 【請求項２５】 ４−（ブタ−３−エニルオキシ）安息
    香酸４−〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フ
    ェニルエステル。
  26. 【請求項２６】 ４−〔６−（２−メチルアクリロイル
    オキシ）ヘキシルオキシ〕安息香酸２−メトキシ−４−
    〔（Ｅ）−２−メトキシカルボニルビニル〕フェニルエ
    ステル。
  27. 【請求項２７】 液晶の配向層として、３−アリールア
    クリル酸のエステル及びアミドである請求項１〜２４い
    ずれか１項記載の架橋結合しうる光活性の重合体材料を
    含むことを特徴とする電気光学装置。
  28. 【請求項２８】 非−構造化又は構造化光学要素及び多
    層系の製造のための、３−アリールアクリル酸のエステ
    ル及びアミドである請求項１〜１５いずれか１項記載の
    架橋結合しうる光活性の重合体材料。
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Cited By (35)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10130282A (ja) * 1996-10-28 1998-05-19 Rolic Ag 光反応性基を包含するシラン誘導体
JP2001172342A (ja) * 1999-12-17 2001-06-26 Nitto Denko Corp コレステリック性液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板
JP2002522410A (ja) * 1998-08-07 2002-07-23 ロリク アーゲー 液晶化合物
JP2003505561A (ja) * 1999-07-23 2003-02-12 ロリク アーゲー 化合物
KR100441154B1 (ko) * 2001-07-11 2004-07-19 엘지전선 주식회사 2개 이상의 광활성 그룹을 갖는 광배향성 고분자 조성물,이 조성물을 포함 하는 액정배향막 및 이 배향막을 사용한액정표시소자
JP2004530734A (ja) * 2000-12-29 2004-10-07 ロリク　アーゲー 光活性共重合体
JP2006511686A (ja) * 2002-12-06 2006-04-06 ロリク　アーゲー 架橋可能な光活性ポリマー及びそれらの使用
JP2008276149A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Hayashi Telempu Co Ltd 高分子フィルム、分子配向素子の作製方法、および液晶配向膜
JP2009501238A (ja) * 2003-07-16 2009-01-15 ロリク アーゲー 配向層用の重合性コポリマー
JP2009086243A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp 配向膜、その製造方法及び配向膜形成用組成物、ならびにそれを有する液晶セル及び液晶表示装置
JP2009215189A (ja) * 2008-03-07 2009-09-24 Wakayama Prefecture 新規な重合性化合物およびその製造方法
JP2009258578A (ja) * 2008-03-18 2009-11-05 Jsr Corp 液晶配向剤、液晶配向膜とその形成方法ならびに液晶表示素子および光学部材
WO2010150748A1 (ja) 2009-06-23 2010-12-29 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011010635A1 (ja) 2009-07-21 2011-01-27 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011126022A1 (ja) 2010-04-08 2011-10-13 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011126019A1 (ja) 2010-04-08 2011-10-13 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011126021A1 (ja) 2010-04-08 2011-10-13 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2012014915A1 (ja) * 2010-07-28 2012-02-02 大阪有機化学工業株式会社 共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、光配向膜及び位相差膜
JP2012058511A (ja) * 2010-09-09 2012-03-22 Dic Corp 光学異方体
JP2012087286A (ja) * 2010-09-22 2012-05-10 Jnc Corp 感光性化合物および該化合物からなる感光性ポリマー
JP2012173609A (ja) * 2011-02-23 2012-09-10 Osaka Organic Chem Ind Ltd 位相差フィルムの製造方法
WO2012165550A1 (ja) 2011-05-31 2012-12-06 Dic株式会社 桂皮酸誘導体およびその重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
WO2013002260A1 (ja) 2011-06-30 2013-01-03 Dic株式会社 共重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
WO2013002224A1 (ja) 2011-06-30 2013-01-03 Dic株式会社 桂皮酸誘導体及びその重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
JP2013224989A (ja) * 2012-04-20 2013-10-31 Jsr Corp 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法
