JPH0873445A - 1,2,3−トリアゾールの製造方法 - Google Patents
1,2,3−トリアゾールの製造方法Info
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- JPH0873445A JPH0873445A JP23840394A JP23840394A JPH0873445A JP H0873445 A JPH0873445 A JP H0873445A JP 23840394 A JP23840394 A JP 23840394A JP 23840394 A JP23840394 A JP 23840394A JP H0873445 A JPH0873445 A JP H0873445A
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- JP
- Japan
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- triazole
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 1,2,3−トリアゾールの安全且つ簡便な
工業的製法を提供することにある。 【構成】 本発明は一般式[I] 【化1】 〔式中、nは1〜2を示し、R1は低級アルキル基、低
級アルケニル基またはアリール基を示す。〕で表される
ビニル化合物と、一般式[II] R2−N3[II] 〔式中、R2は同一または異なった低級アルキル基で置
換されたシリル基またはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアジド化合物とを反応させることで1,2,3−ト
リアゾールを簡便に且つ安全に製造することを特徴とす
る方法である。
工業的製法を提供することにある。 【構成】 本発明は一般式[I] 【化1】 〔式中、nは1〜2を示し、R1は低級アルキル基、低
級アルケニル基またはアリール基を示す。〕で表される
ビニル化合物と、一般式[II] R2−N3[II] 〔式中、R2は同一または異なった低級アルキル基で置
換されたシリル基またはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアジド化合物とを反応させることで1,2,3−ト
リアゾールを簡便に且つ安全に製造することを特徴とす
る方法である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、医薬として有用な抗生
物質の中間原料である化学式[III]で表される1,
2,3−トリアゾールの新規な製造方法に関するもので
ある。
物質の中間原料である化学式[III]で表される1,
2,3−トリアゾールの新規な製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術および発明が解決せんとする課題】従来、
置換された1,2,3−トリアゾール誘導体を合成する
方法としては、アジ化水素酸あるいはアジド化合物にア
セチレンあるいはアセチレン化合物を反応させる方法が
知られている(コンプリヘンシブヘテロサイクリックケ
ミストリー,5,708〜710(1984))、ある
いはポリビニルベンジルアジドにフェニルビニルスルフ
ォキサイド等を反応させる方法(ジャーナルオブポリマ
ーサイエンス:ポリマーケミストリーエディション,2
2,2293〜2294(1984))等が知られてい
る。
置換された1,2,3−トリアゾール誘導体を合成する
方法としては、アジ化水素酸あるいはアジド化合物にア
セチレンあるいはアセチレン化合物を反応させる方法が
知られている(コンプリヘンシブヘテロサイクリックケ
ミストリー,5,708〜710(1984))、ある
いはポリビニルベンジルアジドにフェニルビニルスルフ
ォキサイド等を反応させる方法(ジャーナルオブポリマ
ーサイエンス:ポリマーケミストリーエディション,2
2,2293〜2294(1984))等が知られてい
る。
【0003】また、1,2,3−トリアゾールそのもの
を合成する方法としては、上記の方法で得られる1−ベ
ンジル−1,2,3−トリアゾールを還元的に脱ベンジ
ル化する方法(特開平1−143861号公報)、1,
2,3−トリアゾール−4−カルボン酸、1,2,3−
トリアゾール−4,5−ジカルボン酸を加熱して脱炭酸
する方法(ケミカルアブストラクト,83(11),9
7148)、5−メルカプト−1,2,3−トリアゾー
ルを脱硫還元する方法(特開昭63−230675号公
報)、グリオキサールモノオキシムヒドラゾンを脱水閉
環する方法(特開平6−41092号公報)、あるいは
2−アミノ−1,2,3−トリアゾールを脱アミノ化す
る方法(ベリヒテ.,42,659(1909))等が
知られている。
を合成する方法としては、上記の方法で得られる1−ベ
ンジル−1,2,3−トリアゾールを還元的に脱ベンジ
ル化する方法(特開平1−143861号公報)、1,
2,3−トリアゾール−4−カルボン酸、1,2,3−
トリアゾール−4,5−ジカルボン酸を加熱して脱炭酸
する方法(ケミカルアブストラクト,83(11),9
7148)、5−メルカプト−1,2,3−トリアゾー
ルを脱硫還元する方法(特開昭63−230675号公
報)、グリオキサールモノオキシムヒドラゾンを脱水閉
環する方法(特開平6−41092号公報)、あるいは
2−アミノ−1,2,3−トリアゾールを脱アミノ化す
る方法(ベリヒテ.,42,659(1909))等が
知られている。
【0004】しかし、これらの製造方法において、トリ
アゾール環を合成する際に爆発性の可燃性ガスであるア
セチレンを用いており、工業的に取り扱うには特殊な設
