JPH08290099A - Preparation of optical thin film by pre-metering coating system - Google Patents

Preparation of optical thin film by pre-metering coating system

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JPH08290099A
JPH08290099A JP7119036A JP11903695A JPH08290099A JP H08290099 A JPH08290099 A JP H08290099A JP 7119036 A JP7119036 A JP 7119036A JP 11903695 A JP11903695 A JP 11903695A JP H08290099 A JPH08290099 A JP H08290099A
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JP
Japan
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refractive index
film
layer
coating
low refractive
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JP7119036A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroomi Katagiri
博臣 片桐
Mitsuru Tsuchiya
充 土屋
Kiyotaka Takematsu
清隆 竹松
Hiroko Suzuki
裕子 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To obtain an optical thin film with UV shielding effect, thermal rays reflecting effect and reflection preventing effect in which a severe film thickness accuracy is required by applying a coating liq. on a base material and forming an optical thin film by means of a pre-metering coating method in which only a pre-determined amt. of the coating liq. can be applied. CONSTITUTION: In order that 100% of a coating liq. can be transferred on a base material to be coated, this pre-metering coating method provides various optical thin films with UV shielding effect, thermal rays reflecting effect and reflection preventing effect in which a severe film thickness accuracy is refuired. E.g. a reflection preventing film is constituted by forming a low refractive index layer 12 on a transparent base material film 11. In this reflection preventing film, a pre-metering coating system is used for forming the low refractive index layer 12. As the coating material used for forming the low refractive index layer, a binder incorporated with an inorg. substance with a low refractive index such as LiF and MgF2 is used. A binder with a low refractive index alone may also be used and the example is polyvinylidene fluoride.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【０００１】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、厳しい膜厚精度が要求
される紫外線遮断効果、熱線反射効果、反射防止効果等
を有する各種光学薄膜の製造方法に関し、更に詳しくは
前計量塗工方式であるスライドコーター又はスロットコ
ーターを用いることにより、精度の高い光学薄膜を製造
する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for producing various optical thin films having an ultraviolet blocking effect, a heat ray reflecting effect, an antireflection effect, etc. which require a strict film thickness precision, and more specifically, a pre-metering coating method. The present invention relates to a method for producing a highly accurate optical thin film by using a slide coater or a slot coater.

【０００２】[0002]

【従来の技術】従来、反射防止膜や熱線反射膜等の光学
薄膜は、ＭｇＦ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 等の無機質材料
や金属材料を、真空蒸着、スパッタリング、プラズマＣ
ＶＤ等により単層又は多層に薄膜形成するか、或いはＭ
ｇＦ2 、ＳｉＯ2 、ＴｉＯ2 等の無機質材料や金属材料
を含有させた樹脂組成物の塗膜を単層又は多層に形成す
ることにより作製されている。 2. Description of the Related Art Conventionally, optical thin films such as an antireflection film and a heat ray reflective film are prepared by vacuum deposition, sputtering, plasma C using inorganic materials or metal materials such as MgF 2 , SiO 2 and TiO 2.
Single layer or multi-layer thin film is formed by VD, or M
It is produced by forming a coating film of a resin composition containing an inorganic material such as gF 2 , SiO 2 , TiO 2 or the like or a metal material in a single layer or multiple layers.

【０００３】[0003]

【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、以
上の如き従来の蒸着、スパッタリング、プラズマＣＶＤ
等の薄膜形成方法は、一般的にいずれもバッチ処理であ
る為に生産性に乏しいという欠点があった。又、樹脂組
成物から塗膜を形成する為に用いるロールコーターを初
めとする自己計量塗工方式では、塗工雰囲気が開放系で
あり、残インキが出る等の理由から、高価な材料を用い
る光学膜厚といった厳しい精度が要求される薄膜塗工に
は不向きであった。従って本発明の目的は、上記従来の
問題点を解決し、厳しい膜厚精度が要求される紫外線遮
断効果、熱線反射効果、反射防止効果等を有する各種光
学薄膜の製造方法を提供することである。However, the conventional vapor deposition, sputtering, and plasma CVD as described above are used.
All of the thin film forming methods such as the above have a drawback that they are poor in productivity because they are generally batch processes. Further, in a self-metering coating method including a roll coater used for forming a coating film from a resin composition, an expensive material is used because the coating atmosphere is an open system and residual ink comes out. It was not suitable for thin film coating, which requires strict accuracy such as optical film thickness. Therefore, an object of the present invention is to solve the above conventional problems and provide a method for producing various optical thin films having an ultraviolet blocking effect, a heat ray reflecting effect, an antireflection effect, etc., which require strict film thickness accuracy. .

【０００４】[0004]

【問題点を解決する為の手段】上記目的は以下の本発明
によって達成される。即ち、本発明は、塗工液を予め決
められた量だけ塗工出来る前計量塗工方式にて、基材に
塗工液を塗工して光学薄膜を形成することを特徴とする
前計量塗工方式による光学薄膜の製造方法である。The above object can be achieved by the present invention described below. That is, the present invention is a pre-measurement coating method capable of applying a predetermined amount of the coating liquid, by applying the coating liquid to a substrate to form an optical thin film. It is a method for producing an optical thin film by a coating method.

