JPH0880517A - タイル裏足形成用の裏型 - Google Patents
タイル裏足形成用の裏型Info
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- JPH0880517A JPH0880517A JP25598294A JP25598294A JPH0880517A JP H0880517 A JPH0880517 A JP H0880517A JP 25598294 A JP25598294 A JP 25598294A JP 25598294 A JP25598294 A JP 25598294A JP H0880517 A JPH0880517 A JP H0880517A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- tile
- rubber
- mold
- uniform
- forming
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- Pending
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28B—SHAPING CLAY OR OTHER CERAMIC COMPOSITIONS; SHAPING SLAG; SHAPING MIXTURES CONTAINING CEMENTITIOUS MATERIAL, e.g. PLASTER
- B28B3/00—Producing shaped articles from the material by using presses; Presses specially adapted therefor
- B28B3/003—Pressing by means acting upon the material via flexible mould wall parts, e.g. by means of inflatable cores, isostatic presses
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Moulds, Cores, Or Mandrels (AREA)
- Press-Shaping Or Shaping Using Conveyers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】坏土の充填量が不均一であっても充填密度を均
一化でき、且つタイル厚みの変形もないタイルを製造す
ることのできる裏型を提供する。 【構成】タイル裏面に裏足を形成するための裏型におい
て、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバー
を配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形
成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応
するラバーを支承する同一高さの支持脚を配設する。
一化でき、且つタイル厚みの変形もないタイルを製造す
ることのできる裏型を提供する。 【構成】タイル裏面に裏足を形成するための裏型におい
て、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバー
を配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形
成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応
するラバーを支承する同一高さの支持脚を配設する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、タイル裏面に裏足を形
成するための凹凸面を備えたラバーを有する裏型に関す
るものである。
成するための凹凸面を備えたラバーを有する裏型に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】タイルの成形は、タイル裏面を形成する
裏型と枠型とで形成される成形空間へ粉枡等によって坏
土を充填し、タイル表面を形成する表型を下降させて前
記坏土を加圧することでタイル成形体を得ている。そし
て、加圧されたタイル成形体を取り出し、必要に応じて
素焼きをし、その後、施釉、焼成等の工程を経て製品と
してのタイルを製造している。
裏型と枠型とで形成される成形空間へ粉枡等によって坏
土を充填し、タイル表面を形成する表型を下降させて前
記坏土を加圧することでタイル成形体を得ている。そし
て、加圧されたタイル成形体を取り出し、必要に応じて
素焼きをし、その後、施釉、焼成等の工程を経て製品と
してのタイルを製造している。
【0003】而して、タイルは陶磁器原料を焼成したも
のであるため、焼成に伴う膨張収縮が大きく、寸法精度
の管理は極めて難しい。寸法精度に最も影響を与えるの
は、原料の充填密度である。また原料の充填密度の不均
一は、原料の不均一な充填量によって引き起こされる。
のであるため、焼成に伴う膨張収縮が大きく、寸法精度
の管理は極めて難しい。寸法精度に最も影響を与えるの
