JPH08279371A - 接続部材および該接続部材を用いた電極の接続構造並びに接続方法 - Google Patents

接続部材および該接続部材を用いた電極の接続構造並びに接続方法

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JPH08279371A
JPH08279371A JP17482395A JP17482395A JPH08279371A JP H08279371 A JPH08279371 A JP H08279371A JP 17482395 A JP17482395 A JP 17482395A JP 17482395 A JP17482395 A JP 17482395A JP H08279371 A JPH08279371 A JP H08279371A
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寛 松岡
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    • H05K3/361Assembling flexible printed circuits with other printed circuits

Abstract

(57)【要約】 【課題】長時間接続信頼性に優れ、導電粒子と電極との
正確な位置合わせが不要な作業性に優れた、高分解能の
接続部材およびをこれを用いた電極の接続構造を得るこ
と。 【解決手段】導電材料とバインダとよりなる加圧方向に
導電性を有する接着層の少なくとも片面に絶縁性の接着
層が形成されてなる多層接続部材であって、バインダ成
分の接続時の溶融粘度が絶縁性接着層に比べ同等以下と
したことを特徴接続部材および接続構造。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、電子部品と回路板
や回路板同士を接着固定すると共に、両者の電極同士を
電気的に接続する接続部材、およびこれを用いた電極の
接続構造並びに接続方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、電子部品の小型薄型化に伴い、こ
れらに用いる回路は高密度、高精細化している。このよ
うな電子部品と微細電極の接続は、従来のはんだやゴム
コネクタ等では対応が困難であることから、最近では分
解能に優れた異方導電性の接着剤や膜状物(以下接続部
材)が多用されている。この接続部材は、導電粒子等の
導電材料を所定量含有した接着剤からなるもので、この
接続部材を電子部品と電極や回路との間に設け、加圧ま
たは加熱加圧手段を構じることによって、両者の電極同
士が電気的に接続されると共に、電極に隣接して形成さ
れている電極同士には絶縁性を付与して、電子部品と回
路とが接着固定されるものである。上記接続部材を高分
解能化するための基本的な考えは、導電粒子の粒径を隣
接電極間の絶縁部分よりも小さくすることで隣接電極間
における絶縁性を確保し、併せて導電粒子の含有量をこ
の粒子同士が接触しない程度とし、かつ電極上に確実に
存在させることにより、接続部分における導電性を得る
ことである。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来の方法は、導
電粒子の粒径を小さくすると、粒子表面積の著しい増加
により粒子が2次凝集を起こして凍結し、隣接電極間の
絶縁性が保持できなくなる。また、導電粒子の含有量を
減少すると接続すべき電極上の導電粒子の数も減少する
ことから、接触点数が不足し接続電極間での導通が得ら
れなくなるため、長期接続信頼性を保ちながら接続部材
を高分解能化することは極めて困難であった。すなわ
ち、近年の著しい高分解能化すなわち電極面積や隣接電
極間(スペース)の微細化により、電極上の導電粒子が
接続時の加圧または加熱加圧により、接着剤と共に隣接
電極間に流出し、接続部材の高分解能化の妨げとなって
いた。このとき、接着剤の流出を抑制するために、接着
剤を高粘度とすると電極と導電粒子の接触が不十分とな
り、相対峙する電極の接続が不可能となる。一方、接着
剤を低粘度とすると、導電粒子の流出に加えてスペース
部に気泡を含みやすく接続信頼性、特に耐湿性が低下し
てしまう欠点がある。
【0004】このようなことから、導電粒子含有層と絶
縁性接着層を分解した多層構成の接続部材料とし、導電
粒子含有層の接続時における粘度を絶縁性接着層よりも
