JPH0876350A - 位相シフタ自動配置方法及び装置 - Google Patents
位相シフタ自動配置方法及び装置Info
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- JPH0876350A JPH0876350A JP20955494A JP20955494A JPH0876350A JP H0876350 A JPH0876350 A JP H0876350A JP 20955494 A JP20955494 A JP 20955494A JP 20955494 A JP20955494 A JP 20955494A JP H0876350 A JPH0876350 A JP H0876350A
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- pattern
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- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】マスクパターンへ位相シフタを自動的に配置す
る際にシフタ配置矛盾箇所を最少にする方法及び装置を
提供する。 【構成】入力された透光パターンで、位相差を設けるべ
き近接した透光パターンの全てのペアを抽出し、パター
ンを結点,近接するパターン関係を結線で表現する無向
グラフを考え、この無向グラフの中から一筆書きの閉ル
ープとなる奇数本の結線の集合の全てを抽出し、該閉ル
ープに出現する回数の多い結線から矛盾箇所とする結線
を決定し、その結線で結ばれているパターンのペアをシ
フタ配置矛盾箇所として提示する。
る際にシフタ配置矛盾箇所を最少にする方法及び装置を
提供する。 【構成】入力された透光パターンで、位相差を設けるべ
き近接した透光パターンの全てのペアを抽出し、パター
ンを結点,近接するパターン関係を結線で表現する無向
グラフを考え、この無向グラフの中から一筆書きの閉ル
ープとなる奇数本の結線の集合の全てを抽出し、該閉ル
ープに出現する回数の多い結線から矛盾箇所とする結線
を決定し、その結線で結ばれているパターンのペアをシ
フタ配置矛盾箇所として提示する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体集積回路や液晶パ
ネル製造などに広く採用されている光リソグラフィ技術
に係り、特に、露光光に位相差を与えるマスクの位相シ
フタの自動配置に関する。
ネル製造などに広く採用されている光リソグラフィ技術
に係り、特に、露光光に位相差を与えるマスクの位相シ
フタの自動配置に関する。
【0002】
【従来の技術】半導体集積回路等のパターンの形成に用
いられる光リソグラフィ技術において、従来の解像限界
寸法を越える微細パターン転写のための技術として位相
シフト法が研究されている。この位相シフト技術は、隣
り合った透光部に位相差を与えることにより解像度を向
上させるものである。この技術をULSI等の製造に適
用させるには、位相差を与える薄膜(シフタ)をどの透
光パターンに設けるかを自動的に決定することが必要と
なる。
いられる光リソグラフィ技術において、従来の解像限界
寸法を越える微細パターン転写のための技術として位相
シフト法が研究されている。この位相シフト技術は、隣
り合った透光部に位相差を与えることにより解像度を向
上させるものである。この技術をULSI等の製造に適
用させるには、位相差を与える薄膜(シフタ)をどの透
光パターンに設けるかを自動的に決定することが必要と
なる。
【0003】この位相シフタの自動配置に関しては、特
開平5−341498 号公報,特開平5−341497号公報に記載
されている。
開平5−341498 号公報,特開平5−341497号公報に記載
されている。
【0004】特開平5−341498 号公報では、従来マスク
パターンでの解像限界以下の距離で近接している透光パ
ターンの関係をグラフ理論等で一般的に用いられている
無向グラフで表現し、無向グラフを用いてシフタ配置処
理及び、シフタ配置矛盾箇所抽出を行っている。
パターンでの解像限界以下の距離で近接している透光パ
ターンの関係をグラフ理論等で一般的に用いられている
無向グラフで表現し、無向グラフを用いてシフタ配置処
理及び、シフタ配置矛盾箇所抽出を行っている。
【0005】また、特開平5−341497 号公報では、一続
きの透光パターンを小さなサブパターンに分解して近接
関係を無向グラフで表現し、特開平5−341498 号公報と
同様に無向グラフからシフタ配置矛盾箇所を抽出してい
る。
きの透光パターンを小さなサブパターンに分解して近接
関係を無向グラフで表現し、特開平5−341498 号公報と
同様に無向グラフからシフタ配置矛盾箇所を抽出してい
る。
【0006】ここで、パターン近接関係の無向グラフと
は、パターンをその内側の1個の点で代表した結点で、
所定の距離以下で近接するパターン関係をパターンを表
す結点を繋ぐ結線で表したグラフである。例えば、図2
(a)に示すような五つの透光パターンpt1〜pt5
