JPH08279336A - Exposing method and aligner - Google Patents
Exposing method and alignerInfo
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- JPH08279336A JPH08279336A JP7080516A JP8051695A JPH08279336A JP H08279336 A JPH08279336 A JP H08279336A JP 7080516 A JP7080516 A JP 7080516A JP 8051695 A JP8051695 A JP 8051695A JP H08279336 A JPH08279336 A JP H08279336A
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- exposure
- exposure mask
- mask
- negative pressure
- substrate
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、露光方法及び露光装置
に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure method and exposure apparatus.
【０００２】[0002]
【従来の技術】液晶表示装置等の例えばフラットディス
プレイに使用されるカラーフィルタは、通常、ガラス基
板上に赤，緑，青，黒等に対応する有色感光性塗膜（い
わゆるフォトレジスト膜）を形成し、露光用マスクを介
して所定パターンに露光し、現像処理し、之を各色毎に
繰り返して作製される。露光方法としては、図８に示す
ように、有色感光性膜１を形成したガラス基板２を所定
位置に配置し、このガラス基板２に所定間隔Ｄ1 を置い
て対向する露光用マスク（即ち所定パターンのレチクル
マスク）３をクランプ部材４によって保持し、この状態
で光源５によって露光するようになされる。2. Description of the Related Art A color filter used for a flat display such as a liquid crystal display device usually has a colored photosensitive coating film (so-called photoresist film) corresponding to red, green, blue, black, etc. on a glass substrate. It is formed by exposing it to a predetermined pattern through an exposure mask, developing it, and repeating it for each color. As an exposure method, as shown in FIG. 8, a glass substrate 2 having a colored photosensitive film 1 formed thereon is arranged at a predetermined position, and an exposure mask (that is, a predetermined exposure mask) facing the glass substrate 2 with a predetermined distance D 1 therebetween. The reticle mask 3 of the pattern is held by the clamp member 4 and exposed by the light source 5 in this state.
【０００３】通常、露光用マスク３とガラス基板２上の
有色感光性塗膜１との間隔Ｄ1 は、４０μｍ±１０μｍ
程度に保たれており、且つ両者は平行に保持される。小
型カラーフィルタの露光工程では、露光用マスク３が自
重でたわんだとしてもそのたわみ量は無視し得る程度で
あって問題にならない。Normally, the distance D 1 between the exposure mask 3 and the colored photosensitive coating film 1 on the glass substrate 2 is 40 μm ± 10 μm.
It is kept to a certain degree, and both are held in parallel. In the exposure process of the small color filter, even if the exposure mask 3 is deflected by its own weight, the amount of deflection is negligible and it does not matter.
【０００４】しかし、例えば６００ｍｍ角の大型カラー
フィルタの露光工程では、自重によって図８の破線で示
すように、大きくたわみ、間隔Ｄ2 が４０μｍに保てな
いという不都合が生じる。However, in the exposure process of a large-sized color filter of, for example, 600 mm square, there is a problem that it is largely deflected by its own weight as shown by the broken line in FIG. 8 and the distance D 2 cannot be kept at 40 μm.
【０００５】従来、このような不都合を回避するための
方法が試みられている。例えば露光用マスク３の自重に
よるたわみに応じて基板２側を強制的にたわませる方式
がある。この方法は、大型密着型露光機で露光用マスク
の自重によるたわみを補正するために、露光用マスク３
と感光性塗膜１の形成された基板２間の間隔Ｄ2 をレー
ザにより数個所測定し、この数値を基にして基板２を、
アクチュエータによって露光用マスク３のたわみと同じ
ように強制的にたわませるようにしている。他の方法と
して、分割露光方式がある。この方式は、露光用マスク
自体を小面積に分割し、之を重ね合せて露光するもので
ある。Heretofore, methods have been tried for avoiding such inconvenience. For example, there is a method of forcibly bending the substrate 2 side in accordance with the bending of the exposure mask 3 due to its own weight. In this method, the exposure mask 3 is used in order to correct the deflection of the exposure mask due to its own weight in a large contact type exposure machine.
