JPH08309574A - レーザ光源およびレーザ描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 方向性の低い形状のレーザ光スポットを生成
する。 【構成】 レーザブロック１は３つのレーザ光学系６〜
８を有している。各鏡筒１５〜１７内にはそれぞれ集光
レンズ群１２〜１４が収納されている。各半導体レーザ
９〜１１が発生したレーザ光は対応する集光レンズ群１
２〜１４によって照射対象上で焦点を結ぶように集光さ
れ、各レーザ光学系６〜８の各出射端６ａ〜８ａより出
射する。各レーザ光学系６〜８は、各レーザビームが照
射対象上で重なるようにするため、３つの光学系の中心
軸Ａに向かって、それぞれ等しい角度だけ傾斜させて配
置されている。光源が半導体レーザであるため、各光学
系６〜８からのビームが照射対象上に形成する光スポッ
トは楕円形となる。各半導体レーザ９〜１１は、各光ス
ポットの長軸が互いに６０度の角度を成すように配置さ
れている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はレーザ光源に関し、ま
た、レーザ光により照射対象上に画像を描くレーザ描画
装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】レーザ描画装置は、ビーム状のレーザ光
を記録媒体に照射して、記録媒体を加工したりあるいは
発色させて画像を形成するものである。このレーザ描画
装置には、レーザビームをラスタ走査する方式のもの
と、偏向器を用いてレーザビームをベクタ走査する方式
のものとがある。レーザ描画装置に用いるレーザ光源と
しては、従来は気体レーザや固体レーザが多く用いられ
ていたが、近年では半導体レーザの発展に伴い、数ワッ
トから数十ワットクラスの半導体レーザが用いられるよ
うになりつつある。半導体レーザは小型で低価格であ
り、さらに変調が容易であるという大きい長所を有して
いる。

【０００３】しかし、半導体レーザは、共振器形状が小
さいため、レーザ光のコヒーレンシやビームの平行度、
あるいは非点収差などの点で他のレーザに比べて劣り、
また光軸に直交するビーム断面での強度分布、すなわち
プロファイルに角度異方性があるという欠点がある。半
導体レーザの発光パターンは、そのレーザ共振器の断面
形状によって決定され、その断面形状は、レーザ共振器
を形成する活性層のストライプの幅と厚さとによって決
まる。図５において、１０１は半導体レーザチップ、１
０２は活性層、１０３は高利得のストライプである。ス
トライプ１０３は極めて小さく、レーザ光はこのストラ
イプ１０３より、大きく広がって放射される。ストライ
プ１０３は、その寸法が小さいばかりでなく、非対称性
が大きい。すなわち、ストライプ１０３の幅と厚さとの
比は通常、３：１程度である。そして、レーザビームの
放射は、導波路の屈折率に影響されるため、レーザビー
ムはストライプ１０３の幅方向には、ストライプ１０３
の幅全体からＸ方向に拡散して出射し、一方、ストライ
プ１０３の厚さ方向には、ストライプ１０３の内部の一
点から発したように、Ｙ方向に拡散して出射する。その
結果、ストライプ１０３に近い領域では、光軸に直交す
るビーム断面の形状は、Ｘ方向に長い楕円形となり、一
方、ストライプ１０３から遠い領域では、ビーム断面の
形状はＹ方向に長い楕円形となる。そのため、ストライ
プ１０３を出たレーザビームは、楕円錐１０４のような
形で進行する。

【０００４】その結果、図６に示すように、集光光学系
を通してこのような拡散ビームを収束させ、照射対象上
に照射すると、そのとき生成される光スポット１００
も、楕円形となり、方向性を持ったものとなる。図６の
（Ａ）に示すように、レーザビームをラスタ走査する場
合には、光スポット１００の移動方向は一定であるの
で、光スポット１００が楕円形であることの悪影響は生
じない。むしろ、図のように副走査方向ＲＳの幅が、主
走査方向ＲＭの幅より狭い場合には、エネルギ効率が向
上するため、円形であるよりも好ましい。

