JPH0894829A - Production of color filter - Google Patents
Production of color filterInfo
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- JPH0894829A JPH0894829A JP25952294A JP25952294A JPH0894829A JP H0894829 A JPH0894829 A JP H0894829A JP 25952294 A JP25952294 A JP 25952294A JP 25952294 A JP25952294 A JP 25952294A JP H0894829 A JPH0894829 A JP H0894829A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、液晶などの表示装置を
多色化するために用いられるカラーフィルタの製造方法
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a color filter used for multicoloring a display device such as a liquid crystal display.
【０００２】[0002]
【従来の技術およびその解決すべき課題】従来、カラー
フィルタを形成する方法として、種々の提案がなされて
いるが、電着を用いてカラーフィルタを形成する方法が
注目されてきている。例えば特開昭６１−２７２７２０
号公報や特開昭６１−２７９８０３号公報には、基板上
に導電層を形成し、その上にポジ型の感光性被膜を形成
し、この感光性被膜を所望の形状に露光、現像して、部
分的に導電層を露出せしめ、露出した導電層に必要な色
の着色層を電着により形成する方法が開示されている。2. Description of the Related Art Conventionally, various proposals have been made as a method for forming a color filter, but a method for forming a color filter by using electrodeposition has been attracting attention. For example, JP-A-61-272720
In JP-A-61-279803 and JP-A-61-279803, a conductive layer is formed on a substrate, a positive photosensitive film is formed thereon, and the photosensitive film is exposed and developed into a desired shape. , A method of partially exposing a conductive layer and forming a colored layer of a required color on the exposed conductive layer by electrodeposition.
【０００３】この方法は、ポジ型の感光性被膜を使用し
ているため理想的には露光部分のみが現像液に可溶化
し、未露光部分は感光性を保持しているので露光、現像
を繰り返すことができることになる。しかしながら、キ
ノンジアジドを用いるポジ型感光性被膜は第１回目の現
像液や電着液との接触、熱などにより変性され、第２回
目以降のポジ型感光性被膜としての機能が発揮できなく
なる。したがって、この方法の場合、現実的にはポジ型
感光性被膜を複数回塗布する必要があり、工程が複雑と
なる。In this method, since a positive type photosensitive film is used, ideally only the exposed part is solubilized in the developing solution, and the unexposed part retains the photosensitivity, so that the exposure and development are performed. It can be repeated. However, the positive type photosensitive coating film using quinonediazide is modified by contact with the first developing solution or electrodeposition solution, heat, etc., and the function as the second or subsequent positive type photosensitive coating film cannot be exhibited. Therefore, in the case of this method, it is actually necessary to apply the positive photosensitive film a plurality of times, and the process becomes complicated.
【０００４】また特開平４−２４７４０２号公報、特開
平５−９３８０７号公報には、上記欠点を解決する方法
として、カルボン酸のtert−ブチルエステル又はフェノ
ールのtert−ブチルカルボナートよりなる酸に対して不
安定な枝分れした基を有する重合体と露光によって酸を
生じる光重合開始剤とを含有するポジ型感光性樹脂組成
物を用いる方法が開示されている。この方法において
は、tert−ブチルエステルは、酸の攻撃によりイソブテ
ンとカルボキシル基とに分解する。その結果、ポジ型感
光性被膜の露光部分に親水性官能基が形成され、アルカ
リ現像液による現像が可能となるものである。Further, JP-A-4-247402 and JP-A-5-93807 disclose, as a method for solving the above-mentioned disadvantages, an acid consisting of tert-butyl ester of carboxylic acid or tert-butyl carbonate of phenol. Discloses a method of using a positive photosensitive resin composition containing a polymer having a stable and unstable branched group and a photopolymerization initiator that generates an acid upon exposure. In this method, the tert-butyl ester decomposes into isobutene and a carboxyl group by the attack of acid. As a result, a hydrophilic functional group is formed on the exposed portion of the positive photosensitive film, and development with an alkali developing solution becomes possible.
【０００５】上記方法においては、光量子収率はキノン
ジアジドを感光剤としたものに比べて高く、感光性は向
上するが、現像の原理はキノンジアジドを使用したもの
と同様に露光部と未露光部との現像液に対する溶解度の
差を利用したものであり、未露光部は現像液に対して完
全には不溶性でないため、現像条件が微妙であり、良好
な再現性を得るためには厳密な現像条件の制御が必要で
ある。特に現像工程が複数回繰り返して行われる場合に
は未露光部の感光性被膜も現像液により一部溶解ないし
は膨潤し、形成されるパターンの精度が低下しやすく、
パターン欠陥を生じやすいなどの欠点がある。In the above method, the photon yield is higher than that using quinonediazide as a photosensitizer, and the photosensitivity is improved, but the principle of development is that exposed areas and unexposed areas are the same as those using quinonediazide. The difference in solubility in the developing solution is used. Since the unexposed area is not completely insoluble in the developing solution, the developing conditions are delicate, and strict developing conditions are required to obtain good reproducibility. Control is required. Particularly when the developing step is repeated a plurality of times, the photosensitive film in the unexposed area is also partially dissolved or swollen by the developing solution, and the accuracy of the formed pattern is likely to decrease,
There are drawbacks such as pattern defects.
【０００６】本発明の目的は、上記の如き欠点がなく、
簡単な生産工程で、パターン精度が高く着色不良がなく
信頼性が高い着色パターンを有するカラーフィルタの製
造方法を提供することにある。The object of the present invention is to eliminate the above-mentioned drawbacks.
It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color filter having a highly reliable colored pattern with high pattern accuracy and no coloring defects in a simple production process.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは鋭意
研究の結果、特定のポジ型感光性樹脂組成物を使用する
ことによって上記目的を達成することができることを見
出し本発明を完成するに至った。The inventors of the present invention, as a result of earnest research, have found that the above object can be achieved by using a specific positive type photosensitive resin composition, and have completed the present invention. I arrived.
【０００８】すなわち本発明は、１．〔１〕透明基板上
に透明導電層を形成する工程、 〔２〕（ａ）ヒドロキシフェニル基を有する重合体、
（ｂ）一分子中に２個以上のビニルエーテル基を含有す
る化合物、及び（ｃ）活性エネルギー線照射により酸を
発生する化合物、を必須成分として含有するポジ型感光
性組成物を該透明導電層上に塗装し、加熱してポジ型感
光性被膜層を形成する工程、 〔３〕該感光性被膜層を所望の形状に露光し、必要に応
じて加熱し、次いで現像することによって、透明導電層
の一部を露出する工程、 〔４〕露出した透明導電層上に電着により所望の色の着
色部を形成する工程、及び 〔５〕上記〔３〕及び〔４〕の工程を必要回数繰り返す
工程 を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法を
提供するものである。That is, the present invention is as follows. [1] a step of forming a transparent conductive layer on a transparent substrate, [2] (a) a polymer having a hydroxyphenyl group,
The positive-type photosensitive composition containing (b) a compound containing two or more vinyl ether groups in one molecule and (c) a compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays as essential components is the transparent conductive layer. A step of coating on the above and heating to form a positive type photosensitive coating layer, [3] exposing the photosensitive coating layer to a desired shape, heating if necessary, and then developing to obtain a transparent conductive film. A step of exposing a part of the layer, [4] a step of forming a colored portion of a desired color on the exposed transparent conductive layer by electrodeposition, and [5] the above steps [3] and [4] The present invention provides a method for manufacturing a color filter, which comprises repeating steps.
【０００９】また本発明は、２．重合体（ａ）が、重合
体（ａ）１kgあたり１．０〜１０当量の範囲のヒドロキ
シフェニル基を含有するものである上記項１記載のカラ
ーフィルタの製造方法を提供するものである。The present invention also relates to 2. The method for producing a color filter according to item 1, wherein the polymer (a) contains a hydroxyphenyl group in the range of 1.0 to 10 equivalents per 1 kg of the polymer (a).
【００１０】さらに本発明は、３．〔１〕〜〔５〕の工
程後、〔６〕残存する感光性被膜層を除去し、導電層を
露出させる工程を有する上記項１記載のカラーフィルタ
の製造方法を提供するものである。Further, the present invention relates to 3. After the steps [1] to [5], [6] there is provided a method for producing a color filter according to the above item 1, which has a step of removing the remaining photosensitive coating layer and exposing the conductive layer.
【００１１】また本発明は、４．〔６〕の工程後、露出
させた導電層上に電着により所望の着色部を形成する工
程を有する上記項３記載のカラーフィルタの製造方法を
提供するものである。The present invention also relates to 4. The method for producing a color filter according to the above item 3, which comprises a step of forming a desired colored portion on the exposed conductive layer by electrodeposition after the step [6].
【００１２】さらに本発明は、５．〔６〕の工程後、露
出させた導電層上に塗布法によって所望の着色部を形成
する工程を有する上記項３記載のカラーフィルタの製造
方法を提供するものである。The present invention also relates to 5. After the step [6], the method for producing a color filter according to the above item 3, further comprising the step of forming a desired colored portion on the exposed conductive layer by a coating method.
【００１３】また本発明は、６．〔６〕の工程後、露出
させた導電層上に金属層をメッキ法によって形成する工
程を有する上記項３記載のカラーフィルタの製造方法を
提供するものである。The present invention also relates to 6. The method for producing a color filter according to the above item 3, which comprises a step of forming a metal layer on the exposed conductive layer by a plating method after the step [6].
【００１４】さらに本発明は、７．〔６〕の工程後、露
出させた導電層を酸化又は還元によって着色する工程を
有する上記項３記載のカラーフィルタの製造方法を提供
するものである。The present invention also relates to 7. The method for producing a color filter according to the above item 3, which comprises a step of coloring the exposed conductive layer by oxidation or reduction after the step [6].