【０００５】[0005]

【作用】前計量塗工方式によれば、塗工液が被塗工基材
に１００％転移する為に、生産安定性に優れ、精度塗工
が可能であり、厳しい膜厚精度が要求される紫外線遮断
効果、熱線反射効果、反射防止効果等を有する各種光学
薄膜が提供される。According to the pre-metering coating method, since the coating liquid transfers 100% to the substrate to be coated, the production stability is excellent, accurate coating is possible, and strict film thickness precision is required. Various optical thin films having a UV blocking effect, a heat ray reflecting effect, an antireflection effect, and the like are provided.

【０００６】[0006]

【好ましい実施態様】次に好ましい実施態様を挙げて本
発明を更に詳しく説明する。本発明の前計量塗工方式
は、光学薄膜の基材となる透明フイルムに種々の光学機
能特性を付与するものであって、例えば、ワープロ、コ
ンピュタ、テレビ等の各種ディスプレイ、液晶表示素子
に用いる偏光板の表面、サングラスレンズ、度付メガネ
レンズ、カメラ用ファインダーレンズ等の光学レンズ、
各種計器のカバー、自動車、電車等の窓ガラス等に必要
な機能、例えば、反射防止機能を付与する目的に有用で
ある。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail with reference to the preferred embodiments. The pre-weighing coating method of the present invention imparts various optical functional characteristics to a transparent film which is a base material of an optical thin film, and is used for various displays such as word processors, computers, and televisions, and liquid crystal display devices. Optical lens such as polarizing plate surface, sunglasses lens, prescription glasses lens, camera viewfinder lens, etc.
It is useful for the purpose of imparting a necessary function, for example, an antireflection function, to covers of various instruments, window glass of automobiles, trains and the like.

【０００７】本発明で使用する前計量塗工方式とは、予
め決められた量の塗工液を塗工部に供給し、それを１０
０％ウエブに転移させる塗工方式である。その特徴とし
ては、塗工装置が閉鎖式である為に溶剤の蒸発揮散等が
なく、生産安定性に優れ、精密塗工が可能な点である。
又、非接触の塗工方式である為にグラビア塗工方法の様
に塗工面にセル目が出ることがなく、更に残インキが少
ない為に高価なインキにも適用可能な方式である。The pre-metering coating method used in the present invention is that a predetermined amount of coating liquid is supplied to a coating section,
This is a coating method in which 0% web is transferred. The feature is that since the coating device is a closed type, there is no evaporation of the solvent and the like, the production stability is excellent, and precision coating is possible.
Further, since it is a non-contact coating method, it does not cause cell eyes on the coated surface like the gravure coating method, and since it has less residual ink, it is also a method that can be applied to expensive ink.

【０００８】１例として、本発明を反射防止フイルムの
製造に使用する場合について説明する。反射防止フィル
ムの層構成の１例は、透明基材フィルム上に、直接或い
は他の層を介して、直接接する下層の屈折率よりも低い
屈折率の、低屈折率樹脂層を形成したものが挙げられ
る。図１に最も基本的な層構成の反射防止フィルムの一
例を示す。図１において、１１は透明基材フィルムであ
り、この透明基材フィルム１１上に低屈折率層１２が形
成されて反射防止フィルムを構成する。この反射防止フ
ィルムにおいては、低屈折率層１２を形成する為に本発
明の前計量塗工方式を使用することが出来る。As an example, the case where the present invention is used for manufacturing an antireflection film will be described. One example of the layer structure of the antireflection film is one in which a low refractive index resin layer having a refractive index lower than that of the lower layer directly in contact with the transparent substrate film is formed on the transparent substrate film. Can be mentioned. FIG. 1 shows an example of the antireflection film having the most basic layer structure. In FIG. 1, 11 is a transparent substrate film, and the low refractive index layer 12 is formed on this transparent substrate film 11 to form an antireflection film. In this antireflection film, the pre-metering coating method of the present invention can be used to form the low refractive index layer 12.

【０００９】又、反射防止フィルムの層構成の別の例
は、透明基材フィルム上に、直接或いは他の層を介し
て、直接接する下層の屈折率よりも高い屈折率の高屈折
率層を形成し、次いで、この高屈折率層上に直接接する
下層の屈折率よりも低い屈折率の低屈折率層を形成した
ものが挙げられる。透明基材フィルム上に形成される高
屈折率層と低屈折率層は、高屈折率層と低屈折率層とを
一組として、一組以上を形成することも出来る。又、こ
れらの高屈折率層と低屈折率層の何れの層の形成にも、
本発明の前計量塗工方式を使用することが出来る。Another example of the layer structure of the antireflection film is a high-refractive index layer having a higher refractive index than the lower layer directly in contact with the transparent substrate film, either directly or through another layer. One formed by forming it, and then forming a low refractive index layer having a refractive index lower than that of the lower layer directly in contact with the high refractive index layer. The high-refractive index layer and the low-refractive index layer formed on the transparent substrate film can be formed as one set or more with the high-refractive index layer and the low-refractive index layer as one set. Further, in forming any of these high refractive index layer and low refractive index layer,
The pre-metering coating system of the present invention can be used.

