JPH08980Y2 - 有害・有毒ガス配管装置 - Google Patents
有害・有毒ガス配管装置Info
- Publication number
- JPH08980Y2 JPH08980Y2 JP1987097853U JP9785387U JPH08980Y2 JP H08980 Y2 JPH08980 Y2 JP H08980Y2 JP 1987097853 U JP1987097853 U JP 1987097853U JP 9785387 U JP9785387 U JP 9785387U JP H08980 Y2 JPH08980 Y2 JP H08980Y2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- toxic gas
- harmful
- pipe
- toxic
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- Rigid Pipes And Flexible Pipes (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
- Thermal Insulation (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、有害・有毒ガスを使用して真空処理を行な
うスパッタリング装置、エッチング装置等の真空処理装
置の配管装置に関する。
うスパッタリング装置、エッチング装置等の真空処理装
置の配管装置に関する。
（従来の技術） 従来の、有害・有毒ガスを使用して真空処理を行なう
スパッタリング装置、エッチング装置等の真空処理装置
の配管載置は、有害・有毒ガスを使用しない場合の一般
の配管と大差のない、第２図に示すような装置となって
いる。
スパッタリング装置、エッチング装置等の真空処理装置
の配管載置は、有害・有毒ガスを使用しない場合の一般
の配管と大差のない、第２図に示すような装置となって
いる。
第２図は真空処理装置のガス導入系の配管装置を略示
するが、真空処理装置１のガス導入管５にはバルブ２の
経てオートフローコントローラ６およびガスボンベボッ
クス７が接続されている。ガスボンベボックス７の内部
には、主バルブ、10、ガスボンベボックス７内にN2パー
ジを行なわせる為の窒素ガスパージバルブ11等の各種バ
ルブとレギュレータ13、ガスボンベ12が内蔵されてい
る。８は、ガスボンベボックス７のガス排出管である。
するが、真空処理装置１のガス導入管５にはバルブ２の
経てオートフローコントローラ６およびガスボンベボッ
クス７が接続されている。ガスボンベボックス７の内部
には、主バルブ、10、ガスボンベボックス７内にN2パー
ジを行なわせる為の窒素ガスパージバルブ11等の各種バ
ルブとレギュレータ13、ガスボンベ12が内蔵されてい
る。８は、ガスボンベボックス７のガス排出管である。
場所を選んでガス検出器９が備えられる。
（考案が解決しようとする問題点） この従来の配管装置では、配管にガスの漏洩を生じた
場合、漏洩ガスは直接外部に放出される。
場合、漏洩ガスは直接外部に放出される。
そしてガス検出器９で有害・有毒ガスが検出され必要な
処置がとられることになる。
処置がとられることになる。
問題は、有害・有毒ガスが放出されてはじめて検出さ
れるということであり、 検出された時点では既に有害・有毒ガスは大気を汚染し
ており、人体および設備に対して非常に危険であるとい
うことである。
れるということであり、 検出された時点では既に有害・有毒ガスは大気を汚染し
ており、人体および設備に対して非常に危険であるとい
うことである。
（考案の目的） 本考案は、上記の問題を解決し、ガスを外部に漏洩す
ることなく、安全且つ迅速に有害・有毒ガスの漏洩を検
出することのできるガス配管装置の提供を目的とする。
ることなく、安全且つ迅速に有害・有毒ガスの漏洩を検
出することのできるガス配管装置の提供を目的とする。
（問題を解決するための手段） 本考案は、上記問題を解決するため、配管を、相互に
気密に保たれた内管及び外管の二重管で構成し、該内管
を正規のガス導入又は排出系配管として使用するととも
に、該内管と該外管に囲まれた空間内には、窒素ガスを
封入し、且つ、該内管から該空間内に漏洩した有害・有
毒ガスを検出して前記ガス導入又はガス排気系における
有害・有毒ガスの流れを停止させるガス検知装置を備え
たという構成を有している。
気密に保たれた内管及び外管の二重管で構成し、該内管
を正規のガス導入又は排出系配管として使用するととも
に、該内管と該外管に囲まれた空間内には、窒素ガスを
封入し、且つ、該内管から該空間内に漏洩した有害・有
毒ガスを検出して前記ガス導入又はガス排気系における
有害・有毒ガスの流れを停止させるガス検知装置を備え
たという構成を有している。
（作用） 内管から漏洩した有害・有毒ガスは、内管と外管に囲
まれた空間内に閉じ込められた状態で検出され、有害・
有毒ガスの流れが停止される。従って、人体、設備に対
して危険を生じることなく必要な処置をとることが出来
る。
まれた空間内に閉じ込められた状態で検出され、有害・
有毒ガスの流れが停止される。従って、人体、設備に対
して危険を生じることなく必要な処置をとることが出来
る。
（実施例） 第１図は本考案の実施例の有害・有毒ガス配管装置の
概略の系統図であって、第２図と同一の部材には同一の
符号を付して説明を省略する。
概略の系統図であって、第２図と同一の部材には同一の
符号を付して説明を省略する。
新しく付加された部分は、第２図の配管５（本実施例
では、内管５）を気密に包む外管４、内管５と外管４に
囲まれた空間40内に乾燥窒素ガスを導入する窒素ガス導
入系（バルブ３とその配管と窒素ガスボンベ30等）、お
よび、空間40内の有害・有毒ガスを検出するガス検出器
９、である。
では、内管５）を気密に包む外管４、内管５と外管４に
囲まれた空間40内に乾燥窒素ガスを導入する窒素ガス導
入系（バルブ３とその配管と窒素ガスボンベ30等）、お
よび、空間40内の有害・有毒ガスを検出するガス検出器
９、である。
上記の構成の配管装置で、窒素ガス導入系から空間40