【００１５】[0015]
【作用】以下、本発明をさらに詳細に説明する。まず工
程〔１〕において、後記図１（Ａ）に示すように透明基
板１に透明導電層２を形成する。透明基板１としては通
常カラーフィルタに使用される透明な基板であればいず
れの基板であってもよく、例えばガラス基板、プラスチ
ック基板などを挙げることができる。透明導電層２に
は、例えば酸化錫、酸化インジウム又は酸化アンチモン
を主成分とするものが好適に用いられる。この透明導電
層は蒸着法、スパッタリング法又はゾル−ゲル法等の方
法により形成することができる。The present invention will be described in more detail below. First, in step [1], a transparent conductive layer 2 is formed on a transparent substrate 1 as shown in FIG. The transparent substrate 1 may be any substrate as long as it is a transparent substrate normally used for color filters, and examples thereof include a glass substrate and a plastic substrate. For the transparent conductive layer 2, for example, one containing tin oxide, indium oxide, or antimony oxide as a main component is preferably used. This transparent conductive layer can be formed by a method such as a vapor deposition method, a sputtering method or a sol-gel method.
【００１６】ついで工程〔２〕において、上記透明導電
層上にポジ型感光性組成物を塗布し、加熱してポジ型感
光性被膜層を形成する。Then, in step [2], a positive photosensitive composition is applied onto the transparent conductive layer and heated to form a positive photosensitive coating layer.
【００１７】塗布されるポジ型感光性組成物は、ヒドロ
キシフェニル基を有する重合体（ａ）、一分子中に少な
くとも２個以上のビニルエーテル基を含有する化合物
（ｂ）〔以下、「多ビニルエーテル化合物（ｂ）」と略
称する〕及び活性エネルギー線照射により酸を発生する
化合物（ｃ）〔以下、「光酸発生化合物（ｃ）」と略称
する〕を必須成分として含有する組成物である。The positive photosensitive composition to be applied is a polymer having a hydroxyphenyl group (a), a compound (b) containing at least two or more vinyl ether groups in one molecule [hereinafter, referred to as "multi-vinyl ether compound"]. (B) "] and a compound (c) that generates an acid upon irradiation with active energy rays [hereinafter abbreviated as" photoacid generating compound (c) "] as essential components.
【００１８】上記ポジ型感光性組成物は、それを塗布し
て形成された膜を加熱するとヒドロキシフェニル基とビ
ニルエーテル基との付加反応により架橋して、溶剤やア
ルカリ水溶液に対して不溶性となり、さらに活性エネル
ギー線を照射、必要に応じて照射後加熱すると、照射部
に発生した酸の触媒作用で架橋構造が切断されて照射部
分が溶剤やアルカリ水溶液に対して再び可溶性になると
いう新規なメカニズムによって機能するものである。す
なわち未露光部は架橋構造をとることにより現像に用い
られる溶剤やアルカリ水溶液に対して不溶化され、現像
時に未露光部の溶解や膨潤が生じないため、従来のポジ
型感光性組成物にみられるような問題を生じることはな
い。When the film formed by coating the positive type photosensitive composition is heated, it crosslinks due to an addition reaction between a hydroxyphenyl group and a vinyl ether group, and becomes insoluble in a solvent or an alkaline aqueous solution. By irradiation with active energy rays and, if necessary, heating after irradiation, the cross-linking structure is cleaved by the catalytic action of the acid generated in the irradiated area, and the irradiated area becomes soluble again in a solvent or alkaline aqueous solution. It works. That is, the unexposed area is insolubilized in the solvent or aqueous alkaline solution used for development due to the cross-linking structure, and the unexposed area is not dissolved or swelled during development, so that it is found in the conventional positive photosensitive composition. It does not cause such a problem.
【００１９】また本発明におけるポジ型感光性組成物
は、キノンジアジドを感光剤とするポジ型感光性組成物
と比較すると、吸光係数の高い官能基を多量に使用する
必要がないので、活性エネルギー線に対する透明性を高
くすることができ、また照射部に発生した酸は加熱によ
って触媒として作用し、架橋構造を連鎖的に切断するた
めポジ型として作用する感光性組成物としての感度を高
くすることができる。Further, the positive-type photosensitive composition of the present invention does not need to use a large amount of functional groups having a high absorption coefficient, as compared with the positive-type photosensitive composition using quinonediazide as a photosensitizer. The transparency of the acid can be increased, and the acid generated in the irradiated part acts as a catalyst by heating and cuts the cross-linking structure in a chain to enhance the sensitivity as a positive type composition. You can
【００２０】本発明において使用するポジ型感光性組成
物の各成分について説明する。Each component of the positive photosensitive composition used in the present invention will be described.
【００２１】ヒドロキシフェニル基を含有する重合体
（ａ） 重合体（ａ）は一分子中に少なくとも１つのヒドロキシ
フェニル基を含む重合体であり、例えば、１官能性又は
多官能性フェノール化合物、アルキルフェノール化合物
又はそれらの混合物と、フォルムアルデヒド、アセトン
などのカルボニル化合物との縮合物；ｐ−ヒドロキシス
チレンのようなヒドロキシ基含有ビニル芳香族化合物の
単独重合体；該ヒドロキシル基含有ビニル芳香族化合物
と他の共重合可能な単量体との共重合体等が挙げられ
る。 Polymers containing hydroxyphenyl groups
(A) Polymer (a) is a polymer containing at least one hydroxyphenyl group in one molecule, and is, for example, a monofunctional or polyfunctional phenol compound, an alkylphenol compound or a mixture thereof, and formaldehyde or acetone. Condensates with carbonyl compounds such as; homopolymers of hydroxy group-containing vinyl aromatic compounds such as p-hydroxystyrene; Copolymerization of the hydroxyl group-containing vinyl aromatic compounds with other copolymerizable monomers Examples include coalescence.
【００２２】上記１官能性又は多官能性フェノール化合
物としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ
−クレゾール、ｐ−クレゾール、３，５−キシレノー
ル、２，６−キシレノール、２，４−キシレノール、カ
テコール、レゾルシン、ピロガロール、ビスフェノール
Ａなどのベンゼン環上に１〜３個のヒドロキシル基を有
する化合物が挙げられ、また、アルキルフェノール化合
物としては、例えば、ｐ−イソプロピルフェノール、ｐ
−tert−ブチルフェノール、ｐ−tert−アミルフェノー
ル、ｐ−tert−オクチルフェノールなどのアルキル部分
の炭素数が１〜１０、好ましくは１〜４のアルキルフェ
ノール化合物が挙げられる。Examples of the monofunctional or polyfunctional phenol compound include phenol, o-cresol and m.
-Cresol, p-cresol, 3,5-xylenol, 2,6-xylenol, 2,4-xylenol, catechol, resorcin, pyrogallol, bisphenol A, etc., a compound having 1 to 3 hydroxyl groups on the benzene ring Examples of the alkylphenol compound include p-isopropylphenol and p-isopropylphenol.
Examples thereof include alkylphenol compounds having 1 to 10 carbon atoms, preferably 1 to 4 carbon atoms in the alkyl moiety such as -tert-butylphenol, p-tert-amylphenol and p-tert-octylphenol.
【００２３】これらの化合物とフォルムアルデヒド、ア
セトンなどのカルボニル化合物との縮合反応はそれ自体
既知の方法で行なうことができ、一般にアルカリ触媒で
縮合させると、縮合が進むにつれて不溶不融となるレゾ
ール型が得られ、酸触媒で縮合させると可溶可融のノボ
ラック型が得られる。本発明では通常後者のノボラック
型フェノール樹脂を使用することができる。ノボラック
型フェノール樹脂は縮合が進むにつれて分子量が増大す
るが、一般には反応時間１〜３時間で縮合させることに
より得られる分子量が５００〜２，０００の範囲内のも
のが好適である。また、ヒドロキシ基含有ビニル芳香族
化合物と共重合可能な他の単量体としては、例えば、
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチ
ル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸
ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリ
ル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシ
ル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デ
シル等の（メタ）アクリル酸のＣ1 〜Ｃ12アルキルエス
テル；（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）
アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル
酸３−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロ
キシブチル等の（メタ）アクリル酸のＣ2 〜Ｃ6 ヒドロ
キシアルキルエステル；スチレン、α−メチルスチレ
ン、ｐ−tert−ブチルスチレン等のビニル芳香族化合
物；酢酸ビニル、（メタ）アクリロニトリル、（メタ）
アクリルアミド、ビニルピロリドン等が挙げられ、これ
ら単量体はそれぞれ単独で用いてもよく又は２種以上組
合わせて使用することができる。殊に、該他の単量体と
してスチレン、α−メチルスチレン、Ｃ1 〜Ｃ6 アルキ
ル置換されたスチレン（例えばｐ−tert−ブチルスチレ
ン）などのビニル芳香族化合物を使用することが、形成
される画像パターンの精度、耐エッチング性等の点で好
適である。The condensation reaction of these compounds with a carbonyl compound such as formaldehyde or acetone can be carried out by a method known per se. Generally, when the condensation reaction is carried out with an alkali catalyst, it becomes insoluble and infusible as the condensation proceeds. And a soluble and fusible novolak type is obtained by condensation with an acid catalyst. In the present invention, the latter novolak type phenolic resin can usually be used. The molecular weight of the novolac type phenol resin increases as the condensation proceeds, but it is generally preferable that the molecular weight obtained by the condensation in the reaction time of 1 to 3 hours is in the range of 500 to 2,000. Further, as the other monomer copolymerizable with the hydroxy group-containing vinyl aromatic compound, for example,
Methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate , C 1 -C 12 alkyl esters of (meth) acrylic acid such as nonyl (meth) acrylate and decyl (meth) acrylate; hydroxyethyl (meth) acrylate, (meth)
2-hydroxypropyl acrylate, (meth) acrylate, 3-hydroxypropyl, (meth) such as hydroxyethyl acrylate butyl (meth) C 2 -C 6 hydroxyalkyl esters of acrylic acid; styrene, alpha-methyl styrene, p- Vinyl aromatic compounds such as tert-butyl styrene; vinyl acetate, (meth) acrylonitrile, (meth)
Examples thereof include acrylamide and vinylpyrrolidone. These monomers may be used alone or in combination of two or more kinds. In particular, the use of vinylaromatic compounds such as styrene, α-methylstyrene, C 1 -C 6 alkyl-substituted styrenes (eg p-tert-butylstyrene) as the other monomer is formed. It is suitable in terms of the accuracy of the image pattern and the etching resistance.
