JPH08295540A - 熱線を遮断するガラス - Google Patents

熱線を遮断するガラス

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JPH08295540A
JPH08295540A JP7119035A JP11903595A JPH08295540A JP H08295540 A JPH08295540 A JP H08295540A JP 7119035 A JP7119035 A JP 7119035A JP 11903595 A JP11903595 A JP 11903595A JP H08295540 A JPH08295540 A JP H08295540A
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film
glass
wsio
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nitride
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JP7119035A
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Kazuyoshi Noda
和良 野田
Katsuaki Aikawa
勝明 相川
Riichi Nishide
利一 西出
Itaru Shibata
格 柴田
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Nissan Motor Co Ltd
AGC Inc
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Asahi Glass Co Ltd
Nissan Motor Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】熱線遮断性及び電波透過性に優れた熱線を遮断
するガラスの提供。 【構成】ガラス基体の少なくとも一方の面に、タングス
テン珪素複合酸化物膜および酸化物誘電体膜とが順次形
成してなり、該タングステン珪素複合酸化物膜の少なく
とも一方の面には、金属および/または窒化物からなる
透明保護膜が設けられたことを特徴とする熱線を遮断す
るガラス。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は熱線を遮断するガラスに
関し、さらに詳しくは、例えば、車両用窓ガラス、建材
用ガラス等に有用である熱線遮断性および電波透過性に
優れたガラスに関する。
【0002】
【従来の技術】従来、自動車用窓ガラス等において直射
日光等による室内への熱の侵入および蓄積を防止するた
めに、窓ガラス面に熱線反射膜を形成することが行われ
ている。これらの従来の熱線反射膜は窒化チタンや銀、
アルミニウムの如き比較的導電性の高い物質を蒸着やス
パッタリング法等でガラス面に形成している。
【0003】
【発明が解決しようとしている問題点】上記従来の熱線
反射板ガラスは、その熱線反射膜の導電性が高く、その
性質上電磁波遮蔽性が高く、電波が透過しないために室
内アンテナやガラスプリントアンテナ、携帯電話等の通
信機器が十分に機能しないという問題があった。また、
上記窒化チタン、銀、アルミニウム等からなる膜は、あ
る程度の厚みとなると可視光線に対する反射性が高くな
り可視光線透過率が低下し、車両の窓ガラスとしては使
用できなくなる。また、十分な透明性になる程膜を薄く
すると、十分な熱線反射性能が得られないという問題が
ある。
【0004】また、タングステンと珪素の混合物の複合
酸化物から、電波透過性であり、かつ熱線遮断性にも優
れており、可視光線に対して十分な透明性、透過性を持
つ膜を形成することができる。この膜を使用して種々の
環境下で使用するには、熱、紫外線などに対する十分な
耐環境性を付与するために有効な保護膜を設ける必要が
ある。従って、本発明の目的は、熱線遮断性および電波
透過性に優れ、車両用窓ガラスや建材用ガラスとして有
用な熱線を遮断するガラスを提供することである。
【0005】
【問題点を解決するための手段】上記目的は以下の本発
明によって達成される。即ち、本発明は、ガラス基体の
少なくとも一方の面に、タングステン珪素複合酸化物膜
および酸化物誘電体膜とが順次形成してなり、該タング
ステン珪素複合酸化物膜の少なくとも一方の面には、金
属および/または窒化物からなる透明保護膜が設けられ
たことを特徴とする熱線を遮断するガラスである。
【0006】
【作用】タングステン珪素複合酸化物膜(以下WSiO
膜という)を熱線遮断膜とする熱線を遮断するガラスに
おいて、WSiO膜の少なくとも一方の面に透明保護膜
を設けることによって、熱線遮断性および電波透過性に
優れ、車両用窓ガラスや建材用ガラスとして有用な高耐
