JPH09104981A

JPH09104981A - カセット

Info

Publication number: JPH09104981A
Application number: JP28461495A
Authority: JP
Inventors: Masa Osono; 雅大園; Hideyuki Odagi; 秀幸小田木
Original assignee: Ulvac Inc
Current assignee: Ulvac Inc
Priority date: 1995-10-05
Filing date: 1995-10-05
Publication date: 1997-04-22

Abstract

(57)【要約】［課題］従来装置のコストを上昇させることなく、ロ
ボットのアームによって迅速に供給されたしても正しく
位置決めして載置させることの出来る真空処理装置を提
供させること。［解決手段］カセットの枠体９５において相対向する
内側両側縁部にそれぞれ対と成る位置決めブロック９３
ａ、９３ｂ、９４ａ、９４ｂ及び９５ａ、９５ｂを設
け、それぞれ同一のレベル上の水平面１００、１０２を
形成させ、これと連接してカセットの枠体９５の外方に
上向きに斜面する斜面１０１、１０２を形成させてい
る。ロボットのアームから離脱された基板は斜面１０
１、１０２を滑動して水平面１００、１０２上に正しく
位置決めされて載置される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、基板に所定の真空処理
を施すための真空処理装置に用いて最適なカセットに関
する。

【０００２】

【従来の技術及びその問題点】図８は、従来例の真空処
理装置を示すもので、全体として１で示され、平面的に
見て六角形状の真空搬送室２内には、フログレグ（ｆｌ
ｏｇｌｅｇ）式の搬送ロボット９が設けられており、
これは中心軸１０の周りに矢印ａで示すように回動可能
であり、又、この中心軸１０に対し、伸縮自在なフログ
レグ１１が結合されており、この先端部にフォーク状の
搬送アーム１２が取り付けられている。これはフログレ
グ１１の伸縮により矢印ｂの方向に移動可能とされてい
る。基板搬送室２の側壁には予熱室３、第１スパッタ室
４、第２スパッタ室５、第３スパッタ室６、第１仕込−
取出室７及び第２仕込−取出８が設けられており、これ
ら室３乃至８と、基板搬送室７との間には仕切バルブ１
３乃至１８が設けられている。真空処理室１の前方に
は、カセット置台１９が設けられており、これに複数枚
の基板を上下に重ね配設させたカセット２０、２１、２
２、２３が所定の間隔をおいて取り付けられている。
又、このカセット置台１９と真空処理室１との間に基板
仕込−取出ロボット２４が、レール２５ａ、２５ｂ上
を、図８において左右に、すなわち矢印ｅの方向に移動
可能に設けられており、このロボット２４もフログレグ
方式であるが、ロボット駆動部２６を備えており、この
中心回転軸３０の周りに回動自在にフログレグ２７が取
り付けられており、この先端部にはフォーク状の搬入ア
ーム２９が取り付けられている。このフログレグ２７は
軸３０の軸心方向に上下動可能に設けられている。

【０００３】図９に示すように、２つの仕込−取出室
７、８は同様な構成を有するが、この内、一方の室８に
ついてのみ説明すると、この仕込−取出室８を形成する
側壁３１内にカセット空間３２を形成させており、ここ
に断面が長方形状のカセット３３が設けられている。こ
れは駆動軸３６により矢印ｆの方向に上下動可能であっ
て、その内側壁には、上下に所定のピッチで帯状の突出
部３５ａ、３５ｂが形成されている。これに基板Ｓ１、
・・・・Ｓ６が、その両縁部で支持されるのであるが、
最初は全て未処理の基板であり、上方から順次、所定の
処理が行われるように構成されている。