【０００５】一方、ベクタ走査を行う場合には、光スポ
ット１００は照射面上であらゆる方向に移動するので、
光スポット１００が方向性を持ち、正しく円形でない場
合には、光スポット１００の移動方向によって、照射領
域の幅が異なったものとなる。例えば図６の（Ｂ）に示
すように、縦に長い光スポット１００を図面上で横に移
動させたとき、照射領域の幅はａと広く、一方、縦に移
動させたときは、照射領域の幅はａより狭いｂとなる。
このように光スポット１００の移動方向によって照射領
域の幅、従って描画される線の幅が異なると、形成され
る画像の質は低下する。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従って、半導体レーザ
を光源に用いてレーザビームをベクタ走査する場合に
は、光学系によるビームの断面形状の整形が必要とな
る。図７はこのようなビーム整形を行う従来の光学系の
一例であり、例えばＣＤプレーヤなどに用いられている
ものである。半導体レーザ１１０を出射したレーザ光は
コリメータ１１１によって平行光とされた後、アナモリ
フィック・プリズムぺア１１２により、ビームの断面形
状が円形となるようビーム整形される。レーザビームは
その後、ビーム・エキスパンダ１１３で拡散光とされ、
次にフォーカス・レンズ１１４で収束されて、不図示の
照射対象上にスポットを形成する。このような光学系に
より、真円に近い光スポットが得られるが、プリズムペ
ア１１２の挿入損が５０〜８０％と大きく、大パワーを
取り出すことは難しい。また、例えばレーザプリンタな
どでは、図８に示すような光学系を用いてビーム整形が
行われている。この光学系ではプリズムペアの代りにシ
リンドリカル・レンズ（円筒レンズ）１１５を用い、特
定方向のビーム幅を縮小、あるいは拡大して、他の方向
のビーム幅に一致させている。しかし、得られる光スポ
ットの形状を真円に近付けるためには精密なレンズを用
いる必要があり、コスト高となる。このように、通常用
いられている従来の光学系により、レーザ光強度を低下
させることなく、つまり低損失で、かつ低コストでビー
ム整形を行うことは極めて困難である。そこで本発明の
目的は、方向性の低い形状の光スポットを生成するレー
ザ光源およびそのレーザ光源を用いたレーザ描画装置を
提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するため、レーザ光を所定の照射対象に照射するレーザ
光源において、レーザ光を放射して前記照射対象上にそ
れぞれ光スポットを生成する複数のレーザ光源を備え、
前記光スポットは、その特定方向の幅が広く、前記光ス
ポットは前記照射対象上で互いに重なり合い、前記複数
のレーザ光源は、それぞれが生成する前記光スポットの
前記特定方向が一致しないよう配置されていることを特
徴とする。また、本発明は上記目的を達成するため、レ
ーザ光を所定の照射対象に照射するレーザ光源におい
て、特定方向の幅が広いレーザビームを生成する単一の
レーザ光源と、このレーザ光源が生成した前記レーザビ
ームを分割して、複数のレーザビームを生成するビーム
分割器と、このビーム分割器が生成した前記複数のレー
ザビームをそれぞれ反射して、前記複数のレーザビーム
を前記照射対象上の同一の位置に入射させる複数の反射
鏡と、前記複数のレーザビームの光路上で、前記複数の
反射鏡の前または後に配置され、前記複数のレーザビー
ムのそれぞれを光学的に処理して、各レーザビームの最
大幅の方向を互いに異なるものとする光学系とを備えた
ことを特徴とする。

【０００８】本発明はまた、上記目的を達成するため、
レーザ光を所定の照射対象に照射し、前記レーザ光を光
偏向器により偏向して前記照射対象上に画像を形成する
レーザ描画装置において、前記レーザ光源を備え、前記
光偏向器は、前記レーザ光源が放射したレーザ光を偏向
することを特徴とする。

【０００９】

【作用】本発明のレーザ光源では、複数のレーザ光源の
それぞれが発するレーザ光によって、特定方向の幅が広
い光スポットが照射対象上に、互いに重なり合って生成
される。そして、各レーザ光源は適切に配置され、各光
スポットの上記特定方向が一致しないようになっている
ので、複数の光スポットが重なって形成された合成光ス
ポットは、個々の光スポットより、その形状の方向性が
緩和される。本発明の他のレーザ光源では、ビーム分割
器は単一のレーザ光源が生成した特定方向の幅が広いレ
ーザビームを分割し、複数のレーザビームを生成する。
これらのレーザビームは反射鏡によって、照射対象上の
同一の位置に入射するように反射されるが、照射対象に
入射する前に、反射鏡の前または後に配置された光学系
により、各レーザビームの最大幅の方向が互いに異なる
ものとなるように光学的に処理される。従って、各ビー
ムにより照射対象上に形成される光スポットの方向は互
いに異なったものとなり、合成光スポットの形状は方向
性が緩和されたものとなる。