を考え、従来マスクの解像限界以下で近接しているパタ
ーンの組が、 (a1)パターンpt1とパターンpt2、 (a2)パターンpt1とパターンpt4、 (a3)パターンpt2とパターンpt3、 (a4)パターンpt3とパターンpt4、 (a5)パターンpt4とパターンpt5、 であったとする。この場合の無向グラフは、図2(b)
のようになる。すなわち、パターンpt1〜pt5を結
点nd1〜nd5で表し、上記(a1)〜(a5)のパタ
ーン間の近接関係を結線sg1〜sg5で表している。
は、パターンをその内側の1個の点で代表した結点で、
所定の距離以下で近接するパターン関係をパターンを表
す結点を繋ぐ結線で表したグラフである。例えば、図2
(a)に示すような五つの透光パターンpt1〜pt5
を考え、従来マスクの解像限界以下で近接しているパタ
ーンの組が、 (a1)パターンpt1とパターンpt2、 (a2)パターンpt1とパターンpt4、 (a3)パターンpt2とパターンpt3、 (a4)パターンpt3とパターンpt4、 (a5)パターンpt4とパターンpt5、 であったとする。この場合の無向グラフは、図2(b)
のようになる。すなわち、パターンpt1〜pt5を結
点nd1〜nd5で表し、上記(a1)〜(a5)のパタ
ーン間の近接関係を結線sg1〜sg5で表している。
【0007】上記二つの従来技術では、無向グラフ中か
ら奇数本の結線で構成された閉ループが存在するか否か
で、シフタ配置矛盾があるか否かを判定している。
ら奇数本の結線で構成された閉ループが存在するか否か
で、シフタ配置矛盾があるか否かを判定している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記、特開平5−34149
8 号公報,特開平5−341497 号公報に記載されている従
来技術では、マスク上の開口部に位相シフタを配置して
いるが、シフタの配置矛盾がおきる場合に抽出される矛
盾箇所選定の基準については示していない。奇数本の結
線で構成された閉ループが存在すればシフタ配置矛盾が
あることになるが、その閉ループ中のどの箇所を矛盾箇
所として表示するかの基準が明示されていない。
8 号公報,特開平5−341497 号公報に記載されている従
来技術では、マスク上の開口部に位相シフタを配置して
いるが、シフタの配置矛盾がおきる場合に抽出される矛
盾箇所選定の基準については示していない。奇数本の結
線で構成された閉ループが存在すればシフタ配置矛盾が
あることになるが、その閉ループ中のどの箇所を矛盾箇
所として表示するかの基準が明示されていない。
【0009】ここで、シフタ配置の矛盾とは、例えば、
図3のように三つの透光パターンpt6,pt7,pt
8が互いに他の二つの透光パターンと解像限界以下の距
離で近接しているような場合を指す。解像度向上のため
には隣り合ったパターンに180度の位相差を与えるこ
とが必要であるが、図3の場合には不可能である。この
ような場合、シフタ配置矛盾箇所として、 (b1)パターンpt6とパターンpt7の近接部分、 (b2)パターンpt7とパターンpt8の近接部分、 (b3)パターンpt6とパターンpt8の近接部分、 のいずれかを指摘することが必要である。
図3のように三つの透光パターンpt6,pt7,pt
8が互いに他の二つの透光パターンと解像限界以下の距
離で近接しているような場合を指す。解像度向上のため
には隣り合ったパターンに180度の位相差を与えるこ
とが必要であるが、図3の場合には不可能である。この
ような場合、シフタ配置矛盾箇所として、 (b1)パターンpt6とパターンpt7の近接部分、 (b2)パターンpt7とパターンpt8の近接部分、 (b3)パターンpt6とパターンpt8の近接部分、 のいずれかを指摘することが必要である。
【0010】ところで、複雑な配置のパターンでは、シ
フタ配置矛盾箇所の選定の仕方により変更すべきパター
ンの数が大きく変わる場合がある。例えば、図4(a)
に示すように、四つの透光パターンpt10〜pt13
の近接関係が (c1)パターンpt10とパターン11 (c2)パターンpt10とパターン12 (c3)パターンpt10とパターン13 (c4)パターンpt11とパターン12 (c5)パターンpt11とパターン13 である場合を考える。図4(a)の場合、全ての隣り合
ったパターンに180度の位相差を与えることは、明ら
かに不可能であり、シフタ配置矛盾箇所が発生する。
フタ配置矛盾箇所の選定の仕方により変更すべきパター
ンの数が大きく変わる場合がある。例えば、図4(a)
に示すように、四つの透光パターンpt10〜pt13
の近接関係が (c1)パターンpt10とパターン11 (c2)パターンpt10とパターン12 (c3)パターンpt10とパターン13 (c4)パターンpt11とパターン12 (c5)パターンpt11とパターン13 である場合を考える。図4(a)の場合、全ての隣り合
ったパターンに180度の位相差を与えることは、明ら
かに不可能であり、シフタ配置矛盾箇所が発生する。
【0011】ここで、シフタ配置矛盾箇所として(c
1)パターンpt10とパターンpt11の近接関係を指摘