WO2013191252A1 (ja) * 2012-06-20 2013-12-27 日産化学工業株式会社 新規重合性化合物及びその製造方法
US8634046B2 (en) 2005-03-04 2014-01-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical element having an alignment layer for an optical anisotropic body
JP2014501831A (ja) * 2010-12-23 2014-01-23 ロリク アーゲー 光活性高分子材料
JP2015106062A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 Dic株式会社 液晶配向膜用ポリマー、液晶配向膜、液晶表示素子及び光学異方体
WO2016052490A1 (ja) * 2014-10-01 2016-04-07 Dic株式会社 積層体、およびそれを使用した光学フィルムまたは液晶配向膜
JP2016200664A (ja) * 2015-04-08 2016-12-01 Jsr株式会社 潜像形成体、潜像形成体セット、潜像形成体の製造方法、画像表示方法及び装飾用積層体
US9683174B2 (en) 2013-11-29 2017-06-20 Dic Corporation Compound, polymer, liquid crystal alignment layer, liquid crystal display device, and optically anisotropic material
WO2019088261A1 (ja) 2017-11-02 2019-05-09 大日本印刷株式会社 合わせガラスの製造方法、合わせガラス、調光フィルム
WO2022210639A1 (ja) * 2021-03-30 2022-10-06 日産化学株式会社 パターン化された単層位相差膜の製造方法及び単層位相差膜形成用重合体組成物
WO2023282091A1 (ja) 2021-07-05 2023-01-12 大日本印刷株式会社 調光部材、調光装置

Families Citing this family (87)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE59814236D1 (de) * 1997-02-24 2008-07-17 Rolic Ag Photovernetzbare Polymere
DE69806618T2 (de) * 1997-09-25 2003-02-27 Rolic Ag Zug Photovernetzbare polyimide
EP1064583B1 (en) * 1998-03-20 2005-12-21 Rolic AG LlQUID CRYSTAL ORIENTATION LAYER
FR2777899A1 (fr) * 1998-04-28 1999-10-29 Thomson Csf Materiaux d'alignement de cristaux liquides a partir de derives du biphenyl et du napthtalene
US6376467B1 (en) * 1998-10-09 2002-04-23 The Regents Of The University Of California Use of inhibitors of protein kinase C epsilon to treat pain
US20040120040A1 (en) 1998-11-13 2004-06-24 Rolic Ag Optical component
GB9907801D0 (en) 1999-04-06 1999-06-02 Rolic Ag Photoactive polymers
US6540940B1 (en) * 1999-08-23 2003-04-01 Fuji Photo Film Co., Ltd. Orientation layer containing (meth) acrylic copolymer having hydrophobic repeating units
KR100818193B1 (ko) 2000-07-05 2008-04-01 롤리크 아게 네마틱 액정 전기광학 소자 및 장치
EP1170624A1 (en) * 2000-07-05 2002-01-09 Rolic AG Nematic liquid crystal electrooptical element and device
EP1227347A1 (en) 2001-01-29 2002-07-31 Rolic AG Optical device and method for manufacturing same
KR100420786B1 (ko) 2001-03-09 2004-03-02 한국과학기술원 액정배향막 제조용 고분자
EP1277770A1 (en) * 2001-07-17 2003-01-22 Rolic AG Photoactive materials
US6900271B2 (en) * 2002-05-31 2005-05-31 Elsicon, Inc Hybrid polymer materials for liquid crystal alignment layers
US6919404B2 (en) * 2002-05-31 2005-07-19 Elsicon, Inc. Hybrid polymer materials for liquid crystal alignment layers
WO2003102045A1 (en) * 2002-05-31 2003-12-11 Elsicon, Inc. Hybrid polymer materials for liquid crystal alignment layers
JP4558643B2 (ja) * 2003-03-27 2010-10-06 新日鐵化学株式会社 シリコーン樹脂組成物及びその成形体
KR101133479B1 (ko) * 2003-10-23 2012-04-10 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 액정 배향 처리제 및 액정 표시 소자