【０００４】従来例の真空処理装置１は以上のように構
成されるが、次にこの作用について説明する。

【０００５】最初は２つの仕込−取出室７、８内には、
図９に示すようなカセット３３に、すべて未処理の基板
を収容させて配設されており、今、一方の仕込−取出室
８から基板の処理を行なうものとすれば、ゲートバルブ
Ｇ₁ 、Ｇ₂ を閉じて所定の圧力に減圧した後、ゲートバ
ルブ１８を開放する。基板搬送室２内のロボット９は軸
１０の周りに回動して、その搬送アーム１２を仕込−取
出室８に対向させ、フログレグ１１を延ばして、搬送ア
ーム１２を最上段の突出段部３５ａ、３５ｂと、次段の
突出段部３５ａ、３５ｂ内の空間ｈ内に挿通させる。次
いで、駆動軸３６を所定のピッチ下動させると、最上段
の未処理の基板Ｓ１はアーム１２の上に乗せられる。こ
の後、フログレグ１１を縮ませると、基板搬送室２内に
持ち来される。この後、軸１０の周りに図８において、
反時計方向に所定角度回動させて予熱室３に対向させ
る。今、ゲートバルブ１３は開放しているので、フログ
レグ１１を伸ばすことにより、アーム１２に乗せられて
いる基板Ｓ１は、この予熱室３内に搬送され、所定の位
置にセットされ、ゲートバルブ１３が閉じられた後、こ
の予熱室３内で所定の加熱が行われる。所定時間加熱さ
れると、ゲートバルブ１３を開放し、加熱された基板を
ロボット９のアーム１２で受けて搬送室２内に取り出
し、所定角度回動して第１のスパッタ室４内に供給す
る。ロボット９は軸１０の周りに時計方向に回動して仕
込−取出室８の前方に至り、上述と同様にして、未処理
の基板Ｓ₂ をカセット３３から取り出して予熱室１３に
供給する。第１のスパッタ室４内で、所定時間スパッタ
を行なうと、ゲートバルブ１４を開放し、この処理済の
基板Ｓ₁ をスパッタ室４から取り出し、ロボット９を軸
１０の周りに時計方向に回動させて仕込−取出室８にア
ーム１２を対向させる。次いで、アーム１２を伸ばして
カセット３３の最上段の突出部３５ａ、３５ｂに載置さ
せる。

【０００６】以上のようにして、予熱室３で所定時間加
熱された基板は、第１、第２、又は第３のスパッタ室
４、５、又は６に供給し、又、所定時間スパッタを行な
った基板はスパッタ室４、５又は６から取り出して、仕
込−取出室８のカセット３３内に供給していくのである
が、ロボット９による未処理の基板の予熱室３への供
給、この予熱室３からスパッタ室４、５又は６への供
給、又、これらスパッタ室４、５又は６から所定時間ス
パッタされた基板の仕込−取出室８への供給は、予め定
められたプログラムにそって、タクト運転で行われ、ロ
ボット９や予熱室３、スパッタ室４、５、６の遊び時間
をなるべく少なくするようにしている。なお、以下、説
明を分かり易くするために、予熱室３での予熱工程を省
略し、基板は各スパッタ室４、５、６でのスパッタ作用
のみを受けるものとして更に詳述する。

【０００７】ロボット９は、第１のスパッタ室４に基板
Ｓ１を供給した後、図示の対向位置を取り、ゲートバル
ブ１４を閉じた後、軸１０の周りに時計方向に回動して
再び第１の仕込−取出室８に対向する。そして、フログ
レグ１１を延ばしてアーム１２を図９において２段目の
支持部３５ａ、３５ｂの下方に挿通するが、この前に駆
動軸３６は所定のピッチで上動して、基板Ｓ２とＳ３と
の間の空間ｈにアーム１２を対向させているので、ここ
に挿通させて２段目の基板Ｓ２の下方に至り、駆動軸３
６を所定のピッチ下動させ、基板Ｓ２を受け、アーム１
２を縮ませて、基板搬送室２内に持ち来した後、軸１０
の周りにアーム１２を時計方向に回動させ、第２のスパ
ッタ室５に対向させる。ゲートバルブ１５を開け、フロ
グレグ１１を延ばしてアーム１２上の基板を第２のスパ
ッタ室５内に供給する。所定の位置にセットした後、ア
ーム１２を退却させ、ゲートバルブ１５を閉じる。ロボ
ット９は、再び軸１０の周りに時計方向に回動して、第
１のスパッタ仕込−取出室８に対向し、上述と同様にし
て３段目の基板Ｓ３を取り出し、同様にして第３のスパ
ッタ室６に基板を供給する。この間に、第１のスパッタ
室４で、所定のスパッタ時間で被膜を形成された処理済
の基板Ｓ１を取り出すべく、ロボット９は、図８に示さ
れる位置でゲートバルブ１４を開放させ、アーム１２を
延ばして、処理済に基板Ｓ１を取り出し、駆動軸１０の
周りに時計方向に回動して第１の仕込−取出室８に対向
し、アーム１２を第１段目と第２段目との間の空間ｈ内
に挿通し、駆動軸３６を所定ピッチ下動させれば、処理
済の基板Ｓ１は最上段の支持部３５ａ、３５ｂに乗せら
れる。