【００１０】図２にその反射防止フィルムの層構成の別
の一例を示す。図２において、透明基材フィルム１１上
に、接着剤層１３を介して該接着剤層１３の屈折率より
も高い屈折率を有する高屈折率層１４が形成されてお
り、更にこの高屈折率層１４よりも低い屈折率を有する
低屈折率層１２が形成されている。この高屈折率層１４
及び低屈折率層１２の形成の何れにも本発明の前計量塗
工方式を使用することが出来る。FIG. 2 shows another example of the layer structure of the antireflection film. In FIG. 2, a high refractive index layer 14 having a refractive index higher than that of the adhesive layer 13 is formed on the transparent substrate film 11 with an adhesive layer 13 interposed therebetween. A low refractive index layer 12 having a lower refractive index than the layer 14 is formed. This high refractive index layer 14
The pre-metering coating method of the present invention can be used for both formation of the low refractive index layer 12 and the low refractive index layer 12.

【００１１】又、本発明で作成される反射防止フィルム
の層構成の更に別の例は、透明基材フィルム上に、直接
或いは他の層を介して、その上に直接接する下層の屈折
率よりも高い屈折率の高屈折率層を形成し、この高屈折
率層は、後述する高屈折層超微粒子がバインダー樹脂で
相互に結着した高屈折率層となったものである。次い
で、この高屈折率層上に低屈折率層を設けたものであ
る。Still another example of the layer structure of the antireflection film produced by the present invention is the refractive index of the lower layer which is in direct contact with the transparent substrate film, either directly or through another layer. Also forms a high refractive index layer having a high refractive index, and this high refractive index layer is a high refractive index layer in which ultra fine particles of a high refractive layer described later are mutually bound by a binder resin. Next, a low refractive index layer is provided on this high refractive index layer.

【００１２】図３にその反射防止フィルムの層構成の一
例を示す。図３において、透明基材フィルム１１上に、
接着剤層１３を介して該接着剤層１３の屈折率よりも高
い屈折率を有し、且つハード性能を有するハードコート
層１５が形成されており、更にこのハードコート層１５
上には、該ハードコート層１５の屈折率よりも高い屈折
率を有する高屈折率超微粒子層１６（超微粒子がバイン
ダー樹脂で相互に結着し高屈折率層となったもの）が形
成されており、更にこの高屈折率超微粒子層１６の屈折
率よりも低い屈折率を有する低屈折率層１２が形成され
ている。図３の反射防止フィルムにおいては、高屈折率
超微粒子層１６及び低屈折率層１２の何れの層にも、本
発明の前計量塗工方式を使用することが出来る。FIG. 3 shows an example of the layer structure of the antireflection film. In FIG. 3, on the transparent substrate film 11,
A hard coat layer 15 having a refractive index higher than that of the adhesive layer 13 and having a hard performance is formed through the adhesive layer 13, and the hard coat layer 15 is further formed.
A high-refractive-index ultrafine particle layer 16 having a refractive index higher than that of the hard coat layer 15 (the ultrafine particles are bound to each other by a binder resin to form a high-refractive index layer) is formed thereon. Further, the low refractive index layer 12 having a refractive index lower than that of the high refractive index ultrafine particle layer 16 is formed. In the antireflection film of FIG. 3, the pre-metering coating method of the present invention can be used for both the high refractive index ultrafine particle layer 16 and the low refractive index layer 12.

【００１３】尚、前記に例示したいずれの反射防止フィ
ルムも、その表面の低屈折率層は防眩性の付与の目的で
必要に応じて微細な凹凸が形成されていてもよい。透明
基材フィルム上に形成されるこれらの特定の屈折率を持
つ層の全ての層が本発明の前計量塗工方式により形成さ
れてなくてもよく、例えば、反射防止フィルムの最表面
層は、蒸着法、プラズマＣＶＤ法等の真空処理による無
機質からなる低屈折率層であってもよい。In any of the antireflection films exemplified above, the low refractive index layer on the surface thereof may have fine irregularities formed if necessary for the purpose of imparting antiglare property. Not all layers of these layers having a specific refractive index formed on the transparent substrate film may be formed by the pre-metering coating method of the present invention, for example, the outermost surface layer of the antireflection film is It may be a low refractive index layer made of an inorganic material by vacuum treatment such as a vapor deposition method or a plasma CVD method.

【００１４】低屈折率層の形成に使用される低屈折率を
有するコーティング無機材料としては、低屈折率を有す
る超微粒子、例えば、ＬｉＦ（屈折率１．４）、ＭｇＦ
４（屈折１．４）、３ＮａＦ・ＡｌＦ３（屈折率１．
４）、ＡｌＦ３（屈折率１．４）、Ｎａ３ＡｌＦ６（氷
晶石、屈折率１．３３）、ＳｉＯｘ（ｘ：１．５０≦ｘ
≦２．００）（屈折率１．３５〜１．４８）を添加した
バインダー樹脂が使用できる。The coating inorganic material having a low refractive index used for forming the low refractive index layer includes ultrafine particles having a low refractive index, such as LiF (refractive index 1.4) and MgF.
4 (refraction 1.4), 3NaF.AlF 3 (refractive index 1.
4), AlF 3 (refractive index 1.4), Na 3 AlF 6 (cryolite, refractive index 1.33), SiO x (x: 1.50 ≦ x
≦ 2.00) (refractive index 1.35 to 1.48) can be used as the binder resin.

