JPH0880517A - タイル裏足形成用の裏型 - Google Patents
タイル裏足形成用の裏型Info
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- JPH0880517A JPH0880517A JP25598294A JP25598294A JPH0880517A JP H0880517 A JPH0880517 A JP H0880517A JP 25598294 A JP25598294 A JP 25598294A JP 25598294 A JP25598294 A JP 25598294A JP H0880517 A JPH0880517 A JP H0880517A
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- Japan
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- tile
- rubber
- mold
- uniform
- forming
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B3/00—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor
- B28B3/003—Pressing by means acting upon the material via flexible mould wall parts, e.g. by means of inflatable cores, isostatic presses
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds, Cores, Or Mandrels (AREA)
- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】坏土の充填量が不均一であっても充填密度を均
一化でき、且つタイル厚みの変形もないタイルを製造す
ることのできる裏型を提供する。 【構成】タイル裏面に裏足を形成するための裏型におい
て、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバー
を配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形
成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応
するラバーを支承する同一高さの支持脚を配設する。
一化でき、且つタイル厚みの変形もないタイルを製造す
ることのできる裏型を提供する。 【構成】タイル裏面に裏足を形成するための裏型におい
て、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバー
を配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形
成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応
するラバーを支承する同一高さの支持脚を配設する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、タイル裏面に裏足を形
成するための凹凸面を備えたラバーを有する裏型に関す
るものである。
成するための凹凸面を備えたラバーを有する裏型に関す
るものである。
【０００２】
【従来の技術】タイルの成形は、タイル裏面を形成する
裏型と枠型とで形成される成形空間へ粉枡等によって坏
土を充填し、タイル表面を形成する表型を下降させて前
記坏土を加圧することでタイル成形体を得ている。そし
て、加圧されたタイル成形体を取り出し、必要に応じて
素焼きをし、その後、施釉、焼成等の工程を経て製品と
してのタイルを製造している。
裏型と枠型とで形成される成形空間へ粉枡等によって坏
土を充填し、タイル表面を形成する表型を下降させて前
記坏土を加圧することでタイル成形体を得ている。そし
て、加圧されたタイル成形体を取り出し、必要に応じて
素焼きをし、その後、施釉、焼成等の工程を経て製品と
してのタイルを製造している。
【０００３】而して、タイルは陶磁器原料を焼成したも
のであるため、焼成に伴う膨張収縮が大きく、寸法精度
の管理は極めて難しい。寸法精度に最も影響を与えるの
は、原料の充填密度である。また原料の充填密度の不均
一は、原料の不均一な充填量によって引き起こされる。
のであるため、焼成に伴う膨張収縮が大きく、寸法精度
の管理は極めて難しい。寸法精度に最も影響を与えるの
は、原料の充填密度である。また原料の充填密度の不均
一は、原料の不均一な充填量によって引き起こされる。
【０００４】例えば、二層構造のタイルを製造する場合
や表面が波模様の凹凸を有するタイルを製造する場合等
は、粉の流動性や表面の部分的な凹凸差が原因で坏土の
充填量が不均一になり易い。このような坏土の不均一な
充填量の下で加圧成形した後のタイル成形体は充填密度
が不均一となり、焼成時の熱膨張収縮率が充填密度によ
って異なることから、製品としてのタイルの寸法精度が
悪くなるという欠点があった。