【００２４】かかるヒドロキシフェニル基含有重合体
（ａ）は、一般に、約５００〜約１００，０００、特に
約１，０００〜約３０，０００の範囲内の数平均分子量
を有していることが好ましい。また、重合体（ａ）のヒ
ドロキシフェニル基の含有量は、重合体１kgあたり一般
に１．０〜１０当量、特に２．０〜８．０当量の範囲内
にあるのが好都合である。重合体（ａ）のガラス転移温
度（Ｔｇ）は０℃以上、特に５〜７０℃の範囲内にある
ことが好適である。The hydroxyphenyl group-containing polymer (a) generally has a number average molecular weight in the range of about 500 to about 100,000, particularly about 1,000 to about 30,000. . Further, the content of the hydroxyphenyl group of the polymer (a) is preferably within the range of generally 1.0 to 10 equivalents, and particularly 2.0 to 8.0 equivalents per 1 kg of the polymer. The glass transition temperature (Tg) of the polymer (a) is preferably 0 ° C or higher, and particularly preferably in the range of 5 to 70 ° C.
【００２５】多ビニルエーテル化合物（ｂ） 多ビニルエーテル化合物（ｂ）は、一分子中に、式−Ｒ
−Ｏ−ＣＨ＝ＣＨ2 〔ここで、Ｒはエチレン、プロピレ
ン、ブチレンなどの炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐
鎖状のアルキレン基を表わす〕で示されるビニルエーテ
ル基を少なくとも２個、好ましくは２〜４個含有する低
分子量又は高分子量の化合物であり、例えば、ビスフェ
ノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、フェ
ノール樹脂などのポリフェノール化合物や、エチレング
リコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロ
パン、トリメチロールエタン、ペンタエリスリトールな
どのポリオール類と、クロロエチルビニルエーテルなど
のハロゲン化アルキルビニルエーテルとの縮合物；トリ
レンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、
ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシ
アネートなどのポリイソシアネート化合物と、ヒドロキ
シエチルビニルエーテルのようなヒドロキシアルキルビ
ニルエーテルとの反応物等が挙げられる。特に、上記ポ
リフェノール化合物とハロゲン化アルキルビニルエーテ
ルとの縮合物及び芳香環をもつポリイソシアネート化合
物とヒドロキシアルキルビニルエーテルとの反応物が、
エッチング耐性、形成されるパターンの精度等の観点か
ら好適である。Polyvinyl ether compound (b) The polyvinyl ether compound (b) has the formula -R in one molecule.
At least two vinyl ether groups represented by —O—CH═CH 2 [wherein R represents a linear or branched alkylene group having 1 to 6 carbon atoms such as ethylene, propylene and butylene], and preferably Is a low molecular weight or high molecular weight compound containing 2 to 4, for example, polyphenol compounds such as bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, and phenol resin, ethylene glycol, propylene glycol, trimethylolpropane, trimethylolethane, Condensation products of polyols such as pentaerythritol and halogenated alkyl vinyl ethers such as chloroethyl vinyl ether; tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate,
Examples thereof include reaction products of a polyisocyanate compound such as hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate with a hydroxyalkyl vinyl ether such as hydroxyethyl vinyl ether. In particular, a condensate of the above polyphenol compound and a halogenated alkyl vinyl ether and a reaction product of a polyisocyanate compound having an aromatic ring and a hydroxyalkyl vinyl ether,
It is suitable from the viewpoint of etching resistance, accuracy of the formed pattern, and the like.
【００２６】多ビニルエーテル化合物（ｂ）は、常温で
液状であるか又はその融点もしくは軟化点が１５０℃以
下、特に１３０℃以下のものが、活性エネルギー線照射
前の加熱時に、重合体（ａ）中に移行しやすく、重合体
（ａ）中のフェノール性水酸基と多ビニルエーテル化合
物（ｂ）のビニルエーテル基との付加反応が起りやすく
好ましい。The poly (vinyl ether) compound (b) which is liquid at room temperature or has a melting point or softening point of 150 ° C. or lower, particularly 130 ° C. or lower, is a polymer (a) when heated before irradiation with active energy rays. It is preferable because it easily migrates into the polymer and an addition reaction between the phenolic hydroxyl group in the polymer (a) and the vinyl ether group in the polyvinyl ether compound (b) occurs.
【００２７】光酸発生化合物（ｃ） 光酸発生化合物（ｃ）は、後述する活性エネルギー線の
照射により分解して、前記重合体（ａ）と多ビニルエー
テル化合物（ｂ）との間で形成される架橋構造を切断す
るのに十分な強度の酸を発生する化合物であり、例え
ば、下記式で示されるものが包含される。これらのうち
（IX）式で表わされる化合物が特に好適である。Photoacid- generating compound (c) The photoacid-generating compound (c) is decomposed by irradiation with an active energy ray described below to form between the polymer (a) and the poly (vinyl ether) compound (b). A compound that generates an acid having a sufficient strength to cleave the cross-linked structure, and includes, for example, those represented by the following formula. Of these, the compound represented by the formula (IX) is particularly preferable.
【００２８】Ａｒ2 Ｉ+ ・Ｘ- （Ｉ） 〔式中、Ａｒはアリール基、例えばフェニル基を表し、
Ｘ- はＰＦ6 -、ＳｂＦ6 -又はＡｓＦ6 -を表す〕Ar 2 I + · X − (I) [wherein, Ar represents an aryl group, for example, a phenyl group,
X - is PF 6 -, SbF 6 - or AsF 6 - represents a]
【００２９】Ａｒ2 Ｓ+ ・Ｘ- （II） 〔式中、Ａｒ及びＸ- は上記と同じ意味を有する〕Ar 2 S + · X − (II) [wherein Ar and X − have the same meanings as above]
【００３０】[0030]
【化１】 〔式中、Ｒは炭素数１〜１２のアルキル基又は炭素数１
〜１２のアルコキシ基を表し、ｎは０〜３を表し、Ｘ-
は上記と同じ意味を有する〕[Chemical 1] [In the formula, R is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or 1 carbon atom.
It represents 12 alkoxy group, n represents 0 to 3, X -
Has the same meaning as above]
【００３１】[0031]
【化２】 〔式中、Ｘ- は上記と同じ意味を有する〕[Chemical 2] [In the formula, X − has the same meaning as above]
【００３２】[0032]
【化３】 〔式中、Ｘ- は上記と同じ意味を有する〕[Chemical 3] [In the formula, X − has the same meaning as above]
【００３３】[0033]
【化４】 〔式中、Ｘ- は上記と同じ意味を有する〕[Chemical 4] [In the formula, X − has the same meaning as above]
【００３４】[0034]
【化５】 〔式中、Ｘ- は上記と同じ意味を有する〕[Chemical 5] [In the formula, X − has the same meaning as above]
【００３５】[0035]
【化６】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 はそれぞれ独立に炭素数１〜１２
のアルキル基又は炭素数１〜１２のアルコキシ基を表
す〕[Chemical 6] [In the formula, R 1 and R 2 each independently have 1 to 12 carbon atoms.
Represents an alkyl group or an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms]
【００３６】[0036]
【化７】 〔式中、Ｒ1 及びＲ2 は上記と同じ意味を有する〕[Chemical 7] [In the formula, R 1 and R 2 have the same meanings as described above.]
【００３７】[0037]
【化８】 [Chemical 8]
【００３８】ポジ型感光性組成物 本発明において使用するポジ型感光性組成物は、以上に
述べた重合体（ａ）、多ビニルエーテル化合物（ｂ）及
び光酸発生化合物（ｃ）の３成分を必須成分として含有
するものであり、その配合割合は、該組成物の用途等に
応じて広い範囲にわたって変えることができるが、多ビ
ニルエーテル化合物（ｂ）は、重合体（ａ）１００重量
部に対して一般に５〜１５０重量部、特に１０〜１００
重量部の範囲内で使用することが好ましく、また、光酸
発生化合物（ｃ）は、重合体（ａ）と多ビニルエーテル
化合物（ｂ）との合計量１００重量部に対して一般に
０．１〜４０重量部、特に０．２〜２０重量部の範囲内
で用いるのが適当である。 Positive-Type Photosensitive Composition The positive-type photosensitive composition used in the present invention comprises the above-mentioned three components of the polymer (a), the poly (vinyl ether) compound (b) and the photo-acid generating compound (c). It is contained as an essential component, and its compounding ratio can be varied over a wide range depending on the use of the composition and the like. However, the poly (vinyl ether) compound (b) is added to 100 parts by weight of the polymer (a). Generally 5 to 150 parts by weight, especially 10 to 100
It is preferable to use within a range of 0.1 part by weight, and the photoacid generating compound (c) is generally 0.1 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the total amount of the polymer (a) and the poly (vinyl ether) compound (b). It is suitable to use 40 parts by weight, particularly 0.2 to 20 parts by weight.