【０００８】次いで、同様にして第２のスパッタ室５及
び第３のスパッタ室６から順次、処理済の基板が取り出
され、２段目、３段目の支持部としての突出部３５ａ、
３５ｂ、３５ａ、３５ｂに載置される。以上のようにし
て、第１の仕込−取出室８内に収容されているカセット
３３内の全ての基板Ｓ１乃至Ｓ６に所定のスパッタ処理
が行われると、カセット空間３２はベントされ、大気圧
になるとゲートバルブＧ１を開放させる。ロボット２４
の前のカセット２３は最初の仕込−取出室８への供給に
より空のカセットとなっているが、これに順次、処理済
の基板Ｓ１乃至Ｓ６が供給されるようになっている。す
なわち、アーム２９は、仕込−取出室８内で第１段目と
第２段目との間を挿通させて、最上段の処理済の基板Ｓ
１を受け、フログレグを縮ませた後、外方に取り出し、
次いで、軸３０の周りに時計方向に回動させ、カセット
２３に対向させて第１段目の支持部に処理済の基板を上
述したと同様に載置させる。

【０００９】この後、順次、処理済の基板Ｓ２乃至Ｓ６
をカセット２３内に供給していくのであるが、この為に
所定のピッチずつ、軸３０に沿ってフログレグ２８は下
動していく。なお、第１の仕込−取出室８をベントし
て、上述のようにして処理済の基板Ｓ１乃至Ｓ６を搬出
し、カセット２３内に供給している間に第２の仕込−取
出室７内の未処理の基板を、上述と同様にして、第１、
第２、第３のスパッタ室４、５、６に供給して順次スパ
ッタを行なう。処理済の基板Ｓ１乃至Ｓ６を全て空のカ
セット２３に充填させた後、外方のロボット２４は、矢
印ｅで示す方向で、一点鎖線で示す位置に移動し、ここ
で次のカセット２２内に収容されている未処理の基板を
矢印の方向に移動して、そのアーム２９を対向させ、基
板間に挿通して１枚の基板を受け、矢印ｅ方向の移動、
ｃ方向の回転及びｄ方向の伸縮により、第１の仕込−取
出室８内のカセット３３に上方から順次、未処理の基板
を充填していく。この間、第２の仕込−取出室７内のカ
セットに収容されている基板もスパッタ処理されていく
のであるが、第２の仕込−取出室７内のすべての未処理
の基板が処理された時には、第１の仕込−取出室８内に
は未処理の基板がすべて供給されており、ゲートバルブ
Ｇ１を閉じて排気され、所定の真空下に置かれている。
第２の仕込−取出室７内の基板がすべて処理されると、
上述と同様にして、ゲートバルブＧ₂ が開けられ、仕込
−取出室７内のカセットから処理済の基板をロボット２
４により取り出して空のカセット２０に装填されていく
のであるが、この前にロボット２４はレール２５ａ、２
５ｂに沿って三点鎖線で示す位置に移動している。すべ
ての処理済の基板が空のカセット２０に装填されると、
未処理の基板を装填しているカセット２１の前に移動し
（二点鎖線で示す位置）、これから１枚ずつ、未処理の
基板を、二点鎖線で示すように取り出して、第２の仕込
−取出室７に未処理の基板を供給し、所要枚数供給する
と、ゲートバルブＧ２を閉じて所定の真空下に排気す
る。