【００１５】又、低屈折率を有するバインダーを単独で
用いてもよく、この様な低屈折率を有するバインダー樹
脂としては、フッ素原子の導入されたポリマー等の有機
物が、その屈折率が１．４５以下と低い点から好まし
い。具体的には溶剤が使用出来る樹脂としてその取扱い
が容易であることからポリフッ化ビニリデン（屈折率ｎ
＝１．４０）が挙げられる。低屈折率層としてこのポリ
フッ化ビニリデンを用いた場合には、低屈折率層の屈折
率はほぼ１．４０程度となるが、更に低屈折率層の屈折
率を低くする為には、トリフルオロエチルアクリレート
ポリマー（屈折率ｎ＝１．３２）の様な低屈折率アクリ
レートポリマーを１０重量部から３００重量部、好まし
くは１００重量部から２００重量部添加してもよい。Further, a binder having a low refractive index may be used alone, and as the binder resin having such a low refractive index, an organic substance such as a polymer having a fluorine atom introduced has a refractive index of 1. It is preferable because it is as low as 45 or less. Specifically, since it is easy to handle as a resin that can use a solvent, polyvinylidene fluoride (refractive index n
= 1.40). When this polyvinylidene fluoride is used for the low refractive index layer, the refractive index of the low refractive index layer is about 1.40, but in order to further lower the refractive index of the low refractive index layer, trifluoro A low refractive index acrylate polymer such as an ethyl acrylate polymer (refractive index n = 1.32) may be added in an amount of 10 to 300 parts by weight, preferably 100 to 200 parts by weight.

【００１６】尚、このポリマーの単量体であるトリフル
オロエチルアクリレートは単官能型であり、その為に低
屈折率層のポリマーの膜強度が十分ではないので、更に
重合時に多官能アクリレート、例えば、電離放射線硬化
型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト（略号：ＤＰＨＡ，４官能型）を添加することが望ま
しい。このＤＰＨＡによる膜強度は添加量が多いほど高
いが、低屈折率層の屈折率を低くする観点からはその添
加量は少ない方がよく、１〜５０重量部、好ましくは５
〜２０重量部添加することが推奨される。The trifluoroethyl acrylate, which is a monomer of this polymer, is a monofunctional type and therefore the film strength of the polymer of the low refractive index layer is not sufficient. It is desirable to add dipentaerythritol hexaacrylate (abbreviation: DPHA, tetrafunctional type) which is an ionizing radiation curable resin. The film strength of DPHA increases as the amount of addition increases, but from the viewpoint of lowering the refractive index of the low refractive index layer, the amount added is preferably small, and is 1 to 50 parts by weight, preferably 5 parts by weight.
It is recommended to add ~ 20 parts by weight.

【００１７】高屈折率層を形成する為に使用される高屈
折率を有するコーティング材料としては、高屈折率を有
するバインダー樹脂、或は高屈折率を有する微粒子をバ
インダー樹脂に添加してなるもの等が挙げられる。前記
高屈折率を持つバインダー樹脂には、芳香環を含む樹
脂、Ｆ以外のハロゲン化元素、例えば、Ｂｒ、Ｉ、Ｃ
ｌ等を含む樹脂、Ｓ、Ｎ、Ｐ等の原子を含む樹脂等が
挙げられ、これらの少なくとも一つの条件を満足する樹
脂が高屈折率となる為に好ましい。The coating material having a high refractive index used to form the high refractive index layer is a binder resin having a high refractive index, or fine particles having a high refractive index added to the binder resin. Etc. The binder resin having a high refractive index includes a resin containing an aromatic ring, a halogenated element other than F, such as Br, I, C.
Examples of the resin include a resin containing 1 or the like, a resin containing an atom such as S, N or P, and a resin satisfying at least one of these conditions is preferable because it has a high refractive index.

【００１８】前記の樹脂の例には、ポリスチレン等の
スチロール樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビ
ニルカルバゾール、ビスフェノールＡのポリカーボネー
ト等が挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリ塩化ビ
ニル、ポリテトラブロモビスフェノールＡグリシジルエ
ーテル等が挙げられる。前記の樹脂の例には、ポリビ
スフェノールＳグリシジルエーテル、ポリビニルピリジ
ン等が挙げられる。Examples of the above-mentioned resin include styrene resin such as polystyrene, polyethylene terephthalate, polyvinyl carbazole, bisphenol A polycarbonate and the like. Examples of the resin include polyvinyl chloride and polytetrabromobisphenol A glycidyl ether. Examples of the above resin include polybisphenol S glycidyl ether, polyvinyl pyridine and the like.