US7553521B2 (en) * 2004-01-22 2009-06-30 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Liquid crystal displays
JP4537718B2 (ja) * 2004-01-22 2010-09-08 大日本印刷株式会社 液晶表示素子
JP4753149B2 (ja) * 2004-01-22 2011-08-24 大日本印刷株式会社 液晶表示素子
CN101137684B (zh) * 2005-03-09 2010-12-08 Hoya株式会社 (甲基)丙烯酸酯化合物及其制备方法、(甲基)丙烯酸酯共聚物及其制备方法以及软性眼内透镜
KR101128123B1 (ko) * 2005-06-22 2012-06-12 엘지디스플레이 주식회사 광배향 물질
EP1764405A1 (en) * 2005-09-20 2007-03-21 Rolic AG Functionalized photoreactive compounds
DE102006023084B4 (de) * 2006-05-16 2019-07-18 Leonhard Kurz Stiftung & Co. Kg Wertdokument mit Sicherheitselement
ES2494293T3 (es) 2006-09-13 2014-09-15 Rolic Ag Retardador fotoalineado por volumen
EP2094815B1 (en) 2006-12-22 2012-06-27 Rolic AG Patternable liquid crystal polymer comprising thio-ether units
DK1970734T3 (da) * 2007-03-12 2012-01-16 Jds Uniphase Corp Fremgangsmåde til fremstilling af en afstandsvarierende bølgeplade med flydende krystaller
JP5345293B2 (ja) * 2007-03-29 2013-11-20 株式会社Ａｄｅｋａ 重合性化合物及び重合性組成物
WO2009080271A1 (en) 2007-12-21 2009-07-02 Rolic Ltd. Photoalignment composition
EP2222740B1 (en) * 2007-12-21 2017-10-11 Rolic AG Functionalized photoreactive compounds
KR101587125B1 (ko) * 2008-08-21 2016-02-03 삼성디스플레이 주식회사 광반응성 화합물 및 그것을 이용한 액정 표시 소자
JP5626510B2 (ja) * 2009-02-18 2014-11-19 Jsr株式会社 液晶配向剤、液晶配向膜の形成方法および液晶表示素子の製造方法
EP2272937A1 (en) 2009-07-09 2011-01-12 Rolic AG Ester group containing compounds for optical or electro optical devices
TWI490316B (zh) 2009-07-09 2015-07-01 Rolic Ag 用於光學或光電元件之含酯基液晶
KR101666622B1 (ko) * 2009-08-26 2016-10-17 삼성디스플레이 주식회사 광배향제 및 그것을 이용한 액정 표시 장치
US9475901B2 (en) 2009-12-08 2016-10-25 Transitions Optical, Inc. Photoalignment materials having improved adhesion
CN103052680B (zh) * 2010-08-05 2016-05-25 日产化学工业株式会社 树脂组合物、液晶取向材及相位差材
JP5892323B2 (ja) * 2011-03-02 2016-03-23 Jsr株式会社 液晶表示素子の製造方法
TW201311743A (zh) * 2011-07-07 2013-03-16 Sumitomo Chemical Co 光反應性液晶配向劑、與液晶配向元件及其製造方法
US9366906B2 (en) 2011-08-25 2016-06-14 Rolic Ag Photoreactive compounds
WO2013050120A1 (en) 2011-10-03 2013-04-11 Rolic Ag Photo-alignment layers with strong uv-dichroism
KR20130123308A (ko) 2012-05-02 2013-11-12 한양대학교 산학협력단 광배향성 중합체, 이를 포함하는 광학필름 및 그 제조방법
CN104364682B (zh) 2012-05-30 2018-06-01 罗利克有限公司 具有单独构图的各向异性的元件的快速生成
US20130331482A1 (en) 2012-06-06 2013-12-12 Jnc Petrochemical Corporation Polymer composition having photoalignable group, liquid crystal alignment film formed of the polymer composition, and optical device having phase difference plate formed of the liquid crystal alignment film
JP6089512B2 (ja) * 2012-09-07 2017-03-08 住友化学株式会社 積層体および光学フィルム
KR102214302B1 (ko) * 2013-05-13 2021-02-08 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 횡전계 구동형 액정 표시 소자용 액정 배향막을 갖는 기판의 제조 방법
