JPH086241A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明の目的は、耐刷力の低下を起こすことな
く感光層の溶解性を促進して、残色低減及び高コントラ
ストな感光性平版印刷版を提供することにある。 【構成】本発明は、粗面化し、次いで陽極酸化処理した
アルミニウム板表面を、紫外線吸収剤を含む溶液、又
は紫外線吸収剤とアルカリ水溶液に可溶或いは膨潤す
る化合物を含む溶液により、３４０〜４５０ｎｍにおけ
る吸収極大波長において、反射光学濃度ＤＳが、染色し
ない場合よりも０．０２〜０．５高くなるように着色し
た後、ｏ−キノンジアジド化合物及び飽接化合物を含
むポジ型感光性組成物層、又はｏ−キノンジアジド化
合物を含むポジ型感光性組成物層を塗設して成ることを
特徴とする感光性平版印刷版である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はポジ型の感光性平版印刷
版に関する。

【０００２】

【発明の背景】予め砂目立てし、陽極酸化処理されたア
ルミニウム支持体上にポジ型感光性樹脂組成物の層を設
けてなるポジ型感光性平版印刷版（以下、ポジ型ＰＳ版
ともいう。）は、ポジ透明原画を通して露光すると、露
光部分において現像液に対する溶解性が増し、これをポ
ジ型感光性樹脂組成物の現像液で処理すると感光層の露
光部分が除去されて支持体の親水性表面が露出され、か
くしてポジ画像が形成されることは知られている。

【０００３】ところが近年オリジナルフィルムの作成に
おいて、スキャナーの使用により、フィルムでの網点面
積を減少させることができるようになり、点減りさせる
必要がなくなってきた。さらにベタ濃度の低いリスフィ
ルムにおいては、点減りさせると最小網点が消失してし
まうこととなる。また、最小網点を出すため、露光量を
減少させた場合、フィルムのエッジ部分は光が散乱（ハ
レーション）されるため、その部分の不要画像が版上に
形成され、現像後、消去液にて消失する必要が生じる。
このため、キノンジアジド化合物を感光体とする従来の
ポジ型ＰＳ版では、どうしても点減りが起きてしまい小
点再現性が悪くなってしまっていた。

【０００４】そこで、特公平５−７０８１３号公報に
は、陽極酸化処理したアルミニウム板表面に紫外線吸収
塗料により３４０〜４５０ｎｍにおける吸収極大波長に
おいて反射濃度ＤＳが染色しない場合よりも０．０８〜
０．４高くなるように着色して、調子再現性を忠実に
し、最小網点の再現がよくし、フィルムエッジ跡を発生
し難くするという方法が開示されている。

【０００５】しかしこの技術では、反射光学濃度ＤＳが
高くなると、次第に感光層と支持体砂目との接着性が低
下してしまうので、耐刷力が低いという問題点を有して
いる。また、紫外線吸収塗料を下引きした場合、現像部
に残色が残り易く、画像コントラストが悪いという問題
点をも有している。

【０００６】

【発明の目的】従って本発明の目的は、耐刷力の低下を
起こすことなく感光層の溶解性を促進して、残色低減及
び高コントラストな感光性平版印刷版を提供することに
ある。

【０００７】

【発明の構成】本発明の上記目的は、 １．粗面化し、次いで陽極酸化処理したアルミニウム板
表面を、紫外線吸収剤を含む溶液により、３４０〜４５
０ｎｍにおける吸収極大波長において、反射光学濃度Ｄ
Ｓが、染色しない場合よりも０．０２〜０．５高くなる
ように着色した後、ｏ−キノンジアジド化合物及び飽接
化合物を含むポジ型感光性組成物層を塗設して成ること
を特徴とする感光性平版印刷版、

【０００８】２．飽接化合物が、シクロデキストリンで
あることを特徴とする前記１記載の感光性平版印刷版、

【０００９】３．粗面化し、次いで陽極酸化処理したア
ルミニウム板表面を、紫外線吸収剤とアルカリ水溶液に
可溶或いは膨潤する化合物を含む溶液により、３４０〜
４５０ｎｍにおける吸収極大波長において、反射光学濃
度ＤＳが、染色しない場合よりも０．０８〜０．４高く
なるように着色した後、ｏ−キノンジアジド化合物を含
むポジ型感光性組成物層を塗設して成ることを特徴とす
る感光性平版印刷版、

【００１０】４．アルカリ水溶液に可溶或いは膨潤する
化合物が、水溶性高分子であることを特徴とする前記３
記載の感光性平版印刷版、

【００１１】５．水溶性高分子が、デンプン類、セルロ
ース類、ビニル類、ゼラチン類の群より選ばれることを
特徴とする前記４記載の感光性平版印刷版、

【００１２】６．アルカリ水溶液に可溶或いは膨潤する
化合物が、ノボラック樹脂であることを特徴とする前記
３又は５記載の感光性平版印刷版、の各々により達成さ
れる。

【００１３】

【発明の具体的説明】以下、本発明を詳細に説明する。
先ず、感光性平版印刷版の支持体であるアルミニウム板
には、アルミニウム及びアルミニウム合金が含まれる。
アルミニウム合金としては、種々のものが使用でき、例
えば、マグネシウム、マンガン、珪素、亜鉛、鉛、ビス
マス、クロム、鉄、銅、ニッケル等の金属とアルミニウ
ムの合金が用いられる。

【００１４】本発明に用いられる支持体には、この技術
分野において通常使用されている脱脂処理、砂目立て処
理及び陽極酸化処理等の処理が施されるが、少なくとも
砂目立て処理及び陽極酸化処理がこの順で行われた支持
体を用いることが好ましい。

【００１５】アルミニウム表面の圧延油を除去するため
の脱脂処理としてはトリクレン、シンナー等による溶剤
脱脂、ケロシンとトリエタノール等によるエマルジョン
脱脂等がある。また、脱脂のみでは除去できない汚れや
自然酸化皮膜を除去するために、濃度１〜１５％の苛性
ソーダ等のアルカリ溶液に、２０〜９０℃で５秒〜１０
分浸漬し、次いで濃度１０〜２０％の硝酸または硫酸等
の酸性溶液に１０〜５０℃で５秒〜５分浸漬し、アルカ
リエッチング後の中和及びスマットの除去を行う方法等
が挙げられる。

【００１６】感光層との密着性を良好にし、かつ保水性
を改善するために行われる砂目立て処理方法としては、
機械的に表面を粗面化する、いわゆる機械的粗面化法
と、電気化学的に表面を粗面化する、いわゆる電気化学
的粗面化法がある。機械的粗面化法には例えばボール研
磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法があ
る。また電気化学的粗面化法には、例えば塩酸または硝
酸等を含む電解液中で交流或いは直流によって支持体を
電解処理する方法等がある。この内のいずれか１つ、も
しくは２つ以上の方法を併用することにより、支持体を
砂目立てすることができる。

【００１７】前述のような砂目立て処理して得られた支
持体の表面には、スマットが生成しているので、このス
マットを除去するために適宜水洗あるいはアルカリエッ
チング等の処理を行うことが一般に好ましい。このよう
な処理としては、例えば特公昭４８−２８１２３号公報
に記載されているアルカリエッチング法や特開昭５３−
１２７３９号公報に記載されている硫酸デスマット法等
の処理方法が挙げられる。

【００１８】本発明に好ましく用いられる支持体には、
通常、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるため
に、陽極酸化によって酸化被膜を形成させる。この陽極
酸化では一般的に、硫酸および／またはリン酸等を１０
〜５０％の濃度で含む水溶液を電解液として電流密度１
〜１０Ａ／ｄｍ^２で電解する方法が好ましく用いられる
が、他に米国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載
されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や米国特
許第３，５１１，６６１号明細書に記載されている燐酸
を用いて電解する方法等がある。

【００１９】本発明に好ましく用いられる支持体は、陽
極酸化処理の後、封孔処理が施されることが好ましい。
封孔処理としては、沸騰水処理、水蒸気処理、珪酸ソー
ダ処理、重クロム酸塩水溶液処理、亜硝酸塩処理、酢酸
アンモン処理等が挙げられる。

【００２０】更に本発明に好ましく用いられる支持体
は、本発明による着色処理が施されるが、該支持体には
親水性下塗層を設けてもよい。親水性下塗層としては、
米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載のアルカ
リ金属珪酸塩、米国特許第１，８６０，４２６号明細書
に記載の親水性セルロース、特開昭６０−１４９４９１
号公報、同６３−１６５１８３号公報に記載のアミノ酸
及びその塩、特開昭６０−２３２９９８号公報に記載の
水酸基を有するアミン類及びその塩、特開昭６２−１９
４９４号公報に記載の燐酸塩、特開昭５９−１０１６５
１号公報に記載のスルホ基を有するモノマー単位を含む
高分子化合物等が挙げられる。本発明の着色処理は、該
下塗層に紫外線吸収剤を添加する態様で行ってもよい。

【００２１】上記処理したアルミニウム板表面を、本発
明１及び２においては紫外線吸収剤を含む溶液により、
本発明３〜６においては紫外線吸収剤とアルカリ水溶液
に可溶或いは膨潤する化合物を含む溶液により、３４０
〜４５０ｎｍにおける吸収極大波長において、反射濃度
ＤＳが、染色しない場合よりも０．０２〜０．５高くな
るように着色する。