【００３９】上記感光性組成物には必要に応じて増感色
素を配合してもよく、使用しうる増感色素としては、例
えば、フェノチアジン系、アントラセン系、コロネン
系、ベンズアントラセン系、ペリレン系、ピレン系、メ
ロシアニン系、ケトクマリン系等の色素が挙げられる。
これら増感色素の配合量は、重合体（ａ）１００重量部
に対して０．１〜１０重量部、好ましくは０．３〜５重
量部の範囲内が適当である。If necessary, a sensitizing dye may be added to the above-mentioned photosensitive composition. Examples of the sensitizing dye that can be used include phenothiazine-based, anthracene-based, coronene-based, benzanthracene-based and perylene-based. Examples thereof include pyrene-based, merocyanine-based, and ketocoumarin-based dyes.
The compounding amount of these sensitizing dyes is appropriately in the range of 0.1 to 10 parts by weight, preferably 0.3 to 5 parts by weight, based on 100 parts by weight of the polymer (a).
【００４０】また、上記感光性組成物には形成される被
膜に適当な可撓性、非粘着性等を付与するなどの目的
で、フタル酸エステル等の可塑剤、ポリエステル樹脂、
アクリル樹脂等を添加してもよい。それらの添加量は通
常、重合体（ａ）、多ビニルエーテル化合物（ｂ）及び
光酸発生化合物（ｃ）の合計量１００重量部に対して５
０重量部以下、さらには０．１〜４０重量部の範囲であ
ることが好ましい。Further, for the purpose of imparting appropriate flexibility and non-adhesiveness to the film formed on the above-mentioned photosensitive composition, a plasticizer such as phthalate ester, a polyester resin,
You may add acrylic resin etc. The addition amount thereof is usually 5 with respect to 100 parts by weight of the total amount of the polymer (a), the polyvinyl ether compound (b) and the photoacid generating compound (c).
It is preferably 0 part by weight or less, more preferably 0.1 to 40 parts by weight.
【００４１】さらに、上記感光性組成物には必要に応じ
て、流動性調節剤、染料、顔料等の着色剤等を添加して
もよい。Further, a fluidity modifier, a coloring agent such as a dye or a pigment and the like may be added to the above-mentioned photosensitive composition, if necessary.
【００４２】上記感光性組成物は、以上に述べた各成分
をそのまま又は必要に応じて溶剤中で混合することによ
り調製することができる。その際に使用しうる溶剤は組
成物の各成分を溶解できるものであれば特に制限はな
く、例えば、ケトン系、エステル系、アルコール系、グ
リコール系、グリコールエーテル系、環状エーテル系又
は脂肪族もしくは芳香族炭化水素系溶剤等を挙げること
ができる。これらの溶剤は必要に応じて単独又は２種類
以上を混合して用いることができる。The above-mentioned photosensitive composition can be prepared by mixing the above-mentioned components as they are or, if necessary, in a solvent. The solvent that can be used in that case is not particularly limited as long as it can dissolve each component of the composition, and examples thereof include ketone-based, ester-based, alcohol-based, glycol-based, glycol ether-based, cyclic ether-based or aliphatic or Examples thereof include aromatic hydrocarbon solvents. These solvents may be used alone or in combination of two or more, if necessary.
【００４３】本発明の工程〔２〕において、上記ポジ型
感光性組成物を透明導電層上に塗装し、加熱することに
よって図１（Ｂ）に示すようにポジ型感光性被膜層３が
形成される。ポジ型感光性組成物の塗装は、スピンコー
ト法、スプレー法、バーコータ塗装法、印刷法などによ
って行うことができる。In the step [2] of the present invention, the positive photosensitive composition is coated on the transparent conductive layer and heated to form a positive photosensitive coating layer 3 as shown in FIG. 1 (B). To be done. The positive photosensitive composition can be applied by a spin coating method, a spray method, a bar coater coating method, a printing method, or the like.
【００４４】ポジ型感光性被膜層の膜厚は、特に限定さ
れるものではないが通常０．５〜１０μm である。塗装
後の加熱によって感光性被膜中のヒドロキシフェニル基
とビニルエーテル基との付加反応が起こり架橋して、被
膜は溶剤やアルカリ水溶液に対して不溶性となる。塗装
後の加熱は架橋反応が実質的に起る温度及び時間条件
下、例えば、約６０〜約１５０℃の温度で約１〜約３０
分間の条件で行うことができる。The thickness of the positive type photosensitive coating layer is not particularly limited, but is usually 0.5 to 10 μm. The heating after coating causes an addition reaction between the hydroxyphenyl group and the vinyl ether group in the photosensitive film and crosslinks, so that the film becomes insoluble in a solvent or an aqueous alkaline solution. The heating after coating is carried out under the temperature and time conditions in which the crosslinking reaction substantially occurs, for example, at a temperature of about 60 to about 150 ° C. and about 1 to about 30.
It can be performed under the condition of minute.
【００４５】工程〔３〕においては、工程〔２〕で得た
ポジ型感光性被膜層は所望形状に露光される。例えば図
１（Ｃ）に示すようにポジ型感光性被膜層３の上に所定
のパターンを有するマスク４を設定し、その上から活性
エネルギー線を露光する。露光方法としてはマスクを用
いる方法以外に、縮小投影露光機、直接描画機等を用い
て活性エネルギー線を画像選択的に照射する方法を用い
てもよい。活性エネルギー線は、感光性組成物に配合さ
れている光酸発生化合物（ｃ）の種類等に応じて選択さ
れるが、例えば、電子線、波長２００〜６００nmの単色
光線又はそれらの混合光線、レーザー光線等が挙げられ
る。In step [3], the positive type photosensitive coating layer obtained in step [2] is exposed to a desired shape. For example, as shown in FIG. 1C, a mask 4 having a predetermined pattern is set on the positive photosensitive film layer 3, and active energy rays are exposed from above the mask 4. As the exposure method, other than the method using a mask, a method of selectively irradiating an active energy ray with a reduction projection exposure machine, a direct drawing machine or the like may be used. The active energy ray is selected according to the kind of the photo-acid generating compound (c) contained in the photosensitive composition, and the like. For example, an electron beam, a monochromatic ray having a wavelength of 200 to 600 nm or a mixed ray thereof, A laser beam etc. are mentioned.
【００４６】露光部では光酸発生化合物（ｃ）が分解す
ることによって強度の酸が発生し、この酸の触媒作用に
よってポジ型感光性被膜の架橋構造が切断されて露光部
が溶剤やアルカリ水溶液に対して再び可溶性になる。こ
の酸の触媒作用を強めるため必要に応じて露光後、加熱
してもよい。この加熱は、感光性被膜の架橋構造の切断
を促進する温度及び時間条件下、例えば、約６０〜約１
５０℃の温度で約１〜約３０分間の条件で行うことがで
きる。In the exposed area, the photoacid generating compound (c) is decomposed to generate a strong acid, and the catalytic action of this acid breaks the crosslinked structure of the positive photosensitive film to expose the exposed area to a solvent or an alkaline aqueous solution. Again becomes soluble. In order to enhance the catalytic action of this acid, it may be heated after exposure if necessary. This heating is performed under temperature and time conditions that promote the cleavage of the crosslinked structure of the photosensitive film, for example, about 60 to about 1.
It can be performed at a temperature of 50 ° C. for about 1 to about 30 minutes.
【００４７】工程〔３〕においては、上記露光、必要に
応じて加熱後、感光性被膜層を現像液で現像することに
よって、図１（Ｄ）に示すように基板上にパターンを形
成し、透明導電層の一部を露出することができる。図１
（Ｄ）では、第１の着色が必要な箇所に導電層が露出し
ている形となっている。現像液としては、重合体（ａ）
を溶解する能力のある液体、例えば、水溶性有機塩基、
例えばアルカノールアミン、テトラエチルアンモニウム
ハイドロオキサイド等のヒドロキシアンモニウム塩類；
無機アルカリ、例えば苛性ソーダ、炭酸ソーダ、メタ珪
酸ソーダ等の水溶液を用いることができる。これらの塩
基性物質は単独で又は２種類以上を混合して用いてもよ
い。現像液中の塩基性物質の濃度は通常０．０５〜１０
重量％の範囲内であることが好ましい。また、現像液に
は必要に応じて有機溶剤を混合可能な範囲で混合して用
いてもよい。In the step [3], after the above exposure and, if necessary, heating, the photosensitive coating layer is developed with a developing solution to form a pattern on the substrate as shown in FIG. 1 (D). A part of the transparent conductive layer can be exposed. Figure 1
In (D), the conductive layer is exposed at the location where the first coloring is required. As the developer, the polymer (a) is used.
A liquid capable of dissolving, for example, a water-soluble organic base,
For example, hydroxyammonium salts such as alkanolamine and tetraethylammonium hydroxide;
An aqueous solution of an inorganic alkali, for example, caustic soda, sodium carbonate, sodium metasilicate or the like can be used. You may use these basic substances individually or in mixture of 2 or more types. The concentration of the basic substance in the developer is usually 0.05 to 10
It is preferably within the range of wt%. In addition, an organic solvent may be mixed in the developing solution, if necessary, within a range in which it can be mixed.