久の熱線を遮断するガラスを提供することができる。
【0007】
【好ましい実施態様】次に好ましい実施態様を挙げて本
発明をさらに詳しく説明する。本発明の熱線を遮断する
ガラスは、その断面を図1に図解的に示す様に、基体で
ある板ガラス1(1’)の少なくとも一方の表面に、少
なくとも1層のWSiO膜2と、該WSiO膜2の少な
くとも一方の面に、透明保護膜3を設けたことを特徴と
している。図1aに示す例は、本発明を合わせガラスに
応用した例であり、この例では基体である外板ガラス
1’と内板ガラス1との間に、WSiO膜2、透明保護
膜3、誘電体膜4およびポリビニルブチラール樹脂等か
らなる中間膜5が図示の順序で積層されている。図1b
の例は、WSiO膜2の両側に透明保護膜3が形成され
た例であり、図1cに示す例は、図1bの例においてさ
らに誘電体膜4と中間膜5との間にも透明保護膜3が形
成された例である。
【0008】以上の例は、合わせガラスに本発明を適用
した例であるが、本発明は合わせガラスに限定されず、
単板ガラスおよび複層ガラス等の他のガラス基体にも適
用し得ることは云うまでもない。本発明において使用さ
れるガラス基体とは、普通ガラス、強化板ガラス、部分
強化板ガラス等であって、透明性を損なわない程度に着
色されたものあってもよい。これらのガラス基体は平板
状のものに限られず、種々の形状および曲率に加工され
た曲面状であってもよく、形状的にも特に限定されない
が、特に各種車両のフロント、リヤ、サイド、ルーフ等
の窓ガラス等において有用である。また、これらのガラ
ス基体の厚みは特に限定されないが、通常は約1.5〜
5mm程度の厚みが一般的である。
【0009】本発明において使用されるWSiO膜は、
タングステン(W)と珪素(Si)とを、例えば、W1
00原子当たりSiを約3〜20原子の割合で混合して
加圧焼結したターゲットを酸素雰囲気中でスパッタリン
グする方法、真空蒸着法、ゾルゲル法、フレキソ印刷
法、スプレー法等の公知の方法でガラス基体の表面に堆
積および成膜することによって形成することができる。
この様にして成膜されるWSiO膜の好ましい組成は、
Wに対してSiを5〜15原子%含む複合酸化物であ
る。また、形成されるWSiO膜の厚みとしては、薄す
ぎると所望の性能が得られず、また、厚すぎるとガラス
の透明性が低下するので、好ましい厚みは約100〜1
300Åである。
【0010】本発明おいて、上記WSiO膜の耐久性を
向上させる透明保護膜としては、IVa族元素、Va族元
素、IIIb族元素およびIVb族元素の金属またはこれら
の金属の窒化物または複合窒化物が好ましく用いられ、
好ましい具体的な金属としては、例えば、チタン、ジル
コニウム、アルミニウム、および珪素からなる群から選
ばれる少なくとも1種の金属および/または該金属の窒
化物が挙げられる。より具体的には、特に好ましい例と
して、ZrSI2x(X=2〜4)、TixSiyz(T
i:Si=90:10〜33:67原子比)、TiN
x(X=0.5〜1.3)、SiNx(X=0.5〜1.
3)、AlNx(X=0.5〜1.0)、Ti、Ti/T
iNx(X=0.5〜1.3)(2層)、ZrSi2/Zr
Si2x(X=2〜4)(2層)等が挙げられる。
【0011】これらの透明保護層は、例えば、膜形成元
素または2種以上の元素を所望の割合で混合して加圧焼
結したターゲットを不活性雰囲気または窒素雰囲気中で
スパッタリングする方法、真空蒸着法等の公知の方法
で、図1aの場合は前記WSiO膜の少なくとも一方の
面、他の例の場合には所望の面に、元素膜および/また
は窒化物膜として堆積および成膜することによって形成
することができる。この様にして成膜される透明保護膜
の厚みとしては、例えば、図1aに示す例では約10〜
200Åであり、図1bに示す例では1層として約5〜
100Åであり、図1cに示す例では1層として約5〜
150Åであり、透明保護膜全体の合計厚みとしては約
10〜200Åであることが好ましい。これらの透明保
護膜が薄すぎると所望の性能が得られず、また、厚すぎ
るとガラスの透明性が低下するので好ましくない。
【0012】本発明においては前記WSiO膜のガラス
基体とは反対側に誘電体膜を形成する。誘電体膜として
は、例えば、Zn、Sn、Al、Si、Ti、Zr、T
a、Nb、Bi等の元素の酸化物や複合酸化物が好まし
く、前記WSiO膜と同様にスパッタリング方法等の公
知の製膜技術により形成される。誘電体膜は、図1a〜
cに示す例ではいずれも中間膜に接する位置に形成され
ているが、該誘電体膜は図示の位置には限定されない。
また、該誘電体膜をガラス基体とWSiO膜との間にさ
らに形成してもよい。これらの誘電体膜は可視光線遮断
率の低減或は反射色調調整等の目的で形成され、形成さ
れる誘電体膜の厚みとしては、WSiO層と誘電体層と
の合計で約900〜1700Åである。
【0013】また、本発明おける熱線を遮断するガラス
が合わせガラスである場合に使用される中間樹脂膜と