した場合、これら二つのパターンが近接しないようにパ
ターンpt10もしくはパターンpt11の少なくとも
一方の形状を変更すれば、シフタ配置矛盾箇所が無くな
る。例えば、図4(b)に示すようにパターン10をパ
ターン10′のように変更すれば、矛盾無くシフタ配置
が可能である。しかし、シフタ配置矛盾箇所として(c
2)パターンpt10とパターンpt12の近接関係を
指摘した場合は、シフタ配置矛盾が残る。例えば、パタ
ーン12を図4(c)のパターン12′のように変更し
ても他のパターンpt10,pt11,pt13の間で
シフタ配置矛盾が生じ、さらなるパターンの変更が必要
となる。すなわち、抽出するシフタ配置矛盾箇所の位置
により、矛盾箇所の数もまた変化するのである。
1)パターンpt10とパターンpt11の近接関係を指摘
した場合、これら二つのパターンが近接しないようにパ
ターンpt10もしくはパターンpt11の少なくとも
一方の形状を変更すれば、シフタ配置矛盾箇所が無くな
る。例えば、図4(b)に示すようにパターン10をパ
ターン10′のように変更すれば、矛盾無くシフタ配置
が可能である。しかし、シフタ配置矛盾箇所として(c
2)パターンpt10とパターンpt12の近接関係を
指摘した場合は、シフタ配置矛盾が残る。例えば、パタ
ーン12を図4(c)のパターン12′のように変更し
ても他のパターンpt10,pt11,pt13の間で
シフタ配置矛盾が生じ、さらなるパターンの変更が必要
となる。すなわち、抽出するシフタ配置矛盾箇所の位置
により、矛盾箇所の数もまた変化するのである。
【0012】最少のシフタ配置矛盾箇所を選定するため
に、矛盾箇所とする位置の全ての組合せを考えると膨大
な組合せを考えなければならない。例えば、13個のパ
ターンと20個の近接パターンペアからなる図18
(a)のような無向グラフで表せるパターンがあったと
する。この無向グラフの最少となるシフタ配置矛盾箇所
を特定するために、いくつかの近接パターンペアを矛盾
箇所として選ぶ組合せ数を考えると、図18(b)のよ
うになる。仮に、この場合の最少矛盾箇所数が5であっ
たとしても、15504の近接パターンペアの組合せを
矛盾箇所とした場合に他の箇所でシフタ配置矛盾が無く
なるか否かを判定しなければならない。最少矛盾箇所数
が多い場合や近接パターンペア数が更に増すと、実用的
な時間内での処理は不可能である。
に、矛盾箇所とする位置の全ての組合せを考えると膨大
な組合せを考えなければならない。例えば、13個のパ
ターンと20個の近接パターンペアからなる図18
(a)のような無向グラフで表せるパターンがあったと
する。この無向グラフの最少となるシフタ配置矛盾箇所
を特定するために、いくつかの近接パターンペアを矛盾
箇所として選ぶ組合せ数を考えると、図18(b)のよ
うになる。仮に、この場合の最少矛盾箇所数が5であっ
たとしても、15504の近接パターンペアの組合せを
矛盾箇所とした場合に他の箇所でシフタ配置矛盾が無く
なるか否かを判定しなければならない。最少矛盾箇所数
が多い場合や近接パターンペア数が更に増すと、実用的
な時間内での処理は不可能である。
【0013】本発明の課題は、シフタ配置矛盾箇所を抽
出する際に、その数を最少にする箇所を短時間で選定す
ることにある。
出する際に、その数を最少にする箇所を短時間で選定す
ることにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、入力され
た透光パターンに対して、位相差を設けるべき近接した
透光パターンの全てのペアを抽出し、パターンを結点,
近接するパターン関係を結線で表現する無向グラフを考
え、この無向グラフの中から一筆書きの閉じた線となる
奇数本の結線の集合の全てを抽出し、該閉ループを全て
解消できる最少個の切断すべき結線をそこに出現する結
線数に従って特定し、その結線で結ばれているパターン
のペアをシフタ配置矛盾箇所として提示することにより
達成される。
た透光パターンに対して、位相差を設けるべき近接した
透光パターンの全てのペアを抽出し、パターンを結点,
近接するパターン関係を結線で表現する無向グラフを考
え、この無向グラフの中から一筆書きの閉じた線となる
奇数本の結線の集合の全てを抽出し、該閉ループを全て
解消できる最少個の切断すべき結線をそこに出現する結
線数に従って特定し、その結線で結ばれているパターン
のペアをシフタ配置矛盾箇所として提示することにより
達成される。
【0015】
【作用】入力された透光パターンから任意に選んだ二つ
のパターンの組合せについて、互いに露光光学系の解像
限界以下の距離で近接しているか否かの隣接関係を調
べ、所定寸法以下の距離で近接しているパターンの全て
のペアを抽出する。これにより、位相差を与えるべきパ
ターンのペアを選び出せたことになる。
のパターンの組合せについて、互いに露光光学系の解像
限界以下の距離で近接しているか否かの隣接関係を調
べ、所定寸法以下の距離で近接しているパターンの全て
のペアを抽出する。これにより、位相差を与えるべきパ
ターンのペアを選び出せたことになる。
【0016】ここではシフタ配置矛盾箇所となる近接パ