【００１０】以上のようにして、第１、第２の仕込−取
出室８、７に交互に未処理の基板が供給されるのである
が、図９に示すように各基板Ｓ₁ 〜Ｓ₆ が図示するよう
に突出段部３５ａ、３５ｂ上にセンターを合わして整然
と載置されるとは限らない。実際には図１０に示すよう
に最上段の基板Ｓ１はカセット３１の両内側壁に対しそ
れぞれＬ₁ 、Ｌ₂ （Ｌ₁ ＝Ｌ₂ ）で正確に中心に載置さ
れているが２段目の基板Ｓ２はカセット３３の左側側壁
に当接して載置されている。従って右側の端部からカセ
ット３１の内側壁までの距離Ｌ３はＬ₁ ＋Ｌ₂ で非常に
大きくなっており、載置正確度の許容値をオーバーして
いる。さらに三段目の基板Ｓ３はカセット３３の左側壁
側に偏り右側縁部とカセット３１の右内側壁との距離Ｌ
₄ は許容範囲となっており、このような場合には以後の
スパッタ処理を問題なく行なうことができる。しかしこ
れより更に２段目の基板Ｓ₂ のように左側に偏れば正確
なスパッタ処理が期待できない。

【００１１】以上に鑑みて従来の基板Ｓの位置決め機構
として図１１に示される構成が知られている。これは大
気中に於ける位置決め機構であって基板Ｓの全角部に近
接して位置決め装置４１Ａ、４１Ｂ、４１Ｃ及び４１Ｄ
が配設されている。これらは全て同一の構成を有するの
で装置４１Ａについてのみ説明すると、駆動軸４２には
Ｌ字形状のアーム４３ａが固定されており駆動軸４２の
回動により矢印ａに示すようにアーム４３は回動するが
その先端部４３ａは基板Ｓの図において左側側縁部で当
接する。なお、図示せずとも基板Ｓは例えば図１０で示
すような両側縁部で突出段部で載置されているがこの基
板Ｓを装置４１Ａ乃至４１Ｄのアーム４３が図１０に示
すようなカセット３１の一部にアーム４３が挿通自在の
開口を形成させていてアーム４３は既に載置されている
基板Ｓの両側縁部に当接する構成とされている。これら
装置４１Ａ乃至４１Ｄは同時に駆動され、例えば図１０
の第２段目の基板Ｓ₂ のように載置されている場合には
図１０において更に右方へと許容範囲と成る様に、装置
４１Ａ、４１Ｃにより押動され図１０に於ける最上段の
基板Ｓ₁ の如く正しい位置に位置決めされる。

【００１２】図１１は大気中に於ける位置決め装置を示
すものであったが図１２には真空中に於ける位置決め装
置４５Ａ、４５Ｂを示し、これは真空室を構成する両側
壁４８、４９に本体４６を固定させており、これに先端
部にパッド４７を取りつけた駆動軸を導通させており外
部の大気中に配設された駆動機構により駆動軸を矢印で
示す様に、往動させるようにしている。基板Ｓは図示せ
ずともやはり図１０で示す様な機構の突出段部３５ａ、
３５ｂで支持されておりパッド４７を挿通可能とする切
欠がカセット３１に設けられている。このような構成で
も基板Ｓは正確な位置に位置決めされるのであるが、真
空中においては減圧されると油や水分を蒸発させるので
図１１の構成は好ましくない。従って真空中においては
装置４５Ａ及び４５Ｂが用いられ外部で駆動機構が用い
られている。大気中における図１１で示した位置決め装
置４１Ａ乃至４１Ｄの駆動軸４２は例えば油圧駆動系で
駆動されるが大気中であるために何等問題はない。しか
しいづれにしても図１１及び図１２に示す位置決め装置
４１Ａ及び４１Ｂ及び４５Ａ〜４５Ｄはこの真空処理装
置のコストを大幅に増大させている。