高粘度もしくは高凝集力することで、導電粒子を流動さ
せ難くして電極上に導電粒子を保持する試みも、例えば
特開昭61−195179号公報、特開平4−3666
30号公報等にみられる。これらは接続時に導電粒子含
有層が高粘度であるため、電極と導電粒子の接触が不十
分となるために、接続抵抗値が高いことから接続信頼性
が不満足である。また、導電粒子含有層から導電粒子を
露出させ、電極との接触を得やすい構成とした場合、導
電粒子の粒子径を大きくする必要があり、高分解能化に
対応できない。また、このような微細電極や回路の接続
を可能とし、かつ接続信頼性に優れた接続部材として、
両方向の必要部に導電粒子の密集領域を有する接続部材
の提案もある。これによれば、半導体チップのようなド
ット状の微細電極の接続が可能となるものの、導電粒子
の密集領域とドット状電極との正確な位置合わせが必要
で、作業性に劣る欠点がある。
【0005】本発明は、上記欠点に鑑みなされたもの
で、導電粒子が接続時に電極上から流出し難いので電極
上に保持可能であり、かつ電極と導電粒子の接触が得や
すく、また接続部に気泡を含み難いことから、長時間接
続信頼性に優れ、導電粒子と電極との正確な位置合わせ
が不要なことから作業性に優れた、高分解能の接続部材
に関する。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、導電材料とバ
インダとよりなる加圧方向に導電性を有する接着層の少
なくとも片面に絶縁性の接着層が形成されてなる多層接
続部材であって、バインダ成分の接続時の溶融粘度が、
絶縁性接着層に比べ同等以下であることを特徴とする接
続部材に関する。また、相対峙する電極列間の少なくと
も一方が突出した電極列間の接続構造であって、前記導
電材料が相対峙する電極間に存在し、かつ絶縁性接着層
が突出電極の少なくとも基板側の周囲を覆ってなること
を特徴とする電極の構造並びに、少なくとも一方が突出
した電極を有する相対峙する電極列間に、前記接続部材
の絶縁性接着層が突出した電極側となるように配置し、
バインダ成分と絶縁性の接着層との接続時の溶融粘度が
絶縁性の接着層に比べて、相対的にバインダ成分が低い
条件で加熱加圧することを特徴とする電極の接続方法に
関する。
【0007】
【発明の実施の形態】本発明を図面を参照しながら説明
する。図1は、本発明の一実施例を説明する接続部材の
断面模式図である。本発明の接続部材は、導電材料とバ
インダとよりなる加圧方向に導電性を有する導電性接着
層1の少なくとも片面に絶縁性接着層2が形成されてな
る多層接続部材である。図2のように絶縁性接着層2
は、導電性接着層1の両面に形成しても良い。図1〜2
において、図示していないが絶縁性接着層2を、さらに
多層構成として接着性等の機能を付加しても良い。これ
らの表面には不要な粘着性やごみ等の付着防止のため
に、図1のように剥離可能なセパレータ5が必要に応じ
て存在出来る。セパレータ5は、図示していないが表裏
にも形成可能である。図1の場合、セパレータ5が絶縁
性接着層2に接してなるので、片側の基板が平面電極の
場合(例えば液晶等の表示基板)の仮貼り付けに際し
て、平面電極側にセパレータ5の存在しない導電性接着
層1を形成出来るので、作業性が良く好都合である。こ
れらの場合、連続テープ状であると接続作業工程の連続
自動化が図れるので好ましい。
【0008】図3は、加圧方向に導電性を有する導電性
接着層1を説明する断面模式図である。導電性接着層1
は、導電材料3を含有したバインダ4よりなる。ここに
導電材料4としては、図3(a)〜(g)のようなもの
が適用可能である。これらのうち導電材料3は、図3
(c)〜(e)のようにバインダ5の厚み方向に単層で
存在できる粒径、すなわちバインダ5の厚みとほぼ同等
の粒径とすることが、接続時に導電材料3が流動しにく
いために電極上に導電材料3が保持しやすく好ましい。
導電材料3がバインダ4の厚みとほぼ同等の場合、簡単
な接触により電極と導電可能となり導電性が得やすい。
バインダ4に対する導電材料3の割合は、0.1〜20
体積%程度、より好ましくは1〜15体積%が、異方導
電性が得やすく好ましい。また厚み方向の導電性を得や
すくして高分解能とするために、バインダ5の厚さは膜
形成の可能な範囲で薄い方が好ましく、20μm以下よ
り好ましくは10μm以下である。導電材料3として
は、例えば図3の(a)〜(e)の例示のように導電粒
子で形成することが、製造が比較的容易に入手しやすい
ことから好ましい。また、導電材料3は、図3(f)の