【００１９】前記高屈折率を有する微粒子には、例え
ば、ＺｎＯ（屈折率１．９０）、ＴｉＯ2 （屈折率２．
３〜２．７）、ＣｅＯ2 （屈折率１．９５）、Ｓｂ2 Ｏ
5 （屈折率１．７１）、ＳｎＯ2 、ＩＴＯ（屈折率１．
９５）、Ｙ2 Ｏ3 （屈折率１．８７）、Ｌａ2 Ｏ3 （屈
折率１．９５）、ＺｒＯ2 （屈折率２．０５）、Ａｌ2
Ｏ3 （屈折率１．６３）等が挙げられる。これらの高屈
折率微粒子のうち、ＺｎＯ、ＴｉＯ2 、ＣｅＯ2 等を用
いることにより、反射防止フィルムにＵＶ遮蔽効果が更
に付与されるので好ましい。又、アンチモンがドープさ
れたＳｎＯ2 或いはＩＴＯを用いることにより、電子伝
導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防止、
或いは反射防止フィルムをＣＲＴに用いた場合の電磁波
シールド効果が得られるので好ましい。The fine particles having a high refractive index include, for example, ZnO (refractive index 1.90) and TiO 2 (refractive index 2.90).
3 to 2.7), CeO 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O
5 (refractive index 1.71), SnO 2 , ITO (refractive index 1.7.
95), Y 2 O 3 (refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95), ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2
O 3 (refractive index 1.63) and the like can be mentioned. Among these high refractive index fine particles, it is preferable to use ZnO, TiO 2 , CeO 2 or the like because a UV shielding effect is further imparted to the antireflection film. Further, by using SnO 2 or ITO doped with antimony, the electron conductivity is improved and the adhesion of dust is prevented by the antistatic effect.
Alternatively, it is preferable because an electromagnetic wave shielding effect can be obtained when the antireflection film is used for a CRT.

【００２０】前記した低屈折率超微粒子又は高屈折率超
微粒子をバインダー樹脂に添加して用いる場合には、こ
れらの超微粒子は単独又は混合して使用され、有機溶媒
又は水に分散したコロイド状になったものが分散性の点
において良好であり、その粒径が２００ｎｍ以下、好ま
しくは１〜１００ｎｍ、特に好ましくは３〜２０ｎｍの
ものが、塗膜の透明性を損なわないので好ましい。又、
前記バインダー樹脂に電離放射線硬化型樹脂を用いれ
ば、得られる反射防止フイルムにハード性が付与され
る。When the low-refractive-index ultrafine particles or the high-refractive-index ultrafine particles described above are added to the binder resin and used, these ultrafine particles are used alone or in a mixture, and are used in a colloidal form dispersed in an organic solvent or water. It is preferable in terms of dispersibility that the particle size is 200 nm or less, preferably 1 to 100 nm, and particularly preferably 3 to 20 nm, because the transparency of the coating film is not impaired. or,
When an ionizing radiation curable resin is used as the binder resin, the obtained antireflection film is imparted with hardness.

【００２１】反射防止フィルムには、上記に説明した各
層の他に、各種機能性を付与する為の層を更に設けるこ
とが出来る。例えば、透明基材フィルムと、屈折率の制
御された樹脂層との接着性を向上させる等の理由で、透
明基材フィルム上にプライマー層や或いは接着剤層を設
けたり、又、ハード性能向上の為にハードコート層を設
けてもよい。他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈
折率と屈折率の制御された樹脂層の屈折率との中間の値
とすることが好ましい。In addition to the layers described above, the antireflection film may further be provided with layers for imparting various functionalities. For example, a primer layer or an adhesive layer may be provided on the transparent substrate film for the purpose of improving the adhesiveness between the transparent substrate film and the resin layer whose refractive index is controlled, or the hardware performance may be improved. Therefore, a hard coat layer may be provided. The refractive index of the other layer is preferably an intermediate value between the refractive index of the transparent substrate film and the refractive index of the resin layer whose refractive index is controlled.

【００２２】他の層の形成方法は、透明基材フィルム上
に直接塗工して形成してもよく、又透明基材フィルムに
屈折率の制御された樹脂層を転写により形成する場合に
は、予め離型フィルム上に形成した屈折率の制御された
樹脂層上に、他の層を塗工して形成し、その後、透明基
材フィルムと離型フィルムとを塗工面を内側にしてラミ
ネートし、次いで離型フィルムを剥離することにより、
透明基材フィルムに他の層を転写してもよい。The other layer may be formed by directly coating on the transparent substrate film, or when a resin layer having a controlled refractive index is formed on the transparent substrate film by transfer. , A resin layer having a controlled refractive index formed on a release film in advance, another layer is formed by coating, and then a transparent substrate film and a release film are laminated with the coated surface inside. Then, by peeling the release film,
Other layers may be transferred to the transparent substrate film.