【００１３】更に、本出願人によれば先に特開平６−１
９１５７８号においてカセット内での基板のブレを防止
する機構を備えたカセットを提供することを目的とし
て、内面に多数のスリットを平行に設けたスリット付き
カセット側板を、基板の幅に対応する間隔を隔てて対向
して設置し上板と底板を固定して取り付ける、上記多数
のスリットの後方位置には、前方より押し入れられる基
板の通り抜けを阻止するストッパーを、該スリットを跨
ぐ様にして取り付け、また前方部の出入口側には、基板
取り出し防止用ストッパーを取り付けている。該ストッ
パーを断面円形または楕円形の椀状の突起体によって形
成すると基板がスリットを強制的に押し入れられ、また
押し出される時引っ掛かる恐れがないとした基板位置決
め機構付カセットを提案した。これにより確かに位置決
めはその従来例よりも正確になるがこの前方部の入口に
設けられる断面円形または楕円形の椀状の突起体を正し
い位置に形成させることが困難であり、これがこのカセ
ットの生産コストを上昇させていた。更に、断面円形ま
たは楕円形であるために後方への基板のズレも生じ、ま
た左右両縁部においては何ら位置決め手段を備えていな
いで基板の、このカセットへの挿入方向に関し両側縁部
に関しては正しく位置決めされることは出来ず、その中
心線からずれて上述のような問題を生ずる恐れがあっ
た。

【００１４】

【発明が解決しようとする問題点】本発明は上述の問題
に鑑みてなされ、図１１及び図１２に示す様な装置を必
要とすることなく従来のカセット機構をほとんどそのま
まの構成で正しくロボットにより供給された時に自動的
に正しく位置決めすることの出来る真空処理装置を提供
することを目的とする。

【００１５】

【問題点を解決するための手段】以上の目的は、ほゞ直
方形状の枠体と、該枠体の相対する内側壁面に固定され
た基板側縁支持手段とを有するカセットにおいて、前記
基板側縁支持手段は前記枠体の外方に向って上向きに傾
斜する斜面と該斜面と連接して該枠体の内方に延びる水
平面とを備えていることを特徴とするカセット、によっ
て達成される。

【００１６】

【作用】ロボットのアームにより、基板はカセットの内
側壁に固定された基板側壁支持手段上に載置されるが、
この時中心線から何れかの方向にずれても、載置された
後カセットの外方に向かって上向きに向かった斜面上を
滑走し、基板側縁支持手段の水平面上に自動的に載置さ
れることになる。よって何ら高価な位置決め装置を用い
ることなく、ロボットのアームにより不正確に基板側縁
支持手段に載置されたとしても、許容範囲内に確実に正
しく位置決めすることが出来る。

【００１７】

【実施例】図１において、本発明の実施例による真空処
理装置は全体として５１で示され、第１の仕込−取出室
５２及び第２の仕込−取出室５３は、従来例と同様な配
置構成とされており、図示せずとも、真空搬送室は平面
的に見て六角形状であり、この各辺に近接して、第１、
第２、第３のスパッタ室が配設され、又、予熱室が第１
の仕込−取出室５２に近接して配設されている。この第
１、第２仕込−取出室５２、５３の前方にカセット置台
５４が配設されており、この上に、複数枚の基板を収納
させたカセット６５、６６、６７、及び６８が載置され
ている。第１、第２仕込−取出室５２、５３と、カセッ
ト置台５４との間には、搬出−搬入ロボット５５が設け
られている。第１、第２の仕込−取出室５２、５３は、
従来例とほゞ同様に構成されるのであるが、そのカセッ
ト室内には、カセット５６、５７が配設され、これに複
数枚の基板を上下に収納させるように構成されている。
カセット室の前方には長方形の開口５８が形成され、こ
の周縁部にゴムシール５９が取り付けられていて、今、
開放位置にあるゲート板６０が開口５８の両側の一対の
ガイドレール５２ａ、５２ｂに沿って、シリンダ６１に
より駆動されることにより、上方に移動した後、他方の
仕込−取出室５３に関し、明示されているように、この
カセット室の側方に取り付けられた水平方向駆動シリン
ダ６３により、ゲート６０を後退させることにより、シ
ール５９によりシールされて、カセット室内を気密に閉
塞するように構成されている。又、カセット室の上壁部
には真空ポンプ６４が取り付けられている。

【００１８】搬入−搬出ロボット５５は、レール部材７
０によりその本体６９が矢印Ａ方向にガイドされるよう
に構成されており、この駆動機構は駆動部６９内に内蔵
されており、これには回転駆動機構も備えられていて、
これにより上下に延びる駆動軸７１にロボット本体７２
が取り付けられて、これは矢印Ｂで示す方向に回動可能
であり、又、Ｄに示す方向に上下動すべく駆動機構６９
により駆動されるように構成されている。又、Ｃ方向の
移動は一対のガイドレール部材７３により案内されるよ
うに構成されている。ロボット本体７２の前壁部には、
図１及び図２に明示されるように、上下に所定のピッチ
をおいて水平方向に延びて取り付けられたアーム板８１
が取り付けられており、これはカセット６５乃至６８の
基板載置部間に図１に明示されるように挿通可能とされ
ている。