備、安全操作等が必要であり、工業的製造方法としては
問題がある。一方、置換された1,2,3−トリアゾー
ル誘導体からその置換基を除去して1,2,3−トリア
ゾールを合成する方法は工程数が長く、必要に応じて高
温、高圧等の激しい条件が必要で経済性に問題がある。
アゾール環を合成する際に爆発性の可燃性ガスであるア
セチレンを用いており、工業的に取り扱うには特殊な設
備、安全操作等が必要であり、工業的製造方法としては
問題がある。一方、置換された1,2,3−トリアゾー
ル誘導体からその置換基を除去して1,2,3−トリア
ゾールを合成する方法は工程数が長く、必要に応じて高
温、高圧等の激しい条件が必要で経済性に問題がある。
【0005】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者等は化
学式[III]の化合物の製造方法に関して鋭意研究を
重ねた結果、本発明を完成するに至った。即ち、一般式
[I]
学式[III]の化合物の製造方法に関して鋭意研究を
重ねた結果、本発明を完成するに至った。即ち、一般式
[I]
【化3】 〔式中、nは1〜2を示し、R1は低級アルキル基、低
級アルケニル基またはアリール基を示す。〕で表される
ビニル化合物と、一般式[II] R2−N3[II] 〔式中、R2は同一または異なった低級アルキル基で置
換されたシリル基またはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアジド化合物とを反応させることを特徴とする、化
学式[III]
級アルケニル基またはアリール基を示す。〕で表される
ビニル化合物と、一般式[II] R2−N3[II] 〔式中、R2は同一または異なった低級アルキル基で置
換されたシリル基またはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアジド化合物とを反応させることを特徴とする、化
学式[III]
【化4】 で表される1,2,3−トリアゾールの製造方法を提供
するものである。
するものである。
【0006】そして、これを一般反応工程式で表すと次
のようになる。
のようになる。
【化5】
【0007】本発明において、R1で示される低級アル
キル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、ネオペンチル基、ヘキシル基等の炭酸数1から6の
直鎖状または分岐状のアルキル基を例示できる。また、
低級アルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プ
ロペニル基、イソプロペニル基、アリル基、2−ブテニ
ル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−ペンテニル
基、4−ヘキセニル基等の炭素数2から6の直鎖状また
は分岐状のアルケニル基を例示できる。さらにまた、ア
リール基としては、例えばフェニル基、p−トリル基、
ベンズチアゾイル基等を例示できる。
キル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル
基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、ペンチル
基、ネオペンチル基、ヘキシル基等の炭酸数1から6の
直鎖状または分岐状のアルキル基を例示できる。また、
低級アルケニル基としては、例えば、ビニル基、1−プ
ロペニル基、イソプロペニル基、アリル基、2−ブテニ
ル基、2−メチル−2−ブテニル基、3−ペンテニル
基、4−ヘキセニル基等の炭素数2から6の直鎖状また
は分岐状のアルケニル基を例示できる。さらにまた、ア
リール基としては、例えばフェニル基、p−トリル基、
ベンズチアゾイル基等を例示できる。
【0008】また、本発明において、R2で示される同
一または異なった低級アルキル基で置換されたシリル基
としては、例えば、トリメチルシリル基、エチルジメチ
ルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等の炭素数1
から4の直鎖状または分岐状のアルキル基で置換された
シリル基を例示できる。アルカリ金属としては、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等の金属を例示できる。
一または異なった低級アルキル基で置換されたシリル基
としては、例えば、トリメチルシリル基、エチルジメチ
ルシリル基、t−ブチルジメチルシリル基等の炭素数1
から4の直鎖状または分岐状のアルキル基で置換された
シリル基を例示できる。アルカリ金属としては、リチウ
ム、ナトリウム、カリウム等の金属を例示できる。
【0009】一般式[I]で表されるビニル化合物は、
公知の入手容易な化合物であり、また、ジャーナルオブ
アメリカンケミストリーソサイアティ,75,2073
(1952)等に記載の従来公知の合成法により製造す
ることもできる。また、一般式[II]で表されるアジ
ド化合物は、公知の入手容易な化合物である。
公知の入手容易な化合物であり、また、ジャーナルオブ
アメリカンケミストリーソサイアティ,75,2073
(1952)等に記載の従来公知の合成法により製造す
ることもできる。また、一般式[II]で表されるアジ
ド化合物は、公知の入手容易な化合物である。
【0010】上記反応は、適当な溶媒中、室温あるいは
加熱することによって行われる。反応に使用される溶媒
としては、反応に影響を与えないものであれば特に制限
は無く、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジフェニルエーテル等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2−テ
トラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のアルキルケトン類、N,N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリル等の非プロトン性極性溶媒あるいは水等を単
独若しくは混合して使用できる。また、反応中生成する
スルフィン酸あるいはスルフェン酸を補足する目的で、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ビリ
ジン等の有機アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等の塩基性化合物を加えることもあり、また、有機
アミン類は前記溶媒の代わりとして使用されることもあ
る。
加熱することによって行われる。反応に使用される溶媒
としては、反応に影響を与えないものであれば特に制限
は無く、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、ブタノール等のアルコール類、テトラヒドロフ
ラン、ジオキサン、ジフェニルエーテル等のエーテル
類、塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2−テ
トラクロロエタン等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼ
ン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、アセト
ン、メチルエチルケトン等のアルキルケトン類、N,N
−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、アセ
トニトリル等の非プロトン性極性溶媒あるいは水等を単
独若しくは混合して使用できる。また、反応中生成する
スルフィン酸あるいはスルフェン酸を補足する目的で、
トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ビリ
ジン等の有機アミン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム等の塩基性化合物を加えることもあり、また、有機
アミン類は前記溶媒の代わりとして使用されることもあ
る。
【0011】反応の割合としては、一般式[I]の化合
物1モルに対して一般式[II]のアジド化合物を0.
1〜20モル当量、好ましくは0.5〜5モル当量使用
するのが良い。反応温度は20℃〜溶媒の沸点程度であ
り、好ましくは80℃〜溶媒の沸点程度である。反応時
間は10分〜72時間程度であり、好ましくは1〜15
時間である。本発明の製造方法によって得られた化合物
は、再結晶、クロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製
法により容易に精製することが出来る。
物1モルに対して一般式[II]のアジド化合物を0.
1〜20モル当量、好ましくは0.5〜5モル当量使用
するのが良い。反応温度は20℃〜溶媒の沸点程度であ
り、好ましくは80℃〜溶媒の沸点程度である。反応時
間は10分〜72時間程度であり、好ましくは1〜15
時間である。本発明の製造方法によって得られた化合物
は、再結晶、クロマトグラフィー、蒸留等の通常の精製
法により容易に精製することが出来る。
【0012】
【実施例】以下、実験例を挙げて、本発明を更に詳細に
説明する。 [実施例1]アジ化ナトリウム1.3gをジメチルホル
ムアミド50ml中に懸濁させ、更にビニルメチルスル
ホンを2.1g加え、浴温130℃にて12時間加熱撹
拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留すること
により目的の化合物1,2,3−トリアゾールを0.9
7g(収率71%)得た。NMR分析機による測定結果
及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
説明する。 [実施例1]アジ化ナトリウム1.3gをジメチルホル
ムアミド50ml中に懸濁させ、更にビニルメチルスル
ホンを2.1g加え、浴温130℃にて12時間加熱撹
拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留すること
により目的の化合物1,2,3−トリアゾールを0.9
7g(収率71%)得た。NMR分析機による測定結果
及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
【0013】[実施例2]トリメチルシリルアジド1.
15gをトルエン30ml中に溶解させ、更にビニルメ
チルスルホンを1.06g加え、浴温130℃にて6時
間加熱撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留
することにより目的の化合物1,2,3−トリアゾール
を0.38g(収率55%)得た。NMR分析機による
測定結果及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
15gをトルエン30ml中に溶解させ、更にビニルメ
チルスルホンを1.06g加え、浴温130℃にて6時
間加熱撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留
することにより目的の化合物1,2,3−トリアゾール
を0.38g(収率55%)得た。NMR分析機による
測定結果及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
【0014】[実施例3]トリメチルシリルアジド1.