CN105377811A (zh) 2013-05-28 2016-03-02 罗利克有限公司 氰基茋类
CN104339796B (zh) 2013-08-09 2018-03-02 住友化学株式会社 层叠体
KR102223121B1 (ko) * 2013-08-09 2021-03-05 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 장척 위상차 필름의 제조 방법
KR102177052B1 (ko) 2013-08-09 2020-11-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광학 이방성 적층체의 제조 방법
CN105473317B (zh) 2013-08-19 2021-06-29 罗利克有限公司 可光配向的物体
KR102359535B1 (ko) * 2014-02-28 2022-02-08 닛산 가가쿠 가부시키가이샤 위상차재 형성용 수지 조성물, 배향재 및 위상차재
CN106133566B (zh) 2014-04-03 2020-04-10 罗利克有限公司 结合视差光学器件的具有构图的各向异性的光学设备
JP2017518413A (ja) 2014-05-21 2017-07-06 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 重合性二色性染料
CN106415379B (zh) * 2014-06-02 2019-04-30 Dic株式会社 液晶取向膜
MY180819A (en) 2014-07-31 2020-12-09 Basf Coatings Gmbh Encapsulation structure for an oled display incorporating antireflection properties
TWI727943B (zh) 2015-03-31 2021-05-21 瑞士商羅利克股份公司 光配向組成物
KR20180082540A (ko) 2015-11-11 2018-07-18 롤릭 테크놀로지스 아게 광-정렬가능 물질의 조성물
US10465115B2 (en) 2015-12-17 2019-11-05 Merck Patent Gmbh Cinnamic acid derivatives
CN115877500A (zh) 2016-07-29 2023-03-31 罗利克技术有限公司 在液晶聚合物材料上产生取向的方法
US11874563B2 (en) 2017-08-09 2024-01-16 Rolic Technologies AG Photoaligning polymer materials
EP3665148A1 (en) 2017-08-09 2020-06-17 Rolic Technologies AG Method for the preparation of photoaligning polymer materials and compositions
EP3784752B1 (en) 2018-04-23 2024-04-17 Merck Patent GmbH Liquid crystal mixture and liquid crystal display
CN111971368B (zh) 2018-04-23 2024-01-30 默克专利股份有限公司 液晶混合物及液晶显示器
EP3784751A1 (en) 2018-04-23 2021-03-03 Merck Patent GmbH Liquid crystal mixture and liquid crystal display
WO2019206788A1 (en) 2018-04-23 2019-10-31 Merck Patent Gmbh Liquid crystal mixture and liquid crystal display
CN112585244A (zh) 2018-08-22 2021-03-30 默克专利股份有限公司 液晶混合物及液晶显示器
CN112585243A (zh) 2018-08-22 2021-03-30 默克专利股份有限公司 液晶混合物及液晶显示器
CN113168058A (zh) 2018-08-28 2021-07-23 默克专利股份有限公司 液晶混合物及液晶显示器
WO2020074440A1 (en) 2018-10-10 2020-04-16 Merck Patent Gmbh Liquid crystal mixture and liquid crystal display
EP3894513A2 (en) 2018-12-12 2021-10-20 Merck Patent GmbH Liquid crystal mixture and liquid crystal display
CN113412251B (zh) * 2019-02-12 2023-11-28 罗利克技术有限公司 用于制备光致配向聚合物材料的方法和组合物
CN114207082A (zh) 2019-06-04 2022-03-18 默克专利股份有限公司 液晶混合物及液晶显示器
KR20220028055A (ko) 2019-06-28 2022-03-08 롤릭 테크놀로지스 아게 카바졸 코어를 갖는 신규한 중합가능 액정
WO2020260624A1 (en) 2019-06-28 2020-12-30 Rolic Technologies AG New polymerizable liquid crystal
US20220251450A1 (en) 2019-06-28 2022-08-11 Rolic Technologies AG New polymerizable liquid crystal having a quinoxaline-hydrazone core
WO2021013780A1 (en) 2019-07-24 2021-01-28 Rolic Technologies AG Photo-alignable positive c-plate retarder
WO2021037774A1 (en) 2019-08-28 2021-03-04 Rolic Technologies AG Compositions of polymerizable liquid crystals