【００２３】次に本発明の前計量塗工方式による反射防
止フィルムの製造方法を説明する。本発明の前計量塗工
方式によって、反射防止フィルムを製造する方法とし
て、一例を挙げれば、透明基材フィルム上に、直接又は
他の層を介して、バインダー樹脂中に低屈折率超微粒子
が均一に分散されてなる、直接接する下層の屈折率より
も低い低屈折率を持つ樹脂組成物を前記前計量塗工方式
により塗工する。次いで、溶剤を乾燥させた後、電子線
照射装置或いは紫外線照射装置等の電離放射線照射装置
により、電離放射線を照射して塗膜を硬化させて反射防
止フィルムを得ることが出来る。Next, a method for producing an antireflection film by the pre-weighing coating method of the present invention will be described. By the pre-metering coating method of the present invention, as an example of a method for producing an antireflection film, on a transparent substrate film, directly or through another layer, low refractive index ultrafine particles in the binder resin. A resin composition having a low refractive index lower than the refractive index of the lower layer in direct contact, which is uniformly dispersed, is applied by the pre-metering coating method. Then, after drying the solvent, the coating film can be cured by irradiating ionizing radiation with an ionizing radiation irradiation device such as an electron beam irradiation device or an ultraviolet irradiation device to obtain an antireflection film.

【００２４】反射防止フィルムの更に別の製造方法を挙
げれば、透明基材フィルム上に、直接又は他の層を介し
て、バインダー樹脂中に高屈折率超微粒子が均一に分散
されてなる、直接接する下層の屈折率よりも高い屈折率
を持つ樹脂組成物を塗工し、乾燥し、電離放射線照射装
置により塗膜を硬化させた後、この塗膜上に更に、直接
接する下層の屈折率よりも低い屈折率を持つ低屈折率層
を、本発明の前計量塗工方式によって設けることによ
り、反射防止フィルムを得る。Another method for producing the antireflection film is as follows: the high refractive index ultrafine particles are uniformly dispersed in a binder resin on a transparent substrate film directly or through another layer. After coating a resin composition having a refractive index higher than the refractive index of the lower layer in contact, drying and curing the coating film by an ionizing radiation irradiation device, further on the coating film, than the refractive index of the lower layer in direct contact An antireflection film is obtained by providing a low refractive index layer having a low refractive index by the pre-metering coating method of the present invention.

【００２５】反射防止フィルムにおいて、その最表面は
微細な凹凸が形成されていてもよい。この様な凹凸面に
より、反射防止フィルムに防眩性及び／又は反射防止性
が付与される。この微細な凹凸の形成方法は、例えば、
微細な凹凸表面の離型フィルム上に各層を積層した後
に、透明基材フィルム上に積層面を内側にしてラミネー
トし、次いで離型フィルムを剥離することにより、積層
物の表面に微細な凹凸を付与することが出来る。In the antireflection film, fine irregularities may be formed on the outermost surface thereof. Such an uneven surface imparts antiglare property and / or antireflection property to the antireflection film. The method of forming the fine unevenness is, for example,
After laminating each layer on the release film having a fine uneven surface, laminating the transparent substrate film with the laminating surface inside, and then peeling the release film to form fine unevenness on the surface of the laminate. Can be given.

【００２６】反射防止フィルムの下面には、粘着剤が塗
工されていてもよく、この反射防止フィルムは反射防止
すべき対象物、例えば、偏光素子に粘着して用いること
が出来る。反射防止フィルムによれば、透明基材フィル
ムの反射率よりも反射率を下げた反射防止フィルムが得
られる。The lower surface of the antireflection film may be coated with an adhesive, and this antireflection film can be used by adhering to an object to be antireflection, for example, a polarizing element. According to the antireflection film, an antireflection film having a reflectance lower than that of the transparent substrate film can be obtained.

【００２７】以上で使用する透明基材フィルムとして
は、トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセル
ロースフィルム、アセテートブチレートセルロースフィ
ルム、ポリエーテルサルホンフィルム、ポリアクリル系
樹脂フィルム、ポリウレタン系樹脂フィルム、ポリエス
テルフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリスルホ
ンフィルム、ポリエーテルフィルム、トリメチルペンテ
ンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、（メタ）ア
クリロニトリルフィルム等が使用出来るが、特に、トリ
アセチルセルロースフィルム、及び一軸延伸ポリエステ
ルが透明性に優れ、光学的に異方性が無い点で好適に用
いられる。その厚みは、通常は８μｍ〜１０００μｍ程
度のものが好適に用いられる。以上、反射防止フイルム
を例にとって説明したが、本発明の前計量塗工方式によ
る光学薄膜の製造方法においては、用いるコーティング
材料の選択により所望の機能を持つ光学薄膜を得ること
が出来る。As the transparent substrate film used in the above, triacetyl cellulose film, diacetyl cellulose film, acetate butyrate cellulose film, polyether sulfone film, polyacrylic resin film, polyurethane resin film, polyester film, polycarbonate. Films, polysulfone films, polyether films, trimethylpentene films, polyetherketone films, (meth) acrylonitrile films, etc. can be used, but especially triacetyl cellulose film and uniaxially stretched polyester have excellent transparency and are optically different. It is preferably used because it has no directionality. The thickness thereof is preferably about 8 μm to 1000 μm. Although the antireflection film has been described above as an example, in the method for producing an optical thin film by the pre-metering coating method of the present invention, an optical thin film having a desired function can be obtained by selecting the coating material used.