は、原料の充填密度である。また原料の充填密度の不均
一は、原料の不均一な充填量によって引き起こされる。
【0004】例えば、二層構造のタイルを製造する場合
や表面が波模様の凹凸を有するタイルを製造する場合等
は、粉の流動性や表面の部分的な凹凸差が原因で坏土の
充填量が不均一になり易い。このような坏土の不均一な
充填量の下で加圧成形した後のタイル成形体は充填密度
が不均一となり、焼成時の熱膨張収縮率が充填密度によ
って異なることから、製品としてのタイルの寸法精度が
悪くなるという欠点があった。
や表面が波模様の凹凸を有するタイルを製造する場合等
は、粉の流動性や表面の部分的な凹凸差が原因で坏土の
充填量が不均一になり易い。このような坏土の不均一な
充填量の下で加圧成形した後のタイル成形体は充填密度
が不均一となり、焼成時の熱膨張収縮率が充填密度によ
って異なることから、製品としてのタイルの寸法精度が
悪くなるという欠点があった。
【0005】このような坏土の不均一な充填量に起因す
るタイルの寸法精度の悪影響を解決する手段として、図
4に示すような特開昭62−201202号公報で開示
された先願技術がある。この先願技術は、タイルの裏面
を形成するための裏型1の上面側に、裏足形成用の凹凸
2a及び2bを有するラバー3を配設している。このラ
バー3は、その裏面側に密閉された静水圧室4を有して
いる。同図において、5は枠型、6は表型である。
るタイルの寸法精度の悪影響を解決する手段として、図
4に示すような特開昭62−201202号公報で開示
された先願技術がある。この先願技術は、タイルの裏面
を形成するための裏型1の上面側に、裏足形成用の凹凸
2a及び2bを有するラバー3を配設している。このラ
バー3は、その裏面側に密閉された静水圧室4を有して
いる。同図において、5は枠型、6は表型である。
【0006】この先願技術では、例えば、裏型1と枠型
5とにより形成された成形空間7へ充填した坏土8の充
填量が、図4に示すように不均一である場合に、表型6
を下降させて坏土8を加圧成形すると、前記静水圧室4
の流体9に均一な静水圧が発生し、坏土8の全体に均一
な加圧力が作用するようになる。そのため、このように
して得られた図5に示すタイル成形体10の充填密度は
全体に亘って均一となり、タイルの熱膨張収縮による縦
横の大きさの寸法精度はよくなる。
5とにより形成された成形空間7へ充填した坏土8の充
填量が、図4に示すように不均一である場合に、表型6
を下降させて坏土8を加圧成形すると、前記静水圧室4
の流体9に均一な静水圧が発生し、坏土8の全体に均一
な加圧力が作用するようになる。そのため、このように
して得られた図5に示すタイル成形体10の充填密度は
全体に亘って均一となり、タイルの熱膨張収縮による縦
横の大きさの寸法精度はよくなる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】このように、前記先願
の技術では、不均一な量の坏土充填があった場合でも、
静水圧によってタイルの全体に亘って均一な充填密度の
タイル成形体を得ることができる。然しながら、ラバー
3の背面側が静水圧室4によって完全にフリーであるた
め、タイルの厚み方向ではその寸法が不均一となり、裏
足11の高さが変化してタイル全体としてはタイル裏面
が斜めに変形した形態を有するようになるという問題が
あった。。つまり、前記先願技術では、坏土8の不均一
な充填量をタイルの厚みを変化させて厚み寸法を犠牲に
することで吸収し、充填密度を均一にしている。
の技術では、不均一な量の坏土充填があった場合でも、
静水圧によってタイルの全体に亘って均一な充填密度の
タイル成形体を得ることができる。然しながら、ラバー
3の背面側が静水圧室4によって完全にフリーであるた
め、タイルの厚み方向ではその寸法が不均一となり、裏
足11の高さが変化してタイル全体としてはタイル裏面
が斜めに変形した形態を有するようになるという問題が
あった。。つまり、前記先願技術では、坏土8の不均一
な充填量をタイルの厚みを変化させて厚み寸法を犠牲に
することで吸収し、充填密度を均一にしている。
【0008】従って、図5に示す厚みの異なるタイルの
貼着作業は、均一厚みに塗布されたモルタルへ変形した
タイル裏面を圧着して行われるので、同一タイルにおい
て、モルタルが不足する部分と余る部分とが発生し、モ
ルタルの補充等をしながら行わなければならないので、
非常に難しい作業となる欠点があった。また変形した部
分によってタイルの埋め込み深さが異なったり、空気溜
まりを形成すること等があり、タイルの接着強度にもバ
ラツキが発生するという欠点があった。
貼着作業は、均一厚みに塗布されたモルタルへ変形した
タイル裏面を圧着して行われるので、同一タイルにおい
て、モルタルが不足する部分と余る部分とが発生し、モ
ルタルの補充等をしながら行わなければならないので、
非常に難しい作業となる欠点があった。また変形した部
分によってタイルの埋め込み深さが異なったり、空気溜
まりを形成すること等があり、タイルの接着強度にもバ
ラツキが発生するという欠点があった。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は従来の前記課題
に鑑みてこれを改良除去したものであって、坏土の充填