【００２２】紫外線の吸収波長としては、感光物の吸収
波長と略一致するのがよく、通常使用されるｏ−キノン
ジアジドの吸収波長である３４０〜４５０ｎｍに吸収を
持つものが好ましく、３４０〜４５０ｎｍに吸収極大が
あるものが特に好ましい。このような染料を、水無、有
機溶剤或いは水と有機溶剤の混合溶液として公知の方
法、例えば、ディップ方式、ロールコート方式、バーコ
ート方式等によって塗布する。塗布量としてはｏ−キノ
ンジアジド吸収帯中の染料吸収極大波長における反射光
学濃度ＤＳが、染料を塗布しない場合よりも０．０２〜
０．５高くなるように、また付量は０．５ｇ／ｍ^２以下
にするのが好ましい。ＤＳの増加が０．０２未満では調
子再現性を大きくする効果が弱く、逆に０．５超では感
度低下が大きくなってしまう。尚、反射光学濃度ＤＳは
積分球型反射分光光度計で測定したものである。

【００２３】紫外線吸収剤としては、種々のものが使用
できるが、一塩基酸型酸性染料、即ち、染料１分子中に
１個のスルホン基或いはカルボキシル基しか持たない酸
性染料を使用すると、残色低減効果が大きい。一塩基酸
型酸性染料の具体例としては、

【００２４】

【化１】

【００２５】

【化２】 等を挙げることができる。

【００２６】これらの紫外線吸収剤は、単独又は２種以
上を組み合わせてもよく、必要によりその他の化合物、
例えば、アラビアガム、カルボキシメチルセルロース、
カルボキシエチルセルロース、カルボキシメチルヒドロ
キシエチルセルロース、アルギン酸、ポリアクリル酸及
びアクリル酸誘導体、ビニルメチルエーテルと無水マレ
イン酸との共重合体、酢酸ビニルと無水マレイン酸との
共重合体、ポリビニルスルホン酸及びこれらの塩及び水
溶性金属塩（例えば、酢酸亜鉛）もしくはシリカ、二酸
化チタン等の微粒子等を含んでいてもよい。

【００２７】更にまた、染料のｐＨ調整剤、特にアミ
ン、アミノ酸、アミンの塩、またはアミノ酸の塩を含ん
でいてもよい。このようなアミンとしては、アンモニ
ア、メチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミ
ン、エチルアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミ
ン、プロピルアミン、ジプロピルアミン、トリプロピル
アミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、
トリエタノールアミン、アリルアミン、ジアリルアミ
ン、トリアリルアミン、トリブチルアミン、ｔｅｒｔ−
ブチルアミン、エチレンジアミン、ピペリジン、ピリジ
ン、ヒドラジン、シクロヘキシルアミン、アニリン等
を、また、アミノ酸としては、グリシン、アラニン、バ
リン、ロイシン、イソロイシン、ジヒドロキシエチルグ
リシン、セロン、トレオニン、アスパラギン酸、グルタ
ミン酸、リシン、アルギニン、フェニルアラニン、チロ
シン、ヒスチジン、トリプトファン、プロリン、オキシ
プロリン等を挙げることができる。アミンまたはアミノ
酸の塩となる酸としては、塩酸、硝酸、硫酸、酢酸等が
あり、塩酸が特に好ましい。

【００２８】紫外線吸収剤塗布液のｐＨは、紫外線吸収
剤の吸光度を増大させるようなｐＨにするのが好まし
く、特にｐＨ２．５〜８．０の範囲が好ましい。ｐＨが
２．５より低いと染料が陽極酸化皮膜に強く吸着してし
まい、現像後非画像部が着色されてしまう結果となる。
逆にｐＨが８．０より高いとｏ−キノンジアジドを分解
してしまう危険性が生じるばかりでなく、感光層中の染
料と相互作用をして色調を変えさせる光分解物を発生さ
せる化合物の能力を低下させてしまう結果となる。

【００２９】これらのｐＨ調整剤を添加することによ
り、染料の吸収強度を増加させることができるばかりで
なく、残色低減効果を大きくすることができる。

【００３０】本発明３〜６において、上記の紫外線吸収
剤と共に用いられる化合物としてはアルカリ水溶液に可
溶或いは膨潤する化合物がある。

【００３１】可溶するものとしては水溶性高分子であ
り、水溶性高分子としては、デンプン類（例えば、天然
高分子ゼラチン）、セルロース類（例えば、半合成品の
ヒドロキシプロピルセルロース、カルボキシメチルセル
ロース等）、ビニル類（例えば、ポリビニルアルコー
ル、カルボキシビニルポリマー等）、ゼラチン類の群よ
り選ばれる。配合量は全紫外線吸収剤の塗布液中の０．
０１〜５０重量％が好ましく、また付量としては０．５
ｇ／ｍ^２以下にするのが好ましい。

【００３２】膨潤するものとしては、ノボラック樹脂、
ビニル系（共）重合樹脂、ポリマーラテックス類が好ま
しい。配合量は全紫外線吸収剤の塗布液中の０．０１〜
５０重量％が好ましく、また付量としては０．５ｇ／ｍ
^２以下にするのが好ましい。

【００３３】ノボラック樹脂及びビニル系（共）重合樹
脂としては、後述する感光性組成物層の説明で述べてい
るものを挙げることができる。

【００３４】ポリマーラテックス類としては、下記Ａ群
から選ばれたモノマーの単一重合体または下記Ａ群から
選ばれた２以上のモノマーの共重合体、或いはＡ群及び
Ｂ群より選ばれた夫々少なくとも一種のモノマーの共重
合によって得られるポリマーラテックス、或いはそれら
にＣ群の少なくとも一種のモノマーを組み合わせたポリ
マーラテックスである。

【００３５】Ａ群；下記一般式で表されるモノマー ＣＨＸ＝ＣＹＺ 式中、Ｘは水素原子、メチル基または−ＣＯＯＲ^１ 基
を表し、Ｙは水素原子、メチル基または−（ＣＨ_２）_６
ＣＯＯＲ^２、ハロゲン、ニトリルを表し、Ｚはアリール
基、−ＣＯＯＲ^３、−ＯＲ^３、−Ｏ−ＣＯＲ^３、−ＣＯ
ＮＲ^３、ハロゲン、ニトリルを表し、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３
は同じでも異なっていてもよく、脂肪族基または芳香族
基を表し、ｎは０〜３の整数である。

【００３６】Ｂ群；遊離のカルボン酸基、スルホン酸
基、若しくはリン酸基またはその塩を少なくとも一つ有
するエチレン系モノマー。該カルボン酸のヒドロキシア
ルキルエステル或いはアミド。

【００３７】Ｃ群；ジビニル系モノマー。

【００３８】Ａ群の一般式中、Ｒ^１〜Ｒ^３で代表される
基の内、脂肪族基は直接または分岐アルキル基（環状の
ものも含む）及び置換アルキル基を含む。アルキル基の
炭素数としては、１〜１２が好ましい。。

【００３９】置換アルキル基の置換基としては、アリー
ル基、アリーロキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、アシ
ル基、アルキルカルボニルオキシ基、アリールカルボニ
ルオキシ基、アミノ基（置換アミノ基も含み、置換基と
してはアルキル基、アリール基等。置換基の数は１〜２
である）、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ヘテロ環残基
（ヘテロ原子としては、例えば、酸素原子、窒素原子、
硫黄原子等。環の員数としては５〜６が好ましく、また
環は不飽和でも飽和でもよい。ヘテロ環にはさらに芳香
環が縮合していてもよい。）等を挙げることができる。

【００４０】また、Ｒ^１〜Ｒ^３で代表される基の内、ア
リール基は、勿論置換されたフェニル基やナフチル基を
含み、置換基としては置換アルキル基に関して先に挙げ
た置換基の他にアルキル基等を挙げることができる。Ａ
群のモノマーとしては、例えば、アクリル酸エステル、
メタクリル酸エステル、クロトン酸エステル、ビニルエ
ステル、マレイン酸ジエステル、フマル酸ジエステル、
イタコン酸ジエステル、スチレン類等の単官能モノマー
が挙げられる。