ようにバインダ5に貫通口を設けてめっき等で導電体を
形成したり、図3(g)のようにワイヤ等の導電繊維状
としても良い。
【0009】導電粒子としては、Au、Ag、Pt、N
i、Cu、W、Sb、Sn、はんだ等の金属粒子やカー
ボン等があり、またこれら導電粒子を核材とするか、あ
るいは非導電性のガラス、セラミックス、プラスチック
等の高分子等からなる核材に前記したような材質からな
る導電層を被覆形成したもので良い。さらに導電材料6
を絶縁層で被覆してなる絶縁被覆粒子や、導電粒子とガ
ラス、セラミックス、プラスチック等の絶縁粒子の併用
等も分解能が向上するので適用可能である。粒径は、微
小な電極上に1個以上好ましくはなるべく多くの粒子数
を確保するには、小粒径粒子が好適であり15μm以
下、より好ましくは7μm以下1μm以上である。1μ
m以下では絶縁性接着層を突き破って電極と接触し難
い。また、導電材料3は、均一粒子径であると電極間か
らの流出が少ないので好ましい。これら導電粒子の中で
は、プラスチック等の高分子核材に導電層を形成したも
のや、はんだ等の熱溶融金属が、加熱加圧もしくは加圧
により変形性を有し、接続に回路との接触面積が増加
し、信頼性が向上するので好ましい。特に高分子類を核
とした場合、はんだのように融点を示さないので軟化の
状態を接続温度で広く制御でき、電極の厚みや平坦性の
ばらつきに対応し易いので特に好ましい。また、例えば
NiやW等の硬質金属粒子や、表面に多数の突起を有す
る粒子の場合、導電粒子が電極や配線パターンに突き刺
さるので、酸化膜や汚染層の存在する場合にも低い接続
抵抗が得られ、信頼性が向上するので好ましい。
【0010】バインダ4と絶縁性接着層2は、熱や光に
より硬化性を示す材料が広く適用でき、接着性の大きい
ことが好ましい。これらは接続後の耐熱性や耐湿性に優
れることから、硬化性材料の適用が好ましい。なかでも
エポキシ系接着剤は、短時間硬化が可能で接続作業性が
良く、分子構造上接着性に優れるので特に好ましい。エ
ポキシ系接着剤は、例えば高分子量のエポキシ、固形エ
ポキシと液状エポキシ、ウレタンやポリエステル、アク
リルゴム、NBR、シリコーン、ナイロン等で変性した
エポキシを主成分とし、硬化剤や触媒、カップリング
剤、充填剤等を添加してなるものが一般的である。本発
明のバインダ成分4と絶縁性接着層2とは、各成分中に
共通材料を1%以上好ましくは5%以上含有すると、両
層の界面接着力が向上するので好適である。共通材料と
しては、主材料や硬化剤等がより効果的である。
【0011】本発明においては、バインダ成分の接続時
の溶融粘度が、絶縁性接着層に比べ同等以下であること
を特徴とする。この点について、図4〜5を用いて説明
する。図4は、バインダ成分4と絶縁性接着層2との加
熱時の溶融粘度を示す模式説明図である。本願は、接続
時の温度下でバインダ成分4(A)が絶縁性接着層2
(B)に比べ相対的に同等以下であり、好ましくはこの
時の(A)と(B)の粘度の差を0.1〜1000ポイ
ズ程度とし、より好ましくは1〜200ポイズとするこ
とが特徴である。粘度の差が大き過ぎると電極と粒子と
の接触が不十分になりやすい。後述する図5でも説明す
るが、接続時の接触と流動過程のバランスから電極上に
粒子を保持し、かつ電極と粒子との接触を有効に得るた
めに好ましい粘度範囲が存在する。同様な理由により、
接続時の溶融粘度は、バインダ成分が500ポイズ以下
で行うことが好ましく、この時、絶縁性接着層が100
0ポイズ以下であることがより好ましい。
【0012】図5(a)に示す接触過程で、まず導電材
料3が相対的に溶融粘度が、同等以上の絶縁性接着層2
に埋め込まれあるいは一部が捕捉された状態で、導電材
料3の位置が保持される。次いで図5(b)の流動過程
において、絶縁性の接着層の軟化により導電材料3が突
出電極12と接触し、平面電極13との間で導電可能と
なる。バインダ成分の接続時の溶融粘度が絶縁性接着層
に比べ、低粘度である好ましい実施態様の場合、絶縁性
接着層2は、導電材料3の保持が可能で隣接する突出電
極間のスペースを気泡の無い状態で接続できる。この場
合、絶縁性接着層2の軟化促進のために、接続部材の絶
縁性接着層が突出した電極側となるように配置し、絶縁
性接着層側に熱源を配し加熱加圧することがさらに好ま
しい。この時、加熱加圧工程を2段階以上に分割し、必
要に応じて通電検査工程および/またはリペア工程とを
含む電極の接続方法とすることも可能である。加熱加圧