The distance D 2 between the substrate 2 and the substrate 2 on which the photosensitive coating film 1 is formed is measured with a laser at several points, and the substrate 2 is
The actuator is forced to bend like the flexure of the exposure mask 3. Another method is a divided exposure method. In this method, the exposure mask itself is divided into small areas, and the areas are overlapped for exposure.
【０００６】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した基
板側を強制的にたわませる方式では、レーザを備えて、
測定手段及びアクチュエータによる間隔制御手段を設置
しなければならず、露光装置のコスト高が避けられな
い。By the way, in the above-mentioned method of forcibly bending the substrate side, a laser is provided,
Since the measuring means and the spacing control means by the actuator must be installed, the cost of the exposure apparatus is inevitably high.
【０００７】また、分割露光による方式では、重ね合せ
時の露光用マスクの微小な合せずれにより、露光後のカ
ラーフィルタに品質上不均一の問題が生じる。Further, in the method of division exposure, a slight misalignment of the exposure mask at the time of superposition causes a problem of non-uniformity in quality of the color filter after exposure.
【０００８】本発明は、上述の点に鑑み、大型の露光用
マスクを用いる場合に、より精度良く露光が行え且つ低
コスト化を可能にした露光方法及び露光装置を提供する
ものである。In view of the above points, the present invention provides an exposure method and an exposure apparatus that can perform exposure with higher accuracy and can reduce costs when using a large exposure mask.
【０００９】[0009]
【課題を解決するための手段】本発明に係る露光方法
は、露光用マスクの自重によりたわみを、露光用マスク
の背面に形成した負圧により押し上げて補正し、この状
態で露光するようになす。In the exposure method according to the present invention, the deflection due to the weight of the exposure mask is pushed up and corrected by the negative pressure formed on the back surface of the exposure mask, and the exposure is performed in this state. .
【００１０】本発明に係る露光装置は、露光用マスク
と、露光用マスク背面のカバー体と、露光用マスクとカ
バー体との間に形成された空間室と、空間室内を負圧に
する排気手段を備えた構成とする。The exposure apparatus according to the present invention includes an exposure mask, a cover body on the back surface of the exposure mask, a space chamber formed between the exposure mask and the cover body, and an exhaust for making the space chamber a negative pressure. It is configured to include means.
【００１１】[0011]
【作用】本発明に係る露光方法においては、露光用マス
クの背面の負圧と前面の大気圧との差圧により露光用マ
スクが押し上げられ、露光用マスクの自重によるたわみ
が相殺される。これによって、露光用マスクの自重によ
るたわみが補正される。In the exposure method according to the present invention, the exposure mask is pushed up by the differential pressure between the negative pressure on the back side of the exposure mask and the atmospheric pressure on the front side, and the deflection due to the weight of the exposure mask is offset. As a result, the deflection of the exposure mask due to its own weight is corrected.
【００１２】本発明に係る露光装置においては、露光用
マスクの背面に露光用マスクとカバー体とによる空間室
を形成し、排気手段によってこの空間室内を負圧にする
ことにより、露光用マスクの背面の負圧と前面の大気圧
との差圧で露光用マスクが背面側に押し上げられる作用
を受け、露光用マスクの自重によるたわみが相殺され
る。これにより露光用マスクはたわむことなく、被露光
基板に対し平行な状態で保持される。In the exposure apparatus according to the present invention, a space chamber is formed by the exposure mask and the cover body on the back surface of the exposure mask, and a negative pressure is applied to the space chamber by the evacuation means to remove the exposure mask. The differential pressure between the negative pressure on the back side and the atmospheric pressure on the front side pushes up the exposure mask to the back side, and the deflection due to the weight of the exposure mask is offset. As a result, the exposure mask is held in a state parallel to the substrate to be exposed without bending.