EP3792334B1 (en) 2019-09-16 2022-01-19 Merck Patent GmbH Liquid crystal mixture and liquid crystal display
EP4259748A1 (en) 2020-12-11 2023-10-18 Merck Patent GmbH Liquid crystal mixture and liquid crystal display
US11732136B2 (en) 2021-01-13 2023-08-22 International Business Machines Corporation Hydroxycinnamic acid-derived crosslinkers
US11639432B2 (en) 2021-01-13 2023-05-02 International Business Machines Corporation Hydroxycinnamic acid-derived crosslinking dimers
TW202246737A (zh) 2021-02-02 2022-12-01 瑞士商羅立克科技股份公司 在光敏元件上產生空間受限的膜堆疊的方法
CN115322795A (zh) * 2021-12-29 2022-11-11 上海先认新材料合伙企业(有限合伙) 一种液晶组合物及其应用
CN115322796B (zh) * 2022-06-16 2024-05-10 上海先认新材料合伙企业(有限合伙) 一种液晶组合物、蛾眼膜及其制备方法
CN116083090A (zh) * 2022-10-18 2023-05-09 上海先幻高科新材料有限公司 自分层液晶组合物、消色差四分之一波片膜及制备方法

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH203695A (fr) 1937-12-24 1939-03-31 Rhodiaceta Procédé de préparation de la 1, 4, 5, 8 tétraminoanthraquinone.
JPS5156025A (en) * 1974-11-11 1976-05-17 Fuji Telecasting Co Ltd Jishintono hatsuseiji niokeru kotsukuno jidoshadansochi
FR2609993B1 (fr) * 1987-01-27 1989-05-19 Ppg Industries Inc Nouveaux polysiloxanes modifies, leur procede de preparation et leurs applications comme cristaux liquides et comme supports de medicaments
US4925589A (en) * 1987-12-29 1990-05-15 Hoffmann-La Roche Inc. Amide side-chain polymers
US4974941A (en) * 1989-03-08 1990-12-04 Hercules Incorporated Process of aligning and realigning liquid crystal media
US5252695A (en) * 1992-06-03 1993-10-12 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Navy Fast switching ferroelectric liquid crystalline polymers
JPH06509889A (ja) * 1992-06-19 1994-11-02 エフ・ホフマン−ラ　ロシュ　アーゲー 光学的非線形ポリマー
EP0611786B1 (de) * 1993-02-17 1999-04-14 Rolic AG Orientierungsschicht für Flüssigkristalle
SG50569A1 (en) 1993-02-17 2001-02-20 Rolic Ag Optical component
DE4408170A1 (de) * 1994-03-11 1995-09-14 Basf Ag Neue polymerisierbare flüssigkristalline Verbindungen
EP0689065B1 (de) 1994-06-24 2001-06-27 Rolic AG Optisches Bauelement
DE59510708D1 (de) 1994-06-24 2003-07-10 Rolic Ag Zug Optisches Bauelement aus Schichten vernetzter flüssigkristalliner Monomere und Verfahren zu seiner Herstellung

Cited By (62)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10130282A (ja) * 1996-10-28 1998-05-19 Rolic Ag 光反応性基を包含するシラン誘導体
JP2002522410A (ja) * 1998-08-07 2002-07-23 ロリク アーゲー 液晶化合物
JP2003505561A (ja) * 1999-07-23 2003-02-12 ロリク アーゲー 化合物
JP2001172342A (ja) * 1999-12-17 2001-06-26 Nitto Denko Corp コレステリック性液晶組成物、配向フィルムおよび多色反射板
JP2004530734A (ja) * 2000-12-29 2004-10-07 ロリク　アーゲー 光活性共重合体
KR100441154B1 (ko) * 2001-07-11 2004-07-19 엘지전선 주식회사 2개 이상의 광활성 그룹을 갖는 광배향성 고분자 조성물,이 조성물을 포함 하는 액정배향막 및 이 배향막을 사용한액정표시소자
JP2006511686A (ja) * 2002-12-06 2006-04-06 ロリク　アーゲー 架橋可能な光活性ポリマー及びそれらの使用