工程を2段階以上に分解することで、接着剤の硬化反応
に伴う流動過程の粘度制御が可能になるので、気泡の無
い良好な接続が可能となる。加えて硬化型接着剤の問題
点であるリペア性の付与が可能となる。
【0013】通電検査工程は、接続電極の保持が可能な
程度に、接続部材の凝集力を増加せしめ、あるいは電極
接続部を加圧しながら行うことができる。通電極検査
は、例えば両電極からリード線を取り出し接続抵抗の測
定により可能である。この時、導電材料3と電極との接
触状態の外観検査も、併用もしくは独立して行うことも
出来る。リペア性とは、不要部の接着剤を除去して溶剤
等で清浄化し再接続することである。一般的に硬化型接
着剤は、硬化終了後に網状構造が発達し、熱や溶剤等に
不溶不融性となり、清浄化が極めて困難なため従来から
問題視されていた。加熱加圧工程の第一段階で、例えば
導電材料3が突出電極12と接触し、平面電極13との
間で導通可能な状態で両電極の通電検査を行う。この
時、不良電極の接続部があれば、この状態でリペアし再
接続を行う。接着剤は、未硬化あるいは硬化反応の不十
分な状態なので、剥離し易く溶剤にも浸され易くリペア
作業が容易である。
【0014】溶融粘度の測定法としては、バインダ成分
4と絶縁性接着層2とを相対的に比較できれば良く特に
規定しないが、同一の方法とすることが好ましく、例え
ば高温下の測定が可能な一般的な回転式粘度計を使用で
きる。この時、測定時に反応が進行し粘度の変化が生じ
る例えば熱硬化系配合の場合は、硬化剤を除去したモデ
ル配合での測定値を採用出来る。バインダ成分4と絶縁
性接着層2との接続時の溶融粘度に差を設ける方法とし
ては、材料の分子量や分子の絡み合いよる固有粘度の組
み合わせや、増粘材としての充填剤の選択、および硬化
系における反応速度の制御等が一般的である。本発明の
接続部材料の製法としては、例えば導電性接着層1と、
絶縁性接着層2をラミネートしたり、積層して順次塗工
する等の方法が採用できる。
【0015】本発明の接続部材を用いた電極の接続構造
とその製法について、図6〜7により説明する。図6
は、基板11に形成された突出電極12と、基板11’
の平面電極13とが、本発明の接続部材を介して接続さ
れた構造である。すなわち、相対峙する電極列間の少な
くとも一方が突出した電極列間の接続構造であって、相
対峙する電極間12−13間に導電材料3が存在し、か
つ突出電極12の周囲14よりも導電材料の密度が高い
状態で存在し、相対峙する電極列間が接続される。ま
た、絶縁性接着層2が突出電極12の少なくとも突出す
る電極の周囲を覆っている。ここに平面電極13は、基
板11面からの凹凸がないか、あっても数μm以下とわ
ずかな場合をいう。これらを例示すると、アディティブ
法や薄膜法で得られた電極類が代表的である。
【0016】図7は、基板に形成された電極が突出電極
12と12’同士の場合である。すなわち、図2で示し
た両面に、絶縁性接着層2および2’を有する接続部材
を介して接続した構造である。絶縁性接着層2および
2’は、それぞれ突出電極12と12’の突出する電極
の周囲を覆っており、また、基板面11および11’と
接している。図6〜7においては、導電性接着層1と絶
縁性接着層2が境界を形成しているが、混合されても良
く、図8のように突出した電極12の頂部16から基板
11側にかけて、導電材料3の密度が傾斜的に薄くなる
構成でも良い。図6〜7において、基板11としては、
ポリイミドやポリエステル等のプラスチックフィルム、
ガラス繊維/エポキシ等の複合体、シリコーン等の半導
体、ガラスやセラミックス等の無機質等を例示できる。
突出電極12は、上記した他に、各種回路類や端子類も
含むことができる。なお、図6〜7で示した各種電極類
は、それぞれ任意に組み合わせて適用できる。本発明の
接続部材を用いた電極の接続方法は、接続部材の絶縁性
接着層2が突出した電極12側となるように配置し、バ
インダ成分と絶縁性の接着層との接続時の溶融粘度が絶
縁性の接着層に比べて、相対的にバインダ成分の方が低
い条件下で加熱加圧する。
【0017】本発明によれば、バインダ成分の接続時の
溶融粘度が絶縁性接着層に比べ、同等以下であるので、
電極の接続時に、導電性接着層1の導電材料3が相対的
に溶融粘度が同等以上の絶縁性接着層2に埋め込まれ、
あるいは一部が捕捉された状態で接触し、突出電極12
上に導電材料3の位置が保持される。次いで、絶縁性の
接着層の軟化流動により、導電材料3が突出電極12と
接触し導通可能となる。この時絶縁性接着層2は、バイ