【００１０】また、本発明のレーザ描画装置は、方向性
の緩和された光スポットを生成する本発明のレーザ光源
を用いて構成され、そのレーザ光源からのレーザ光は偏
向器によって偏向される。従って、方向性の低い光スポ
ットを照射対象上で走査して、画像を形成することがで
きる。

【００１１】

【実施例】次に本発明の実施例について説明する。図３
は本発明のレーザ光源の一例を用いて構成した、本発明
のレーザ描画装置の一例を示す概略平面図である。この
レーザ描画装置２１は本発明のレーザ光源であるレーザ
ブロック１を備え、このレーザは後に詳しく説明するよ
うに、複数の半導体レーザと複数の集光光学系とを備え
ている。

【００１２】３は誘電体多層膜がガラス基板表面にコー
ティングされた折り返しミラーであり、レーザブロック
１からのレーザビーム２を水平面上で直角に曲げる。偏
向ミラー４、５は、偏向ミラー５の下方に配置された記
録媒体（図示せず）上で、光スポットを２次元的に移動
させるためのビーム偏向器を構成している。各ミラー
４、５は平面鏡とその偏向アクチュエータ（図示せず）
から成り、折り返しミラー３からのレーザビーム２は、
まず偏向ミラー４に入射し、ミラー４が中立の方向に向
いているとき、レーザビーム２は水平面上で９０度曲げ
られて、偏向ミラー５に入射する。そして、ミラー４が
上記アクチュエータにより垂直軸を中心に揺動すること
で、レーザビーム２の偏向ミラー５における入射位置が
変化し、光スポットは上記記録媒体上でＸ方向に移動す
る。偏向ミラー５に入射したレーザビーム２は、ミラー
５が中立の方向に向いているとき、鉛直下方に曲げら
れ、上記記録媒体に入射する。そして、ミラー５が上記
アクチュエータにより水平軸を中心に揺動することで、
レーザビーム２はＹ方向に偏向され、記録媒体における
入射位置が変化して、光スポットは記録媒体上でＹ方向
に移動する。レーザブロック１を構成する上記集光光学
系は、レーザビーム２がこれらのミラー３〜５で反射し
た後、上記記録媒体上に焦点を結ぶように構成されてい
る。

【００１３】次に図１を参照して、レーザブロック１に
ついて詳しく説明する。図１の（Ａ）はその正面図、
（Ｂ）は側面図である。このレーザブロック１は３つの
レーザ光学系６〜８を有し、それらはレーザビームの出
射端６ａ〜８ａが、ほぼ同一方向に向かい、正三角形の
頂点を形成するように配置されている。各レーザ光学系
６〜８はいずれも円筒形であり、それぞれ、半導体レー
ザ９〜１１を底部に収容した鏡筒１５〜１７を備えてい
る。各鏡筒１５〜１７内にはそれぞれ、図示しない一般
的なコリメータ・レンズ、ビーム・エキスパンダ・レン
ズ、フォーカシング・レンズから成る１群３枚構成の集
光レンズ群１２〜１４が収納されている。各半導体レー
ザ９〜１１が発生したレーザ光は対応する集光レンズ群
１２〜１４によって上述のように、記録媒体上で焦点を
結ぶように集光され、各レーザ光学系６〜８の各出射端
６ａ〜８ａより出射する。

【００１４】各レーザ光学系６〜８は、図１の（Ｂ）に
示すように、３つの光学系の中心軸Ａに向かって、それ
ぞれ等しい角度だけ傾斜させて配置されている。この傾
斜角は、各光学系６〜８を出たレーザビームが生成する
上記記録媒体上の光スポットが、記録媒体上で重なるよ
うな角度に設定されている。

【００１５】各レーザ光学系６〜８は半導体レーザ９〜
１１を光源としているため、各光学系６〜８からのビー
ムによって記録媒体上に生成される光スポットは、その
形状に方向性を有し、楕円形となる。そして、半導体レ
ーザ９〜１１、従って各光学系６〜８は、この楕円形の
光スポットの長軸が互いに６０度の角度を成すように配
置されている。