【００４８】現像は、現像液に処理する基板を浸漬した
り、現像液を基板に吹き付けるなどのそれ自体公知の方
法によって行うことができる。パターン形成後、必要に
応じて基板を水洗及び／又は加熱乾燥することができ
る。The development can be carried out by a method known per se, such as immersing the substrate to be treated in a developing solution or spraying the developing solution on the substrate. After forming the pattern, the substrate may be washed with water and / or dried by heating, if necessary.
【００４９】工程〔４〕においては、基板上にパターン
を形成することによって露出した透明導電層上に電着に
より、図１（Ｅ）に示すように、所望の色の着色部５
（第１着色部、例えば、青）を形成する。In the step [4], as shown in FIG. 1 (E), the colored portion 5 of a desired color is formed by electrodeposition on the transparent conductive layer exposed by forming a pattern on the substrate.
(First colored portion, for example, blue) is formed.
【００５０】この電着に用いる電着塗料の造膜成分とし
ては、通常、合成高分子樹脂が用いられ、この樹脂はア
ニオン系、カチオン系、両性のいずれであってもよい
が、アニオン系のものが特に好ましい。上記合成高分子
樹脂としては、従来公知の種々のもの、例えばアクリル
樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、ポリブタジエン樹
脂、ポリアミド樹脂、カルボキシル含有ポリブタジエン
樹脂、カルボキシル含有アルキド樹脂等が挙げられる。
この電着塗料は光硬化性又は熱硬化性のいずれであって
もよく、着色部を形成後、必要に応じて、活性エネルギ
ー線照射または加熱することにより、着色部を硬化させ
てもよい。As the film-forming component of the electrodeposition coating used for this electrodeposition, a synthetic polymer resin is usually used. This resin may be anionic, cationic or amphoteric, but it is anionic. Those are particularly preferable. Examples of the synthetic polymer resin include various conventionally known resins such as acrylic resin, epoxy resin, urethane resin, polybutadiene resin, polyamide resin, carboxyl-containing polybutadiene resin, and carboxyl-containing alkyd resin.
This electrocoating material may be either photo-curable or thermo-curable, and after forming the colored portion, the colored portion may be cured by irradiation with active energy rays or heating, if necessary.
【００５１】工程〔５〕においては、上記工程〔３〕及
び〔４〕が必要回数繰り返される。すなわち、工程
〔４〕で得られた基板のポジ型感光性被膜層は、工程
〔３〕と同様に所望形状に露光される。例えば図１
（Ｆ）に示すようにポジ型感光性被膜層３及び着色部５
の上に所定のパターンを有するマスクを設定し、その上
から活性エネルギー線を露光する。露光後、必要に応じ
て加熱し、次いで現像を行うことによって図１（Ｇ）に
示すように第２の着色が必要な箇所の透明導電層を露出
させる。さらに、得られた基板に工程〔４〕と同様に電
着を行うことにより、図１（Ｈ）に示すように、所望の
色の着色部６（第２着色部、例えば、赤）を形成する。
必要な着色部の色の数に応じて工程〔３〕及び〔４〕の
繰り返し回数を決めればよい。図１（Ｉ）、（Ｊ）及び
（Ｋ）は、第３の着色部７（第３着色部、例えば、緑）
を形成するための工程〔３〕及び〔４〕の繰り返しを示
す。In step [5], the above steps [3] and [4] are repeated as many times as necessary. That is, the positive photosensitive film layer of the substrate obtained in the step [4] is exposed to a desired shape as in the step [3]. Figure 1
As shown in (F), the positive photosensitive film layer 3 and the colored portion 5
A mask having a predetermined pattern is set on the above, and active energy rays are exposed from the above. After the exposure, the transparent conductive layer is exposed at a portion where the second coloring is required as shown in FIG. 1G by heating as needed and then developing. Further, by performing electrodeposition on the obtained substrate in the same manner as in the step [4], a colored portion 6 (second colored portion, for example, red) of a desired color is formed as shown in FIG. 1 (H). To do.
The number of repetitions of the steps [3] and [4] may be determined according to the number of colors of the colored portion required. 1 (I), (J) and (K) show a third colored portion 7 (third colored portion, eg green).
The steps [3] and [4] for forming the are shown.
【００５２】上記工程〔１〕〜〔５〕によって得られた
多色の着色部を有する基板は、さらに必要に応じて、導
電層上の着色部以外の部分に別の着色部（例えば、ブラ
ックマトリックス）を形成してもよい。その場合、まず
残存する感光性被膜層を除去する工程〔６〕が必要であ
る。例えば図１（Ｋ）に示される着色部５、６及び７を
溶解させず、残存する感光性被膜層を優先的に又は選択
的に残存する感光性被膜層を除去溶解する除去液を用い
て除去を行うことによって図１（Ｌ）に示されるように
残存する感光性被膜層を除去することができる。この場
合、感光性被膜層を除去する前に活性エネルギー線を照
射して強度の酸を発生させ感光性被膜の架橋構造を破壊
してから除去液にて除去してもよい。この場合には、工
程〔３〕で使用した現像液を除去液として用いることも
できる。The substrate having a multicolored colored portion obtained by the above steps [1] to [5] may further have another colored portion (for example, black) on the portion other than the colored portion on the conductive layer, if necessary. Matrix) may be formed. In that case, first, the step [6] of removing the remaining photosensitive coating layer is required. For example, by using a remover which does not dissolve the colored portions 5, 6 and 7 shown in FIG. 1 (K) and preferentially or selectively removes the remaining photosensitive coating layer to dissolve the remaining photosensitive coating layer. By performing the removal, the remaining photosensitive coating layer can be removed as shown in FIG. In this case, before removing the photosensitive film layer, irradiation with an active energy ray may be applied to generate a strong acid to destroy the crosslinked structure of the photosensitive film, and then the solution may be removed with a removing solution. In this case, the developing solution used in step [3] can be used as the removing solution.
【００５３】上記工程〔６〕の後、露出させた導電層上
に別の着色部（例えば、ブラックマトリックス）を形成
することによって、例えば図１（Ｍ）に示されるような
カラーフィルタを得ることができる。導電層上にブラッ
クマトリックスなどの別の着色部を形成する方法として
は、着色塗料を、電着塗装法や、例えばスピンコート
法、スプレー法、バーコータ塗装法、印刷法などの塗布
法などの塗装方法によって塗装し、ついで硬化させる方
法；導電層上に金属層をメッキ法によって形成する方
法；露出させた導電層を酸化又は還元によって着色する
方法などを挙げることができる。After the step [6], another colored portion (for example, a black matrix) is formed on the exposed conductive layer to obtain a color filter as shown in FIG. 1M, for example. You can As a method for forming another colored portion such as a black matrix on the conductive layer, a colored paint is applied by an electrodeposition coating method or a coating method such as a spin coating method, a spray method, a bar coater coating method, or a printing method. Examples thereof include a method of coating by a method and then curing; a method of forming a metal layer on the conductive layer by a plating method; a method of coloring the exposed conductive layer by oxidation or reduction.
【００５４】[0054]
【発明の効果】本発明のカラーフィルタの製造方法によ
れば、簡単な生産工程で、精度が高く着色不良がなく信
頼性が高い、しかも導電層の形状に影響されることなく
任意の配列形状の着色パターンを有するカラーフィルタ
を製造することができる。According to the method of manufacturing a color filter of the present invention, a simple production process provides high accuracy, no coloring defects, high reliability, and an arbitrary array shape without being affected by the shape of the conductive layer. It is possible to manufacture a color filter having a colored pattern of.
【００５５】[0055]
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに具体的に
説明する。なお、「部」及び「％」は重量基準である。EXAMPLES The present invention will be described in more detail below with reference to examples. In addition, "part" and "%" are based on weight.
【００５６】製造例１：ヒドロキシフェニル基含有重合
体（ａ−１）の合成 ｏ−クレゾール１，４９０部、３０％フォルマリン１，
１４５部、脱イオン水１３０部、蓚酸６．５部をフラス
コに入れ６０分加熱還流させた。次いで１５％塩酸を１
３．５部加え４０分加熱還流させた。次いで４００部の
約１５℃の脱イオン水を加え内容物を約７５℃に保ち樹
脂を沈澱させた。次いで３５％水酸化ナトリウム溶液を
加え中和後水層を除去し、更に４００部の脱イオン水を
加え７５℃で樹脂を洗浄した後水層を除去、更に同様な
洗浄操作を２度繰り返した後、減圧下に約１２０℃で乾
燥してノボラックフェノール樹脂〔重合体（ａ−１）〕
を得た。この樹脂は分子量約６００であった。 Production Example 1 : Synthesis of hydroxyphenyl group-containing polymer (a-1) o-cresol 1,490 parts, 30% formalin 1,
145 parts, deionized water 130 parts, and oxalic acid 6.5 parts were put into a flask and heated under reflux for 60 minutes. Then add 15% hydrochloric acid to 1
3.5 parts was added and the mixture was heated to reflux for 40 minutes. Then 400 parts of deionized water at about 15 ° C was added to keep the contents at about 75 ° C to precipitate the resin. Then, a 35% sodium hydroxide solution was added to neutralize and the water layer was removed, 400 parts of deionized water was further added, the resin was washed at 75 ° C., the water layer was removed, and the same washing operation was repeated twice. Then, it is dried under reduced pressure at about 120 ° C. to obtain a novolac phenol resin [polymer (a-1)].
Got This resin had a molecular weight of about 600.