【００２８】[0028]

【実施例】以下実施例及び比較例を挙げて本発明をより
具体的に説明する。 実施例１ 塗工液 高屈折率ハードコート層用塗工液 ・ＺｎＯ微粒子（住友セメント、ＺＳ−３００） ２０重量部 ・アクリル酸エステルモノマー（三菱油化（株）製、ＨＮ−５Ａ） ８０重量部 低屈折率樹脂層用塗工液 ・低屈折率樹脂（日本合成ゴム製、ＫＺ） ２．５重量部 ・溶媒：メチルイソブチルケトン ９７．５重量部EXAMPLES The present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples. Example 1 Coating liquid Coating liquid for high refractive index hard coat layer-ZnO fine particles (Sumitomo Cement, ZS-300) 20 parts by weight-Acrylic ester monomer (Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd., HN-5A) 80 parts by weight Part Low-refractive-index resin layer coating liquid-Low-refractive-index resin (Nippon Synthetic Rubber, KZ) 2.5 parts by weight-Solvent: Methyl isobutyl ketone 97.5 parts by weight

【００２９】塗工法 （１）ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）フイルム（富
士写真フイルム製、ＦＴ−ＵＶ０．０８）上に、上記の
塗工液を膜厚５μｍ／ｄｒｙとなる様にグラビアリバ
ースコートにて塗工して、前記フイルム上に高屈折率を
有するハードコート層を得た。 （２）このハードコート層上に、塗工液を以下の条件
でスライドコーターにて塗工した。 ・流量 ７２ｍｌ／ｍｉｎ ・スライドダイ傾斜角 ２３度 ・スライドダイ幅 ２６０ｍｍ ・塗工速度 １５．７ｍｌ／ｍｉｎ （３）電子線を３Ｍｒａｄ照射して全層を完全に硬化さ
せた。その結果、図４に示す様な分光特性を持つ反射防
止膜の作製が可能となった。Coating method (1) A TAC (triacetyl cellulose) film (FT-UV0.08, manufactured by Fuji Photo Film) was coated with the above coating solution by gravure reverse coating so that the film thickness was 5 μm / dry. By coating, a hard coat layer having a high refractive index was obtained on the film. (2) The coating liquid was applied onto this hard coat layer by a slide coater under the following conditions. -Flow rate 72 ml / min-Slide die inclination angle 23 degrees-Slide die width 260 mm-Coating speed 15.7 ml / min (3) All layers were completely cured by irradiation with 3 Mrad of electron beam. As a result, it became possible to manufacture an antireflection film having the spectral characteristics shown in FIG.

【００３０】比較例１ 実施例１の塗工液を使用する代わりに、ＳｉＯ2 蒸着
を行ったところ、同様の分光特性を持つフィルムが作製
可能であったが、バッチ処理の為に一度に少量のサンプ
ルしか得られなかった。Comparative Example 1 When SiO 2 vapor deposition was carried out instead of using the coating liquid of Example 1, it was possible to produce a film having similar spectral characteristics, but a small amount at a time due to batch processing. Only the sample of was obtained.

【００３１】実施例２ 塗工液 高屈折率超微粒子層用塗工液 ・ＺｎＯ超微粒子（住友セメント製、ＺＳ−３００） ２．０重量部 ・アクリル酸エステルモノマー（三菱油化（株）製、ＨＮ−５Ａ） ０．０４重量部 ・溶媒：トルエン ４８．８重量部 メチルエチルケトン ４８．８重量部 低屈折率樹脂層用塗工液 ・低屈折率樹脂（日本合成ゴム製、ＫＺ） ２．５重量部 ・溶媒：メチルイソブチルケトン ９７．５重量部Example 2 Coating liquid Coating liquid for high refractive index ultrafine particle layer-ZnO ultrafine particles (Sumitomo Cement, ZS-300) 2.0 parts by weight-Acrylate ester monomer (manufactured by Mitsubishi Petrochemical Co., Ltd.) , HN-5A) 0.04 parts by weight-Solvent: Toluene 48.8 parts by weight Methyl ethyl ketone 48.8 parts by weight Coating liquid for low refractive index resin layer-Low refractive index resin (NSK, KZ) 2.5 Parts by weight Solvent: methyl isobutyl ketone 97.5 parts by weight

【００３２】塗工方法 （１）塗工液を、以下の条件で離型フィルム（麗光
製、ＭＣ−１９、表面にアクリル−メラミン処理がされ
ているポリエステルフィルム）上にスライドコーターに
て塗工した。 ・流量 ５０ｍｌ／ｍｉｎ ・スライドダイ傾斜角 ２３度 ・スライドダイ幅 ２６０ｍｍ ・塗工速度 １５．７ｍｌ／ｍｉｎCoating Method (1) The coating liquid was coated on a release film (Reiko, MC-19, polyester film having acrylic-melamine treated surface) under the following conditions with a slide coater. I worked.・ Flow rate 50 ml / min ・ Sliding die inclination angle 23 ° ・ Slide die width 260 mm ・ Coating speed 15.7 ml / min

【００３３】（２）ＰＥＴフィルム（東レ製、Ｕ−９
８）上にハードコート層として電子線硬化型樹脂（大日
精化製、ＥＸＧ）を膜厚５μｍ／ｄｒｙとなる様に、グ
ラビアリバースコートにて塗工したものと、（１）の高
屈折率超微粒子層面側とをラミネートした後、電子線を
２Ｍｒａｄ照射し、離型フィルムを剥離して（１）の高
屈折率超微粒子層を転写した。(2) PET film (Toray, U-9
8) An electron beam curable resin (EXG, manufactured by Dainichiseika Co., Ltd.) was applied as a hard coat layer by gravure reverse coating so as to have a film thickness of 5 μm / dry, and the high refractive index of (1) After laminating the surface side of the ultrafine particle layer, electron beam was irradiated for 2 Mrad, the release film was peeled off, and the high refractive index ultrafine particle layer of (1) was transferred.