や表面が波模様の凹凸を有するタイルを製造する場合等
は、粉の流動性や表面の部分的な凹凸差が原因で坏土の
充填量が不均一になり易い。このような坏土の不均一な
充填量の下で加圧成形した後のタイル成形体は充填密度
が不均一となり、焼成時の熱膨張収縮率が充填密度によ
って異なることから、製品としてのタイルの寸法精度が
悪くなるという欠点があった。
【０００５】このような坏土の不均一な充填量に起因す
るタイルの寸法精度の悪影響を解決する手段として、図
４に示すような特開昭６２−２０１２０２号公報で開示
された先願技術がある。この先願技術は、タイルの裏面
を形成するための裏型１の上面側に、裏足形成用の凹凸
２ａ及び２ｂを有するラバー３を配設している。このラ
バー３は、その裏面側に密閉された静水圧室４を有して
いる。同図において、５は枠型、６は表型である。
るタイルの寸法精度の悪影響を解決する手段として、図
４に示すような特開昭６２−２０１２０２号公報で開示
された先願技術がある。この先願技術は、タイルの裏面
を形成するための裏型１の上面側に、裏足形成用の凹凸
２ａ及び２ｂを有するラバー３を配設している。このラ
バー３は、その裏面側に密閉された静水圧室４を有して
いる。同図において、５は枠型、６は表型である。
【０００６】この先願技術では、例えば、裏型１と枠型
５とにより形成された成形空間７へ充填した坏土８の充
填量が、図４に示すように不均一である場合に、表型６
を下降させて坏土８を加圧成形すると、前記静水圧室４
の流体９に均一な静水圧が発生し、坏土８の全体に均一
な加圧力が作用するようになる。そのため、このように
して得られた図５に示すタイル成形体１０の充填密度は
全体に亘って均一となり、タイルの熱膨張収縮による縦
横の大きさの寸法精度はよくなる。
５とにより形成された成形空間７へ充填した坏土８の充
填量が、図４に示すように不均一である場合に、表型６
を下降させて坏土８を加圧成形すると、前記静水圧室４
の流体９に均一な静水圧が発生し、坏土８の全体に均一
な加圧力が作用するようになる。そのため、このように
して得られた図５に示すタイル成形体１０の充填密度は
全体に亘って均一となり、タイルの熱膨張収縮による縦
横の大きさの寸法精度はよくなる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】このように、前記先願
の技術では、不均一な量の坏土充填があった場合でも、
静水圧によってタイルの全体に亘って均一な充填密度の
タイル成形体を得ることができる。然しながら、ラバー
３の背面側が静水圧室４によって完全にフリーであるた
め、タイルの厚み方向ではその寸法が不均一となり、裏
足１１の高さが変化してタイル全体としてはタイル裏面
が斜めに変形した形態を有するようになるという問題が
あった。。つまり、前記先願技術では、坏土８の不均一
な充填量をタイルの厚みを変化させて厚み寸法を犠牲に
することで吸収し、充填密度を均一にしている。
の技術では、不均一な量の坏土充填があった場合でも、
静水圧によってタイルの全体に亘って均一な充填密度の
タイル成形体を得ることができる。然しながら、ラバー
３の背面側が静水圧室４によって完全にフリーであるた
め、タイルの厚み方向ではその寸法が不均一となり、裏
足１１の高さが変化してタイル全体としてはタイル裏面
が斜めに変形した形態を有するようになるという問題が
あった。。つまり、前記先願技術では、坏土８の不均一
な充填量をタイルの厚みを変化させて厚み寸法を犠牲に
することで吸収し、充填密度を均一にしている。
【０００８】従って、図５に示す厚みの異なるタイルの
貼着作業は、均一厚みに塗布されたモルタルへ変形した
タイル裏面を圧着して行われるので、同一タイルにおい
て、モルタルが不足する部分と余る部分とが発生し、モ
ルタルの補充等をしながら行わなければならないので、
非常に難しい作業となる欠点があった。また変形した部
分によってタイルの埋め込み深さが異なったり、空気溜
まりを形成すること等があり、タイルの接着強度にもバ
ラツキが発生するという欠点があった。
貼着作業は、均一厚みに塗布されたモルタルへ変形した
タイル裏面を圧着して行われるので、同一タイルにおい
て、モルタルが不足する部分と余る部分とが発生し、モ
ルタルの補充等をしながら行わなければならないので、
非常に難しい作業となる欠点があった。また変形した部
分によってタイルの埋め込み深さが異なったり、空気溜
まりを形成すること等があり、タイルの接着強度にもバ
ラツキが発生するという欠点があった。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明は従来の前記課題
に鑑みてこれを改良除去したものであって、坏土の充填
量が不均一であっても充填密度を均一化でき、且つタイ
ル厚みの変形もないタイルを製造することのできる裏型
を提供せんとするものである。
に鑑みてこれを改良除去したものであって、坏土の充填
量が不均一であっても充填密度を均一化でき、且つタイ
ル厚みの変形もないタイルを製造することのできる裏型
を提供せんとするものである。
【００１０】而して、前記課題を解決するために本発明
が採用した手段は、タイル裏面に裏足を形成するための
裏型において、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備