量が不均一であっても充填密度を均一化でき、且つタイ
ル厚みの変形もないタイルを製造することのできる裏型
を提供せんとするものである。
に鑑みてこれを改良除去したものであって、坏土の充填
量が不均一であっても充填密度を均一化でき、且つタイ
ル厚みの変形もないタイルを製造することのできる裏型
を提供せんとするものである。
【0010】而して、前記課題を解決するために本発明
が採用した手段は、タイル裏面に裏足を形成するための
裏型において、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備
えたラバーを配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静
水圧室を形成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する
部分に対応するラバーを支承する同一高さの支持脚を配
設したことを特徴とするタイル裏足成形用の裏型であ
る。
が採用した手段は、タイル裏面に裏足を形成するための
裏型において、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備
えたラバーを配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静
水圧室を形成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する
部分に対応するラバーを支承する同一高さの支持脚を配
設したことを特徴とするタイル裏足成形用の裏型であ
る。
【0011】
【作用】本発明にあっては、ラバーの裏面側に設けられ
た静水圧室に、裏足を形成する部分のラバーを支承する
同一高さの支持脚を配設している。これにより、前記支
持脚の部分、つまり、タイルの裏足の部分のタイル表面
からの寸法が均一化される。またその余の裏足間の凹部
については、静水圧室の流体に作用する均一な静水圧に
よって不均一な坏土の充填量が均一化され、充填密度の
均一化が得られる。なお、充填量の不均一は、タイル裏
足間凹部の深さの不均一となるが、これはタイルの本質
的な機能に影響を与えるものではない。それ故、タイル
の寸法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もな
く、接着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製
造することが可能である。
た静水圧室に、裏足を形成する部分のラバーを支承する
同一高さの支持脚を配設している。これにより、前記支
持脚の部分、つまり、タイルの裏足の部分のタイル表面
からの寸法が均一化される。またその余の裏足間の凹部
については、静水圧室の流体に作用する均一な静水圧に
よって不均一な坏土の充填量が均一化され、充填密度の
均一化が得られる。なお、充填量の不均一は、タイル裏
足間凹部の深さの不均一となるが、これはタイルの本質
的な機能に影響を与えるものではない。それ故、タイル
の寸法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もな
く、接着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製
造することが可能である。
【0012】
【実施例】以下に、本発明の構成を図面に示す実施例に
基づいて説明すると次の通りである。なお、従来の場合
と同一符号は同一部材である。図1乃至図3は本発明の
一実施例に係るものであり、図1は成形型12の全体を
示す縦断面図、図2は支持脚13を示す部分断面斜視
図、図3はタイル成形体25の縦断面図である。
基づいて説明すると次の通りである。なお、従来の場合
と同一符号は同一部材である。図1乃至図3は本発明の
一実施例に係るものであり、図1は成形型12の全体を
示す縦断面図、図2は支持脚13を示す部分断面斜視
図、図3はタイル成形体25の縦断面図である。
【0013】同図に示す如く、この実施例にあっては、
裏型14の上面側に、凹部15が穿設され、該凹部15
の上面側にラバー16が配設されている。ラバー16
は、凹部15の側面側にボルト17で固定されたブロッ
ク18を介して水密に取り付けられている。これによ
り、ラバー16の裏面側に流体19を充填してなる静水
圧室20が形成される。尚、前記ラバー16の上面側に
は、図3に示すタイル裏足21を形成するための凹部2
2と、裏足凹部23を形成するための凸部24とが形成
されている。
裏型14の上面側に、凹部15が穿設され、該凹部15
の上面側にラバー16が配設されている。ラバー16
は、凹部15の側面側にボルト17で固定されたブロッ
ク18を介して水密に取り付けられている。これによ
り、ラバー16の裏面側に流体19を充填してなる静水
圧室20が形成される。尚、前記ラバー16の上面側に
は、図3に示すタイル裏足21を形成するための凹部2
2と、裏足凹部23を形成するための凸部24とが形成
されている。
【0014】また静水圧室20におけるラバー16の裏
足形成用の凹部22に対応する部分には、同一高さの支
持脚13が配設され、図示しないボルト等によって裏型