【００４１】さらに、具体的なモノマーとしては、例え
ばメチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロ
ピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、、ｎ−
ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｓｅｃ
−ブチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシル
アクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オク
チルアクリレート、ｅｔｒｔ−オクチルアクリレート、
２−フェノキシエチルアクリレート、２−クロロエチル
アクリレート、２−ブロモエチルアクリレート、４−ク
ロロブチルアクリレート、シアノエチルアクリレート、
２−アセトキシエチルアクリレート、ジメチルアミノエ
チルアクリレート、ベンジルアクリレート、メトキシベ
ンジルアクリレート、２−クロロシクロヘキシルアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、フルフリルアク
リレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、フェ
ニルアクリレート、５−ヒドロキシペンチルアクリレー
ト、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピルアクリ
レート、２−メトキシエチルアクリレート、３−メトキ
シブチルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレー
ト、２−ｉｓｏ−プロポキシエチルアクリレート、２−
ブトキシエチルアクリレート、２−（２−メトキシエト
キシ）エチルアクリレート、２−（２−ブトキシエトキ
シ）エチルアクリレート、ω−メトキシポリエチレング
リコールアクリレート（付加モル数ｎ＝９）、１−ブロ
モ−２−メトキシエチルアクリレート、１，１−ジクロ
ロ−２−エトキシエチルアクリレート、メチルメタクリ
レート、エチルメタクリレート、ｎ−プロピルメタクリ
レート、イソプロピルメタクリレート、ｎ−ブチルメタ
クリレート、イソブチルメタクリレート、ｓｅｃ−ブチ
ルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメ
タクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ペンジ
ルメタクリレート、クロロペンジルメタクリレート、オ
クチルメタクリレート、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアミ
ノエチルメタクリレート、２−（３−フェニルプロピル
オキシ）エチルメタクリレート、ジメチルアミノフェノ
キシエチルメタクリレート、フルフリルメタクリレー
ト、テトラヒドロフルフリルメタクリレート、フェニル
メタクリレート、クレジルメタクリレート、ナフチルメ
タクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、
３−ヒドロキシプロピルメタクリレート、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、トリエチレングリコールモノ
メタクリレート、ジプロピレングリコールモノメタクリ
レート、２−メトキシエチルメタクリレート、３−メト
キシブチルメタクリレート、２−アセトキシエチルメタ
クリレート、アセトアセトキシエチルメタクリレート、
２−エトキシエチルメタクリレート、２−ｉｓｏ−プロ
ポキシエチルメタクリレート、２−ブトキシエチルメタ
クリレート、２−（２−メトキシエトキシ）エチルメタ
クリレート、２−（２−エトキシエトキシ）エチルメタ
クリレート、２−（２−ブトキシエトキシエチルメタク
リレート、ω−メトキシポリエチレングリコールメタク
リレート（付加モル数ｎ＝６）、ビニルアセテート、ビ
ニルプロピオネート、ブニルブチレート、ビニルイソブ
チレート、ビニルジメチルプロピオネート、ビニルエチ
ルブチレート、ビニルバレレート、ビニルカプロエー
ト、ビニルクロルアセテート、ビニルジクロルアセテー
ト、ビニルメトキシアセテート、ビニルブトキシアセテ
ート、ビニルフェニルアセテート、ビニルアセトアセテ
ート、ビニルラクテート、ビニル−β−フェニルブチレ
ート、ビニルシクロヘキシルカルボキシレート、安息香
酸ビニル、サリチル酸ビニル、クロル安息香酸ビニル、
テトラクロル安息香酸ビニル、ナフトエ酸ビニル、スチ
レン、メチルスチレン、ジメチルスチレン、トリメチル
スチレン、エチルスチレン、ジエチルスチレン、イソプ
ロピルスチレン、ブチルスチレン、ヘキシルスチレン、
シクロヘキシルスチレン、デシルスチレン、ベンジルス
チレン、クロルメチルスチレン、トリフルオルメチルス
チレン、エトキシメチルスチレン、アセトキシメチルス
チレン、メトキシスチレン、４−メトキシ−３−メチル
スチレン、ジメトキシスチレン、クロルスチレン、ジク
ロルスチレン、トリクロルスチレン、テトラクロルスチ
レン、ペンタクロルスチレン、ブロムスチレン、ジブロ
ムスチレン、ヨードスチレン、フルオルスチレン、トリ
フルオルスチレン、２−ブロム−４−トリフルオルメチ
ルスチレン、４−フルオル−３−トリフルオルメチルス
チレン、ビニル安息香酸メチルエステル、クロトン酸ブ
チル、クロトン酸ヘキシル、グリセリンモノクロトネー
ト、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコ
ン酸ジブチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジメチ
ル、マレイン酸ジブチル、フマル酸ジエチル、フマル酸
ジヘキシル、フマル酸ジブチルメチルアクリルアミド、
エチルアクリルアミド、プロピルアクリルアミド、イソ
プロピルアクリルアミド、ブチルアクリルアミド、ｔｅ
ｒｔ−ブチルアクリルアミド、ヘプチルアクリルアミ
ド、ｔｅｒｔ−オクチルアクリルアミド、シクロヘキシ
ルアクリルアミド、ベンジルアクリルアミド、ヒドロキ
シメチルアクリルアミド、メトキシエチルアクリルアミ
ド、ジメチルアミノエチルアクリルアミド、ヒドロキシ
エチルアクリルアミド、フェニルアクリルアミド、ヒド
ロキシフェニルアクリルアミド、トリルアクリルアミ
ド、ナフチルアクリルアミド、ジメチルアクリルアミ
ド、ジエチルアクリルアミド、ジブチルアクリルアミ
ド、ジイソブチルアクリルアミド、Ｎ−（１，１−ジメ
チル−３−オキソブチル）アクリルアミド、メチルベン
ジルアクリルアミド、ベンジルオキシエチルアクリルア
ミド、β−シアノエチルアクリルアミド、アクリロイル
モルホリン、Ｎ−メチル−Ｎ−アクリロイルピペラジ
ン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ−（１，１−ジメ
チル−３−ヒドロキシブチル）アクリルアミド、Ｎ−β
−モルホリノエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイル
ヘキサメチレンイミン、Ｎ−ヒドロキシエチル−Ｎ−メ
チルアクリルアミド、Ｎ−２−アセトアミドエチル−Ｎ
−アセチルアクリルアミド、メチルメタクリルアミド、
ｔｅｒｔ−ブチルメタクリルアミド、ｔｅｒｔ−オクチ
ルメタクリルアミド、ベンジルメタクリルアミド、シク
ロヘキシルメタクリルアミド、フェニルメタクリルアミ
ド、ジメチルメタクリルアミド、ジエチルメタクリルア
ミド、ジプロピルメタクリルアミド、ヒドロキシエチル
−Ｎ−メチルメタクリルアミド、Ｎ−メチル−Ｎ−フェ
ニルメタクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルメタ
クリルアミド、メタクリルヒドラジン等；

【００４２】アリル化合物：例えば、酢酸アリル、カプ
ロン酸アリル、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、
パルミチン酸アリル、ステアリン酸アリル、安息香酸ア
リル、アセト酢酸アリル、乳酸アリル、アリルオキシエ
タノール、アリルブチルエーテル、アリルフェニルエー
テル等；

【００４３】ビニルエーテル類：例えば、メチルビニル
エーテル、ブチルビニルエーテル、ヘキシルビニルエー
テル、オクチルビニルエーテル、デシルビニルエーテ
ル、エチルヘキシルビニルエーテル、メトキシエチルビ
ニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、クロル
エチルビニルエーテル、１−メチル−２，２−ジメチル
プロピルビニルエーテル、２−エチルブチルビニルエー
テル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、ジエチレング
リコールビニルエーテル、ジメチルアミノエチルビニル
エーテル等；

【００４４】ビニルケトン類：例えば、メチルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン、メトキシエチルビニルケ
トン等；

【００４５】オレフィン類：例えば、ジシクロペンタジ
エン、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテ
ン、１−ヘキセン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘ
プテン、１−オクテン、１−デセン、５−メチル−１−
ノネン、５，５−ジメチル−１−オクテン、４−メチル
−１−ヘキセン、４，４−ジメチル−１−ペンテン、５
−メチル−１−ヘプテン、５−メチル−１−ヘプテン、
４，４−ジメチル−１−ヘキセン、５，５，６−トリメ
チル−１−ヘプテン、１−ドデセン及び１−オクタデセ
ン等の無置換炭化水素、ブタジエン、イソプレン、クロ
ロプレン等のジエン化合物； ビニル異節環化合物（複素原子としては、例えば、窒素
原子、酸素原子、硫黄原子等、また異節環の員数として
は、例えば５〜６で、この環にはさらに芳香環が結合し
ていてもよい。）：例えば、Ｎ−ビニルオキサゾリド
ン、ビニルピリジン、ビニルピコリン、Ｎ−ビニルイミ
ダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−
ビニルトリアゾール、Ｎ−ビニル−３，５−ジメチルト
リアゾール、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニル−３，
５−ジメチルピラゾール、Ｎ−ビニルカルバゾール、ビ
ニルチオフエン、Ｎ−ビニルサクシンイミド、Ｎ−ビニ
ルグルタルイミド、Ｎ−ビニルアジピミド、Ｎ−ビニル
ピロリドン、Ｎ−ビニルピペリドン、Ｎ−ビニル−ε−
カプロラクタム、Ｎ−ビニル−２−ピリドン等；

【００４６】不飽和ニトリル類：例えば、アクリロニト
リル、メタクリロニトリル等；

【００４７】ハロゲン化ビニル化合物；塩化ビニル、塩
化ビニリデン、臭化ビニル、沃化ビニル等。

【００４８】Ｂ群のモノマーの具体例としては、例えば
次のような単官能モノマーが挙げられる。アクリル酸、
メタクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、イタコン酸モ
ノアルキル（例えば、イタコン酸モノメチル、イタコン
酸モノエチル、イタコン酸モノブチル等）、マレイン酸
モノアルキル（例えば、マレイン酸モノメチル、マレイ
ン酸モノエチル、マレイン酸モノブチル、マレイン酸モ
ノオクチル等）、シトラコン酸、スチレンスルホン酸、
ビニルベンジルスルホン酸、ビニルスルホン酸、アクリ
ロイルオキシアルキルスルホン酸（例えば、アクリロイ
ルオキシメチルスルホン酸、アクリロイルオキシエチル
スルホン酸、アクリロイルオキシプロピルスルホン酸、
アクリロイルオキシブチルスルホン酸等）、メタクリロ
イルオキシアルキルスルホン酸（例えばメタクリロイル
オキシメチルスルホン酸、メタクリロイルオキシエチル
スルホン酸、メタクリロイルオキシプロピルスルホン
酸、メタクリロイルオキシブチルスルホン酸等）、アク
リルアミドアルキルスルホン酸（例えば、２−アクリル
アミド−２−メチルエタンスルホン酸、２−アクリルア
ミド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−アクリルア
ミド−２−メチルブタンスルホン酸等）、メタクリルア
ミドアルキルスルホン酸（例えば、２−メタクリルアミ
ド−２−メチルエタンスルホン酸、２−メタクリルアミ
ド−２−メチルプロパンスルホン酸、２−メタクリルア
ミド−２−メチルブタンスルホン酸等）、アクリロイル
オキシアルキルホスフェート（例えば、アクリロイルオ
キシエチルホスフェート、３−アクリロイルオキシプロ
ピルホスフェート等）、メタクリロイルオキシアルキル
ホスフェート（例えば、メタクリロイルオキシエチルホ
スフェート、３−メタクリロイルオキシプロピルホスフ
ェート等）等。