【００１３】[0013]
【実施例】本発明に係る露光方法は、被露光基板上に所
定間隔を置いて露光用マスクを配置して露光する露光方
法において、露光用マスクの自重によるたわみを、露光
用マスクの背面に形成した負圧により押し上げて補正
し、この状態で露光する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An exposure method according to the present invention is an exposure method in which exposure masks are arranged on a substrate to be exposed at a predetermined interval and exposed, and the deflection due to the weight of the exposure mask is applied to the back surface of the exposure mask. The formed negative pressure pushes up and corrects, and exposure is performed in this state.
【００１４】この露光方法において、負圧の部分に気体
を流すようにすることができる。In this exposure method, gas can be caused to flow in the negative pressure portion.
【００１５】本発明に係る露光装置は、被露光基板上に
所定間隔を置いて配置される露光用マスクと、露光用マ
スクの背面に配したカバー体と、露光用マスクとカバー
体との間に形成された空間室と、空間室内を負圧にする
排気手段とを備えて成る。The exposure apparatus according to the present invention includes an exposure mask arranged on the substrate to be exposed at a predetermined interval, a cover body arranged on the back surface of the exposure mask, and the exposure mask and the cover body. A space chamber formed in the space and an exhaust means for making the space chamber a negative pressure.
【００１６】この露光装置において、さらに空間室内に
気体を供給する気体供給源を設けることができる。In this exposure apparatus, a gas supply source for supplying gas can be further provided in the space chamber.
【００１７】以下、図面を参照して本発明による露光方
法及びその露光装置の実施例を説明する。Embodiments of an exposure method and an exposure apparatus therefor according to the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００１８】本例においては、例えば液晶表示装置等の
いわゆるフラットディスプレイに使用するカラーフィル
タを作製する場合の露光方法及び露光装置に適用した場
合である。図７はカラーフィルタの一例を示す。このカ
ラーフィルタ１１は、ガラス基板１２上に各色に対応す
る有色感光性塗膜を用い、露光、現像技術を用いて夫々
赤色フィルタ成分１３Ｒ，緑色フィルタ成分１３Ｇ，青
色フィルタ成分１３Ｂと、各色フィルタ成分１３〔１３
Ｒ，１３Ｇ，１３Ｂ〕間の黒色フィルタ成分１３ＢＬＫ
を形成し、さらに各色フィルタ成分上にホトリソグラフ
ィ技術により透明導電膜、例えばＩＴＯ（Indinm-Tin O
xide) 膜１４を形成して作製される。In this example, the present invention is applied to an exposure method and an exposure apparatus for producing a color filter used for a so-called flat display such as a liquid crystal display device. FIG. 7 shows an example of a color filter. This color filter 11 uses a colored photosensitive coating film corresponding to each color on a glass substrate 12, and uses a red color filter component 13R, a green color filter component 13G, a blue color filter component 13B, and a color filter component of each color by using exposure and development techniques. 13 [13
R, 13G, 13B] black filter component 13BLK
And a transparent conductive film such as ITO (Indinm-Tin O 2) on each color filter component by photolithography technique.
xide) film 14 is formed.
【００１９】図１は本実施例に係る露光方法に用いる露
光装置の原理的構成図を示す。この露光装置２１は、被
露光基板、例えばカラーフィルタ基板、即ち上面に例え
ば有色感光性塗膜が形成されたガラス基板１２を載置位
置決めするための基板位置決め基台２２と、たわみ補正
手段を備えた露光用マスク（即ちレチクルマスク）機構
２３と、光源（例えば紫外線ランプ）２４を有して成
る。２５は光源２４からの光を露光用マスク側に照射す
るための反射板である。FIG. 1 is a block diagram showing the principle of an exposure apparatus used in the exposure method according to this embodiment. The exposure apparatus 21 includes a substrate positioning base 22 for mounting and positioning a substrate to be exposed, for example, a color filter substrate, that is, a glass substrate 12 having a colored photosensitive coating film formed on the upper surface thereof, and a deflection correcting means. It has an exposure mask (ie, reticle mask) mechanism 23 and a light source (eg, ultraviolet lamp) 24. Reference numeral 25 denotes a reflector for irradiating the light from the light source 24 on the exposure mask side.