ンダ成分4に比べ粘度が高く、導電材料3の保持が可能
であり、隣接する突出電極間のスペースを気泡の無い状
態で接続できる。
【0018】本発明によれば、電極12上に導電材料3
が確実に保持され導通可能となるので、導通検査の信頼
性が向上する。接着剤は、未硬化あるいは硬化反応の不
十分な状態で導通検査可能なのでリペア作業が容易であ
る。絶縁性接着層2は、突出した電極12側となるよう
に配置するので、隣接電極間の絶縁性と分解能が向上す
る。加えて、絶縁性接着層2の溶融粘度が高い構成の場
合に、接続圧力が加わらないので隣接電極間に導電材料
3が一層流入しにくい。導電性接着層1の導電材料3
は、全面に均一に分散されてなるので、導電粒子と電極
との正確な位置合わせが不要なことから作業性に優れ
る。接着層は、その目的に応じ、例えば電極基板の材質
に適合した接着性を示す組み合わせが可能なことから材
料の選択肢が拡大し、接続部の気泡減少等により、やは
り接続信頼性が向上する。また一方を溶剤に可溶性もし
くは膨潤性としたり、あるいは耐熱性に差を持たせるこ
とで、一方の基板面から優先的に剥離可能とし、再接続
するいわゆるリペア性を付与することも可能となる。あ
るいは電極基板の材質にに適合した任意の組み合わせと
することも可能であり、電極と導電粒子の接触が得やす
く、製法も簡単である。また、接着層を接続部の外には
み出させ封止材的作用により、補強や防湿効果を得るこ
ともできる。
【0019】
【実施例】以下実施例でさらに詳細に説明するが、本発
明はこれに限定されない。 実施例1 (1)導電性接着層の作製 フェノキシ樹脂(高分子量エポキシ樹脂)とマイクロカ
プセル型潜在性硬化剤を含有する液状エポキシ樹脂(エ
ポキシ当量185)の比率を30/70とし、酢酸エチ
ルの30%溶液を得た。この溶液に、粒径5±0.2μ
mのポリスチレン系粒子にNi/Auの厚さ0.2/
0.02μmの金属被覆を形成した導電性粒子を5体積
%添加し、混合分散した。この分散液をセパレータ(シ
リコーン処理ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚
み40μm)にロールコータで塗布し、110℃で20
分乾燥し、厚み5μmの導電性接着層を得た。この接着
層の硬化剤を除去したモデル配合の粘度を、デジタル粘
度計HV−8(株式会社レスカ製)により測定した。1
50℃における粘度は80ポイズであった。
【0020】(2)絶縁性接着層の形成と接続部材の作
製 (1)の配合比を40/60とし導電性接着層から導電
性粒子を除去し、厚み15μmのシートを前記(1)と
同様に作製した。まず(1)の導電性接着層面と(2)
の接着層面とをゴムロール間で圧延しながらラミネート
した。以上で図1の2層構成の多層接続部材を得た。前
記と同様に測定した150℃における粘度は280ポイ
ズであった。したがって150℃における導電性接着層
と絶縁性接着層との粘度の差は、200ポイズである。
【0021】(3)接続 ポリイミドフィルム上に、高さ18μmの銅の回路を有
する2層FPC回路板(回路ピッチは70μm、電極幅
20μmの平行回路の電極)と、ガラス1.1mm上に
酸化インジウム厚み0.2μm(ITO、表面抵抗20
Ω/□)の薄膜回路を有する平面電極との接続部を行っ
た。この時接続装置の熱源は、絶縁性の接着層側に配置
した。まず、平面電極側に導電性接着層がくるようにし
た。前記接続部材を2mm幅で載置し、セパレータを剥
離した後貼り付けた。平面電極側に仮接続したので貼り
付けが容易で、この後のセパレータ剥離も簡単であっ
た。次に他の回路板と上下回路を位置合わせし、150
℃、20kgf/mm2 、15秒で接続体を得た。
【0022】(4)評価 この接続体の断面を研磨し顕微鏡で観察したところ、図
4相当の接続構造であった。隣接電極間のスペースは気
泡混入がなく粒子が球状であったが、電極上は粒子が圧
縮変形され上下電極と接触保持されていた。相対峙する
電極間を接続抵抗、隣接する電極間を絶縁抵抗として評
価したところ、接続抵抗は1Ω以下、絶縁抵抗は108
Ω以上であり、これらは85℃、85%RH1000時
間処理後も変化が殆どなく良好な長期信頼性を示した。
本実施例における電極上(20μm×2mm)の接続に
寄与している有効平均粒子数は、60個(最大66個、
最小52個)であった。接続に寄与している有効粒子と
は、接続面をガラス側から顕微鏡(×100)で観察
し、電極との接触により光沢を有しているものとした。