【００４９】また、前記のモノマー中のアルキル基とし
ては、例えば、炭素数１〜８程度のものである。これら
の酸はアルカリ金属イオン（好ましくはＮａ^＋、Ｋ^＋）
またはアンモニウムイオンの塩であってもよい。

【００５０】Ｃ群のモノマーの具体例としては、ポリオ
ールの不飽和エステル、特にα−メチレンカルボン酸の
ようなエステル、例えば、エチレンジ（メタ）アクリレ
ート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセロールジ（メタ）アクリレート、グリセロールト
リ（メタ）アクリレート、１，３−プロピレンジ（メ
タ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジオール
（メタ）アクリレート、１，４−ベンゼンジオールジ
（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、１，３−プロピレングリコール
ジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ
（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ
（メタ）アクリレート。不飽和アミド、特にα−メチレ
ンカルボン酸のアミド及び特にα，ω−ジアミン及び酸
素が中間に介在するω−ジアミンのもの、例えば、メチ
レンビス（メタ）アクリルアミド、エチレンビス（メ
タ）アクリルアミド、１，６−ヘキサメチレンビス（メ
タ）アクリルアミド及びジエチレントリアミントリス
（メタ）アクリルアミド、ジビニルサクシネート、ジビ
ニルアジペート、ジビニルフタレート、ジビニルテレフ
タレート、ジビニルベンゼン−１，３−ジスルホネート
及びジビニルブタン−１，４−ジスルホネートのような
ビニルエステル、ソルブアルデヒド、即ち、２，４−ヘ
キサジエナールのような不飽和アルデヒド。

【００５１】（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル
アミドのような中和のα−メチレンカルボン酸ポリエス
テル、ポリアミド及び（または）第１及び第２アミノア
ルコール、アミノポリオールまたはポリアミノアルコー
ルまたはポリオールのエステルアミド及び前記アルコー
ルの類似誘導体、例えば、β−メタクリルアミドエチル
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（β−ヒドロキシエチ
ル）−β−（メタアクリルアミド）エチルアクリレー
ト、Ｎ，Ｎ−ビス（β−メタクエイルオキシエチル）ア
クリルアミド、その他、ジビニルベンゼンやキシリレン
ジイソシアネートとヒドロキシエチル（メタ）アクリレ
ートからのウレタン化合物、例えば、下記の化学構造を
有するようなウレタン化合物

【００５２】

【化３】 のようなイソシアネートとヒドロキシアルキル化合物か
らのウレタン化合物等が有用である。尚、上記におい
て、「（メタ）アクリレート」とは「アクリレート」及
び「メタクリレート」の両者を意味し、「（メタ）アク
リルアミド」も同様である。

【００５３】ここで使用できるラテックス重合体は、例
えば、Ｐｒｅｐａｒａｔｉｖｅ Ｍｅｔｈｏｄｓ ｏｆ
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ， Ｉｎｔｅｒ
ｓｃｉｅｎｃｅ Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ発行の第２１６
頁及び第２３９頁に記載されている乳化重合法に従って
合成することができる。

【００５４】例を挙げると、１リットルの三口フラスコ
に４２０ｍｌの蒸留水を採り、メタ重亜硫酸カリウム
０．２２５ｇを添加し、攪拌して溶解した後、窒素パー
ジし、アクリロニトリル３３．３７ｇ、塩化ビニリデン
１４５．３ｇ，アクリル酸１４．１ｇ及びトリトン７７
０（界面活性剤）１４．１ｇを添加し、過硫酸カリウム
０．４５ｇを加えて、３０℃の温度下に１５０ｒｐｍの
回転数で攪拌を行って反応させる。

【００５５】ラテックスの調製において、乳化重合法が
利用できない樹脂、例えば、ホルマール樹脂またはブチ
ラール樹脂のようなアセタール樹脂、酢酸セルロース、
プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、クロトン酸
セルロース等のセルロースエステル、該エステル化合物
とフタール酸、コハク酸、セバチン酸、マレイン酸等の
ジカルボン酸との共エステル化合物、メチルセルロー
ス、エチルセルロース、プロピルセルロース、ブチルセ
ルロース、アリルセルロース、ベンジルセルロース、シ
クロヘキシルセルロース、シアノエチルセルロース等の
セルロースエーテル化合物、ポリエステル、ポリアミ
ド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド等の縮合重
合により生成する高分子化合物等の本発明に使用し得る
樹脂として有用である。該化合物は特開昭５２−３６５
３号公報に開示されている方法によりエマルジョンを調
製することができる。

【００５６】また市販のラテックス液も利用することが
できる。例えば、ポリアクリル酸エステル共重合体のエ
マルジョン；商品名、ジュリマーＥＴ−４１０、ジュリ
マーＳＥＫ−３０１、ジュリマーＳＥＫ−１０１、ジュ
リマーＦＣ−３０、ジュリマーＦＣ−６０、ジュリマー
ＦＣ−８０、ジュリマーＳＥ−５１０１、ジュリマーＳ
Ｅ−５１０２、ジュリマーＳＥ−５１０３、ジュリマー
ＳＥ−５３０１、ジュリマーＳＥ−３６１、ジュリマー
ＳＥ−３６３、ジュリマーＳＥ−３６５、ジュリマーＳ
Ｅ−６３０２、ジュリマーＳＥ−６３１１、ジュリマー
ＳＥ−６３１２（以上、日本純薬社製）、Ｎｉｐｏｌ
ＬＸ８１１、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８１４、Ｎｉｐｏｌ Ｌ
Ｘ８４１、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８５１、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ
８５２、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８５４、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８
５６、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８６０、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ８７
４（以上、日本ゼオン社製）、プライマルＡＣ−２２、
プライマルＡＣ−３３、プライマルＡＣ−３４４４、プ
ライマルＡＣ−５５、プライマルＡＣ−６１、プライマ
ルＡＣ−３８２、プライマルＡＳＥ−６０、プライマル
ＡＳＥ−７５、プライマルＡＳＥ−１０８、プライマル
Ｂ−１５、プライマルＢ−４１、プライマルＢ−７４、
プライマルＢ−３３６、プライマルＢ−５０５、プライ
マルＢ−８３２、プライマルＢ−９２４、プライマルＣ
−７２、プライマルＥ−３２、プライマルＥ−３５８、
プライマルＨＡ−８、プライマルＨＡ−１６、プライマ
ルＨＡ−２４、プライマルＩ−９４、プライマルＬＣ−
４０、プライマルＬＴ−７６、プライマルＬＴ−８７、
プライマルＭＣ−４５３０、プライマルＮ−５８０、プ
ライマルＰ−６Ｎ、プライマルＰ−１０６０、プライマ
ルＳ−１、プライマルＴＲ−４９、プライマル８５０
（以上、日本アクリル化学社製）、

【００５７】アクリロニトリル・ブタジエン系ラテック
ス；Ｎｉｐｏｌ １５５１、Ｎｉｐｏｌ １５６１、Ｎ
ｉｐｏｌ １５６２、Ｎｉｐｏｌ １５７１、Ｎｉｐｏ
ｌ１５７７、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ５１１、Ｎｉｐｏｌ Ｌ
Ｘ５１３、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ５３１、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ
５３１Ｂ（以上、日本ゼオン社製）

【００５８】スチレン・ブタジエン系ラテックス；Ｎｉ
ｐｏｌ ＬＸ１１１、Ｎｉｐｏｌ４８５０、Ｎｉｐｏｌ
４８５０Ａ、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ１１０、Ｎｉｐｏｌ
ＬＸ１１９、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ２０４、ＮｉｐｏｌＬＸ
２０６、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ２０９、Ｎｉｐｏｌ ２５０
７、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ３０３、Ｎｉｐｏｌ ２５１８Ｆ
Ｓ、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４１５Ａ、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４２
６、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４３０、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４３２
Ａ、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４３３、ＮｉｐｏｌＬＸ４７２、
Ｎｉｐｏｌ ２５７０Ｘ５、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４０７Ｂ
Ｐ、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４０７Ｃ、Ｎｉｐｏｌ ＬＸ４０
７Ｆ、Ｎｉｐｏｌ ４０７Ｇ（以上、日本ゼオン社
製）、

【００５９】塩化ビニル系ラテックス；Ｇｅｏｎ １５
０Ｘ１５、Ｇｅｏｎ ３５１、Ｇｅｏｎ ５７６（以
上、日本ゼオン社製）、

【００６０】ウレタン樹脂エマルジョン；ＶＯＮＤＩＣ
１０４１ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ １０５０Ｂ−ＮＳ、Ｖ
ＯＮＤＩＣ １２３０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ １２５０、
ＶＯＮＤＩＣ １３１０ＮＳＣ、ＶＯＮＤＩＣ １３２
０ＮＳＣ、ＶＯＮＤＩＣ １５１０、ＶＯＮＤＩＣ １
６１０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ １５１２ＮＳＣ、ＶＯＮＤ
ＩＣ １６４０、ＶＯＮＤＩＣ １６６０ＮＳ、ＶＯＮ
ＤＩＣ １６７０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ １９３０Ａ−Ｎ
Ｓ、ＶＯＮＤＩＣ １９８０ＮＳ、ＶＯＮＤＩＣ １２
０５、ＶＯＮＤＩＣ ２２２０、ＶＯＮＤＩＣ ２２３
０（以上、大日本インキ化学社製）、アロン ネオタン
ＵＥ−１１０１、アロン ネオタンＵＥ−１２００、ア
ロン ネオタンＵＥ−１３００、アロン ネオタンＵＥ
−１４２０、アロン ネオタンＵＥ−２１０３、アロン
ネオタンＵＥ−２２００、アロン ネオタンＵＥ−２
６００、アロン ネオタンＵＥ−２９００、アロン ネ
オタンＵＥ−５４０４、アロン ネオタンＵＥ−５６０
０（以上、東亜合成化学工業社製）、