【００２０】露光用マスク機構２３は、枠状部材２７を
有し、この枠状部材２７の下面即ち基板位置決め基台２
２と対向する側面に露光用マスク（即ちレチクルマス
ク）２６を保持し、その上面に露光用マスク２６の背面
と対向するカバー体例えばカバーガラス板２８を配置
し、枠状部材２７を挟んで露光用マスク２６とカバーガ
ラス板２８間に空間室、いわゆるエアチャンバ２９を形
成し構成される。The exposure mask mechanism 23 has a frame-shaped member 27, the lower surface of the frame-shaped member 27, that is, the substrate positioning base 2.
An exposure mask (that is, a reticle mask) 26 is held on the side surface facing 2 and a cover body such as a cover glass plate 28 facing the back surface of the exposure mask 26 is arranged on the upper surface of the exposure mask 26. A space chamber, a so-called air chamber 29, is formed between the mask 26 and the cover glass plate 28.
【００２１】枠状部材２７には、エアチャンバ２９に連
通する気体導入口及び気体排出口例えば空気導入口３１
及び空気排出口３２が設けられる。空気排出口３２は、
配管３３を通じて真空ポンプ３４に連結される。配管３
３の途上には空気流量を調整するための流量調整弁３５
が設けられる。The frame member 27 has a gas inlet and a gas outlet communicating with the air chamber 29, for example, an air inlet 31.
And an air outlet 32. The air outlet 32 is
It is connected to a vacuum pump 34 through a pipe 33. Piping 3
In the middle of 3, the flow rate adjusting valve 35 for adjusting the air flow rate
Is provided.
【００２２】一方、空気導入口３１には、配管３７を通
じて気体供給源、本例では空気供給源３８に連結され
る。配管３７の途上には、空気供給源３８からの空気供
給の際のほこり等を除去するためのラインフィルタ３９
及び空気流量を自動的に調整するための自動流量調整弁
４０が設けられる。On the other hand, the air inlet 31 is connected through a pipe 37 to a gas supply source, which is an air supply source 38 in this example. A line filter 39 for removing dust and the like when air is supplied from the air supply source 38 is provided in the middle of the pipe 37.
Also, an automatic flow rate adjusting valve 40 for automatically adjusting the air flow rate is provided.
【００２３】この自動流量調整弁４０は、流量調整弁コ
ントローラ４１により、流量が調整されるようになされ
る。即ち、この自動流量調整弁４０によってエアチャン
バ２９内の負圧がコントロールされるものであり、微差
圧計４２により自動流量調整弁４０の流出側のポイント
Ｐ1 の配管３７内の負圧と大気圧の差圧を検出し、この
差圧信号を流量調整弁コントローラ４１に入力し、之よ
りの出力によって自動流量調整弁４０をコントロールし
ている。The flow rate of the automatic flow rate adjusting valve 40 is adjusted by the flow rate adjusting valve controller 41. That is, the negative pressure in the air chamber 29 is controlled by the automatic flow rate adjusting valve 40, and the negative pressure in the pipe 37 at the point P 1 on the outflow side of the automatic flow rate adjusting valve 40 and the large negative pressure are controlled by the fine differential pressure gauge 42. The differential pressure of the atmospheric pressure is detected, this differential pressure signal is input to the flow rate adjusting valve controller 41, and the automatic flow rate adjusting valve 40 is controlled by the output of Yonori.
【００２４】この露光装置２１の動作を説明する。露光
用マスク２６は、単位面積当り所要の重量を有している
ので、その自重によってたわみ生ずる。一方、空気供給
源３８から空気がラインフィルタ３９及び自動流量調整
弁４０を通じてエアチャンバ２９内を流れ、真空ポンプ
３４により排気されることによって、エアチャンバ２９
内は所要の負圧になる。The operation of the exposure apparatus 21 will be described. Since the exposure mask 26 has a required weight per unit area, it is bent due to its own weight. On the other hand, air from the air supply source 38 flows through the line filter 39 and the automatic flow rate adjusting valve 40 in the air chamber 29, and is exhausted by the vacuum pump 34.