【００５７】製造例２：ヒドロキシフェニル基含有重合
体（ａ−２）の合成 テトラヒドロフラン６０部、ｐ−ヒドロキシスチレン２
１部、ｎ−ブチルアクリレート９部、アゾビスイソブチ
ロニトリル３部をフラスコに入れ容器内を窒素置換後撹
拌しつつ１００℃で２時間加熱した。生成物を７００ml
のトルエン中に注ぎ込み生成した沈澱を分離、１００ml
のアセトンに溶解した後再び７００mlをトルエン中に注
ぎ込んだ。沈澱を６０℃で減圧乾燥して重合体（ａ−
２）を得た。この重合体は分子量約１４，０００であっ
た。 Production Example 2 : Synthesis of hydroxyphenyl group-containing polymer (a-2) 60 parts tetrahydrofuran, p-hydroxystyrene 2
1 part, n-butyl acrylate 9 parts, and azobisisobutyronitrile 3 parts were put into a flask, and the inside of the container was replaced with nitrogen and heated at 100 ° C. for 2 hours while stirring. 700 ml of product
Was poured into toluene and the precipitate formed was separated, 100 ml
After dissolving in acetone, 700 ml was poured again into toluene. The precipitate was dried under reduced pressure at 60 ° C to obtain a polymer (a-
2) was obtained. This polymer had a molecular weight of about 14,000.
【００５８】製造例３：多ビニルエーテル化合物（ｂ−
１）の合成 ビスフェノールＡ４５．６部、２−クロロエチルビニル
エーテル８０部、トルエン１００部をフラスコに入れ、
窒素置換後２０部の水酸化ナトリウムを投入し、８０℃
で３０分加熱した。その後４．５６部のテトラブチルア
ンモニウムブロマイドを２０部の２−クロロエチルビニ
ルエーテルに溶解した溶液を投入し９５℃で５時間加熱
反応させた。反応物を３回脱イオン水で洗浄した後、油
層を分離した。油層を蒸留して未反応２−クロロエチル
ビニルエーテル及びトルエンを除去して多ビニルエーテ
ル化合物（ｂ−１）を得た。この化合物は一分子中にビ
ニルエーテル基を２個含んでいた。 Production Example 3 : Polyvinyl ether compound (b-
Synthesis of 1) Bisphenol A 45.6 parts, 2-chloroethyl vinyl ether 80 parts, toluene 100 parts were put in a flask,
After purging with nitrogen, add 20 parts of sodium hydroxide, and the temperature is 80 ° C.
Heated for 30 minutes. Then, a solution prepared by dissolving 4.56 parts of tetrabutylammonium bromide in 20 parts of 2-chloroethyl vinyl ether was added, and the mixture was heated and reacted at 95 ° C. for 5 hours. After washing the reaction three times with deionized water, the oil layer was separated. The oil layer was distilled to remove unreacted 2-chloroethyl vinyl ether and toluene to obtain a polyvinyl ether compound (b-1). This compound contained two vinyl ether groups in one molecule.
【００５９】製造例４：多ビニルエーテル化合物（ｂ−
２）の合成 ｏ−クレゾール１，４９０部、３０％フォルマリン１，
１４５部、脱イオン水１３０部、蓚酸６．５部をフラス
コに入れ６０分加熱還流させた。次いで１５％塩酸を１
３．５部加え４０分加熱還流させた。次いで４００部の
約１５℃の脱イオン水を加え内容物を約７５℃に保ち樹
脂を沈澱させた。次いで３５％水酸化ナトリウム溶液を
加え中和後水層を除去し、更に４００部の脱イオン水を
加え７５℃で樹脂を洗浄した後、水層を除去し、更に同
様な洗浄操作を２度繰り返した後、減圧下に約１２０℃
で乾燥してノボラックフェノール樹脂を得た。この樹脂
は分子量約６００であった。製造例３においてビスフェ
ノールＡ４５．６部の代わりに当該樹脂を１５部使用す
る以外は製造例３と全く同様にして多ビニルエーテル化
合物（ｂ−２）を得た。この化合物は一分子中にビニル
エーテル基を平均で約３．５個含んでいた。 Production Example 4 : Polyvinyl ether compound (b-
Synthesis of 2) o-cresol 1,490 parts, 30% formalin 1,
145 parts, deionized water 130 parts, and oxalic acid 6.5 parts were put into a flask and heated under reflux for 60 minutes. Then add 15% hydrochloric acid to 1
3.5 parts was added and the mixture was heated to reflux for 40 minutes. Then 400 parts of deionized water at about 15 ° C was added to keep the contents at about 75 ° C to precipitate the resin. Then, a 35% sodium hydroxide solution is added to neutralize and the water layer is removed, 400 parts of deionized water is further added, the resin is washed at 75 ° C., the water layer is removed, and the same washing operation is performed twice. After repeated, under reduced pressure at about 120 ℃
And dried to obtain a novolac phenol resin. This resin had a molecular weight of about 600. A poly (vinyl ether) compound (b-2) was obtained in exactly the same manner as in Production Example 3 except that 15 parts of the resin was used in place of 45.6 parts of bisphenol A in Production Example 3. This compound contained an average of about 3.5 vinyl ether groups in one molecule.
【００６０】ポジ型感光性組成物の製造製造例５ 重合体（ａ−１） １００部 多ビニルエーテル化合物（ｂ−１） ７０部 光酸発生化合物（ｃ−１）（注１） １０部 上記の混合物をジエチレングリコールジメチルエーテル
に溶解して固形分２０％のポジ型感光性組成物（Ｐ−
１）を得た。 （注１）光酸発生化合物（ｃ−１）：下記式で表わされ
る化合物である。Production of Positive Photosensitive Composition Production Example 5 Polymer (a-1) 100 parts Polyvinyl ether compound (b-1) 70 parts Photoacid generating compound (c-1) (Note 1) 10 parts The mixture was dissolved in diethylene glycol dimethyl ether to obtain a positive photosensitive composition (P-
1) was obtained. (Note 1) Photoacid generating compound (c-1): a compound represented by the following formula.
【００６１】[0061]
【化９】 [Chemical 9]
【００６２】製造例６ 重合体（ａ−２）溶液 １００部 多ビニルエーテル化合物（ｂ−２） ２０部 光酸発生化合物（ｃ−２）（注２） ７．５部 増感色素（注３） １部 上記の混合物をジエチレングリコールジメチルエーテル
に溶解して固形分２０％のポジ型感光性組成物（Ｐ−
２）を得た。 （注２）光酸発生化合物（ｃ−２）：下記式で表わされ
る化合物である。 Production Example 6 Polymer (a-2) solution 100 parts Polyvinyl ether compound (b-2) 20 parts Photoacid generating compound (c-2) (Note 2) 7.5 parts Sensitizing dye (Note 3) 1 part The above mixture was dissolved in diethylene glycol dimethyl ether to give a positive photosensitive composition (P-
2) was obtained. (Note 2) Photoacid generating compound (c-2): a compound represented by the following formula.
【００６３】[0063]
【化１０】 （注３）増感色素：下記式で表わされる化合物である。[Chemical 10] (Note 3) Sensitizing dye: A compound represented by the following formula.
【００６４】[0064]
【化１１】 [Chemical 11]
【００６５】着色部形成用電着塗料の製造製造例７ モノマー組成がスチレン／メチルメタクリレート／ｎ−
ブチルアクリレート／ｎ−ブトキシメチルアクリルアミ
ド／２−ヒドロキシエチルアクリレート／アクリル酸＝
１０／３４／２８．５／１０／１２／５．５（重量比）
である重量平均分子量１５，０００のアクリル樹脂がイ
ソプロピルアルコール／ｎ−ブチルアルコール／エチレ
ングリコールモノブチルエーテル／プロピレングリコー
ルモノメチルエーテル＝２０／２５／１５／４０（重量
比）の混合溶剤中に溶解してなる固形分５１％の樹脂溶
液１００部にプロピレングリコールモノメチルエーテル
１０部及びトリエチルアミン２．７部（中和当量０．６
９に相当する量）を混合した。この混合液を、撹拌して
いる脱イオン水中に徐々に加えて固形分８．４％のアニ
オン性電着樹脂組成物を得た。この電着樹脂組成物９８
４部に対して青色顔料フタロシアニンブルー１６部を配
合し、ペイントシェーカーで顔料分散を行ない、青色の
アニオン電着浴液を得た。Production of Electrodeposition Paint for Forming Colored Area Production Example 7 Monomer composition is styrene / methyl methacrylate / n-
Butyl acrylate / n-butoxymethyl acrylamide / 2-hydroxyethyl acrylate / acrylic acid =
10/34 / 28.5 / 10/12 / 5.5 (weight ratio)
Acrylic resin having a weight average molecular weight of 15,000 is dissolved in a mixed solvent of isopropyl alcohol / n-butyl alcohol / ethylene glycol monobutyl ether / propylene glycol monomethyl ether = 20/25/15/40 (weight ratio). To 100 parts of a resin solution having a solid content of 51%, 10 parts of propylene glycol monomethyl ether and 2.7 parts of triethylamine (neutralization equivalent 0.6
(Corresponding to 9). This mixed solution was gradually added to stirring deionized water to obtain an anionic electrodeposition resin composition having a solid content of 8.4%. This electrodeposition resin composition 98
16 parts of a blue pigment phthalocyanine blue was mixed with 4 parts of the mixture, and the pigment was dispersed with a paint shaker to obtain a blue anion electrodeposition bath solution.
【００６６】製造例８〜１０ 製造例７において、電着樹脂組成物と顔料との配合を下
記表１に示すとおりとする以外は製造例７と同様に行な
い、赤色、緑色、黒色である各色のアニオン電着浴液を
得た。表１中における配合量は重量部表示とした。Production Examples 8 to 10 Production Example 7 was repeated in the same manner as in Production Example 7 except that the composition of the electrodeposition resin composition and the pigment were as shown in Table 1 below. Each color was red, green or black. To obtain an anion electrodeposition bath solution. The blending amounts in Table 1 are shown in parts by weight.