【００３４】（３）塗工液を以下の条件で（１）の高
屈折率超微粒子層上にスライドコーターにて塗工した。 ・流量 ７２ｍｌ／ｍｉｎ ・スライドダイ傾斜角 ２３度 ・スライドダイ幅 ２６０ｍｍ ・塗工速度 １５．７ｍｌ／ｍｉｎ （４）電子線を３Ｍｒａｄ照射して全層を完全に硬化さ
せた。その結果、図５に示す様な分光特性を持つ反射防
止膜の作製が可能となった。(3) The coating liquid was applied on the high refractive index ultrafine particle layer of (1) with a slide coater under the following conditions. -Flow rate 72 ml / min-Slide die inclination angle 23 degrees-Slide die width 260 mm-Coating speed 15.7 ml / min (4) All layers were completely cured by irradiation with an electron beam of 3 Mrad. As a result, it became possible to fabricate an antireflection film having the spectral characteristics shown in FIG.

【００３５】比較例２ 実施例２の塗工液を使用する代わりに、真空蒸着方法
によりＳｉＯ2 蒸着を行ったところ、同様の分光特性を
持つフィルムが作製可能であったが、バッチ処理の為に
一度に少量のサンプルしか得られなかった。Comparative Example 2 Instead of using the coating liquid of Example 2, SiO 2 was vapor-deposited by a vacuum vapor deposition method. As a result, a film having similar spectral characteristics could be produced, but it was a batch process. Only a small amount of sample was obtained at one time.

【００３６】[0036]

【発明の効果】以上の如き本発明によれば、塗工液が被
塗工基材に１００％転移する為に、生産安定性に優れ、
精度塗工が可能であり、厳しい膜厚精度が要求される紫
外線遮断効果、熱線反射効果、反射防止効果等を有する
各種光学薄膜が提供される。EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention as described above, since the coating liquid transfers 100% to the substrate to be coated, the production stability is excellent,
Provided are various optical thin films that can be accurately coated and have an ultraviolet blocking effect, a heat ray reflecting effect, an antireflection effect, and the like, which require strict film thickness accuracy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図１】最も基本的な層構成の反射防止フィルムの一例
を示す図FIG. 1 is a diagram showing an example of an antireflection film having the most basic layer structure.

【図２】反射防止フィルムの層構成の別の一例を示す図FIG. 2 is a view showing another example of the layer structure of the antireflection film.

【図３】反射防止フィルムの層構成の更に別の例を示す
図FIG. 3 is a view showing still another example of the layer structure of the antireflection film.

【図４】実施例１の反射防止膜の分光特性を示す図FIG. 4 is a diagram showing the spectral characteristics of the antireflection film of Example 1.

【図５】実施例２の反射防止膜の分光特性を示す図FIG. 5 is a diagram showing the spectral characteristics of the antireflection film of Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

１１：透明基材フィルム １２：低屈折率層 １３：接着剤層 １４：高屈折率層 １５：ハードコート層 １６：高屈折率超微粒子層 11: Transparent substrate film 12: Low refractive index layer 13: Adhesive layer 14: High refractive index layer 15: Hard coat layer 16: High refractive index ultrafine particle layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 裕子 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Yuko Suzuki 1-1-1, Ichigaya-Kagacho, Shinjuku-ku, Tokyo Inside Dai Nippon Printing Co., Ltd.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項１】 塗工液を予め決められた量だけ塗工出来
る前計量塗工方式にて、基材に塗工液を塗工して光学薄
膜を形成することを特徴とする前計量塗工方式による光
学薄膜の製造方法。1. A pre-metering coating characterized by forming an optical thin film by applying a coating solution to a substrate by a pre-metering coating method capable of applying a predetermined amount of the coating solution. Manufacturing method of optical thin film. 【請求項２】 前計量塗工方式のコーターがスライドコ
ーターである請求項１に記載の光学薄膜の製造方法。2. The method for producing an optical thin film according to claim 1, wherein the coater of the pre-metering coating method is a slide coater. 【請求項３】 光学薄膜が反射防止膜である請求項１〜
２に記載の光学薄膜の製造方法。3. The optical thin film is an antireflection film.
2. The method for producing an optical thin film according to 2.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006511344A (en) * 2002-12-20 2006-04-06 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Method for forming a functional layer

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006511344A (en) * 2002-12-20 2006-04-06 チバ　スペシャルティ　ケミカルズ　ホールディング　インコーポレーテッド Method for forming a functional layer

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