【0023】比較例1 実施例1と同様であるが、厚みが20μmの従来構成の
単層の導電性接着層を得た。実施例1と同様に評価した
ところ、電極上(20μm×2mm)の粒子数は最大3
8個、最小0個であり、電極上に有効粒子の無いものが
見られ、また実施例1に比べ最大と最小のばらつきが大
きかった。また、接続体の絶縁抵抗を測定したところシ
ョート不良が発生した。接続時に導電粒子が電極上から
流出し、隣接電極間(スペース部)での絶縁性が保持で
きなくなったと見られる。
【0024】実施例2 実施例1の導電性接着層の他の面に、さらに同様に絶縁
性接着層を形成し、図2の3層構成の多層接続部材を得
た。実施例1のFPC同様に接続し、図7相当の接続体
を得た。実施例1と同様に評価したところ良好な接続特
性を示した。電極上の有効粒子数は、突出電極同士の接
続なので粒子が流出しやすい構成にもかかわらず、全電
極において10個以上の確保が可能であった。
【0025】実施例3〜5および比較例2 実施例1と同様であるが、絶縁性接着層のフェノキシ樹
脂と液状エポキシ樹脂の配合比を変えることで、両層の
150℃における粘度の差を変化させた。結果を前述実
施例1と共に表1に示す。各実施例では、電極上の有効
粒子数が多くばらつきも比較的少なく、実施例1と同様
に良好な接続特性を示した。比較例2では、粘度の差が
大きすぎるため絶縁性接着層から導電粒子が露出できず
に電極上に有効粒子が見られず、接続が不可能であっ
た。
【0026】
【表1】 ──────────────────────────────── バインダ粘度 粘度の差 電極上の有効粒子数 (ポイズ) (ポイズ) (個/20μm×2mm ) ──────────────────────────────── 実施例3 200 0 42(30〜52) 実施例4 200 1 58(50〜63) 実施例1 80 200 60(52〜66) 実施例5 80 1000 47(47〜65) 比較例2 80 10000 なし ────────────────────────────────
【0027】実施例6 実施例1と同様であるが、FPCに変えて、ICチップ
(2×10mm、高さ0.5mm、4辺周囲にバンプと
呼ばれる50μm角、高さ20μmの金電極が200個
形成)を用いた。ガラス側のITO電極を、前記ICチ
ップのバンプ電極のサイズに対応するように変更した。
接続体は図6にほぼ相当する構成であるが、良好な接続
特性を示した。本実施例では、バンプがマッシュルーム
形で頂部を有しているも拘らず、粒子は圧縮変形され上
下電極と接触保持されていた。隣接バンプ間に気泡混入
がなく、良好な長期信頼性を示した。導電粒子は、相対
峙する電極間距離に応じて粒子の変形度が異なり、部分
的にバンプに食い込むものも見られた。パンプ上の有効
粒子数は、全電極において5個以上の確保が可能であっ
た。
【0028】実施例7〜8 実施例6と同様であるが、ガラス基板上に5個のICチ
ップを搭載できる基板に変更し、加熱加圧工程を2段階
とした。まず、150℃、20kgf/mm2、2秒後
に加圧しながら各接続点の接続抵抗をマルチメータで測
定検査した(実施例7)。同様であるが他の一方は、1
50℃、20kgf/mm2 、3秒後に接続装置から除
去した。加熱加圧により接着剤の凝集力が向上したの
で、各ICチップは、ガラス側に仮固定が可能で無加圧
で同様に検査(実施例8)した。両実施例ともに1個の
ICチップが異常であった。そこで異常チップを剥離し
て新規チップで前記同様の接続を行ったところ、今度は
いずれも良好であった。接着剤は硬化反応の不十分な状
態なので、チップの剥離や、その後のアセトンを用いた
清浄化も極めて簡単であり、リペア作業が容易であっ
た。以上の通電検査工程およびリペア工程の後で、15
0℃、20kgf/mm2、15秒で接続したところ、
両実施例ともに良好な接続特性を示した。バンプ上の有
効粒子数は、全電極において7個以上の確保が可能であ
った。本実施例では、実施例6に比べバンプ上の有効粒
子数が増加し、電極上からの流出が少ない。加熱加圧工
程を2段階としたことで、粒子の保持性がさらに向上し
たものと見られる。
【0029】実施例9 実施例2の接続部材と同様であるが、接着層の厚みを片
側25μm、他の面を50μmに形成した。電極は、Q
FP形ICのリード(厚み100μm、ピッチ300μ
m)であり、ガラスエポキシ基板上の銅の厚み35μm
の端子と接続した。本構成は図7類似であるが、ICの
リード側(片側)に基板のない構成である。本実施例