ターンがどのペアであるかを選定することを目的として
いるので、個々のパターンの形状について問題とする必
要はなく、パターン間の近接関係のみが重要となる。そ
こで、パターンを結点,パターンの近接関係を結線で表
現する無向グラフを作成する。シフタ配置の矛盾が生じ
るのは、この無向グラフ中で、一筆書きの閉じた線とな
る奇数本の結線の集合の中である。
ターンがどのペアであるかを選定することを目的として
いるので、個々のパターンの形状について問題とする必
要はなく、パターン間の近接関係のみが重要となる。そ
こで、パターンを結点,パターンの近接関係を結線で表
現する無向グラフを作成する。シフタ配置の矛盾が生じ
るのは、この無向グラフ中で、一筆書きの閉じた線とな
る奇数本の結線の集合の中である。
【0017】例えば、図5に示すように、結点nd6〜
nd10と結線sg6〜sg12で表される無向グラフ
があったとする。この無向グラフから抽出される奇数本
結線の一筆書き閉ループは、結線sg6,sg7,sg
8,sg11,sg12で構成される閉ループlp1
(図6(a))、結線sg6,sg10,sg12で構
成される閉ループlp2(図6(b))、結線sg1
2,sg10,sg7,sg8,sg9で構成されるl
p3(図6(c))、及び結線sg12,sg11,sg
9で構成されるlp4(図6(d))の四つである。い
くつかの結線を切断することにより、閉ループlp1,
lp2,lp3,lp4のいずれも開ループとなれば、
シフタ配置矛盾のない無向グラフを得ることができる。
nd10と結線sg6〜sg12で表される無向グラフ
があったとする。この無向グラフから抽出される奇数本
結線の一筆書き閉ループは、結線sg6,sg7,sg
8,sg11,sg12で構成される閉ループlp1
(図6(a))、結線sg6,sg10,sg12で構
成される閉ループlp2(図6(b))、結線sg1
2,sg10,sg7,sg8,sg9で構成されるl
p3(図6(c))、及び結線sg12,sg11,sg
9で構成されるlp4(図6(d))の四つである。い
くつかの結線を切断することにより、閉ループlp1,
lp2,lp3,lp4のいずれも開ループとなれば、
シフタ配置矛盾のない無向グラフを得ることができる。
【0018】最も重複度の高い結線を見出す工程でsg
12を選択する。結線sg12を切断結線として選べ
ば、閉ループlp1〜lp4のいずれも開ループとでき
るので、最少の切断結線数でシフタ配置矛盾の無い無向
グラフを得ることができる。
12を選択する。結線sg12を切断結線として選べ
ば、閉ループlp1〜lp4のいずれも開ループとでき
るので、最少の切断結線数でシフタ配置矛盾の無い無向
グラフを得ることができる。
【0019】選定した結線が示す近接関係にあるパター
ンをシフタ配置矛盾箇所として表示すれば、変更が必要
となるパターン数を最少とした矛盾箇所表示となる。
ンをシフタ配置矛盾箇所として表示すれば、変更が必要
となるパターン数を最少とした矛盾箇所表示となる。
【0020】
(実施例1)本発明の位相シフタ自動配置装置でマスク
パターンにシフタを配置するフローチャートを図1に示
す。まず、入力読み込み部st1で、パターン設計者が
入力するマスクパターン形状及び、露光光学系のパラメ
ータを読み込む。
パターンにシフタを配置するフローチャートを図1に示
す。まず、入力読み込み部st1で、パターン設計者が
入力するマスクパターン形状及び、露光光学系のパラメ
ータを読み込む。
【0021】次に、任意の二つのパターンの最短距離を
計算し、その距離が所定寸法(従来マスクの解像限界寸
法)以下であるパターンのペアの全てを求める(近接パ
ターンペア抽出部st3)。
計算し、その距離が所定寸法(従来マスクの解像限界寸
法)以下であるパターンのペアの全てを求める(近接パ
ターンペア抽出部st3)。
【0022】得られた近接パターンのペアから、パター
ンを結点,近接するパターン関係を結線とする無向グラ
フと考える。この無向グラフから、一筆書きの閉ループ
となる奇数本の結線の集合を全て抽出する(奇数本結線
閉ループ抽出部st4)。奇数本結線閉ループの中で
は、互いに隣り合ったパターン間に位相差を設けること
ができない部分が生じ、シフタ配置矛盾が起きる。奇数
本結線閉ループが存在しない無向グラフでは、シフタ配
置矛盾は無い。そこで、抽出した全ての奇数本結線閉ル
ープを開ループとするように、いくつかの結線を切断す
ることにする。結線はパターンが近接していることを表
しているので、「結線を切断する」とはパターンの形状
等を変更してその間の距離を所定寸法以上に離すことで
ある。
ンを結点,近接するパターン関係を結線とする無向グラ
フと考える。この無向グラフから、一筆書きの閉ループ
となる奇数本の結線の集合を全て抽出する(奇数本結線
閉ループ抽出部st4)。奇数本結線閉ループの中で
は、互いに隣り合ったパターン間に位相差を設けること
ができない部分が生じ、シフタ配置矛盾が起きる。奇数
本結線閉ループが存在しない無向グラフでは、シフタ配
置矛盾は無い。そこで、抽出した全ての奇数本結線閉ル
ープを開ループとするように、いくつかの結線を切断す