は、合わせガラスにした場合において、その両面に配設
される二枚の板ガラスを強固に接着させると共に、合わ
せガラスが破損した場合にも、ガラスの破片が飛び散ら
ない作用及び耐貫通作用を有するものであって、通常は
接着性、耐光性、耐熱性等の諸物性が改良されたポリビ
ニルブチラール樹脂シートが好ましく使用される。これ
らの中間樹脂膜の厚みも特に限定されないが、通常は約
0.2〜0.9mm程度の厚みが一般的である。
【0014】合わせガラスの製造方法自体は公知の方法
でよく、例えば、二枚の所定形状の板ガラスを必要に応
じて曲げ加工し、洗浄乾燥後に一方の板ガラスの面に上
記の如きWSiO膜、透明保護層および誘電体膜等を形
成する。一方、中間樹脂膜も洗浄および乾燥させた後所
定形状に裁断する。上記二枚の板ガラスを、樹脂シート
を挟持する様に貼り合わせ、予備接着、オートクレーブ
処理、洗浄・乾燥等の工程によって所望の合わせガラス
が製造される。
【0015】
【実施例】次に比較例および実施例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明する。 比較例1 ガラス基体として十分に洗浄したグリーンガラス(10
cm×10cm×2mm厚)を使用し、W中にSiを
4.8原子%添加し、1,500℃前後の温度で不活性
ガス雰囲気中で加圧焼結させたターゲットを用いて、直
流スパッタ法により、上記基板上にスパッタ時の圧力
1.0mTorr、Ar:O2 =30:16の比率で混
合したガス雰囲気中で膜厚500ÅのW 95Si5x(X
は未測定)からなる透明WSiO膜を成膜し、次に大気
開放を経ずに連続してZn金属ターゲットを用いて、ス
パッタ時の圧力=4.0mTorr、Ar:O2=2
0:40の比率で混合したガス雰囲気中で膜厚700Å
のZnO透明誘電体膜を成膜した。尚、成膜中に基板の
加熱は行わなかった。
【0016】上記の被膜が形成されたガラスと、別の2
mmのグリーンガラスとをポリビニルブチラールシート
(0.76mm厚)を挟んで積層し、予備圧着し、次に
オートクレーブにより加熱加圧圧着して合わせガラスと
した。尚、上記WSiO膜の膜抵抗は10MΩ/□以上
であった。この膜付き合わせガラスの可視光線透過率は
72%であり、太陽光線透過率は47%であった。一
方、上記方法においてWSiO膜およびZnO膜を設け
ない以外は同様にして作製した通常の膜無し合わせガラ
スの可視光線透過率は79%であり、太陽光線透過率は
54%であった。
【0017】上記膜付き合わせガラスについて耐熱テス
トを行ったところ、110℃の恒温槽に24時間放置し
たところ、WSiO膜による微吸収発色は消失してお
り、ほぼ完全に無色透明化していた。また、熱線遮断性
能も殆ど失われていた。その後30日間放置して観察し
たが、透明化したままで変化は認められなかった。上記
膜付き合わせガラスの着色の経時変化を図2に示した。
図2におけるΔTは試験開始前後の可視光線透過率の変
化率である。次に上記膜付き合わせガラスについて紫外
線による影響を調べた。上記膜付きガラスをJIS−R
3212に準拠してカーボンアークランプで中間膜の反
対面から紫外線を100時間照射したところ、WSiO
膜による微吸収発色濃度が高くなり可視光線透過率が7
0.2%まで低下していた。その後300時間経過後に
はWSiO膜による着色濃度はさらに高くなり可視光線
透過率は68%となって、その後さらに1000時間ま
で評価を継続したが、WSiOによる濃色化は進行し、
最終的には可視光線透過率は67%にまで低下した。こ
れらの経時変化を図2に示す。
【0018】実施例1 図1cに示す如く、WSiO膜とグリーンガラス(外板
ガラス)との間、WSiO膜とZnO膜との間およびZ
nO膜とポリビニルブチラール膜との間に透明保護膜を
形成した以外は比較例1と同様にして合わせガラスを作
製した。上記3層の夫々の透明保護膜としては、Zrと
SiとをZr:Si=1:2の割合で混合し、1,50
0℃前後の温度で不活性ガス雰囲気中で加圧焼結したタ
ーゲットを用いて、スパッタ時の圧力=3.0mTor
r、Ar:N2 =20:20の比率で混合したガス雰囲
気中で膜厚50ÅのZrSi2x膜(X=約4)をスパ
ッタ成膜により設けた。尚、上記WSiO膜の膜抵抗は
10MΩ/□以上であった。この膜付き合わせガラスの
可視光線透過率は72%であり、太陽光線透過率は47
%であった。
【0019】上記膜付き合わせガラスについて耐熱テス
トを行ったところ、110℃の恒温槽に24時間放置し
たところ、WSiO膜による微吸収発色は殆ど変化して
おらず、また、熱線遮断性能も殆ど変化していなかっ
た。その後30日間放置して観察したが微吸収発色の変
化は認められなかった。上記膜付き合わせガラスの着色
の経時変化を図2に示した。次に上記膜付き合わせガラ
スについて比較例1と同様にして紫外線による影響を調
べたところ、30日および1000時間経過後において