は、高さの大きな電極同士の接続であるが、電極ずれが
なく良好な接続特性を示した。導電性シート中の導電材
料は図示していないが、粒子は圧縮変形され上下電極と
接触保持されていた。隣接電極間に気泡混入がなく、良
好な長期信頼性を示した。本実施例では、基板のない部
分もリード高さに沿って接着層が形成され、リードを固
定できた。電極上の有効粒子数は、全電極において10
個以上の確保が可能であった。
【0030】実施例10 実施例1の接続部材と同様であるが、導電粒子を表面に
凹凸有するカルボニルニッケル(平均粒径3μm)に変
更し、絶縁性接着層をカルボキシル変性SEBS(スチ
レン−エチレン−ブチレン−スチレンブロック共重合
体)とマイクロカプセル型潜在性硬化剤を含有する液状
エポキシ樹脂(エポキシ当量185)の比率を20/8
0とし、厚み15μmのシートを前記と同様に作製し、
導電性接着層面とラミネートした。前記と同様に測定し
た150℃における粘度は100ポイズであった。した
がって導電性接着層と絶縁性接着層との粘度の差は20
ポイズである。実施例1と同様に評価したところ、電極
に導電粒子の先端が食い込んでおり、電極上の有効粒子
数は、100個以上が確保できた。接続抵抗、絶縁抵
抗、長期信頼性ともに良好あった。本実施例では、導電
性接着層と絶縁性接着層とで、高分子成分を変えたので
接着後に、絶縁性接着層側の面から綺麗に剥離可能であ
った。このことは、リペア作業の容易さを意味する。導
電性接着層と絶縁性接着層とのTMA(熱機械分析)に
よる引っ張り法で求めたTg(ガラス転移点)は、前者
が125℃、後者が100℃であった。これはリペア作
業において剥離温度を高温下とし、耐熱性の差を利用し
て剥離するときに有効である。
【0031】実施例11〜13 実施例1の接続部材と同様であるが、絶縁粒子として実
施例1の導電性粒子の核体であるポリスチレン系粒子を
1体積%、導電性接着層(実施例11)、絶縁性接着層
(実施例12)、両層(実施例13)にそれぞれ混合分
散した。実施例1と同様に評価したところ、接続抵抗、
絶縁抵抗、長期信頼性ともに良好であった。絶縁粒子の
添加量が少ないので、各実施例で流動性に対する影響は
見られなかった。実施例11では、導電性粒子の間に絶
縁粒子が分散され導電性接着層のみの異方導電性の分解
能向上に有効であった。実施例12は、絶縁性接着層の
絶縁性保持に有効で、実施例13は、実施例11〜12
の両者の特徴を有していた。実施例11と13の絶縁粒
子は、電極間で導電粒子と同様に変形保持された。
【0032】実施例14 実施例1の接続部材と同様であるが、導電粒子の表面を
絶縁被覆処理を行った。すなわち、平均粒径5μmの導
電粒子の表面を、ガラス転移点127℃のナイロン樹脂
で厚み約0.2μm被覆し、添加量を10体積%に増加
した。実施例1と同様に評価したが、良好な接続特性を
示した。本実施例では、電極上の粒子数が著しく増加し
た。電極接続部は、接続時の熱圧による絶縁層およびバ
インダの軟化により導通可能であるが、隣接電極列のス
ペース部は熱圧が少なく導電材料の表面が絶縁層で被覆
されたままなので、絶縁性も良好であった。バンプ上の
有効粒子数は、全電極で20個以上の確保が可能であっ
た。本構成では、導電材料のバインダに対する濃度を高
密度に構成できた。
【0033】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、バ
インダ成分の接続時の溶融粘度が相対的に絶縁性の接着
層に比べて同等以下であることから、電極上からの流出
が少ない。したがって、高分解能かつ接続信頼性に優れ
た接続部材およびこれを用いた電極の接続構造並びに接
続方法が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の接続部材を示す断面模式図。
【図2】 本発明の他の接続部材を示す断面模式図。
【図3】 本発明における導電性接着層を示す断面模式
図。
【図4】 本発明における接着剤層の溶融粘度を示す線
図。
【図5】 本発明における接続過程を示す説明図(a)
(b)。
【図6】 本発明の接続部材を用いた電極の接続構造例
を示す断面模式図。
【図7】 本発明の接続部材を用いた電極の接続構造例
を示す断面模式図。
【図8】 本発明の接続部材を用いた電極の接続構造例
を示す断面模式図。
【符号の説明】