【００１６】このような構成により、記録媒体上には次
のような光スポットが形成される。すなわち、レーザブ
ロック１の各レーザ光学系６〜８を出たレーザビーム
は、ミラー３〜５によって折り曲げられ、ミラー５の下
方に配置された記録媒体に入射する。各レーザビームは
それぞれ集光レンズ群１２〜１４によって、記録媒体上
に焦点を結び、その結果、図４に示すように、記録媒体
上に３つの光スポット１８〜２０が生成される。光学系
６〜８の光源は半導体レーザ９〜１１であるため、これ
らのスポットはいずれも楕円形である。そして、各光学
系６〜８は上述のように配置されているので、各スポッ
ト１８〜２０の中心は一致し、かつ、各スポット１８〜
２０の長軸は互いに６０度の角度を成す。

【００１７】従って、図４から分るように、合成された
光スポットは方向性が緩和されたものとなり、合成光ス
ポットを図面上で横に移動させた場合に描画される線の
幅ａと、縦に移動させた場合に描画される線の幅ｂと、
斜め４５度の方向に移動させた場合に描画される線の幅
ｃ、ｄはほぼ一致する。そのため、偏向ミラー４、５に
よってレーザビーム２を偏向してベクタ走査を行い、方
向性の低い上記合成光スポットを記録媒体上で移動させ
て描画した場合には、光スポットの移動方向によって線
幅がほとんど変化しないため、画質の劣化は生じない。

【００１８】なお、本実施例では、半導体レーザの数は
３としたが、その数は多くするほど、合成した光スポッ
トの形状は真円に近付き、方向性は低下して、良好な描
画結果が得られる。ただし、その場合にはコストが上昇
するので、レーザ光源の数は、要求される性能とコスト
との兼合いで決めることになる。通常のレーザ描画装置
の場合には、レーザ光源の数は３とすれば十分であろ
う。

【００１９】次に、本発明によるレーザ光源の他の例に
ついて、図２を参照して説明する。このレーザ光源４０
では、１つの光源により生成したレーザビームを３本の
レーザビームに分割し、その後、一点に収束させて光ス
ポットを合成し、スポットの方向性を緩和させている。
すなわち、半導体レーザ２２が発生したレーザ光はまず
コリメータ２３によって平行光とされ、その後、ビーム
分割器２４によりパワーの等しい３本のレーザビーム３
２、３３、３４に分割される。このビーム分割器２２
は、ビームプロファイル整形も行い得る回折格子であ
り、具体的には、光の一部を反射させる誘電体多層膜が
コーティングされたビームスプリッタや、キューブ・ビ
ームスプリッタにより構成されている。光源が半導体レ
ーザであるため、ビーム分割器２４に入射するレーザビ
ームの断面形状は上述のように楕円であり、特定方向の
幅が広くなっている。従って、レーザビーム３２〜３４
の断面形状も同じく楕円であり、そして、それらの長軸
の方向は一致している。

【００２０】ビーム分割器２４を出射した３本のビーム
３２〜３４は、それぞれ反射鏡２５、２６、２７で反射
し、照射対象３１上の同一の位置に光スポットを形成す
るよう、方向が変えられる。各反射鏡２５〜２７の照射
対象側には、ビーム整形レンズ２８、２９、３０がそれ
ぞれ配置されている。これらのレンズは特別に設計され
た非球面レンズであり、集光機能と、ビーム整形機能と
を備えている。反射鏡２５〜２７で反射したレーザビー
ム３２〜３４は、これらのレンズにより、照射対象３１
上に焦点を結ぶよう集光され、かつ、ビーム断面形状の
長軸の方向が、互いに６０度の角度を成すように光学的
に処理される。従って、照射対象３１上に形成される合
成光スポットは、図４に示した合成光スポットと同様
に、方向性の緩和されたものとなる。このレーザ光源で
は、図１のものと異なり、半導体レーザなどの発光体を
１つしか必要とせず、さらに、そのドライバや、コリメ
ータなどの関連する光学系も１セットで済む。従って低
コスト化の点で有利である。また、ビーム分割器は本例
のように回折格子とすれば、大量生産が可能であり、安
価に製作できる。