【００６１】コロイド分散型ウレタン樹脂；ＨＹＤＲＡ
Ｎ ＨＷ−３０１、ＨＹＤＲＡＮＨＷ−３１０、ＨＹＤ
ＲＡＮ ＨＷ−３１１、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−３１２
Ｂ、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−３３３、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ
−３４０、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−３５０、ＨＹＤＲＡＮ
ＨＷ−１１１、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−１４０、ＨＹＤ
ＲＡＮ ＨＷ−９１０、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−９２０、
ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−９３０、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−９
４０、ＨＹＤＲＡＮ ＨＷ−９５０、ＨＹＤＲＡＮ Ｈ
Ｗ−９６０（以上、大日本インキ化学工業社製）等を挙
げることができる。但し、市販のラテックスを使用する
場合は使われている乳化安定剤の種類等により性能が左
右されることを考慮する必要がある。

【００６２】乳化重合法によらない方法で調製したラテ
ックスを含めてポリマーはポリマーの主鎖または側鎖に
ヒドロキシル、アミノ、アミド、イミノ、イミド、ニト
リロ、カルボキシル、スルホニル、スルホンオキシ、イ
ソシアネート、ウレタン、アゾイミド、アゾ、ヒドラジ
ノ、カルバミド、カルバミル、エポキシ、メルカプト、
チオ及びスルホンアミド基から選択される少なくとも１
種の基を含むものが好ましい。エマルジョン中の親油性
樹脂の粒子径は特に制限はないが、一般に約０．０３〜
１０μｍの範囲内に分布をもつものが使えるが、好まし
くは０．０５〜５μｍ程度である。エマルジョン粒子を
形成するポリマーは高分子量のものからオリゴマー程度
のもの、分子量で約２０００から約２０００００位のも
のまで使うことができるし、それらの混合系でもよい。
また、粒子を形成するポリマーは、架橋されていてもよ
いし、活性光線または熱によって硬化する性質を有する
ものであってもよい。これらの高分子ラテックスは単独
で用いられてもよいが、複数のものを混合してもよい。

【００６３】以上のアルカリ水溶液に可溶或いは膨潤す
る化合物は、単独もしくは二種以上を組み合わせて使用
することもできる。

【００６４】以上のように着色処理された支持体上に、
本発明１及び２においてはｏ−キノンジアジド及び飽接
化合物を含む感光性組成物層（感光層）を、本発明３〜
６においてはｏ−キノンジアジドを含む感光性組成物層
を塗布することにより本発明の感光性平版印刷版が得ら
れる。この感光層中に用いられる感光性物質としては特
に限定されるものはなく、例えば、後述するような通
常、感光性平版印刷版に用いられている種々のものを用
いることができる。

【００６５】飽接化合物 本発明１及び２において使用される飽接化合物として
は、一般的な飽接化合物が挙げられ、例えば、環状Ｄ−
グルカン酸、シクロファン類、中性ポリリガンド、環状
ポリアニオン、環状ポリカチオン、環状ペプチド、スフ
ェランド（ＳＰＨＥＲＡＮＤＳ）、キャビタンド（ＣＡ
ＶＩＴＡＮＤＳ）及びそれらの非環状類縁体が挙げられ
る。

【００６６】環状Ｄ−グルカン類及びその非環状類縁体
としては、例えば、α−Ｄ−グルコピラノースがグリコ
キシド結合によって連なった化合物が挙げられる。該化
合物としては、デンプン、アミロース、アミロペクチン
等のＤ−グルコピラノース基により構成される糖質類、
α−シクロデキストリン、β−シクロデキストリン、γ
−シクロデキストリン、Ｄ−グルコピラノース基の重合
度が９以上のシクロデキストリン等のシクロデキストリ
ン及びＳＯ_３Ｃ_６Ｈ_５ＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５ＳＯ_３基、ＮＨＣ
Ｈ_２ＣＨ_２ＮＨ基、ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２ＮＨＣＨ_２ＣＨ_２
ＮＨ基、ＳＣ_６Ｈ_５基、Ｎ_３基、ＮＨ_２基、ＮＥｔ
_２基、ＳＣ（ＮＨ_２ ^＋）ＮＨ_２基、ＳＨ基、ＳＣＨ_２Ｃ
Ｈ_２ＮＨ_２基、イミダゾール基、エチレンジアミン基等
の置換基を導入した下記式（化４）

【００６７】

【化４】 ここで、ＸはＣ_６Ｈ_５、Ｎ_３、ＮＨ_２、Ｎ（Ｃ_２Ｈ_５）
_２、ＳＣ（ＮＨ_２ ^＋）ＮＨ_２、ＳＨ、ＳＣＨ_２ＣＨ_２Ｎ
Ｈ_２または

【００６８】

【化５】 であり、

【００６９】

【化６】 はシクロデキストリンを表す、で表されるＤ−グルカン
類の修飾物が挙げられる。

【００７０】シクロファン類とは、芳香環が種々の結合
によりつながった構造を有する環状化合物であり、多く
の化合物が知られている。芳香環を結ぶ結合としては、
例えば、単結合、−（ＣＲ_１Ｒ_２）_ｍ−結合、−Ｏ（Ｃ
Ｒ_１Ｒ_２）_ｍＯ−結合、−ＮＨ（ＣＲ_１Ｒ_２）_ｍＮＨ−
結合、−（ＣＲ_１Ｒ_２）_ｐＮＲ_３（ＣＲ_４Ｒ_５）_ｑ−結
合、−（ＣＲ_１Ｒ_２）_ｐＮ^＋Ｒ_３Ｒ_４（ＣＲ_５Ｒ_６）_ｑ
−結合、−（ＣＲ_１Ｒ_２）_ｐＳ^＋Ｒ_３（ＣＲ_４Ｒ_５）_ｑ
−結合、−ＣＯ_２−結合、−ＣＯＮＲ−結合（ここで、
Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４、Ｒ_５及びＲ_６は、同一でも異
なっていてもよく、水素原子または炭素数１〜３のアル
キル基を示し、ｍ、ｐ及びｑは、同一でも異なっていて
もよく、１〜４の整数を示す）等が挙げられる。該化合
物としては、例えば下記式

【００７１】

【化７】 ここで、

【００７２】

【化８】 は−ＣＨ_２ＣＨ_２−を表す、で表されるパラシクロファ
ン類、トリ−ｏ−テイモタイド、シクロトリヴェラトリ
レンに代表される下記式

【００７３】

【化９】 で表されるオルトシクロファン類、メタシクロファン、
カリックスアレン、レゾルシノール−アルデヒド環状オ
リゴマー等に代表される下記式

【００７４】

【化１０】 ここでＲはＣＨ_２Ｃ_６Ｈ_５である、

【００７５】

【化１１】 ここで、ＲはＣｌ、ＣＨ_３、ｔ−Ｃ_４Ｈ_９、Ｃ_６Ｈ_５、
ＣＯ_２Ｃ_２Ｈ_５またはｉ−Ｃ_３Ｈ_７であり、ｎは４、
５、６、７または８である、

【００７６】

【化１２】 ここで、ＲはＣＨ_３またはＣ_６Ｈ_５である、で表される
メタシクロファン類、或いは下記式

【００７７】

【化１３】 ここで、ＸはＣＨ_２、−Ｓ−または単結合であり、Ｒは
ＣＨ_３またはｔ−Ｃ_４Ｈ_９であり、ｎは１〜１０の整数
である、で表されるパラ置換フェノール類非環状オリゴ
マーが挙げられる。

【００７８】中性ポリリガンドとしては、クラウン化合
物、クリプタンド、環状ポリアミン及びそれらの非環状
類縁体が挙げられる。該化合物は、金属イオンを有効に
取り込むことが知られているが、カチオン性有機分子も
有効に取り込むことができる。

【００７９】ｏ−キノンジアジド化合物を含む感光性組
成物 本発明の感光層において使用されるｏ−キノンジアジド
化合物を含む感光性組成物においては、前記したアルカ
リ水溶液に可溶な化合物を併用することが好ましい。ｏ
−キノンジアジド化合物としては、例えばｏ−ナフトキ
ノンジアジドスルホン酸と、フェノール類及びアルデヒ
ドまたはケトンの重縮合樹脂とのエステル化合物が挙げ
られる。

【００８０】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾ
ール、３，５−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フラフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。前記ケトンとして
はアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。

【００８１】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−、ｐ−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。前記
ｏ−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類のＯＨ
基に対するｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸の縮合
率（ＯＨ基１個に対する反応率）は、１５〜８０％が好
ましく、より好ましいのは２０〜４５％である。