【００６７】[0067]
【表１】 [Table 1]
【００６８】実施例１ ガラス基板１上に、透明導電層２であるＩＴＯ（酸化イ
ンジウム錫）化合物を形成した基板〔図１（Ａ）〕の透
明導電層２上に、製造例５で得たポジ型感光性組成物
（Ｐ−１）をスピンナーにて塗布し、９０℃で１０分間
加熱乾燥して膜厚約２ミクロンの架橋したポジ型感光性
被膜層３を形成した〔図１（Ｂ）〕。ついでポジ型感光
性被膜層３上に所定のパターンを有するマスク４を密着
させ〔図１（Ｃ）〕、マスク４を介して超高圧水銀ラン
プにて露光量２０mj/cm2となるように露光し、更に１０
０℃で３分間加熱した後、濃度０．７５％のテトラメチ
ルアンモニウムヒドロオキサイド水溶液であるアルカリ
現像液で現像すると露光部は塩を形成して溶出し、透明
導電層２の表面を露出させた〔図１（Ｄ）〕。Example 1 Obtained in Production Example 5 on the transparent conductive layer 2 of the substrate [FIG. 1 (A)] in which the ITO (indium tin oxide) compound which is the transparent conductive layer 2 was formed on the glass substrate 1. The positive photosensitive composition (P-1) was applied with a spinner and dried by heating at 90 ° C. for 10 minutes to form a crosslinked positive photosensitive coating layer 3 having a film thickness of about 2 μm [FIG. 1 (B )]. Then, a mask 4 having a predetermined pattern is brought into close contact with the positive type photosensitive coating layer 3 [FIG. 1 (C)] and exposed through a mask 4 with an ultra-high pressure mercury lamp to an exposure amount of 20 mj / cm 2. And 10 more
After heating at 0 ° C. for 3 minutes and developing with an alkaline developer which is an aqueous solution of tetramethylammonium hydroxide having a concentration of 0.75%, the exposed portion forms a salt and is eluted to expose the surface of the transparent conductive layer 2. [FIG. 1 (D)].
【００６９】この露出箇所を有する基板を、前記製造例
７で得た青色のアニオン電着浴液中に浸漬し、透明導電
層２を陽極として５ボルトの直流電圧を３０秒間印加し
た後、基板を引上げ十分に水洗した。感光性被膜層のあ
る箇所には電着膜は形成されず、透明導電層が露出した
箇所には水洗で洗い流されない電着膜が形成された。水
洗後、８０℃で１０分間加熱乾燥して、透明導電層が露
出していた箇所に透明な青色の高分子膜である第１着色
部５を形成した〔図１（Ｅ）〕。The substrate having this exposed portion was dipped in the blue anion electrodeposition bath solution obtained in Production Example 7, and a DC voltage of 5 V was applied for 30 seconds using the transparent conductive layer 2 as an anode. Was thoroughly washed with water. No electrodeposition film was formed at the location where the photosensitive coating layer was present, and an electrodeposition film that was not washed away with water was formed at the location where the transparent conductive layer was exposed. After washing with water, it was heated and dried at 80 ° C. for 10 minutes to form the first colored portion 5 which was a transparent blue polymer film on the exposed portion of the transparent conductive layer [FIG. 1 (E)].
【００７０】ついでこの基板上にマスク４のパターンを
ずらしたマスクを密着させ、マスクを介して上記と同様
に超高圧水銀ランプで露光し、更に１００℃で３分間加
熱した後、上記と同様のアルカリ現像液で現像して透明
導電層２の表面を露出させた〔図１（Ｇ）〕。この基板
を前記製造例８で得た赤色のアニオン電着浴液中に浸漬
し、前記と同様に通電、水洗、加熱乾燥を行うことによ
り透明導電層が露出していた箇所に透明な赤色の高分子
膜である第２着色部６を形成した〔図１（Ｈ）〕。Then, a mask with a shifted pattern of the mask 4 was brought into close contact with this substrate, exposed through the mask with an ultra-high pressure mercury lamp in the same manner as described above, and further heated at 100 ° C. for 3 minutes, and then, in the same manner as described above. The surface of the transparent conductive layer 2 was exposed by developing with an alkaline developer [FIG. 1 (G)]. This substrate was dipped in the red anion electrodeposition bath solution obtained in Production Example 8 above, and electricity, washing with water and drying by heating were carried out in the same manner as described above to obtain a transparent red layer at the location where the transparent conductive layer was exposed. The second colored portion 6 which is a polymer film was formed [FIG. 1 (H)].
【００７１】さらにこの基板上にマスク４のパターンを
ずらしたフォトマスクを密着させ、マスクを介して上記
と同様に超高圧水銀ランプで露光し、更に１００℃で３
分間加熱した後、上記と同様のアルカリ現像液で現像し
て透明導電層２の表面を露出させた〔図１（Ｊ）〕。こ
の基板を前記製造例９で得た緑色のアニオン電着浴液中
に浸漬し、前記と同様に通電、水洗、加熱乾燥を行うこ
とにより透明導電層が露出していた箇所に透明な緑色の
高分子膜である第３着色部７を形成した〔図１
（Ｋ）〕。Further, a photomask in which the pattern of the mask 4 is shifted is brought into close contact with this substrate, and exposure is carried out through the mask with an ultra-high pressure mercury lamp in the same manner as described above.
After heating for a minute, the surface of the transparent conductive layer 2 was exposed by developing with the same alkaline developer as described above [FIG. 1 (J)]. This substrate was dipped in the green anion electrodeposition bath solution obtained in Production Example 9 above, followed by conducting electricity, washing with water, and drying by heating in the same manner as described above, so that a transparent green layer was formed on the exposed portion of the transparent conductive layer. A third colored portion 7 which is a polymer film is formed [Fig. 1
(K)].
【００７２】ついで残りの感光性被膜と青、赤、緑の着
色部の形成された基板全面に超高圧水銀ランプにて露光
量２０mj/cm2となるように露光し、更に１００℃で３分
間加熱した後、濃度１．２５％の炭酸ナトリウム水溶液
である除去液で溶出することにより、青、赤、緑の着色
部を残して感光性被膜部のみを溶出させて透明導電層２
の表面を露出させた〔図１（Ｌ）〕後、１４０℃で１０
分間加熱乾燥を行うことによりカラーフィルタを得た。
各着色部における着色膜の膜厚は約２ミクロンであっ
た。得られたカラーフィルタは、パターン精度が高く、
着色不良がなく、信頼性の高いものであった。Then, the entire surface of the substrate on which the remaining photosensitive film and the colored portions of blue, red and green are formed is exposed to an exposure amount of 20 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp, and further exposed at 100 ° C. for 3 minutes. After heating, by elution with a removing solution which is an aqueous solution of sodium carbonate having a concentration of 1.25%, only the photosensitive film portion is eluted while leaving the colored portions of blue, red and green, and the transparent conductive layer 2
After exposing the surface of [Fig. 1 (L)],
A color filter was obtained by heating and drying for minutes.
The thickness of the colored film in each colored portion was about 2 μm. The obtained color filter has high pattern accuracy,
There was no coloring defect and it was highly reliable.
【００７３】実施例２ 実施例１における、青、赤、緑の着色部を残して感光性
被膜部のみを溶出させて透明導電層２の表面を露出させ
た基板〔図１（Ｌ）〕を、前記製造例１０で得た黒色の
アニオン電着浴液中に浸漬し、透明導電層２を陽極とし
て３ボルトの直流電圧を２０秒間印加した後、基板を引
上げ、水洗し、１４０℃で１０分間加熱乾燥を行うこと
により透明導電層が露出していた箇所に別の着色部８
（ブラックマトリックス）を形成し、且つ青、赤、緑の
各着色部も十分に硬化させてカラーフィルタを得た〔図
１（Ｍ）〕。各着色部における着色膜の膜厚は約２ミク
ロンであった。得られたカラーフィルタは、パターン精
度が高く、着色不良がなく、信頼性の高いものであっ
た。Example 2 A substrate [FIG. 1 (L)] in which the surface of the transparent conductive layer 2 was exposed by eluting only the photosensitive film portion while leaving the colored portions of blue, red and green in Example 1 After immersing in the black anion electrodeposition bath solution obtained in Preparation Example 10 and applying a DC voltage of 3 V for 20 seconds with the transparent conductive layer 2 as an anode, the substrate is pulled up, washed with water, and heated at 140 ° C. for 10 seconds. Another colored portion 8 is formed on the exposed portion of the transparent conductive layer by heating and drying for 8 minutes.
(Black matrix) was formed, and each colored portion of blue, red and green was sufficiently cured to obtain a color filter [FIG. 1 (M)]. The thickness of the colored film in each colored portion was about 2 μm. The obtained color filter had high pattern accuracy, no coloring defects, and high reliability.
【００７４】実施例３ 実施例２において、ポジ型感光性組成物（Ｐ−１）のか
わりに製造例６で得たポジ型感光性組成物（Ｐ−２）を
使用し、露光をアルゴンレーザーの波長４８８nmの光で
実施例２と同様のパターンが得られるように直描法にて
露光量５mj/cm2となるように行う以外は実施例２と同様
に行いカラーフィルタを得た。このカラーフィルタの各
着色部における着色膜の膜厚は約２ミクロンであった。
また得られたカラーフィルタは、パターン精度が高く、
着色不良がなく、信頼性の高いものであった。Example 3 In Example 2, the positive photosensitive composition (P-1) obtained in Production Example 6 was used in place of the positive photosensitive composition (P-1), and an argon laser was used for exposure. A color filter was obtained in the same manner as in Example 2 except that the exposure amount was 5 mj / cm 2 by the direct drawing method so that the same pattern as in Example 2 could be obtained with the light having the wavelength of 488 nm. The thickness of the colored film in each colored portion of this color filter was about 2 microns.