【００２１】そして、このようなレーザ光源を、図３に
示したレーザ描画装置のレーザブロック１の代りに用い
た場合には、上述の場合と同様、光スポットの移動方向
によって線幅はほとんど変化しないため、画質の劣化は
生じない。

【００２２】なお、上記実施例では光源は半導体レーザ
であるとしたが、半導体レーザに限らず、単一では方向
性のない光スポットが得られないレーザ光源であれば、
どのようなタイプの光源であっても本発明は有効であ
る。また、図２の実施例では、ビーム分割器によりレー
ザビームを３本に分割するとしたが、２本あるいは４本
以上に分割しても、同様にして方向性の緩和された光ス
ポットが得られる。もちろん、多数のビームに分割する
ほど、光スポットはより真円に近いものとなる。

【００２３】また、従来より、複数のレーザ光源を用い
たり、あるいは単一光源によるレーザビームをビームス
プリッタで分割し、マルチビームとしたレーザ描画装置
は存在したが、いずれの場合も、複数の線を同時に描画
して記録速度の向上を図ったものであり、本発明とはそ
の目的および構成が全く異なっている。

【００２４】

【発明の効果】以上説明したように本発明のレーザ光源
では、複数のレーザ光源のそれぞれが発するレーザ光に
よって、特定方向の幅が広い光スポットが照射対象上
に、互いに重なり合って生成される。そして、各レーザ
光源は適切に配置され、各光スポットの上記特定方向が
一致しないようになっているので、複数の光スポットが
重なって形成された合成光スポットは、個々の光スポッ
トより、その形状の方向性が緩和される。また、本発明
の他のレーザ光源では、ビーム分割器は単一のレーザ光
源が生成した特定方向の幅が広いレーザビームを分割
し、複数のレーザビームを生成する。これらのレーザビ
ームは反射鏡によって、照射対象上の同一の位置に入射
するように反射されるが、照射対象に入射する前に、反
射鏡の前または後に配置された光学系により、各レーザ
ビームの最大幅の方向が互いに異なるものとなるように
光学的に処理される。従って、各ビームにより照射対象
上に形成される光スポットの方向は互いに異なったもの
となり、合成光スポットの形状は方向性が緩和されたも
のとなる。従って、本発明により、半導体レーザなどの
ように方向性の強い光スポットを形成する光源を用い
て、方向性の弱い光スポットを形成するレーザ光源を実
現できる。半導体レーザは、小型で、かつ低価格であ
り、さらに変調が容易であるという利点を有しており、
半導体レーザを用いても方向性の弱い光スポットを形成
できることは、半導体レーザの応用範囲の拡大につなが
り、極めて有意義である。

【００２５】また、本発明のレーザ描画装置は、方向性
の緩和された光スポットを生成する本発明のレーザ光源
を用いて構成され、そのレーザ光源からのレーザ光は偏
向器によって偏向される。従って、方向性の低い光スポ
ットを照射対象上で走査して、画像を形成することがで
きる。その結果、レーザビームをベクタ走査して記録媒
体に描画する場合でも、画質の劣化は生じない。

【図面の簡単な説明】

【図１】（Ａ）は本発明によるレーザ光源の一例を示す
正面図、（Ｂ）は側面図である。

【図２】本発明によるレーザ光源の他の例を示す側面図
である。

【図３】図１のレーザ光源を用いた、本発明によるレー
ザ描画装置の一例を示す概略平面図である。

【図４】図１のレーザ光源によって生成される光スポッ
トを示す説明図である。

【図５】半導体レーザによるレーザビームの発生を示す
説明図である。

【図６】光スポットの形状に方向性がある場合の影響を
示す説明図である。

【図７】従来のビーム整形光学系を示す構成図である。

【図８】従来の他のビーム整形光学系を示す構成図であ
る。

【符号の説明】

１ レーザブロック ２ レーザビーム ３ 折り返しミラー ４、５ 偏向ミラー ６、７、８ レーザ光学系 ６ａ〜８ａ 出射端 ９、１０、１１、２２ 半導体レーザ １２、１３、１４ 集光レンズ群 １５、１６、１７ 鏡筒 １８、１９、２０、１００ 光スポット ２１ レーザ描画装置 ２３ コリメータ ２４ ビーム分割器 ２５、２６、２７ 反射鏡 ２８、２９、３０ ビーム整形レンズ ３１ 照射対象 １０１ レーザチップ １０２ 活性層 １０３ ストライプ