14に固定されている。一方、裏型14の凹部15の底
面には、前記支持脚13と直交する方向に、少なくとも
一本の溝26が穿設されている。これにより、静水圧2
0内の流体19は、支持脚13によって区画された各領
域を自由に且つ円滑に流動することが可能である。
足形成用の凹部22に対応する部分には、同一高さの支
持脚13が配設され、図示しないボルト等によって裏型
14に固定されている。一方、裏型14の凹部15の底
面には、前記支持脚13と直交する方向に、少なくとも
一本の溝26が穿設されている。これにより、静水圧2
0内の流体19は、支持脚13によって区画された各領
域を自由に且つ円滑に流動することが可能である。
【0015】また静水圧室20は、溝26、連通路27
及びチエックバルブ28等を介して圧力流体源へ接続さ
れている。
及びチエックバルブ28等を介して圧力流体源へ接続さ
れている。
【0016】次に、上述の如く構成された成形型12の
動作態様を説明する。例えば、図1に示すように、坏土
8の充填量が不均一であったと仮定する。このような状
態において、表型6を下降させて坏土8を加圧成形する
と、支持脚13によって支持されたラバー16の部分
は、その高さが一定に維持される。そのため、該部分に
よって形成されるタイル裏足21は、タイル表面から一
定の寸法を有し、タイル裏面の全体が均一な厚みの平滑
面となる。
動作態様を説明する。例えば、図1に示すように、坏土
8の充填量が不均一であったと仮定する。このような状
態において、表型6を下降させて坏土8を加圧成形する
と、支持脚13によって支持されたラバー16の部分
は、その高さが一定に維持される。そのため、該部分に
よって形成されるタイル裏足21は、タイル表面から一
定の寸法を有し、タイル裏面の全体が均一な厚みの平滑
面となる。
【0017】一方、支持脚13によって支持されないラ
バー16の部分には、静水圧室20の流体19によって
均一な静水圧が作用する。そのため、沢山充填された坏
土の部分では、裏足凹部23の深さ寸法は小さくなり、
少なく充填された坏土の部分では裏足凹部24の深さ寸
法は大きくなる。これによって、加圧されたタイル成形
体25は、その全体で充填密度の均一化が図れる。この
場合に、静水圧室20の溝26は、流体19の流動を円
滑になし、充填密度の均一化が容易に得られるように作
用する。
バー16の部分には、静水圧室20の流体19によって
均一な静水圧が作用する。そのため、沢山充填された坏
土の部分では、裏足凹部23の深さ寸法は小さくなり、
少なく充填された坏土の部分では裏足凹部24の深さ寸
法は大きくなる。これによって、加圧されたタイル成形
体25は、その全体で充填密度の均一化が図れる。この
場合に、静水圧室20の溝26は、流体19の流動を円
滑になし、充填密度の均一化が容易に得られるように作
用する。
【0018】このようにして製造されたタイル成形体2
5であれば、タイルの裏足部分の厚みが一定で且つ平滑
であり、タイルの全体に亘って充填密度が均一化される
ので、寸法精度に優れ且つ接着作業が容易で接着強度も
均一なものが得られる。
5であれば、タイルの裏足部分の厚みが一定で且つ平滑
であり、タイルの全体に亘って充填密度が均一化される
ので、寸法精度に優れ且つ接着作業が容易で接着強度も
均一なものが得られる。
【0019】ところで、本発明は上述した実施例に限定
されるものではなく、例えば、ラバー16を裏型14へ
固定する方法や静水圧室20に静水圧を発生させる手段
等は適宜の変更が可能である。
されるものではなく、例えば、ラバー16を裏型14へ
固定する方法や静水圧室20に静水圧を発生させる手段
等は適宜の変更が可能である。
【0020】
【発明の効果】以上説明したように本発明にあっては、
裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバーを配
設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形成
し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応す
るラバーを支承する同一高さの支持脚を配設したから、
この支持脚の部分によって成形されるタイル裏足は、タ
イル表面からの寸法が均一化され、タイル裏面の全体が
平滑面となる。
裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラバーを配
設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室を形成
し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に対応す
るラバーを支承する同一高さの支持脚を配設したから、
この支持脚の部分によって成形されるタイル裏足は、タ
イル表面からの寸法が均一化され、タイル裏面の全体が
平滑面となる。
【0021】またその余の裏足間の凹部については、静
水圧室の流体に作用する均一な静水圧によって充填密度
は均一化され、凹部の深さは坏土の充填量によって不均
一となる。なお、この凹部の深さのバラツキは、接着強
度や寸法精度等のタイルの本質的な機能に影響を与える
ものではない。それ故、本発明にあっては、タイルの寸