The inside becomes the required negative pressure.
【００２５】即ち、微差圧計４２により、エアチャンバ
２９に連通する配管３７のポイントＰ1 内の気圧（すな
わち、露光用マスク２６のたわみを相殺する量だけ露光
用マスク２６を上方に押し上げるに足るだけの負圧）
と、大気圧との差圧を検出し、この検出信号を流量調整
弁コントローラ４１に入力し、之よりの出力により流量
調整弁４０をコントロールし、エアチャンバ２９内を大
気圧より所要の気圧分だけ低い負圧状態に保つ。That is, the fine differential pressure gauge 42 is sufficient to push up the exposure mask 26 upward by an amount that cancels the deflection of the exposure mask 26 within the point P 1 of the pipe 37 communicating with the air chamber 29. Only negative pressure)
And the differential pressure from the atmospheric pressure is detected, the detection signal is input to the flow rate adjusting valve controller 41, the flow rate adjusting valve 40 is controlled by the output of Nonoyo, and the inside of the air chamber 29 is controlled to a required atmospheric pressure. Only keep a low negative pressure.
【００２６】エアチャンバ２９内が負圧となることによ
って、大気圧との差圧で露光用マスク２６は上方へ押し
上げられ、露光用マスク２６の自重が相殺され、露光用
マスク２６はカラーフィルタ基板１２の板面と平行状態
になる。これによって、露光用マスク２６とカラーフィ
ルタ基板１２間の間隔Ｄ1 を４０μｍ±１０μｍに保持
することができる。この状態で光源２４より光を照射す
ることにより、大型の基板１２上の感光性塗膜が精度よ
く一括露光されることになる。The negative pressure in the air chamber 29 pushes the exposure mask 26 upward due to the pressure difference from the atmospheric pressure, cancels the weight of the exposure mask 26, and the exposure mask 26 becomes a color filter substrate. It becomes parallel to the plate surface of 12. As a result, the distance D 1 between the exposure mask 26 and the color filter substrate 12 can be maintained at 40 μm ± 10 μm. By irradiating light from the light source 24 in this state, the photosensitive coating film on the large-sized substrate 12 can be accurately exposed at once.
【００２７】尚、排気側に流量調整弁３５が設けられる
ことによって、真空ポンプ３４の吸引が強すぎても、空
気流量が調整されて微圧である差圧がコントロールさ
れ、真空ポンプ３４の影響をなくし、エアチャンバ２９
内の負圧を維持することができる。By providing the flow rate adjusting valve 35 on the exhaust side, even if the suction of the vacuum pump 34 is too strong, the air flow rate is adjusted to control the differential pressure which is a slight pressure, and the influence of the vacuum pump 34 is influenced. The air chamber 29
The negative pressure inside can be maintained.
【００２８】そして、露光時においてもエアチャンバ２
９内に空気が流れるために、冷却されて露光用マスク２
６の温度上昇が低減し、露光用マスクの熱的変形が回避
され、パターン精度のよい露光が行える。The air chamber 2 is used even during exposure.
Since the air flows through the inside 9, the exposure mask 2 is cooled.
The temperature rise of 6 is reduced, thermal deformation of the exposure mask is avoided, and exposure with high pattern accuracy can be performed.
【００２９】ここで、たわみ（自重）を相殺するため差
圧Δｐは数１の式で求まる。Here, in order to cancel the deflection (self-weight), the differential pressure Δp is obtained by the equation (1).