えたラバーを配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静
水圧室を形成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する
部分に対応するラバーを支承する同一高さの支持脚を配
設したことを特徴とするタイル裏足成形用の裏型であ
る。
が採用した手段は、タイル裏面に裏足を形成するための
裏型において、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備
えたラバーを配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静
水圧室を形成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する
部分に対応するラバーを支承する同一高さの支持脚を配
設したことを特徴とするタイル裏足成形用の裏型であ
る。
【００１１】
【作用】本発明にあっては、ラバーの裏面側に設けられ
た静水圧室に、裏足を形成する部分のラバーを支承する
同一高さの支持脚を配設している。これにより、前記支
持脚の部分、つまり、タイルの裏足の部分のタイル表面
からの寸法が均一化される。またその余の裏足間の凹部
については、静水圧室の流体に作用する均一な静水圧に
よって不均一な坏土の充填量が均一化され、充填密度の
均一化が得られる。なお、充填量の不均一は、タイル裏
足間凹部の深さの不均一となるが、これはタイルの本質
的な機能に影響を与えるものではない。それ故、タイル
の寸法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もな
く、接着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製
造することが可能である。
た静水圧室に、裏足を形成する部分のラバーを支承する
同一高さの支持脚を配設している。これにより、前記支
持脚の部分、つまり、タイルの裏足の部分のタイル表面
からの寸法が均一化される。またその余の裏足間の凹部
については、静水圧室の流体に作用する均一な静水圧に
よって不均一な坏土の充填量が均一化され、充填密度の
均一化が得られる。なお、充填量の不均一は、タイル裏
足間凹部の深さの不均一となるが、これはタイルの本質
的な機能に影響を与えるものではない。それ故、タイル
の寸法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もな
く、接着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製
造することが可能である。
【００１２】
【実施例】以下に、本発明の構成を図面に示す実施例に
基づいて説明すると次の通りである。なお、従来の場合
と同一符号は同一部材である。図１乃至図３は本発明の
一実施例に係るものであり、図１は成形型１２の全体を
示す縦断面図、図２は支持脚１３を示す部分断面斜視
図、図３はタイル成形体２５の縦断面図である。
基づいて説明すると次の通りである。なお、従来の場合
と同一符号は同一部材である。図１乃至図３は本発明の
一実施例に係るものであり、図１は成形型１２の全体を
示す縦断面図、図２は支持脚１３を示す部分断面斜視
図、図３はタイル成形体２５の縦断面図である。
【００１３】同図に示す如く、この実施例にあっては、
裏型１４の上面側に、凹部１５が穿設され、該凹部１５
の上面側にラバー１６が配設されている。ラバー１６
は、凹部１５の側面側にボルト１７で固定されたブロッ
ク１８を介して水密に取り付けられている。これによ
り、ラバー１６の裏面側に流体１９を充填してなる静水
圧室２０が形成される。尚、前記ラバー１６の上面側に
は、図３に示すタイル裏足２１を形成するための凹部２
２と、裏足凹部２３を形成するための凸部２４とが形成
されている。
裏型１４の上面側に、凹部１５が穿設され、該凹部１５
の上面側にラバー１６が配設されている。ラバー１６
は、凹部１５の側面側にボルト１７で固定されたブロッ
ク１８を介して水密に取り付けられている。これによ
り、ラバー１６の裏面側に流体１９を充填してなる静水
圧室２０が形成される。尚、前記ラバー１６の上面側に
は、図３に示すタイル裏足２１を形成するための凹部２
２と、裏足凹部２３を形成するための凸部２４とが形成
されている。
【００１４】また静水圧室２０におけるラバー１６の裏
足形成用の凹部２２に対応する部分には、同一高さの支
持脚１３が配設され、図示しないボルト等によって裏型
１４に固定されている。一方、裏型１４の凹部１５の底
面には、前記支持脚１３と直交する方向に、少なくとも
一本の溝２６が穿設されている。これにより、静水圧２
０内の流体１９は、支持脚１３によって区画された各領
域を自由に且つ円滑に流動することが可能である。
足形成用の凹部２２に対応する部分には、同一高さの支
持脚１３が配設され、図示しないボルト等によって裏型
１４に固定されている。一方、裏型１４の凹部１５の底
面には、前記支持脚１３と直交する方向に、少なくとも
一本の溝２６が穿設されている。これにより、静水圧２
０内の流体１９は、支持脚１３によって区画された各領
域を自由に且つ円滑に流動することが可能である。