【００１９】仕込−取出室５２、５３には同一構成のカ
セット５５、５６が配設されているが本発明によればこ
のカセット５５、５６を構成する枠体９５の相対向する
両内側壁面には図３、図４に明示されるような左右で一
対である位置決めブロック９３ａ、９３ｂ、９４ａ、９
４ｂ及び９５ａ、９５ｂを固定させている。位置決めブ
ロック９４ａ、９４ｂ及び９３ａ、９３ｂはほゞ同一の
構成を有するがこの内一つの位置決めブロック９４ｂに
ついて説明すると枠体９５の外方に向かって上向きに傾
斜する１０１及びこれに連接して水平面１００を備えて
いる。この水平面１００は他のブロック９４ａ、９３
ａ、９３ｂの水平面と同一のレベル上にある。また、基
板Ｓのロボットによる挿通方法に対向する縁部の両角部
には一対の位置決めブロック９５ａ、９５ｂが配設され
ているが、これは一個のブロック９５ｂを図６で拡大し
て示す様に挿通方法に対向する縁部に枠体９５の外方に
向かって上向きに傾斜する斜面１０４とこれに連接する
水平面１０２と更にこれに連接して枠体９５の側面に関
し外方に向かって上向きに傾斜する第２の斜面１０３か
ら成っている。そしてこの水平面１０２も他のブロック
９４ａ、９４ｂ、９３ａ、９３ｂ、９５ａの水平面と同
一レベル上にある。

【００２０】そして図５に示すように基板Ｓの挿通方法
に対向する縁部の斜面１０４の鉛直線に対する傾斜角は
６０度である。また、ブロック９４ａ、９４ｂ、９３
ａ、９３ｂの斜面１０１及び９５ａ、９５ｂの斜面１０
３の鉛直線に対する傾斜角は４５度である。

【００２１】本発明の実施例による真空処理装置５１は
以上のように構成されるが、次にこの作用について説明
する。

【００２２】図１は、初期状態で第１、第２仕込−取出
室５２、５３の開口は両方とも開放されている。ロボッ
ト５５は実線で示す位置にあり、今、第１、第２仕込−
取出室内のカセット５６、５７は空であるとする。ロボ
ット５５は図示した位置にあり、すなわち、本体７２を
矢印Ｃ方向に所定距離移動させて、カセット６５内の各
支持段の間に挿通させ、Ｄ方向に所定ピッチ上動させ、
複数枚の未処理の基板を一挙に受けた後、Ｃ方向に後退
し、Ａ方向に所定距離移動した後、そのアーム板８１を
第１の仕込−取出室５２内のカセット５６に対向させ、
Ｃ方向に所定距離移動させてカセット５６内の各支持段
間に挿通させた後、Ｄ方向に所定ピッチ下動させて未処
理の基板をカセット５６内の各支持段に載置させる。こ
の後、Ｃ方向で後退させて、次いで、Ａ方向で第２の仕
込−取出室の方向に移動して、一点鎖線で示す位置を取
る。図１では、一点鎖線でアーム８１が第２の仕込−取
出室５３のカセット５７に対向する位置を示しており、
上述したと同様に、カセット６８から未処理の基板を一
挙に仕込−取出室内のカセット５７に供給する直前を示
している。