ることにする。結線はパターンが近接していることを表
しているので、「結線を切断する」とはパターンの形状
等を変更してその間の距離を所定寸法以上に離すことで
ある。
【0023】そこで、最少切断結線決定部st5で、最
少本の切断すべき結線を決定する。ここで抽出した切断
すべき結線が表す近接パターンペアがシフタ配置矛盾箇
所となるので、これをシフタ配置矛盾箇所として表示す
る(位相シフタ配置矛盾箇所表示部st6)。
少本の切断すべき結線を決定する。ここで抽出した切断
すべき結線が表す近接パターンペアがシフタ配置矛盾箇
所となるので、これをシフタ配置矛盾箇所として表示す
る(位相シフタ配置矛盾箇所表示部st6)。
【0024】次に、本装置を用いて、波長0.365μ
m,投影レンズの開口数0.5,コヒーレンスファクタ
0.3 の露光装置で用いるマスクパターンについてシフ
タ配置を行った結果を示す。入力したマスクパターン
は、図7に示すような遮光部中に配置された八つの透光
パターンpt21〜pt28で、投影像の寸法に換算し
て最小寸法0.3μmで設計されている。隣接関係を判
定する遮光部間隔を0.4μmとした。
m,投影レンズの開口数0.5,コヒーレンスファクタ
0.3 の露光装置で用いるマスクパターンについてシフ
タ配置を行った結果を示す。入力したマスクパターン
は、図7に示すような遮光部中に配置された八つの透光
パターンpt21〜pt28で、投影像の寸法に換算し
て最小寸法0.3μmで設計されている。隣接関係を判
定する遮光部間隔を0.4μmとした。
【0025】入力マスクパターンについて0.4μm 以
下の間隔で近接している全てのパターンペアを、近接パ
ターンペア抽出部st3で求めた。すなわち、以下の1
1のペアが求まった。
下の間隔で近接している全てのパターンペアを、近接パ
ターンペア抽出部st3で求めた。すなわち、以下の1
1のペアが求まった。
【0026】 (d1)パターンpt21とパターンpt22 (d2)パターンpt21とパターンpt27 (d3)パターンpt21とパターンpt28 (d4)パターンpt22とパターンpt23 (d5)パターンpt23とパターンpt24 (d6)パターンpt23とパターンpt27 (d7)パターンpt23とパターンpt28 (d8)パターンpt24とパターンpt25 (d9)パターンpt25とパターンpt26 (d10)パターンpt26とパターンpt27 (d11)パターンpt27とパターンpt28 パターンpt21〜pt28を結点nd21〜nd2
8、(d1)〜(d11)の近接パターンペアを結線sg
21〜sg31とした無向グラフは、図8のようにな
る。この無向グラフから奇数本の結線で構成される閉ル
ープを奇数本結線閉ループ抽出部st4で求めると、図
9(a)〜(g)に示す閉ループlp21〜lp27が
得られた。
8、(d1)〜(d11)の近接パターンペアを結線sg
21〜sg31とした無向グラフは、図8のようにな
る。この無向グラフから奇数本の結線で構成される閉ル
ープを奇数本結線閉ループ抽出部st4で求めると、図
9(a)〜(g)に示す閉ループlp21〜lp27が
得られた。
【0027】これらのループlp21〜lp27を用い
て、最少切断結線決定部st5により以下の処理を行っ
た。ループlp21〜lp27を構成する結線の出現回
数を求めると図10(a)のようになる。最も出現回数
の多い結線は、結線sg22とsg31なので、いずれ
か一方を切断結線とする。ここでは、結線sg22を選
択した。その結果、閉ループlp23,lp25,lp
27のみが残り、これらの閉ループについて結線の出現
回数を求めたところ図10(b)のようになった。最も
出現回数の多い結線sg26を切断結線とすると、全て
の閉ループが解消された。
て、最少切断結線決定部st5により以下の処理を行っ
た。ループlp21〜lp27を構成する結線の出現回
数を求めると図10(a)のようになる。最も出現回数
の多い結線は、結線sg22とsg31なので、いずれ
か一方を切断結線とする。ここでは、結線sg22を選
択した。その結果、閉ループlp23,lp25,lp
27のみが残り、これらの閉ループについて結線の出現
回数を求めたところ図10(b)のようになった。最も
出現回数の多い結線sg26を切断結線とすると、全て
の閉ループが解消された。
【0028】選んだ切断結線sg22とsg26が表す
近接パターンペア (d2)パターンpt21とパターンpt27、 (d6)パターンpt23とパターンpt27 を位相シフタ配置矛盾箇所er21,er22とし、そ
れ以外の近接パターンペアに位相差を設けるようにした
ところ、パターンpt22,pt24,pt26,pt
28にシフタを設けることとなった。この結果を位相シ
フタ配置矛盾箇所表示部st6で図11のように表示し
た。
近接パターンペア (d2)パターンpt21とパターンpt27、 (d6)パターンpt23とパターンpt27 を位相シフタ配置矛盾箇所er21,er22とし、そ
れ以外の近接パターンペアに位相差を設けるようにした
ところ、パターンpt22,pt24,pt26,pt
28にシフタを設けることとなった。この結果を位相シ