【００３０】[0030]
【数１】Δｐ＝ｔ×ρ ｔ：露光用マスク２６の厚さ ρ：露光用マスク２６の材料の密度## EQU1 ## Δp = t × ρ t: Thickness of exposure mask 26 ρ: Density of material of exposure mask 26
【００３１】通常、ソーダガラスによる露光用マスクの
厚みを５ｍｍとすれば、露光用マスク２６は単位面積当
り１．４ｇ／ｃｍ2 の重量をもって自重でたわみを生ず
る。このたわみを相殺するための差圧Δｐは、１Ｔｏｒ
ｒ（１．３５９ｇ／ｃｍ2 ）とすることができる。従っ
て、エアチャンバ２９内の気圧は大気圧より１Ｔｏｒｒ
低い状態に保つようにすればよい。Normally, when the thickness of the exposure mask made of soda glass is 5 mm, the exposure mask 26 has a weight of 1.4 g / cm 2 per unit area and is bent by its own weight. The differential pressure Δp for canceling this deflection is 1 Tor
It can be r (1.359 g / cm 2 ). Therefore, the atmospheric pressure in the air chamber 29 is 1 Torr than the atmospheric pressure.
Try to keep it low.
【００３２】また、エアチャンバ２９内に最大３０ｌ／
ｍｉｎ程度の流量の空気を流すことにより、露光用マス
ク２６の冷却効果が得られる。In the air chamber 29, a maximum of 30 l /
A cooling effect of the exposure mask 26 can be obtained by flowing air at a flow rate of about min.
【００３３】図２〜図６は、上述のカラーフィルタ作製
に際しての大型露光装置の具体例を示す。なお、同図に
おいて、図１と対応する部分は同一符号を付して示す。2 to 6 show a specific example of a large-sized exposure apparatus for manufacturing the above-mentioned color filter. In the figure, the parts corresponding to those in FIG. 1 are designated by the same reference numerals.
【００３４】この露光装置５１は、中央に基板位置決め
基台２２及び之に対向する上部に露光用マスク機構２３
が配置され、この露光用マスク機構２３に対向する上方
に例えば紫外線ランプによる光源２４が配置される。This exposure apparatus 51 has a substrate positioning base 22 at the center and an exposure mask mechanism 23 at the upper part facing the substrate positioning base 22.
Is disposed, and a light source 24, for example, an ultraviolet lamp is disposed above the exposure mask mechanism 23.
【００３５】基板位置決め基台２２は、例えばエアシリ
ング等による昇降機構５２によって昇降可能とされると
共に、基板１２の位置決めのためにＸ方向，Ｙ方向，回
転方向（θ）の移動、更に球面座による傾き角（α）の
調整が可能とされている。The substrate positioning base 22 can be moved up and down by an elevating mechanism 52 such as an air chiller, and for positioning the substrate 12, movement in X direction, Y direction, rotation direction (θ), and spherical seat. The tilt angle (α) can be adjusted by.
【００３６】露光用マスク機構２３は、図５及び図６の
拡大図で示すように、枠状部材２７の下面に露光用マス
ク２６が配され、上面にカバーガラス２８が配されて露
光用マスク２６とカバーガラス２８間でエアチャンバ２
９が形成される。露光用マスク２６は、図示の例では基
板１２が横長形状であるため、長辺側をクランプ材５３
により機械的に保持すると共に、短辺側を空気吸着にて
保持するようにしている。３１は空気導入口，３２は空
気排出口を示し、夫々図示せざるも、図１で説明したよ
うに夫々に連結する空気供給源、真空ポンプ、その他等
が設けられる。In the exposure mask mechanism 23, as shown in the enlarged views of FIGS. 5 and 6, the exposure mask 26 is disposed on the lower surface of the frame-shaped member 27, and the cover glass 28 is disposed on the upper surface thereof. 26 and the cover glass 28 between the air chamber 2
9 is formed. In the illustrated example, the exposure mask 26 has a clamp member 53 on the long side because the substrate 12 has a horizontally long shape.
Is mechanically held and the short side is held by air adsorption. Reference numeral 31 is an air inlet, and 32 is an air outlet, and although not shown respectively, an air supply source, a vacuum pump, and the like that are connected to each other as described in FIG. 1 are provided.