【００２３】以上のようにして、第１、第２の仕込−取
出室５２、５３のカセット５６、５７に未処理の基板Ｓ
をカセット５６、５７内の各支持段を形成する一対の各
対のブロック９３ａ、９３ｂ、９４ａ、９４ｂ及び９５
ａ、９５ｂの水平面１０１、１０２より僅かに高い位置
で基板Ｓを挿通させる。所定の位置、即ち図５に於いて
基板Ｓが矢印で示す方向に挿通されるのであるがその先
端部Ｓａが斜面１０４に当接した時点で所定の位置とさ
れロボット２４のアーム２９は降下する。この途中で基
板Ｓが図７に於いてその先端部Ｓａが図において右方へ
滑動し、また、両側縁部においては各対のブロック９３
ａ、９３ｂ、９４ａ、９４ｂ及び９５ａ、９５ｂの斜面
１０１に沿って滑動し、結局、各水平面、１００及び１
０２上に基板Ｓは正しい位置に位置決めされて載置され
る。各基板Ｓは枠体９５内に於いて各段に図示するよう
に全て正しい位置に位置決めされて載置される。ロボッ
ト２４のアームはカセットの枠体９５から後退して上述
のようにして次回の未処理の基板Ｓの供給を行なう。

【００２４】図２は、本出願人が先に開発した真空処理
装置における仕込−取出室８内のカセット３３の詳細を
示すものであるが、このようなカセットに上述のロボッ
ト５５によりその上下に複数段となったアーム８１の上
にそれぞれ未処理の基板Ｓ₁、Ｓ₂ ・・・を乗せて各対
の段部３５ａ、３５ｂにこのロボット５５のアームの上
下動により載置させるのであるが複数段にそれぞれ未処
理の基板Ｓ₁ 、Ｓ₂ ・・・を一挙に乗せて、しかも回転
運動や平行運動を行なってカセット３３内の支持段部３
５ａ、３５ｂ内に載置させる為に図２に示すように正し
い位置に載置されるとは限らず、ロボットの供給運動が
早ければ早い程、このような位置からずれる。これは上
述の従来技術の欠点として図１０を参照して説明したが
これと同様なことが生じていた。然るに本実施例によれ
ば図３に示すような構成及び上述の作用でロボット５５
の上下複数段のアームにそれぞれ未処理の基板を乗せて
迅速にこれに供給する場合には特に効果を有するもので
ある。

【００２５】本発明の実施例は以上のように構成され、
作用を行なうのであるが、処理済の基板Ｓを各仕込−取
出室５２、５３から取り出すのに、１枚ずつではなく、
アーム８０により一挙に取り出すことが出来、かつ、未
処理の基板Ｓをカセットから一度に受けて仕込−取出室
５２、５３内のカセットに供給することが出来るので、
しかも迅速に供給しても正確に位置決めして載置される
ことができるので未処理の基板の仕込−取出室への供給
は従来より大幅に時間短縮されるので、真空処理室の数
が増えても、又、その処理時間が短縮されても、これに
対処することが出来、生産効率を従来より大幅に向上さ
せることが出来る。

【００２６】図７は、本発明の第２実施例による真空処
理装置に於けるカセット１２０を示し、第１実施例と同
様な直方体状の枠体１２１の相対向する内側側縁部に設
けられるブロック９４ａ、９４ｂ及び基板Ｓの挿通方向
と相対向する縁部に設けられた一対のブロック９５ａ、
９５ｂは同一の構成であるので、第１実施例と同一の符
号を付すが基板Ｓの後縁部を支持するために、第１実施
例の９３ａ、９３ｂの代わりに一対のブロック１１０
ａ、１１０ｂが設けられている。これは相対向する縁部
に設けられるブロック９５ａ、９５ｂとほゞ同様に構成
されるがブロック９５ａ、９５ｂに設けられた縁部と対
向する縁部には同様な鉛直方向に対する傾斜角６０度の
斜面１１４が形成され、また、両側縁部を支持する縁部
にはカセットの枠体１２０の両側面に対して外方に上向
きに傾斜する傾斜面１１３が形成され更に傾斜面１１
４、１１３に連接する水平面１１２から成っている。こ
の水平面１１２も他のブロック９４ａ、９４ｂ、９５
ａ、９５ｂの水平面１００、１０２と同一レベル上にあ
る。

【００２７】本実施例においても、基板Ｓは両側縁部に
おいて、正しく位置決めされるが、更に前端、後端部に
おいても正しく位置決めすることが出来、結局、全縁部
において正しく基板Ｓを位置決めすることができる。