も可視光線透過率および太陽光線透過率は殆ど変化は認
められず、その変化の絶対値は0.5%以内であった。
これらのテストの結果を図2に示す。
【0020】実施例2 図1aに示す様に、WSiO膜と誘電体膜との間にのみ
実施例1と同様にして膜厚50ÅのZrSi2x膜を透
明保護膜としてスパッタ成膜により設けた以外は比較例
1と同様にして合わせガラスを作製した。尚、上記WS
iO膜の膜抵抗は10MΩ/□以上であった。この膜付
き合わせガラスの可視光線透過率は72%であり、太陽
光線透過率は47%であった。上記膜付き合わせガラス
について耐熱テストおよび耐紫外線テストを行ったとこ
ろ、実施例1と同様にガラスの光学特性の変化はほとん
どなく、その変化の絶対値は1%以内であった。上記耐
熱テストおよび耐紫外線テストの結果を図2に示す。
【0021】実施例3 前記実施例2におけるZrSi2x膜に代えて直流スパ
ッタ法により、膜厚25Åのチタン金属膜を成膜した以
外は実施例2と同様にして合わせガラスを作製した。こ
の膜付合わせガラスの可視光線透過率は70%であり、
太陽光線透過率は45%であった。上記25Åのチタン
膜付き合わせガラスについて、実施例1と同様に耐熱テ
ストおよび耐紫外線テストを行ったところ、可視光線透
過率および太陽光線透過率の変化の絶対値は1%以内で
あった。上記耐熱テストの結果を図2に示す。
【0022】
【発明の効果】以上説明の通り、本発明によれば、WS
iO膜を熱線遮断膜とする熱線を遮断するガラスにおい
て、WSiO膜の少なくとも一方の面に透明保護膜を設
けることによって、熱線遮断性および電波透過性に優
れ、車両用窓ガラスや建材用ガラスとして有用な高耐久
の熱線を遮断するガラスを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の熱線を遮断するガラスの断面を図形的
に示す図。
【図2】比較例および実施例の結果を示す図。
【符号の説明】
1:内板ガラス 1’:外板ガラス 2:WSiO膜 3:透明保護膜 4:誘電体膜 5:中間膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西出 利一 神奈川県横浜市神奈川区宝町2番地 日産 自動車株式会社内 (72)発明者 柴田 格 神奈川県横浜市神奈川区宝町2番地 日産 自動車株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】ガラス基体の少なくとも一方の面に、タン
    グステン珪素複合酸化物膜および酸化物誘電体膜とが順
    次形成してなり、該タングステン珪素複合酸化物膜の少
    なくとも一方の面には、金属および/または窒化物から
    なる透明保護膜が設けられたことを特徴とする熱線を遮
    断するガラス。
  2. 【請求項2】前記透明保護膜は、チタン、ジルコニウ
    ム、アルミニウム、および珪素からなる群から選ばれる
    少なくとも1種の金属、および/または該金属の窒化物
    からなることを特徴とする請求項1記載の熱線を遮断す
    るガラス。
  3. 【請求項3】2つのガラス基体が中間樹脂膜を介し合わ
    されてなる合せガラスにおいて、少なくとも一方のガラ
    ス基体と中間樹脂膜との間には、タングステン珪素複合
    酸化物膜および酸化物誘電体膜とがガラス基体側から順
    次形成され、かつ、該タングステン珪素複合酸化物膜の
    少なくとも一方の面には、金属および/または窒化物か
    らなる透明保護膜が設けられたことを特徴とする合せガ
    ラス。
  4. 【請求項4】前記透明保護膜は、チタン、ジルコニウ
    ム、アルミニウム、および珪素からなる群から選ばれる
    少なくとも1種の金属、および/または該金属の窒化物
    からなることを特徴とする請求項3記載の合せガラス。
JP7119035A 1995-04-21 1995-04-21 熱線を遮断するガラス Pending JPH08295540A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100419781B1 (ko) * 2001-03-09 2004-02-21 주식회사 엘지화학 롤 방식의 스크린으로 사용되는 실내 창문용 차광필름 및그 제조방법
JP2010216081A (ja) * 2009-03-13 2010-09-30 Bridgestone Corp 熱線遮蔽ガラスルーバー、及びこれを含む窓構造
DE102012106518A1 (de) * 2012-07-18 2014-01-23 H2 Solar Gmbh Beschichtung von Substraten mit Siliciden und deren Oxide

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