内の一端に導入された窒素ガスは、空間40内を流れてガ
ス検出器９に達し、ここで有害・有毒ガスの有無が検出
された後、排出管８から図示しない排ガス設備を通って
排出される。
内の一端に導入された窒素ガスは、空間40内を流れてガ
ス検出器９に達し、ここで有害・有毒ガスの有無が検出
された後、排出管８から図示しない排ガス設備を通って
排出される。
ここでもし、ガス検出器９で有害・有毒ガスが検出さ
れると、図示しない制御装置によってバルブ10が直ちに
閉鎖され、その後に、空間40、ボックス７内の有害・有
毒ガスの除去や内管の漏洩箇所の探索、修理が行なわれ
る。
れると、図示しない制御装置によってバルブ10が直ちに
閉鎖され、その後に、空間40、ボックス７内の有害・有
毒ガスの除去や内管の漏洩箇所の探索、修理が行なわれ
る。
（考案の効果） 本考案は、有害・有毒ガスを外部に漏洩することな
く、安全且つ迅速に有害・有毒ガスの漏洩を検出して有
害・有毒ガスの流れを停止させ、漏洩箇所の修理等の必
要な処理を安全にとることができるガス配管装置を提供
する効果がある。
く、安全且つ迅速に有害・有毒ガスの漏洩を検出して有
害・有毒ガスの流れを停止させ、漏洩箇所の修理等の必
要な処理を安全にとることができるガス配管装置を提供
する効果がある。
第１図は、本考案の実施例の有害・有毒ガス配管装置の
概略の系統図。 第２図は従来の同様の図。 １……真空処理装置、2,3,10,11……バルブ、４……外
管、５……内管、６……オートフローコントローラ、７
……ガスボンベボックス、８……排出管、９……ガス検
出器、12……ガスボンベ、30……窒素ガスボンベ。
概略の系統図。 第２図は従来の同様の図。 １……真空処理装置、2,3,10,11……バルブ、４……外
管、５……内管、６……オートフローコントローラ、７
……ガスボンベボックス、８……排出管、９……ガス検
出器、12……ガスボンベ、30……窒素ガスボンベ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/3065
Claims (1)
- 【請求項１】真空処理装置のガス導入系又はガス排出系
に用いられる有害・有毒ガス配管装置において、配管
を、相互に気密に保たれた内管及び外管の二重管で構成
し、該内管を正規のガス導入又は排出系配管として使用
するとともに、該内管と該外管に囲まれた空間内には、
窒素ガスを封入し、且つ、該内管から該空間内に漏洩し
た有害・有毒ガスを検出して前記ガス導入又はガス排気
系における有害・有毒ガスの流れを停止されるガス検知
装置を備えたことを特徴とする有害・有毒ガス配管装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987097853U JPH08980Y2 (ja) | 1987-06-25 | 1987-06-25 | 有害・有毒ガス配管装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1987097853U JPH08980Y2 (ja) | 1987-06-25 | 1987-06-25 | 有害・有毒ガス配管装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS645639U JPS645639U (ja) | 1989-01-12 |
| JPH08980Y2 true JPH08980Y2 (ja) | 1996-01-17 |
Family
ID=31323606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1987097853U Expired - Lifetime JPH08980Y2 (ja) | 1987-06-25 | 1987-06-25 | 有害・有毒ガス配管装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08980Y2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100801843B1 (ko) * | 2006-08-22 | 2008-02-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 가스 처리 장치 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2511363B2 (ja) * | 1992-07-06 | 1996-06-26 | 株式会社荏原製作所 | 真空処理装置 |
| JP2001053066A (ja) * | 1999-05-28 | 2001-02-23 | Tokyo Electron Ltd | オゾン処理装置およびその方法 |
| US6515290B1 (en) * | 2000-09-05 | 2003-02-04 | Axcelis Technologies, Inc. | Bulk gas delivery system for ion implanters |
| JP7273665B2 (ja) * | 2019-09-11 | 2023-05-15 | 東京エレクトロン株式会社 | 熱媒体循環システム及び基板処理装置 |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6286598U (ja) * | 1985-11-20 | 1987-06-02 |
-
1987
- 1987-06-25 JP JP1987097853U patent/JPH08980Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100801843B1 (ko) * | 2006-08-22 | 2008-02-11 | 동부일렉트로닉스 주식회사 | 가스 처리 장치 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS645639U (ja) | 1989-01-12 |
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