【００１５】また静水圧室２０は、溝２６、連通路２７
及びチエックバルブ２８等を介して圧力流体源へ接続さ
れている。
及びチエックバルブ２８等を介して圧力流体源へ接続さ
れている。
【００１６】次に、上述の如く構成された成形型１２の
動作態様を説明する。例えば、図１に示すように、坏土
８の充填量が不均一であったと仮定する。このような状
態において、表型６を下降させて坏土８を加圧成形する
と、支持脚１３によって支持されたラバー１６の部分
は、その高さが一定に維持される。そのため、該部分に
よって形成されるタイル裏足２１は、タイル表面から一
定の寸法を有し、タイル裏面の全体が均一な厚みの平滑
面となる。
動作態様を説明する。例えば、図１に示すように、坏土
８の充填量が不均一であったと仮定する。このような状
態において、表型６を下降させて坏土８を加圧成形する
と、支持脚１３によって支持されたラバー１６の部分
は、その高さが一定に維持される。そのため、該部分に
よって形成されるタイル裏足２１は、タイル表面から一
定の寸法を有し、タイル裏面の全体が均一な厚みの平滑
面となる。
【００１７】一方、支持脚１３によって支持されないラ
バー１６の部分には、静水圧室２０の流体１９によって
均一な静水圧が作用する。そのため、沢山充填された坏
土の部分では、裏足凹部２３の深さ寸法は小さくなり、
少なく充填された坏土の部分では裏足凹部２４の深さ寸
法は大きくなる。これによって、加圧されたタイル成形
体２５は、その全体で充填密度の均一化が図れる。この
場合に、静水圧室２０の溝２６は、流体１９の流動を円
滑になし、充填密度の均一化が容易に得られるように作
用する。
バー１６の部分には、静水圧室２０の流体１９によって
均一な静水圧が作用する。そのため、沢山充填された坏
土の部分では、裏足凹部２３の深さ寸法は小さくなり、
少なく充填された坏土の部分では裏足凹部２４の深さ寸
法は大きくなる。これによって、加圧されたタイル成形
体２５は、その全体で充填密度の均一化が図れる。この
場合に、静水圧室２０の溝２６は、流体１９の流動を円
滑になし、充填密度の均一化が容易に得られるように作
用する。
【００１８】このようにして製造されたタイル成形体２
５であれば、タイルの裏足部分の厚みが一定で且つ平滑
であり、タイルの全体に亘って充填密度が均一化される
ので、寸法精度に優れ且つ接着作業が容易で接着強度も
均一なものが得られる。
５であれば、タイルの裏足部分の厚みが一定で且つ平滑
であり、タイルの全体に亘って充填密度が均一化される
ので、寸法精度に優れ且つ接着作業が容易で接着強度も
均一なものが得られる。
【００１９】ところで、本発明は上述した実施例に限定
されるものではなく、例えば、ラバー１６を裏型１４へ
固定する方法や静水圧室２０に静水圧を発生させる手段
等は適宜の変更が可能である。
されるものではなく、例えば、ラバー１６を裏型１４へ
固定する方法や静水圧室２０に静水圧を発生させる手段
等は適宜の変更が可能である。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように本発明にあっては、
裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバーを配
設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形成
し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応す
るラバーを支承する同一高さの支持脚を配設したから、
この支持脚の部分によって成形されるタイル裏足は、タ
イル表面からの寸法が均一化され、タイル裏面の全体が
平滑面となる。
裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバーを配
設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形成
し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応す
るラバーを支承する同一高さの支持脚を配設したから、
この支持脚の部分によって成形されるタイル裏足は、タ
イル表面からの寸法が均一化され、タイル裏面の全体が
平滑面となる。
【００２１】またその余の裏足間の凹部については、静
水圧室の流体に作用する均一な静水圧によって充填密度
は均一化され、凹部の深さは坏土の充填量によって不均
一となる。なお、この凹部の深さのバラツキは、接着強
度や寸法精度等のタイルの本質的な機能に影響を与える
ものではない。それ故、本発明にあっては、タイルの寸
法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もなく、接
着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製造する
ことが可能である。
水圧室の流体に作用する均一な静水圧によって充填密度
は均一化され、凹部の深さは坏土の充填量によって不均
一となる。なお、この凹部の深さのバラツキは、接着強
度や寸法精度等のタイルの本質的な機能に影響を与える
ものではない。それ故、本発明にあっては、タイルの寸