【００８２】更に本発明に用いられるｏ−キノンジアジ
ド化合物としては特開昭５８−４３４５１号公報に記載
のある以下の化合物も使用できる。即ち、例えば１，２
−ベンゾキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−
ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベ
ンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、１，２−ナフト
キノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の１，２−
キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサー
ル（Ｊ．Ｋｏｓａｒ）著「ライト−センシティブ・シス
テムズ」（Ｌｉｇｈｔ−Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ Ｓｙｓｔ
ｅｍｓ）第３３９〜３５２頁（１９６５年）、ジョン・
ウィリー・アンド・サンズ（ＪｏｈｎＷｉｌｌｅｙ ＆
Ｓｏｎｓ）社（ニューヨーク）やダブリュ・エス・デ
ィ・フォレスト（Ｗ．Ｓ．Ｄｅ Ｆｏｒｅｓｔ）著「フ
ォトレジスト」（Ｐｈｏｔｏｒｅｓｉｓｔ）第５０巻
（１９７５年）、マックローヒル（Ｍｃ Ｇｒａｗ Ｈ
ｉｌｌ）社（ニューヨーク）に記載されている１，２−
ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸フェニルエステ
ル、１，２，１´，２´−ジ−（ベンゾキノンジアジド
−４−スルホニル）−ジヒドロキシビフェニル、１，２
−ベンゾキノンジアジド−４−（Ｎ−エチル−Ｍ−β−
ナフチル）−スルホンアミド、１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸シクロヘキシルエステル、１−
（１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル）−
３，５−ジメチルピラゾール、１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン−４´−ヒドロキシジフェニル−
４´−アゾ−β−ナフトール−エステル、Ｎ，Ｎ−ジ−
（１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル）−
アニリン、２´−（１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホニルオキシ）−１−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン−
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、１，２
−ナフトキノノジアジド−５−スルホン酸−２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、１，２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド２モルと
４，４´−ジアミノベンゾフェノン１モルとの縮合物、
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリ
ド２モルと４，４´−ジヒドロキシ−１，１´−ジフェ
ニルスルホン１モルとの縮合物、１，２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸クロリド１モルとプルプロガ
リン１モルとの縮合物、１，２−ナフトキノンジアジド
−５−（Ｎ−ジヒドロアビエチル）−スルホンアミド等
の１，２−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。また、特公昭３７−１９５３号、同３７−３６２７
号、同３７−１３１０９号、同４０−２６１２６号、同
４０−３８０１号、同４５−５６０４号、同４５−２７
３４５号、同５１−１３０１３号、特開昭４８−９６５
７５号、同４８−６３８０２号、同４８−６３８０３号
各公報に記載された１，２−キノンジアジド化合物も挙
げることができる。

【００８３】上記ｏ−キノンジアジド化合物のうち、
１，２−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドをピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は２，３，４−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンと反応させて得られるｏ−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。本発明に用
いられるｏ−キノンジアジド化合物としては上記化合物
を各々単独で用いてもよいし、２種以上組合せて用いて
もよい。

【００８４】ｏ−キノンジアジド化合物の感光性組成物
中に占める割合は、６〜６０重量％が好ましく、特に好
ましいのは、１０〜５０重量％である。アルカリ可溶性
樹脂としては、ノボラック樹脂、フェノール性水酸基を
有するビニル系重合体ないし共重合体、特開昭５５−５
７８４１号公報に記載されている多価フェノールとアル
デヒド又はケトンとの縮合樹脂等の重合体が挙げられ
る。

【００８５】本発明に使用されるノボラック樹脂として
は、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１
号公報に記載されているようなフェノール・クレゾール
・ホルムアルデヒド共重合体樹脂、特開昭５５−１２７
５５３号公報に記載されているようなｐ−置換フェノー
ルとフェノールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒ
ドとの共重合体樹脂等が挙げられる。

【００８６】前記ノボラック樹脂の分子量（ポリスチレ
ン標準）は、好ましくは数平均分子量Ｍｎが３．００×
１０^２〜７．５０×１０^３、重量平均分子量Ｍｗが１．
００×１０^３〜３．００×１０^４、より好ましくはＭｎ
が５．００×１０^２〜４．００×１０^３、Ｍｗが３．０
０×１０^３〜２．００×１０^４である。上記ノボラック
樹脂は単独で用いてもよいし、２種以上組合せて用いて
もよい。

【００８７】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は５〜９５重量％が好ましい。又、本発明に好
ましく用いられるフェノール性水酸基を有するビニル系
共重合体としては、該フェノール性水酸基を有する単位
を分子構造中に有する重合体であり、下記一般式［Ｉ］
〜［Ｖ］の少なくとも１つの構造単位を含む重合体が好
ましい。

【００８８】

【化１４】

【００８９】［式中、Ｒ_１およびＲ_２はそれぞれ水素原
子、アルキル基又はカルボキシル基、好ましくは水素原
子を表わす。Ｒ_３は水素原子、ハロゲン原子又はアルキ
ル基を表わし、好ましくは水素原子又はメチル基、エチ
ル基等のアルキル基を表わす。Ｒ_４は水素原子、アルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表わし、好ましく
は水素原子を表わす。Ａは窒素原子又は酸素原子と芳香
族炭素原子とを連結する、置換基を有していてもよいア
ルキレン基を表わし、ｍは０〜１０の整数を表わし、Ｂ
は置換基を有していてもよいフェニレン基又は置換基を
有してもよいナフチレン基を表わす。］

【００９０】本発明に用いられる重合体としては共重合
体型の構造を有するものが好ましく、前記一般式［Ｉ］
〜一般式［Ｖ］でそれぞれ示される構造単位と組合せて
用いることができる単量体単位としては、例えばエチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のエチレン系不飽和オフィレン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ク
ロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン、マレイン
酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、
例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸−ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ド
デシル、アクリル酸−２−クロロエチル、アクリル酸フ
ェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル
類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばアクリ
ルアニリド、ｐ−クロロアクリルアニリド、ｍ−ニトロ
アクリルアニリド、ｍ−メトキシアクリルアニリド等の
アニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピアン酸ビニル、
ベンゾエ酸ビニル、酢酸ビニル等のビニルエステル類、
例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエ
ーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデン
クロライド、ビニリデンシアナイド、例えば１−メチル
−１−メトキシエチレン、１，１−ジメトキシエチレ
ン、１，２−ジメトキシエチレン、１，１−ジメトキシ
カルボニルエチレン、１−メチル−１−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えばＮ−ビニルピロール、Ｎ
−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビ
ニルピロリデン、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル
系単量体がある。これらのビニル系単量体は、不飽和二
重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する。

【００９１】上記の単量体のうち脂肪族モノカルボン酸
のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れ
た性能を示し、好ましい。これらの単量体は、本発明に
用いられる重合体中にブロックまたはランダムのいずれ
かの状態で結合していてもよい。

【００９２】本発明に用いられるビニル系（共）重合体
の感光性組成物中に占める割合は０．５〜７０重量％で
ある。ビニル系（共）重合体は、上記重合体を単独で用
いてもよいし、又２種以上組合せて用いてもよい。又、
他の高分子化合物等と組合せて用いることもできる。

【００９３】上記本発明の飽接化合物は、感光性組成物
中に０．１〜１０重量％、さらに０．５〜５重量％含有
されることが好ましい。また、上記範囲内であれば二種
以上組み合わせて用いることもできる。

【００９４】尚、以上説明した感光性組成物には、露光
により可視画像を形成させるプリントアウト材料を添加
することはできる。プリントアウト材料は露光により酸
もしくは遊離基を生成する化合物と相互作用することに
よってその色調を変える有機染料よりなるもので、露光
により酸もしくは遊離基を生成する化合物としては、例
えば特開昭５０−３６２０９号公報に記載のｏ−ナフト
キノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニド、特開昭５
３−３６２２３号公報に記載されているｏ−ナフトキノ
ンジアジド−４−スルホン酸クロライドと電子吸引性置
換基を有するフェノール類、またはアニリン酸とのエス
テル化合物またはアミド化合物、特開昭５５−７７７４
２号公報、特開昭５７−１４８７８４号公報等に記載の
ハロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニ
ウム塩等が挙げられる。

【００９５】また感光性組成物には、上記の素材の他、
必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機酸、酸無水物な
どを添加することができる。

【００９６】更に感光性組成物には、該感光性組成物の
感脂性を向上するために例えば、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチル
フェノールホルムアルデヒド樹脂やｐ−ｎ−オクチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂や、あるいはこれらの樹
脂がｏ−キノンジアジド化合物で部分的にエステル化さ
れている樹脂などを添加することもできる。

【００９７】これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
支持体表面に塗布乾燥させることにより、感光層を設け
て、感光性平版印刷版を製造することができる。

【００９８】本発明の感光性組成物を溶解する際に使用
し得る溶媒としては、メチルセロソルブ、メチルセロソ
ルブアセテート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブ
アセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチ
レングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコー
ルメチルエチルエーテル、ジエチレングリコールジエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノイソプロピルエ
ーテル、プロピレングリコール、プロピレングリコール
モノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール
モノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールジカルボン酸メチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチルエー
テル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸ア
ミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸
メチル、酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチル
スルホキシド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケ
トン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジ
アセトンアルコール、アセチルアセトン、γ−ブチロラ
クトン等が挙げられる。これらの溶媒は、単独あるいは
２種以上混合して使用することができる。

【００９９】感光性組成物を支持体表面に塗布する際に
用いる塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回
転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ塗布、エアーナイ
フ塗布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等
が用いられる。この際塗布量は用途により異なるが、例
えば固形分として０．０５〜５．０ｇ／ｍ^２の塗布量が
好ましい。こうして得られた感光性平版印刷版の使用に
際しては、従来から常用されている方法を適用すること
ができ、例えば線画像、網点画像などを有する透明原画
を感光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液
を用いて非画像部の感光性層を除去することによりレリ
ーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、水銀
灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカル
ランプ、カーボンアーク灯などが使用される。