法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もなく、接
着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製造する
ことが可能である。
水圧室の流体に作用する均一な静水圧によって充填密度
は均一化され、凹部の深さは坏土の充填量によって不均
一となる。なお、この凹部の深さのバラツキは、接着強
度や寸法精度等のタイルの本質的な機能に影響を与える
ものではない。それ故、本発明にあっては、タイルの寸
法精度に優れ、またタイルの厚み方向の変形もなく、接
着作業が容易で且つ接着強度も均一なタイルを製造する
ことが可能である。
【図1】本発明の一実施例に係る成形型の全体を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図2】本発明の一実施例に係る裏型の支持脚を示す部
分拡大斜視図である。
分拡大斜視図である。
【図3】本発明の一実施例に係るタイル成形体を示す縦
断面図である。
断面図である。
【図4】従来の先願技術に係る成形型の全体を示す縦断
面図である。
面図である。
【図5】従来技術によって成形されたタイル成形体を示
す縦断面図である。
す縦断面図である。
5…枠型 6…表型 7…成形空間 8…坏土 12…成形型 13…支持脚 14…裏型 15…静水圧形成
用凹部 16…ラバー 19…流体 20…静水圧室 21…タイル裏足 22…タイル裏足形成用凹部 22…裏足凹部 23…裏足凹部形成用の凸部 25…タイル成形
体
用凹部 16…ラバー 19…流体 20…静水圧室 21…タイル裏足 22…タイル裏足形成用凹部 22…裏足凹部 23…裏足凹部形成用の凸部 25…タイル成形
体
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 田村 茂俊 愛知県常滑市奥条6−110 株式会社ゴト ーピニオン内 (72)発明者 後藤 彰一郎 愛知県常滑市奥条6−110 株式会社ゴト ーピニオン内
Claims (1)
- 【請求項1】タイル裏面に裏足を形成するための裏型に
おいて、裏型の表面側に裏足形成用の凹凸面を備えたラ
バーを配設し、該ラバーの裏面側に密閉された静水圧室
を形成し、該静水圧室内にタイル裏足を形成する部分に
対応するラバーを支承する同一高さの支持脚を配設した
ことを特徴とするタイル裏足成形用の裏型。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25598294A JPH0880517A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | タイル裏足形成用の裏型 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25598294A JPH0880517A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | タイル裏足形成用の裏型 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0880517A true JPH0880517A (ja) | 1996-03-26 |
Family
ID=17286270
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25598294A Pending JPH0880517A (ja) | 1994-09-12 | 1994-09-12 | タイル裏足形成用の裏型 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0880517A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITRE20130018A1 (it) * | 2013-03-13 | 2014-09-14 | Ferrari Carlo Societa Per Azioni Off | Stampo isostatico perfezionato |
WO2020135120A1 (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | 陈锐 | 一种瓷砖模具及扩展瓷砖模具支座和该模具压制成的瓷砖 |
-
1994
- 1994-09-12 JP JP25598294A patent/JPH0880517A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ITRE20130018A1 (it) * | 2013-03-13 | 2014-09-14 | Ferrari Carlo Societa Per Azioni Off | Stampo isostatico perfezionato |
WO2020135120A1 (zh) * | 2018-12-26 | 2020-07-02 | 陈锐 | 一种瓷砖模具及扩展瓷砖模具支座和该模具压制成的瓷砖 |
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