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｓ 3/101 Ｈ０１Ｓ 3/18 3/18 Ｂ４１Ｊ 3/00 Ｄ

Claims (17)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 レーザ光を所定の照射対象に照射するレ
   ーザ光源において、 レーザ光を放射して前記照射対象上にそれぞれ光スポッ
   トを生成する複数のレーザ光源を備え、 前記光スポットは、その特定方向の幅が広く、 前記光スポットは前記照射対象上で互いに重なり合い、 前記複数のレーザ光源は、それぞれが生成する前記光ス
   ポットの前記特定方向が一致しないよう配置されてい
   る、 ことを特徴とするレーザ光源。
2. 【請求項２】 前記光スポットの前記特定方向のそれぞ
   れは、互いに隣接するものどうしが等しい角度を成すよ
   うに、前記複数のレーザ光源は配置されている請求項１
   記載のレーザ光源。
3. 【請求項３】 前記複数のレーザ光源の数は３である請
   求項１記載のレーザ光源。
4. 【請求項４】 前記複数のレーザ光源は、前記光スポッ
   トの前記特定方向のそれぞれが互いに６０度の角度を成
   すように配置されている請求項３記載のレーザ光源。
5. 【請求項５】 前記複数のレーザ光源は半導体レーザを
   含んでいる請求項１記載のレーザ光源。
6. 【請求項６】 レーザ光を所定の照射対象に照射するレ
   ーザ光源において、 特定方向の幅が広いレーザビームを生成する単一のレー
   ザ光源と、 このレーザ光源が生成した前記レーザビームを分割し
   て、複数のレーザビームを生成するビーム分割器と、 このビーム分割器が生成した前記複数のレーザビームを
   それぞれ反射して、前記複数のレーザビームを前記照射
   対象上の同一の位置に入射させる複数の反射鏡と、 前記複数のレーザビームの光路上で、前記複数の反射鏡
   の前または後に配置され、前記複数のレーザビームのそ
   れぞれを光学的に処理して、各レーザビームの最大幅の
   方向を互いに異なるものとする光学系と、 を備えたことを特徴とするレーザ光源。
7. 【請求項７】 前記光学系は前記レーザビームを光学的
   に処理して、前記複数のレーザビームのそれぞれの前記
   最大幅の方向が、互いに隣接するものどうしが等しい角
   度を成すようにする請求項６記載のレーザ光源。
8. 【請求項８】 前記ビーム分割器は３本のレーザビーム
   を生成する請求項６記載のレーザ光源。
9. 【請求項９】 前記光学系は前記３本のレーザビームを
   光学的に処理して、それぞれの前記最大幅の方向が、互
   いに６０度の角度を成すようにする請求項８記載のレー
   ザ光源。
10. 【請求項１０】 前記単一のレーザ光源は半導体レーザ
    を含んでいる請求項６記載のレーザ光源。
11. 【請求項１１】 前記ビーム分割器は、誘電体多層膜を
    コーティングしたビームスプリッタか、またはキューブ
    ・ビームスプリッタを用いて構成されている請求項６記
    載のレーザ光源。
12. 【請求項１２】 前記光学系は、非球面レンズにより構
    成されている請求項６記載のレーザ光源。
13. 【請求項１３】 前記非球面レンズは集光作用を有して
    いる請求項１２記載のレーザ光源。
14. 【請求項１４】 レーザ光を所定の照射対象に照射し、
    前記レーザ光を光偏向器により偏向して前記照射対象上
    に画像を形成するレーザ描画装置において、 請求項１ないし請求項１３のいずれかに記載のレーザ光
    源を備え、 前記光偏向器は、前記レーザ光源が放射したレーザ光を
    偏向することを特徴とするレーザ描画装置。
15. 【請求項１５】 前記レーザ光は、前記光偏向器によっ
    てベクタ走査される請求項１４記載のレーザ描画装置。
16. 【請求項１６】 前記照射対象は、前記レーザ光によっ
    て加工される請求項１４記載のレーザ描画装置。
17. 【請求項１７】 前記照射対象は、前記レーザ光によっ
    て発色する請求項１４記載のレーザ描画装置。