【０１００】次に本発明に好ましく用いられる現像液に
ついて説明する。本発明に好ましく使用される現像液と
しては、アルカリ水溶液が好ましく、例えば、珪酸ナト
リウム、珪酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリ
ウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウム、
炭酸ナトリウム、炭酸カリウム等の水溶液のようなアル
カリ水溶液がある。このときのアルカリ水溶液の濃度
は、感光性組成物及びアルカリの種類により異なるが、
概して０．１〜１０重量％の範囲が適当であり、又酸ア
ルカリ水溶液には必要に応じ界面活性剤やアルコール等
のような有機溶媒を加えることもできる。

【０１０１】有機溶媒としては、例えば、ベンジルアル
コール、２−ブトキシエタノール、トリエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、グリ
セリン、エチレングリコール、ポリエチレングリコー
ル、ポリプロピレングリコール等がある。このような有
機溶剤は、現像液中に総重量に対して５重量％以下の範
囲に維持されるような範囲で、現像液または補充液中に
含有させておくことができる。

【０１０２】本発明に好ましく使用される現像液または
補充液には、さらに界面活性剤を含有させることができ
る。これにより現像液の処理能力（単位容積の現像液が
溶解除去できる感光層の量）を向上させることができ、
さらに最適な結果を与える現像条件（温度及び処理時間
等）の巾を広げることができる。このような界面活性剤
の好ましいものには、アニオン界面活性剤と両性界面活
性剤に含まれる。アニオン界面活性剤の好ましい具体例
には、例えば、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム
のようなアルキルベンゼンスルホン酸塩類（該アルキル
基の炭素原子数８〜１８、より好ましくは１２〜１
６）、例えば、イソプロピルナフタレンスルホン酸ナト
リウムのようなアルキルナフタレンスルホン酸塩類（該
アルキル基の炭素数は３〜１０）、ナフタレンスルホン
酸塩のホルマリン縮合物、ジアルキルスルホこはく酸塩
類（該アルキル基の炭素数は２〜１８）、ジアルキルア
ミドスルホン酸塩類（該アルキル基の炭素数は１１〜１
７）等が含まれる。両性界面活性剤の好ましい具体例に
は、イミダゾリン誘導体、例えば、Ｎ−アルキル−Ｎ，
Ｎ，Ｎ−トリス（カルボキシメチル）アンモニウム（該
アルキル基の炭素数は１２〜１８）、Ｎ−アルキル−Ｎ
−カルボキシメチル−Ｎ，Ｎ−ジヒドロキシエチルアン
モニウム（該アルキル基の数は１２〜１８）等ベタイン
型化合物が含まれる。かかる界面活性剤の使用量は特に
制限はないが、一般的には使用時の現像液の総重量に対
して約０．００３〜約３重量％、より好ましくは０．０
０６〜１重量％の範囲内に維持されるように現像液及び
補充液中に含有させられる。

【０１０３】本発明に好ましく使用される現像液及び補
充液には、さらに消泡剤を含有させることができる。好
適な消泡剤には、米国特許３，２５０，７２７号、同
３，５４５，９７０号、英国特許１，３８２，９０１
号、同１，３８７，７１３号等の各明細書に記載されて
いる化合物がある。これらの内でも有機シラン化合物は
好ましい。

【０１０４】ポジ型ＰＳ版が処理されることによって消
費された現像液中の成分、処理されたポジ型ＰＳ版に付
着して持ち出された現像液及び／または空気中の炭酸ガ
スにより中和された現像液中のアルカリ成分を補償する
ような量の補充液が添加される。例えば、使用されてい
る現像液１リットルが処理し得るポジ型ＰＳ版の量が２
ｍ^２である場合には、２ｍ^２／ｌのポジ型ＰＳ版が処理
された度毎に所定量の補充液を加える方法、被処理ＰＳ
版の面積を１枚毎に測定し、それに見合う量の補充液を
ＰＳ版が１枚処理される度毎に加える方法等がある。

【０１０５】現像液の現像能力は次のようにして決せら
れるのが一般的である。即ち、ステップタブレット（例
えば、第１段の光学濃度が０．１０で、１段の濃度差が
０．１５であり、２１段あるもの。）を通して露光した
ＰＳ版を現像した際に、新鮮な現像液で処理した場合の
ベタ段数（現像液に解かされていない段数の最低段数）
と疲労現像液で処理した場合のベタ段数を比較したと
き、１段低い場合、その現像液中の処理能力は限界に来
たとされる。従って、このように処理能力が限界となっ
た現像液が元通りのベタ段数を現像し得るような補充液
の量を知れば、補充液を現像液に加えるべき時期及びそ
の添加量を知ることができる。

【０１０６】また上記の処理能力の限界に達した現像液
のｐＨと新鮮な現像液のｐＨを知れば、例えば、自動現
像機の現像タンクにｐＨ測定器を組み込んでおき、常に
新鮮な現像液が示すｐＨを維持するように補充液が加え
られるような手段を講じることもできる。

【０１０７】どのような手段により補充液が加えるかは
ともかく、ポジ型ＰＳ版を現像することにより、及び／
または経時による、現像液の成分の変化を補償するよう
に及び／または現像されたＰＳ版と共に持ち出される量
の現像液を補うように補充液が加えられる。

【０１０８】

【実施例】以下に実施例を挙げて、本発明を更に具体的
に説明する。 実施例１ 支持体の作成 厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調
質Ｈ１６）を５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で６０
℃で１分間脱脂処理した後、水洗し、１リットルの０．
５モル塩酸水溶液中で温度２５℃、電流密度６０Ａ／ｄ
ｍ^２、処理時間３０秒の条件で電解エッチング処理を行
った。次いで、５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で６
０℃で１０秒間のデスマット処理を行い、その後、２０
％硫酸溶液中で温度２０℃、電気密度３Ａ／ｄｍ^２の条
件で１分間、陽極酸化処理した。更に８０℃の熱水で２
０秒間熱水封孔処理を行い、支持体を作成した。

【０１０９】次に上記支持体に次の組成を有する紫外線
吸収剤塗布液をワイヤーバー塗布した。塗布量は０．３
ｇ／ｍ^２、乾燥は９０℃／２分とした。

【０１１０】 ［紫外線吸収剤塗布液］ 水 ５０ｇ メタノール １００ｇ Ｄｉａｃｉｄ Ｌｉｇｈｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２Ｇ ０．３ｇ

【０１１１】試料１−１の作成 上記のようにして作成した支持体に次の組成を有する感
光液１をワイヤーバーを用いて塗布し、９０℃で１分間
乾燥して、感光層を有する感光性平版印刷版試料１−１
を得た。乾燥後の塗布膜の膜厚は２ｇ／ｍ^２であった。

【０１１２】 ［感光液１］ 飽接化合物（β−シクロデキストリン） ０．１５ｇ ノボラック樹脂（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールのモル比が１ ０／５４／３６でＭｗが４０００） ６．７ｇ ｏ−ナフトキンジアジド化合物｛ピロガロールアセトン樹脂（Ｍｗ３０００） とナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロライドの縮合物（エステル化率３ ０％）｝ １．５ｇ ポリエチレングリコール＃２０００ ０．２ｇ ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学社製） ０．０８ｇ ２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシスチリル）−ｓ−ト リアジン ０．１５ｇ フッ素系界面活性剤ＦＣ−４３０（住友３Ｍ社製） ０．０３ｇ ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸 ０．２ｇ メチルセロソルブ １００ｍｌ

【０１１３】試料１−２の作成 前記感光液１中の飽接化合物（β−シクロデキストリ
ン）を飽接化合物（シクロヴェラトルエン）に代えた以
外は前記試料１−１と同様にして試料１−２を得た。

【０１１４】試料１−３の作成 前記感光液１中の飽接化合物（β−シクロデキストリ
ン）を０．０７５ｇにかえ、更に飽接化合物（シクロヴ
ェラトルエン）を０．０７５ｇ加えた以外は前記試料１
−１と同様にして試料１−３を得た。

【０１１５】上記試料１−１〜１−３について、感度測
定用ステップタブレット（イーストマン・コダック社製
Ｎｏ．２、濃度差０．１５ずつ２１段階グレースケー
ル）とブルナー小点（網点面積０．５〜５％で小点の再
現性を見る。）原稿を密着して、２ｋｗメタルハライド
ランプを光源として９０ｃｍの距離から２０秒間露光し
た。次に露光された感光性平版印刷版をＳＤＲ−１（コ
ニカ社製）現像液を水で６倍に希釈した現像液で２７℃
にて２０秒間現像処理し、感度、小点再現性、残色につ
いて評価した。結果を表１に示す。

【０１１６】上記の露光、現像処理により得られた印刷
版を印刷機（ハイデルＧＴＯ）においてコート紙印刷イ
ンキ（東洋インキ製造社製ハイプラスＭ紅）及び湿し水
（ＳＥＵ−３；２．５％、コニカ社製）を使用して印刷
を行い、印刷物の画像部のベタ部に着肉不良が現れる
か、または非画像部にインキが着肉するまで印刷を続
け、その時の印刷枚数を数えて耐刷力を評価した。結果
を表１に示す。

【０１１７】比較例１ 試料１−４の作成 前記感光液１中の飽接化合物（β−シクロデキストリ
ン）を除いた以外は前記試料１−１と同様にして試料１
−４を得、該試料１−４について、前記実施例１の試料
１−１〜１−３と同様の条件で露光及び現像を行い、同
様の評価を行った。結果を表１に示す。