フタ配置矛盾箇所表示部st6で図11のように表示し
た。
【0029】指摘されたシフタ配置矛盾箇所のパターン
を修正してシフタ配置を可能とし、位相シフトマスクを
作成した。このマスクパターンを用いて露光現像実験を
行ったところ良好なレジストパターン形状を得ることが
できた。
を修正してシフタ配置を可能とし、位相シフトマスクを
作成した。このマスクパターンを用いて露光現像実験を
行ったところ良好なレジストパターン形状を得ることが
できた。
【0030】(実施例2)実施例2では、最少切断結線
決定部st5で最少本の切断すべき結線を決定する際
に、本数の少ない奇数本結線閉ループの中から切断すべ
き結線を選択する場合について述べる。実施例1と同じ
露光光学装置で用いる、図12に示すような遮光部中に
配置された七つの透光パターンpt41〜pt47にシ
フタ配置を行った。
決定部st5で最少本の切断すべき結線を決定する際
に、本数の少ない奇数本結線閉ループの中から切断すべ
き結線を選択する場合について述べる。実施例1と同じ
露光光学装置で用いる、図12に示すような遮光部中に
配置された七つの透光パターンpt41〜pt47にシ
フタ配置を行った。
【0031】実施例1と同様の手順で、図1のフローの
奇数本結線閉ループ抽出部st4の処理まで行った。図
12のパターンに対する無向グラフは、図13のように
なり、抽出された奇数本結線閉ループは図14(a)〜
(f)の閉ループlp41〜lp46の六つである。
奇数本結線閉ループ抽出部st4の処理まで行った。図
12のパターンに対する無向グラフは、図13のように
なり、抽出された奇数本結線閉ループは図14(a)〜
(f)の閉ループlp41〜lp46の六つである。
【0032】ここで、閉ループlp41〜lp46に出
現する結線数を閉ループの結線数別に求めると図15
(a)のようになる。3本の結線からなる閉ループ(3
結線閉ループ)で最多出現結線である結線sg42を切
断結線とした。その結果残る閉ループlp43,lp4
4,lp46について、図15(a)と同様に出現結線
回数を求めると図15(b)のようになった。図15
(b)で、3結線閉ループの出現結線は、結線sg4
7,sg48,sg49でいずれも1回ずつである。こ
れらの結線について、5結線閉ループの出現結線をみる
と、結線sg47とsg49が共に1回ずつで最多であ
る。さらに、結線sg47とsg49について7結線閉
ループの出現結線をみると共に1回ずつなので、結線s
g47、または結線sg49のいずれか一方を切断結線
として選択する。ここでは、すでに選んだ切断結線sg
42が示すパターンの近接関係がパターンpt41とパ
ターンpt46であるので、パターンpt46との近接
関係を示す結線sg49を選択した。
現する結線数を閉ループの結線数別に求めると図15
(a)のようになる。3本の結線からなる閉ループ(3
結線閉ループ)で最多出現結線である結線sg42を切
断結線とした。その結果残る閉ループlp43,lp4
4,lp46について、図15(a)と同様に出現結線
回数を求めると図15(b)のようになった。図15
(b)で、3結線閉ループの出現結線は、結線sg4
7,sg48,sg49でいずれも1回ずつである。こ
れらの結線について、5結線閉ループの出現結線をみる
と、結線sg47とsg49が共に1回ずつで最多であ
る。さらに、結線sg47とsg49について7結線閉
ループの出現結線をみると共に1回ずつなので、結線s
g47、または結線sg49のいずれか一方を切断結線
として選択する。ここでは、すでに選んだ切断結線sg
42が示すパターンの近接関係がパターンpt41とパ
ターンpt46であるので、パターンpt46との近接
関係を示す結線sg49を選択した。
【0033】結線sg42とsg49を切断結線として
選択することにより図14(a)〜(f)の全ての閉ル
ープが解消された。
選択することにより図14(a)〜(f)の全ての閉ル
ープが解消された。
【0034】選んだ結線sg42とsg49が示すパタ
ーンの近接関係である (e1)パターンpt41とパターンpt46、 (e2)パターンpt45とパターンpt46 をシフタ配置矛盾箇所er41,er42とし、その他
の近接パターンペアに位相差を設けるようにしたところ
パターンpt42,pt44,pt47にシフタを設け
ることとなった。この結果を、位相シフタ配置矛盾箇所
表示部st6で図16のように表示した。
ーンの近接関係である (e1)パターンpt41とパターンpt46、 (e2)パターンpt45とパターンpt46 をシフタ配置矛盾箇所er41,er42とし、その他
の近接パターンペアに位相差を設けるようにしたところ
パターンpt42,pt44,pt47にシフタを設け
ることとなった。この結果を、位相シフタ配置矛盾箇所
表示部st6で図16のように表示した。
【0035】実施例1の結線数別でない出現回数で切断
結線を選ぼうとした場合には、実施例2のパターンでは
合計の出現回数がいずれも最大の3回である結線が6個
もある。結線数の多い閉ループの場合は、後に選択され
る切断結線により開ループとなる可能性が高いので、ま