【００２８】以上、本発明の各実施例について説明した
が、勿論、本発明はこれらに限定されることなく、本発
明の技術的思想に基づいて種々の変形が可能である。

【００２９】例えば、以上の実施例においては両側縁部
において、位置決めブロックは３個設けたがこれを更に
増加してもよく、あるいは従来の突出段部に対応して上
述と同様な斜面及び水平面を有する長手状の１個の基板
側縁支持部として形成しても良い。

【００３０】また、以上の実施例では本出願人が先に開
発した真空処理装置５１に適用したが、勿論、このよう
な真空処理装置に限ることなく従来例の図８及び図９で
示した真空処理装置１にも本発明は適用可能である。即
ち、基板を１枚づつ仕込−取出室のカセットに供給する
場合にも上述と同様な効果を奏することは明らかである
が、特に上記実施例で示すように複数枚の基板を一挙に
ロボットのアームにより取り出し、仕込−取出室のカセ
ットの支持部に供給する場合には特にその効果は大き
い。

【００３１】また、以上の実施例では基板としては液晶
に用いられるガラス材を説明したが、勿論、本発明は、
材質はこれに限ることなく、他の材質、例えば金属やセ
ラミックであっても適用可能である。更に、上記実施例
では各ブロック９３ａ、９３ｂ、９４ａ、９４ｂ及び９
５ａ、９５ｂの材質については、特に言及しなかったが
勿論、金属であってよく、また、この金属である場合に
は限らないが斜面１０１、１０２、１０３の基板の正し
い位置への滑動を容易にするために、また細かいほこり
の付着を防止するためにこれら斜面１０１、１０２及び
水平面１０３にテフロンコーティングを施しても良い。

【００３２】

【発明の効果】以上述べたように、本発明の真空処理装
置によれば、従来よりコストを殆ど上昇させることなく
ロボットにより、高速でカセットに基板を供給する場合
でも自動的に正しく位置決めして載置させることが出
来、ランニングコストをも低下させるものである。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の第１実施例による真空処理装置
の斜視図である。

【図２】図２は本出願人が先に開発した装置における仕
込−取出室のカセットの正面図である。

【図３】図３は本実施例による仕込−取出室のカセット
の正面図である。

【図４】図４は同カセットにおける位置決めブロックを
示す斜視図である。

【図５】図５は図３における［５］−［５］線方向の拡
大断面図である。

【図６】図６は図４における［６］−［６］線方向の拡
大断面図である。

【図７】図７は本発明の第２実施例の真空処理装置にお
けるカセットの要部の平面図である。

【図８】図８は従来例の真空処理装置の平面図である。

【図９】図９は同装置におけるカセットの正面図であ
る。

【図１０】図１０は同カセットの作用を示すために断面
を更に拡大した一部の正面図である。

【図１１】図１１は従来例の基板の位置決め装置を示す
斜視図である。

【図１２】図１２は更に他の位置決め装置を示す斜視図
である。

【符号の説明】

５１真空処理装置５５ロボット８０アーム９５カセット９３ａ位置決めブロック９３ｂ位置決めブロック９４ａ位置決めブロック９４ｂ位置決めブロック９５ａ位置決めブロック９５ｂ位置決めブロック１１０ａ位置決めブロック１１０ｂ位置決めブロック１２０カセット

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ほゞ直方形状の枠体と、該枠体の相対す
る内側壁面に固定された基板側縁支持手段とを有するカ
セットにおいて、前記基板側縁支持手段は前記枠体の外
方に向って上向きに傾斜する斜面と該斜面と連接して該
枠体の内方に延びる水平面とを備えていることを特徴と
するカセット。
【請求項２】前記基板側縁支持手段により支持される
べき基板の前記枠体内への挿入方向とは相対する側で前
記基板側縁支持手段とは同一レベル上に基板前縁支持手
段を前記枠体に対し固定し、該基板前縁支持手段は前記
枠体の外方に向って上向きに傾斜する斜面と、該斜面と
連接して該枠体の内方に延びる水平面とを備えている請
求項１に記載のカセット
【請求項３】前記相対する側とは相対する側で前記基
板側縁支持手段とは同一レベル上に基板後縁支持手段を
前記枠体に対し固定し、該基板後縁支持手段は前記枠体
の外方に向って上向きに傾斜する斜面と、該斜面と連接
して該枠体の内方に延びる水平面とを備えている請求項
２に記載のカセット