【０１１８】

【表１】

【０１１９】実施例２（その１） 支持体の作成 厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム板（材質１０５０、調
質Ｈ１６）を５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で６０
℃で１分間脱脂処理した後、水洗し、１リットルの０．
５モル塩酸水溶液中で温度２５℃、電流密度６０Ａ／ｄ
ｍ^２、処理時間３０秒の条件で電解エッチング処理を行
った。次いで、５重量％水酸化ナトリウム水溶液中で６
０℃で１０秒間のデスマット処理を行い、その後、２０
％硫酸溶液中で温度２０℃、電気密度３Ａ／ｄｍ^２の条
件で１分間、陽極酸化処理した。更に８０℃の熱水で２
０秒間熱水封孔処理を行い、支持体を作成した。

【０１２０】試料２−１の作成 上記支持体に下記組成の紫外線吸収剤塗布液２−１をワ
イヤーバー塗布した後、下記組成の感光液２を塗布して
試料２−１を得た。下記組成の紫外線吸収剤塗布液２−
１のｐＨは５．０、塗布量は０．３ｇ／ｍ^２、吸収波長
（４００ｎｍ）は０．４（０．１５増加）、反射光学濃
度ＤＳは０．２であった。尚、吸収波長の測定は日立社
製Ｕ−３２１０を用い、反射光学濃度の測定はコニカ社
製ＰＤＡ６５を用いた。

【０１２１】 ［紫外線吸収剤塗布液２−１］ 水 ５０ｇ メタノール １００ｇ Ｄｉａｃｉｄ Ｌｉｇｈｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２Ｇ（三菱化成社製） ０．３ｇ ノボラック系樹脂ＳＫ−２４２（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾー ルのモル比が２０／８０／２０でＭｗが３７００） ０．３ｇ

【０１２２】 ［感光液２］ ノボラック樹脂（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾールのモル比が１ ０／５４／３６でＭｗが４０００） ６．７ｇ ｏ−ナフトキンジアジド化合物｛ピロガロールアセトン樹脂（Ｍｗ３０００） とナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロライドの縮合物（エステル化率３ ０％）｝ １．５ｇ ポリエチレングリコール＃２０００ ０．２ｇ ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学社製） ０．０８ｇ ２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（ｐ−メトキシスチリル）−ｓ−ト リアジン ０．１５ｇ フッ素系界面活性剤ＦＣ−４３０（住友３Ｍ社製） ０．０３ｇ ｃｉｓ−１，２−シクロヘキサンジカルボン酸 ０．２ｇ メチルセロソルブ １００ｍｌ

【０１２３】試料２−２の作成 前記試料２−１の紫外線吸収塗布液２−１に代えて下記
組成の紫外線吸収剤塗布液２−２をワイヤーバー塗布し
た後、前記組成の感光液２を塗布して試料２−２を得
た。下記組成の紫外線吸収剤塗布液２−２のｐＨは６．
５、塗布量は１８ｍｇ／ｍ^２、吸収波長（４００ｎｍ）
は０．４２（０．１７増加）、反射光学濃度ＤＳは０．
２１であった。

【０１２４】 ［紫外線吸収剤塗布液２−２］ 水 ５０ｇ メタノール １００ｇ Ｄｉａｃｉｄ Ｌｉｇｈｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２Ｇ（三菱化成社製） ０．３ｇ ヒドロキシプロピルセルロースＬＥ−Ｇ（信越化学工業社製） ０．３ｇ

【０１２５】試料２−３の作成 前記試料２−１の紫外線吸収塗布液２−１に代えて下記
組成の紫外線吸収剤塗布液２−３をワイヤーバー塗布し
た後、前記組成の感光液２を塗布して試料２−３を得
た。下記組成の紫外線吸収剤塗布液２−３のｐＨは５．
０、塗布量は０．４ｇ／ｍ^２、吸収波長（４００ｎｍ）
は０．３９（０．１４増加）、反射光学濃度ＤＳは０．
１９であった。

【０１２６】 ［紫外線吸収剤塗布液２−３］ 水 ５０ｇ メタノール １００ｇ Ｄｉａｃｉｄ Ｌｉｇｈｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２Ｇ（三菱化成社製） ０．３ｇ ノボラック系樹脂ＳＫ−２４２（フェノール／ｍ−クレゾール／ｐ−クレゾー ルのモル比が２０／８０／２０でＭｗが３７００） ０．１５ｇ ヒドロキシプロピルセルロースＬＥ−Ｇ（信越化学工業社製） ０．１５ｇ

【０１２７】上記試料２−１〜２−３について、感度測
定用ステップタブレット（イーストマン・コダック社製
Ｎｏ．２、濃度差０．１５ずつ２１段階グレースケー
ル）とブルナー小点（網点面積０．５〜５％で小点の再
現性を見る。）原稿を密着して、２ｋｗメタルハライド
ランプを光源として９０ｃｍの距離から２０秒間露光し
た。次に露光された感光性平版印刷版をＳＤＲ−１（コ
ニカ社製）現像液を水で６倍に希釈した現像液で２７℃
にて２０秒間現像処理し、感度、小点再現性、残色につ
いて評価した。結果を表２に示す。

【０１２８】上記の露光、現像処理により得られた印刷
版を印刷機（ハイデルＧＴＯ）においてコート紙印刷イ
ンキ（東洋インキ製造社製ハイプラスＭ紅）及び湿し水
（ＳＥＵ−３；２．５％、コニカ社製）を使用して印刷
を行い、印刷物の画像部のベタ部に着肉不良が現れる
か、または非画像部にインキが着肉するまで印刷を続
け、その時の印刷枚数を数えて耐刷力を評価した。結果
を表２に示す。

【０１２９】比較例２ 試料２−４の作成 前記試料２−１の紫外線吸収塗布液２−１に代えて下記
組成の紫外線吸収剤塗布液２−４をワイヤーバー塗布し
た後、前記組成の感光液２を塗布して試料２−４を得
た。下記組成の紫外線吸収剤塗布液２−４のｐＨは７．
２、塗布量は０．１５ｇ／ｍ^２、吸収波長（４００ｎ
ｍ）は０．３８（０．１３増加）、反射光学濃度ＤＳは
０．１９であった。

【０１３０】 ［紫外線吸収剤塗布液２−４］ 水 ５０ｇ メタノール １００ｇ Ｄｉａｃｉｄ Ｌｉｇｈｔ Ｙｅｌｌｏｗ ２Ｇ（三菱化成社製） ０．３ｇ

【０１３１】試料２−４について、前記実施例２の試料
２−１〜２−３と同様の条件で露光及び現像を行い、同
様の評価を行った。結果を表２に示す。

【０１３２】

【表２】

【０１３３】実施例２（その２） 前記試料２−１の紫外線吸収剤塗布液２−１中のノボラ
ック系樹脂ＳＫ−２４２に代えて酸化デンプンを等量用
いて同様の実験を行ったところ、ほぼ同様の良好な結果
が得られた。

【０１３４】同じく、前記試料２−１の紫外線吸収剤塗
布液２−１中のノボラック系樹脂ＳＫ−２４２に代えて
ポリビニルアルコールを等量用いて同様の実験を行った
ところ、ほぼ同様の良好な結果が得られた。

【０１３５】同じく、前記試料２−１の紫外線吸収剤塗
布液２−１中のノボラック系樹脂ＳＫ−２４２に代えて
工業用ゼラチンを等量用いて同様の実験を行ったとこ
ろ、ほぼ同様の良好な結果が得られた。

【０１３６】

【発明の効果】本発明によれば、耐刷力の低下を起こす
ことなく感光層の溶解性を促進して、残色の低減、画像
の高コントラストを達成できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松原 真一 東京都日野市さくら町１番地 コニカ株式 会社内 (72)発明者 小屋 美廣 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 富安 寛 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内 (72)発明者 梶原 茂 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】粗面化し、次いで陽極酸化処理したアルミ
   ニウム板表面を、紫外線吸収剤を含む溶液により、３４
   ０〜４５０ｎｍにおける吸収極大波長において、反射光
   学濃度ＤＳが、染色しない場合よりも０．０２〜０．５
   高くなるように着色した後、ｏ−キノンジアジド化合物
   及び飽接化合物を含むポジ型感光性組成物層を塗設して
   成ることを特徴とする感光性平版印刷版。
2. 【請求項２】飽接化合物が、シクロデキストリンである
   ことを特徴とする請求項１記載の感光性平版印刷版。
3. 【請求項３】粗面化し、次いで陽極酸化処理したアルミ
   ニウム板表面を、紫外線吸収剤とアルカリ水溶液に可溶
   或いは膨潤する化合物を含む溶液により、３４０〜４５
   ０ｎｍにおける吸収極大波長において、反射光学濃度Ｄ
   Ｓが、染色しない場合よりも０．０２〜０．５高くなる
   ように着色した後、ｏ−キノンジアジド化合物を含むポ
   ジ型感光性組成物層を塗設して成ることを特徴とする感
   光性平版印刷版。
4. 【請求項４】アルカリ水溶液に可溶或いは膨潤する化合
   物が、水溶性高分子であることを特徴とする請求項３記
   載の感光性平版印刷版。
5. 【請求項５】水溶性高分子が、デンプン類、セルロース
   類、ビニル類、ゼラチン類の群より選ばれることを特徴
   とする請求項４記載の感光性平版印刷版。
6. 【請求項６】アルカリ水溶液に可溶或いは膨潤する化合
   物が、ノボラック樹脂であることを特徴とする請求項３
   又は５記載の感光性平版印刷版。