ずは結線数の少ない閉ループを構成する結線から切断結
線を選ぶのがよいと考えられる。
結線を選ぼうとした場合には、実施例2のパターンでは
合計の出現回数がいずれも最大の3回である結線が6個
もある。結線数の多い閉ループの場合は、後に選択され
る切断結線により開ループとなる可能性が高いので、ま
ずは結線数の少ない閉ループを構成する結線から切断結
線を選ぶのがよいと考えられる。
【0036】指摘されたシフタ配置矛盾箇所のパターン
を修正してシフタ配置を可能とし、位相シフトマスクを
作成した。このマスクパターンを用いて露光現像実験を
行ったところ良好なレジストパターン形状を得ることが
できた。
を修正してシフタ配置を可能とし、位相シフトマスクを
作成した。このマスクパターンを用いて露光現像実験を
行ったところ良好なレジストパターン形状を得ることが
できた。
【0037】(実施例3)実施例3では、切断すべき結
線を決定する際に、奇数本結線閉ループ中の結線出現回
数に、閉ループの結線数に従った重みを付けた結果から
切断結線を選択する場合について述べる。実施例2と同
じマスクパターンを用い、奇数本結線閉ループ抽出部s
t4の処理まで行った。
線を決定する際に、奇数本結線閉ループ中の結線出現回
数に、閉ループの結線数に従った重みを付けた結果から
切断結線を選択する場合について述べる。実施例2と同
じマスクパターンを用い、奇数本結線閉ループ抽出部s
t4の処理まで行った。
【0038】閉ループ中に出現する結線数を求める際
に、切断結線となりうる確率を考慮する。すなわち、3
結線閉ループを開いた線とするためには3本の結線の中
から1本を切断結線とするので、各結線の切断結線とな
りうる確率は1/3であり、5結線閉ループでは確率1
/5,7結線閉ループでは確率1/7である。これらの
確率を重みとして出現回数に付けて、合計した結果を図
17に示す。まず、全ての閉ループについて重み付き出
現回数を求めた結果、図17(a)のようになった。合
計が最大の結線sg42を切断結線として選択した。次
に、sg42を切断結線とした結果残る閉ループlp4
3,lp44,lp46について、出現結線回数を求め
ると図17(b)のようになり、合計が最大の結線sg
47とsg49の一方を切断結線とする。ここでは、sg4
7とした。
に、切断結線となりうる確率を考慮する。すなわち、3
結線閉ループを開いた線とするためには3本の結線の中
から1本を切断結線とするので、各結線の切断結線とな
りうる確率は1/3であり、5結線閉ループでは確率1
/5,7結線閉ループでは確率1/7である。これらの
確率を重みとして出現回数に付けて、合計した結果を図
17に示す。まず、全ての閉ループについて重み付き出
現回数を求めた結果、図17(a)のようになった。合
計が最大の結線sg42を切断結線として選択した。次
に、sg42を切断結線とした結果残る閉ループlp4
3,lp44,lp46について、出現結線回数を求め
ると図17(b)のようになり、合計が最大の結線sg
47とsg49の一方を切断結線とする。ここでは、sg4
7とした。
【0039】選択された切断結線が示すシフタ配置矛盾
箇所とシフタを配置した他のパターンを表示した。
箇所とシフタを配置した他のパターンを表示した。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、最少の近接パターンペ
アをシフタ配置矛盾箇所として抽出することが短時間で
可能となる。
アをシフタ配置矛盾箇所として抽出することが短時間で
可能となる。
【図1】本発明を示すフローチャート。
【図2】パターンと無向グラフの関係の説明図。
【図3】シフタ配置矛盾の説明図。
【図4】シフタ配置矛盾箇所数が変わることの説明図。
【図5】無向グラフ。
【図6】図5中の奇数本結線閉ループを表す説明図。
【図7】実施例1で用いたパターン図。
【図8】図7の無向グラフを表す説明図。
【図9】図8中の奇数本結線閉ループを表す説明図。
【図10】図9中の結線の出現回数を表す説明図。
【図11】シフタ配置矛盾箇所とシフタを設けるパター
ンを示したパターン図。
ンを示したパターン図。
【図12】実施例1で用いたパターン図。
【図13】図12の無向グラフを表す説明図。
【図14】図13中の奇数本結線閉ループを表す説明
図。
図。
【図15】図14の結線数別に、結線の出現回数を表す
説明図。
説明図。
【図16】シフタ配置矛盾箇所とシフタを設けるパター
ンを示したパターン図。
ンを示したパターン図。
【図17】実施例3の重み付き結線出現回数を表す説明
図。
図。
【図18】20の近接パターンペアからなる無向グラフ
と、その無向グラフ中の結線からいくつかを選択した場
合の組合せ数を示した説明図。
と、その無向グラフ中の結線からいくつかを選択した場
合の組合せ数を示した説明図。
st1…入力読み込み部、st3…近接パターンペア抽
出部、st4…奇数本結線閉ループ抽出部、st5…最
少切断結線決定部、st6…位相シフタ配置矛盾箇所表
示部。
出部、st4…奇数本結線閉ループ抽出部、st5…最
少切断結線決定部、st6…位相シフタ配置矛盾箇所表
示部。
Claims (6)