Moreover, the obtained color filter has high pattern accuracy,
There was no coloring defect and it was highly reliable.
【００７５】実施例４ 実施例１における、青、赤、緑の着色部を残して感光性
被膜部のみを溶出させて透明導電層２の表面を露出させ
た基板〔図１（Ｌ）〕に、市販の黒色ネガ型レジストを
スピンコート法を用いて、基板１の着色部が形成された
面に塗布し乾燥させた。ついで基板１のガラス面側から
高圧水銀ランプを用いて露光し、黒色レジスト用現像液
を用いて現像した後、１４０℃で１０分間加熱乾燥を行
った。これによって青、赤、緑の着色部の隙間に別の着
色部（ブラックマトリックス）が形成されたカラーフィ
ルタ〔図１（Ｍ）〕が得られた。このカラーフィルタの
各着色部における着色膜の膜厚は約２ミクロンであっ
た。また得られたカラーフィルタはパターン精度が高
く、着色不良がなく、信頼性の高いものであった。Example 4 A substrate (FIG. 1 (L)) in which the surface of the transparent conductive layer 2 was exposed by eluting only the photosensitive film portion while leaving the blue, red and green colored portions in Example 1 A commercially available black negative resist was applied to the surface of the substrate 1 on which the colored portion was formed by a spin coating method and dried. Then, the glass surface side of the substrate 1 was exposed using a high-pressure mercury lamp, developed using a black resist developing solution, and then heat-dried at 140 ° C. for 10 minutes. As a result, a color filter [FIG. 1 (M)] in which another colored portion (black matrix) was formed in the gap between the blue, red and green colored portions was obtained. The thickness of the colored film in each colored portion of this color filter was about 2 microns. Further, the obtained color filter had high pattern accuracy, no coloring defects, and high reliability.
【００７６】実施例５ 実施例１における、青、赤、緑の着色部を残して感光性
被膜部のみを溶出させて透明導電層２の表面を露出させ
た基板〔図１（Ｌ）〕を陰極として、メッキ浴１リット
ル当たり、無水クロム酸４００ｇ、水酸化ナトリウム６
０ｇ、炭酸バリウム７．５ｇ、フッ化ケイ素酸１ｇを含
むクロムメッキ浴中に浸漬し、対極との間に５Ｖの直流
電圧を２０秒間印加して、露出していた透明導電層上に
クロムメッキを形成してカラーフィルタを得た。得られ
たカラーフィルタはパターン精度が高く、着色不良がな
く、信頼性の高いものであった。Example 5 A substrate (FIG. 1 (L)) in which the surface of the transparent conductive layer 2 was exposed by eluting only the photosensitive film portion, leaving the colored portions of blue, red, and green, in Example 1 As a cathode, 400 g of chromic anhydride and 6 parts of sodium hydroxide per liter of plating bath
Immersion in a chrome plating bath containing 0 g, barium carbonate 7.5 g, and fluorosilicic acid 1 g, and applying a DC voltage of 5 V for 20 seconds between the counter electrode and chrome plating on the exposed transparent conductive layer. Was formed to obtain a color filter. The obtained color filter had high pattern accuracy, no coloring defects, and was highly reliable.
【００７７】実施例６ 実施例１における、青、赤、緑の着色部を残して感光性
被膜部のみを溶出させて透明導電層２の表面を露出させ
た基板〔図１（Ｌ）〕を陰極として、濃度３．５％の電
解還元浴中に浸漬し、ステンレス板を陽極として、両極
間に２５Ｖの直流電圧を５秒間印加して、露出していた
透明導電層を電解還元することによって黒色化しカラー
フィルタを得た。得られたカラーフィルタはパターン精
度が高く、着色不良がなく、信頼性の高いものであっ
た。Example 6 The substrate [Example 1 (L)] in Example 1 in which the surface of the transparent conductive layer 2 was exposed by eluting only the photosensitive film portion while leaving the blue, red and green colored portions As a cathode, by immersing it in an electrolytic reduction bath having a concentration of 3.5%, by using a stainless steel plate as an anode and applying a DC voltage of 25 V for 5 seconds between both electrodes, the exposed transparent conductive layer is electrolytically reduced. It was blackened to obtain a color filter. The obtained color filter had high pattern accuracy, no coloring defects, and was highly reliable.
【図１】本発明の製造方法の一例を示す工程図であり、
（Ａ）〜（Ｍ）は断面から見た図である。FIG. 1 is a process chart showing an example of a manufacturing method of the present invention,
(A)-(M) is the figure seen from the cross section.
１ ガラス基板 ２ 透明導電層 ３ 感光性被膜層 ４ フォトマスク ５ 第１着色部 ６ 第２着色部 ７ 第３着色部 ８ 別の着色部 1 Glass Substrate 2 Transparent Conductive Layer 3 Photosensitive Film Layer 4 Photomask 5 First Colored Part 6 Second Colored Part 7 Third Colored Part 8 Another Colored Part
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 則松 力 神奈川県平塚市東八幡４丁目17番１号 関 西ペイント株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Riki Norimatsu 4-17-1, Higashi-Hachiman, Hiratsuka-shi, Kanagawa Kansai Paint Co., Ltd.
Claims (7)
る工程、 〔２〕（ａ）ヒドロキシフェニル基を有する重合体、
（ｂ）一分子中に２個以上のビニルエーテル基を含有す
る化合物、及び（ｃ）活性エネルギー線照射により酸を
発生する化合物、を必須成分として含有するポジ型感光
性組成物を該透明導電層上に塗装し、加熱してポジ型感
光性被膜層を形成する工程、 〔３〕該感光性被膜層を所望の形状に露光し、必要に応
じて加熱し、次いで現像することによって、透明導電層
の一部を露出する工程、 〔４〕露出した透明導電層上に電着により所望の色の着
色部を形成する工程、及び 〔５〕上記〔３〕及び〔４〕の工程を必要回数繰り返す
工程 を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。1. A step of forming a transparent conductive layer on a transparent substrate, [2] (a) a polymer having a hydroxyphenyl group,
The positive-type photosensitive composition containing (b) a compound containing two or more vinyl ether groups in one molecule and (c) a compound that generates an acid upon irradiation with active energy rays as essential components is the transparent conductive layer. A step of coating on the above and heating to form a positive type photosensitive coating layer, [3] exposing the photosensitive coating layer to a desired shape, heating if necessary, and then developing to obtain a transparent conductive film. A step of exposing a part of the layer, [4] a step of forming a colored portion of a desired color on the exposed transparent conductive layer by electrodeposition, and [5] the above steps [3] and [4] A method of manufacturing a color filter, comprising: repeating steps.
り１．０〜１０当量の範囲のヒドロキシフェニル基を含
有するものである請求項１記載のカラーフィルタの製造
方法。2. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the polymer (a) contains a hydroxyphenyl group in the range of 1.0 to 10 equivalents per 1 kg of the polymer (a).
る感光性被膜層を除去し、導電層を露出させる工程を有
する請求項１記載のカラーフィルタの製造方法。3. The method for producing a color filter according to claim 1, further comprising the step of [6] removing the remaining photosensitive coating layer and exposing the conductive layer after the steps [1] to [5].
電着により所望の着色部を形成する工程を有する請求項
３記載のカラーフィルタの製造方法。4. The method for producing a color filter according to claim 3, further comprising a step of forming a desired colored portion on the exposed conductive layer by electrodeposition after the step [6].
塗布法によって所望の着色部を形成する工程を有する請
求項３記載のカラーフィルタの製造方法。5. The method for producing a color filter according to claim 3, further comprising a step of forming a desired colored portion on the exposed conductive layer after the step [6] by a coating method.
金属層をメッキ法によって形成する工程を有する請求項
３記載のカラーフィルタの製造方法。6. The method for manufacturing a color filter according to claim 3, further comprising a step of forming a metal layer on the exposed conductive layer after the step [6] by a plating method.
化又は還元によって着色する工程を有する請求項３記載
のカラーフィルタの製造方法。7. The method for producing a color filter according to claim 3, further comprising a step of coloring the exposed conductive layer by oxidation or reduction after the step [6].
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25952294A JPH0894829A (en) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | Production of color filter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25952294A JPH0894829A (en) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | Production of color filter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0894829A true JPH0894829A (en) | 1996-04-12 |
Family
ID=17335274
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25952294A Pending JPH0894829A (en) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | Production of color filter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0894829A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6433118B1 (en) | 1998-10-15 | 2002-08-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Copolymer, a manufacturing process therefor and a solution containing thereof |
| JP2003050460A (en) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Chemical amplification type positive working resist composition for liquid crystal device |
-
1994
- 1994-09-28 JP JP25952294A patent/JPH0894829A/en active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6433118B1 (en) | 1998-10-15 | 2002-08-13 | Mitsui Chemicals, Inc. | Copolymer, a manufacturing process therefor and a solution containing thereof |
| JP2003050460A (en) * | 2001-08-06 | 2003-02-21 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | Chemical amplification type positive working resist composition for liquid crystal device |
| JP4554122B2 (en) * | 2001-08-06 | 2010-09-29 | 東京応化工業株式会社 | Resist composition for chemically amplified positive type liquid crystal device |
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