JP2009501238A (ja) * 2003-07-16 2009-01-15 ロリク アーゲー 配向層用の重合性コポリマー
US8634046B2 (en) 2005-03-04 2014-01-21 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Optical element having an alignment layer for an optical anisotropic body
JP2008276149A (ja) * 2007-04-27 2008-11-13 Hayashi Telempu Co Ltd 高分子フィルム、分子配向素子の作製方法、および液晶配向膜
JP2009086243A (ja) * 2007-09-28 2009-04-23 Fujifilm Corp 配向膜、その製造方法及び配向膜形成用組成物、ならびにそれを有する液晶セル及び液晶表示装置
JP2009215189A (ja) * 2008-03-07 2009-09-24 Wakayama Prefecture 新規な重合性化合物およびその製造方法
JP2009258578A (ja) * 2008-03-18 2009-11-05 Jsr Corp 液晶配向剤、液晶配向膜とその形成方法ならびに液晶表示素子および光学部材
KR20120094460A (ko) 2009-06-23 2012-08-24 닛산 가가쿠 고교 가부시키 가이샤 광배향성을 갖는 열경화막 형성 조성물
WO2010150748A1 (ja) 2009-06-23 2010-12-29 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
US9733519B2 (en) 2009-06-23 2017-08-15 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo alignment properties
US9796843B2 (en) 2009-07-21 2017-10-24 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo alignment properties
WO2011010635A1 (ja) 2009-07-21 2011-01-27 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
JP5880865B2 (ja) * 2010-04-08 2016-03-09 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011126021A1 (ja) 2010-04-08 2011-10-13 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011126019A1 (ja) 2010-04-08 2011-10-13 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2011126022A1 (ja) 2010-04-08 2011-10-13 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
US9238705B2 (en) 2010-04-08 2016-01-19 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo-alignment properties
JPWO2011126022A1 (ja) * 2010-04-08 2013-07-11 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
JPWO2011126021A1 (ja) * 2010-04-08 2013-07-11 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
US9193861B2 (en) 2010-04-08 2015-11-24 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo-alignment properties
US9102847B2 (en) 2010-04-08 2015-08-11 Nissan Chemical Industries, Ltd. Composition for forming thermoset film having photo-alignment properties
JP5713213B2 (ja) * 2010-04-08 2015-05-07 日産化学工業株式会社 光配向性を有する熱硬化膜形成組成物
WO2012014915A1 (ja) * 2010-07-28 2012-02-02 大阪有機化学工業株式会社 共重合性（メタ）アクリル酸ポリマー、光配向膜及び位相差膜
JP2012058511A (ja) * 2010-09-09 2012-03-22 Dic Corp 光学異方体
JP2012087286A (ja) * 2010-09-22 2012-05-10 Jnc Corp 感光性化合物および該化合物からなる感光性ポリマー
JP2014501831A (ja) * 2010-12-23 2014-01-23 ロリク アーゲー 光活性高分子材料
US11261377B2 (en) 2010-12-23 2022-03-01 Rolic Ag Photoactive polymer materials
JP2022001648A (ja) * 2010-12-23 2022-01-06 ロリク アーゲーRolic Ag 光活性高分子材料
JP2020023707A (ja) * 2010-12-23 2020-02-13 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 光活性高分子材料
US10465116B2 (en) 2010-12-23 2019-11-05 Rolic Ag Photoactive polymer materials
JP2017160448A (ja) * 2010-12-23 2017-09-14 ロリク アーゲーＲｏｌｉｃ Ａｇ 光活性高分子材料