2gをトルエン30ml中に溶解させ、更にビニルメチ
ルスルホンを1.1g、ジイソプロピエルエチルアミン
1.3gを加え、浴温130℃にて8時間加熱撹拌し
た。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留することによ
り目的の化合物1,2,3−トリアゾールを0.36g
(収率50%)得た。NMR分析機による測定結果及び
沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
2gをトルエン30ml中に溶解させ、更にビニルメチ
ルスルホンを1.1g、ジイソプロピエルエチルアミン
1.3gを加え、浴温130℃にて8時間加熱撹拌し
た。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留することによ
り目的の化合物1,2,3−トリアゾールを0.36g
(収率50%)得た。NMR分析機による測定結果及び
沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
【0015】[実施例4]アジ化ナトリウム1.3gを
ジメチルホルムアミド30ml中に懸濁させ、更にジビ
ニルスルホンを1.2g加え、浴温130℃にて12時
間加熱撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留
することにより目的の化合物1,2,3−トリアゾール
を0.48g(収率68%)得た。NMR分析機による
測定結果及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
ジメチルホルムアミド30ml中に懸濁させ、更にジビ
ニルスルホンを1.2g加え、浴温130℃にて12時
間加熱撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を減圧蒸留
することにより目的の化合物1,2,3−トリアゾール
を0.48g(収率68%)得た。NMR分析機による
測定結果及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7.86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
【0016】[実施例5]アジ化ナトリウム1.3gを
ジメチルホルムアミド30ml中に懸濁させ、更にビニ
ルメチルスルホキシドを1.8g加え、浴温130℃に
て10時間加熱撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を
減圧蒸留することにより目的の化合物1,2,3−トリ
アゾールを0.88g(収率64%)得た。NMR分析
機による測定結果及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7,86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
ジメチルホルムアミド30ml中に懸濁させ、更にビニ
ルメチルスルホキシドを1.8g加え、浴温130℃に
て10時間加熱撹拌した。減圧下溶媒を留去し、残渣を
減圧蒸留することにより目的の化合物1,2,3−トリ
アゾールを0.88g(収率64%)得た。NMR分析
機による測定結果及び沸点は次のとおりである。1 H−NMR(CDCl3):15.15(1H,brs),
7,86(2H,s) 沸点:97℃/25mmHg
【0017】
【発明の効果】化学式[III]で表される1,2,3
−トリアゾールは、抗生物質原料として有用であるが、
爆発性で且つ可燃性のアセチレンガスを用いる従来の製
造法に比べて特殊な設備、特殊な安全操作等を必要とし
ないうえ、置換された1,2,3−トリアゾール誘導体
からその置換基を除去するような工程も必要なく、工業
的製造法としてその効果は大きい。
−トリアゾールは、抗生物質原料として有用であるが、
爆発性で且つ可燃性のアセチレンガスを用いる従来の製
造法に比べて特殊な設備、特殊な安全操作等を必要とし
ないうえ、置換された1,2,3−トリアゾール誘導体
からその置換基を除去するような工程も必要なく、工業
的製造法としてその効果は大きい。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山田 省三 埼玉県飯能市仲町25−7小山第二マンショ ン101 (72)発明者 浅尾 哲次 埼玉県所沢市山口5063−1 48−2−504
Claims (1)
- 【請求項1】 一般式[I] 【化1】 〔式中、nは1〜2を示し、R1は低級アルキル基、低
級アルケニル基またはアリール基を示す。〕で表される
ビニル化合物と、一般式[II] R2−N3[II] 〔式中、R2は同一または異なった低級アルキル基で置
換されたシリル基またはアルカリ金属を示す。〕で表さ
れるアジド化合物とを反応させることを特徴とする、化
学式[III] 【化2】 で表される1,2,3−トリアゾールの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23840394A JPH0873445A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 1,2,3−トリアゾールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23840394A JPH0873445A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 1,2,3−トリアゾールの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0873445A true JPH0873445A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=17029690
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP23840394A Pending JPH0873445A (ja) | 1994-09-06 | 1994-09-06 | 1,2,3−トリアゾールの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0873445A (ja) |
-
1994
- 1994-09-06 JP JP23840394A patent/JPH0873445A/ja active Pending
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