法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もなく、接
着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製造する
ことが可能である。
【図１】本発明の一実施例に係る成形型の全体を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図２】本発明の一実施例に係る裏型の支持脚を示す部
分拡大斜視図である。
分拡大斜視図である。
【図３】本発明の一実施例に係るタイル成形体を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図４】従来の先願技術に係る成形型の全体を示す縦断
面図である。
面図である。
【図５】従来技術によって成形されたタイル成形体を示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
５…枠型 ６…表型 ７…成形空間 ８…坏土 １２…成形型 １３…支持脚 １４…裏型 １５…静水圧形成
用凹部 １６…ラバー １９…流体 ２０…静水圧室 ２１…タイル裏足 ２２…タイル裏足形成用凹部 ２２…裏足凹部 ２３…裏足凹部形成用の凸部 ２５…タイル成形
体
用凹部 １６…ラバー １９…流体 ２０…静水圧室 ２１…タイル裏足 ２２…タイル裏足形成用凹部 ２２…裏足凹部 ２３…裏足凹部形成用の凸部 ２５…タイル成形
体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 茂俊 愛知県常滑市奥条６−110 株式会社ゴト ーピニオン内 (72)発明者 後藤 彰一郎 愛知県常滑市奥条６−110 株式会社ゴト ーピニオン内
Claims (1)
- 【請求項１】タイル裏面に裏足を形成するための裏型に
おいて、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラ
バーを配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室
を形成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に
対応するラバーを支承する同一高さの支持脚を配設した
ことを特徴とするタイル裏足成形用の裏型。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25598294A JPH0880517A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | タイル裏足形成用の裏型 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25598294A JPH0880517A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | タイル裏足形成用の裏型 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0880517A true JPH0880517A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=17286270
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25598294A Pending JPH0880517A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | タイル裏足形成用の裏型 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0880517A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ITRE20130018A1 (it) * | 2013-03-13 | 2014-09-14 | Ferrari Carlo Societa Per Azioni Off | Stampo isostatico perfezionato |
| WO2020135120A1 (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | 陈锐 | 一种瓷砖模具及扩展瓷砖模具支座和该模具压制成的瓷砖 |
-
1994
- 1994-09-12 JP JP25598294A patent/JPH0880517A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| ITRE20130018A1 (it) * | 2013-03-13 | 2014-09-14 | Ferrari Carlo Societa Per Azioni Off | Stampo isostatico perfezionato |
| WO2020135120A1 (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | 陈锐 | 一种瓷砖模具及扩展瓷砖模具支座和该模具压制成的瓷砖 |
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