JP2012173609A (ja) * 2011-02-23 2012-09-10 Osaka Organic Chem Ind Ltd 位相差フィルムの製造方法
KR20140015519A (ko) 2011-05-31 2014-02-06 디아이씨 가부시끼가이샤 계피산 유도체 및 그 중합체, 및 그 경화물로 이루어지는 액정 배향층
JP2014156465A (ja) * 2011-05-31 2014-08-28 Dic Corp 桂皮酸誘導体およびその重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
US9939555B2 (en) 2011-05-31 2018-04-10 Dic Corporation Cinnamic acid derivative, polymer thereof, and liquid crystal alignment layer comprising cured product thereof
WO2012165550A1 (ja) 2011-05-31 2012-12-06 Dic株式会社 桂皮酸誘導体およびその重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
US9360708B2 (en) 2011-06-30 2016-06-07 Dic Corporation Cinnamic acid derivative, polymer thereof, and liquid crystal alignment layer comprising cured product thereof
KR20140016989A (ko) 2011-06-30 2014-02-10 디아이씨 가부시끼가이샤 신남산 유도체 및 그 중합체, 및 그 경화물로 이루어지는 액정 배향층
JPWO2013002260A1 (ja) * 2011-06-30 2015-02-23 Dic株式会社 共重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
WO2013002224A1 (ja) 2011-06-30 2013-01-03 Dic株式会社 桂皮酸誘導体及びその重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
WO2013002260A1 (ja) 2011-06-30 2013-01-03 Dic株式会社 共重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
US9684206B2 (en) 2011-06-30 2017-06-20 Dic Corporation Copolymer, and liquid crystal alignment layer including cured product thereof
KR20140041585A (ko) 2011-06-30 2014-04-04 디아이씨 가부시끼가이샤 공중합체, 및 그 경화물로 이루어지는 액정 배향층
JP2013189638A (ja) * 2011-06-30 2013-09-26 Dic Corp 共重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
JP5679050B2 (ja) * 2011-06-30 2015-03-04 Dic株式会社 共重合体、ならびにその硬化物からなる液晶配向層
US10095066B2 (en) 2011-06-30 2018-10-09 Dic Corporation Cinnamic acid derivative, polymer thereof, and liquid crystal alignment layer comprising cured product thereof
JP2013224989A (ja) * 2012-04-20 2013-10-31 Jsr Corp 液晶配向剤、液晶配向膜、液晶表示素子及び液晶表示素子の製造方法
JPWO2013191252A1 (ja) * 2012-06-20 2016-05-26 日産化学工業株式会社 新規重合性化合物及びその製造方法
WO2013191252A1 (ja) * 2012-06-20 2013-12-27 日産化学工業株式会社 新規重合性化合物及びその製造方法
US9683174B2 (en) 2013-11-29 2017-06-20 Dic Corporation Compound, polymer, liquid crystal alignment layer, liquid crystal display device, and optically anisotropic material
JP2015106062A (ja) * 2013-11-29 2015-06-08 Dic株式会社 液晶配向膜用ポリマー、液晶配向膜、液晶表示素子及び光学異方体
WO2016052490A1 (ja) * 2014-10-01 2016-04-07 Dic株式会社 積層体、およびそれを使用した光学フィルムまたは液晶配向膜
JP2016200664A (ja) * 2015-04-08 2016-12-01 Jsr株式会社 潜像形成体、潜像形成体セット、潜像形成体の製造方法、画像表示方法及び装飾用積層体
WO2019088261A1 (ja) 2017-11-02 2019-05-09 大日本印刷株式会社 合わせガラスの製造方法、合わせガラス、調光フィルム
WO2022210639A1 (ja) * 2021-03-30 2022-10-06 日産化学株式会社 パターン化された単層位相差膜の製造方法及び単層位相差膜形成用重合体組成物
WO2023282091A1 (ja) 2021-07-05 2023-01-12 大日本印刷株式会社 調光部材、調光装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN1109053C (zh) 2003-05-21
DE59607712D1 (de) 2001-10-25
EP0763552A2 (de) 1997-03-19
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