- 【請求項1】与えられた露光用マスクパターンの中から
透過光の位相を変える位相シフタを配置すべきパターン
を特定する位相シフタ自動配置方法において、 前記マスクパターンの形状の入力工程と,所定量以下の
間隔で互いに近接して配置されている透光パターンのペ
アの全てを抽出する近接パターンペア抽出工程と,近接
パターンペアに対して2種類の位相を与えるようにシフ
タを交互に配置した場合にシフタ配置矛盾が生じる近接
パターンペアの数を最少とする最少矛盾箇所決定工程
と,位相シフタ配置矛盾箇所を表示する表示工程を備え
たことを特徴とする位相シフタ自動配置方法。 - 【請求項2】請求項1に記載の前記最少矛盾箇所決定工
程は、 前記近接パターンペア抽出工程で抽出された全てのパタ
ーンを結点、互いに近接するパターンを結線で表現する
無向グラフで表した場合に、一筆書きの閉じた線となる
奇数本の結線の集合の全てを抽出する奇数本結線閉ルー
プ抽出工程と、 前記閉ループを構成する結線数を求めることにより、全
ての前記閉ループを解消することのできる最少個の切断
すべき結線を特定する切断結線決定工程を備えた位相シ
フタ自動配置方法。 - 【請求項3】請求項2に記載の前記切断結線決定工程
は、前記奇数本結線閉ループの中の出現回数の多い結線
から切断結線を決定する工程である位相シフタ自動配置
方法。 - 【請求項4】請求項2に記載の前記切断結線決定工程
は、結線数の少ない閉ループ中で出現回数の多い結線か
ら切断結線を決定する工程である位相シフタ自動配置方
法。 - 【請求項5】請求項2に記載の前記切断結線決定工程
は、奇数本閉ループ中の結線の出現回数に、閉ループの
結線数に従って重みを付け、重み付き出現回数の合計の
多い結線から切断結線を決定する工程である位相シフタ
自動配置方法。 - 【請求項6】与えられた露光用マスクパターンの中から
透過光の位相を変える位相シフタを配置すべきパターン
を特定する位相シフタ自動配置装置において、前記マス
クパターン形状の入力手段と、互いに近接して配置され
ている透光パターンのペアの全てを抽出する近接パター
ンペア抽出手段と、前記パターンペアに対して2種類の
位相を与えるようにシフタを交互に配置した場合にシフ
タ配置に矛盾が生じる近接パターンペア数を最少とする
最少矛盾箇所決定手段と、前記位相シフタ配置矛盾箇所
を表示する手段を備えたことを特徴とする位相シフタ自
動配置装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20955494A JPH0876350A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 位相シフタ自動配置方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20955494A JPH0876350A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 位相シフタ自動配置方法及び装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0876350A true JPH0876350A (ja) | 1996-03-22 |
Family
ID=16574750
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20955494A Pending JPH0876350A (ja) | 1994-09-02 | 1994-09-02 | 位相シフタ自動配置方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0876350A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010139769A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | パターンレイアウト設計方法 |
JP4608070B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2011-01-05 | インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト | 集積回路の自動設計における位相マスク作製方法 |
-
1994
- 1994-09-02 JP JP20955494A patent/JPH0876350A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4608070B2 (ja) * | 1999-09-30 | 2011-01-05 | インフィネオン テクノロジーズ アクチエンゲゼルシャフト | 集積回路の自動設計における位相マスク作製方法 |
JP2010139769A (ja) * | 2008-12-11 | 2010-06-24 | Toshiba Corp | パターンレイアウト設計方法 |
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