1 導電性接着層 2 絶縁性接着層 3 導電材料 4 バインダ 5 セパレータ 11 基板 12 突出電極 13 平面電極 14 周囲 15 空隙部 16 頂部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中島 敦夫 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社結城工場内 (72)発明者 松岡 寛 茨城県下館市大字五所宮1150番地 日立化 成工業株式会社結城工場内 (72)発明者 渡辺 伊津夫 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 竹村 賢三 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 塩沢 直行 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 小島 和良 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 渡辺 治 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内 (72)発明者 太田 共久 茨城県下館市大字小川1500番地 日立化成 工業株式会社下館研究所内

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】導電材料とバインダとよりなる加圧方向に
    導電性を有する接着層の少なくとも片面に絶縁性の接着
    層が形成されてなる多層接続部材であって、バインダ成
    分の接続時の溶融粘度が絶縁性接着層に比べ同等以下と
    したことを特徴とする接続部材。
  2. 【請求項2】バインダ成分の接続時の溶融粘度が500
    ポイズ以下であることを特徴とする請求項1記載の接続
    部材。
  3. 【請求項3】バインダ成分の接続時の溶融粘度が絶縁性
    接着層に比べ0.1ポイズから1000ポイズ低いこと
    を特徴とする請求項1記載の接続部材。
  4. 【請求項4】バインダ成分と絶縁性接着層とが共通材料
    を含有してなることを特徴とする請求項1記載の接続部
    材。
  5. 【請求項5】バインダ成分と絶縁性接着層とが接着性に
    差を有してなることを特徴とする請求項1記載の接続部
    材。
  6. 【請求項6】バインダ成分および/または絶縁性接着層
    に絶縁粒子を含有してなることを特徴とする請求項1記
    載の接続部材。
  7. 【請求項7】導電材料が導電粒子もしくは導電粒子の表
    面に絶縁被覆を形成してなることを特徴とする請求項1
    記載の接続部材。
  8. 【請求項8】セパレータが絶縁性接着層に接してなるこ
    とを特徴とする請求項1記載の接続部材。
  9. 【請求項9】相対峙する電極列間の少なくとも一方が突
    出した電極列間の接続構造であって、請求項1記載の導
    電材料が相対峙する電極間に存在し、かつ絶縁性接着層
    が突出電極の少なくとも基板側の周囲を覆ってなること
    を特徴とする電極の接続構造。
  10. 【請求項10】突出した電極の頂部から基板側にかけて
    導電材料の密度が傾斜的に薄いことを特徴とする請求項
    9記載の電極の接続構造
  11. 【請求項11】少なくとも一方が突出した電極を有する
    相対峙する電極列間に、請求項1記載の接続部材の絶縁
    性接着層が突出した電極側となるように配置し、バイン
    ダ成分と絶縁性の接着層との接続時の溶融粘度が絶縁性
    の接着層に比べて、相対峙にバインダ成分が低い条件下
    で加熱加圧することを特徴とする電極の接続方法。
  12. 【請求項12】絶縁性接着層側に熱源を配し加熱加圧す
    ることを特徴とする請求項11記載の電極の接続方法。
  13. 【請求項13】加熱加圧工程を2段階以上に分割し、そ
    の間に接続電極の通電検査工程および/またはリペア工
    程とを必要に応じて行う請求項11記載の電極の接続方
    法。
  14. 【請求項14】接続電極の保持が可能な程度に接続部材
    の凝集力を増加せしめて通電検査することを特徴とする
    請求項13記載の電極の接続方法。
  15. 【請求項15】電極接続部を加圧しながら通電検査する
    ことを特徴とする請求項13記載の電極の接続方法
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