【００３７】一方、基板位置決め基台２２の一側に基板
１２を搬入するための基板搬入部５４Ａが配置され、他
側に基板１２を搬出するための基板搬出部５４Ｂが配置
され、そのコンベア５５によって基板１２が搬送される
ようになされる。On the other hand, a board carry-in section 54A for carrying in the board 12 is arranged on one side of the board positioning base 22, and a board carry-out section 54B for carrying out the board 12 is arranged on the other side, and a conveyor 55 thereof. Thus, the substrate 12 is transferred.
【００３８】また、基板位置決め基台２２の他側には、
露光用マスク２６と基板１２のパターンとの位置合せを
行うための画像認識用のカメラ５７が２台設けられ、こ
のカメラ５７は待機位置と、露光用マスク２６上間を移
動可能に配置される。On the other side of the board positioning base 22,
Two image recognition cameras 57 for aligning the exposure mask 26 and the pattern of the substrate 12 are provided. The cameras 57 are movably arranged between the standby position and the exposure mask 26. .
【００３９】カラーフィルタは、ガラス基板１２上に、
黒色フィルタ成分１３ＢＬＫ，赤色フィルタ成分１３
Ｒ，緑色フィルタ成分１３Ｇ，青色フィルタ１３Ｂ及び
透明導電膜１４の順に形成され、夫々の露光が対応する
露光用マスク２６を取り替えてこの露光装置５１によっ
て行なわれる。The color filter is provided on the glass substrate 12,
Black filter component 13BLK, red filter component 13
The R, the green filter component 13G, the blue filter 13B, and the transparent conductive film 14 are formed in this order, and each exposure is performed by the exposure device 51 by replacing the corresponding exposure mask 26.
【００４０】次に、露光装置５１の動作を説明する。上
面に感光性塗膜が形成されたガラス基板（カラーフィル
タ基板）１２が基板搬入部５４Ａに供給され、コンベア
５５によって基板位置決め基台２２上に送られ、基台２
２に設けられているストッパ部（図示せず）によりガラ
ス基板１２が停止される。ガラス基板１２は、基台２２
の面に吸着固定される。Next, the operation of the exposure device 51 will be described. A glass substrate (color filter substrate) 12 having a photosensitive coating film formed on the upper surface is supplied to a substrate loading section 54A and is sent to a substrate positioning base 22 by a conveyor 55,
The glass substrate 12 is stopped by a stopper portion (not shown) provided on the second substrate 2. The glass substrate 12 is the base 22
It is adsorbed and fixed on the surface of.
【００４１】次に、ガラス基板１２が基台２２と共に露
光用マスクとの間隔が４０μｍ±１０μｍとなる位置ま
で上昇し、停止する。次に、カメラ５７が移動し、露光
用マスク２６のパターンと既に形成されている黒色フィ
ルタ成分のパターンとが位置合せされる。なお、パター
ン合せでは黒色フィルタ成分のパターンを基準とするた
め、黒色フィルタ成分形成の際の露光工程では、このカ
メラによる位置合せは行われない。Next, the glass substrate 12 is raised together with the base 22 to a position where the distance between the glass substrate 12 and the exposure mask is 40 μm ± 10 μm, and then stopped. Next, the camera 57 is moved so that the pattern of the exposure mask 26 and the pattern of the black filter component already formed are aligned. Since the pattern of the black filter component is used as a reference in the pattern alignment, the alignment by the camera is not performed in the exposure step when forming the black filter component.
【００４２】パターンの位置合せは、基台２２自体を移
動調整してＸ方向，Ｙ方向，回転方向（θ）及び傾き角
（α）の位置合せを行う。In the pattern alignment, the base 22 itself is moved and adjusted to align the X direction, the Y direction, the rotation direction (θ) and the inclination angle (α).
【００４３】位置合せが終了すると、カメラ５７は元の
位置に後退する。そして、光源２４から光を当てて、露
光処理が行われる。When the alignment is completed, the camera 57 retracts to the original position. Then, an exposure process is performed by applying light from the light source 24.
【００４４】露光処理が終わると、基台２２が降下し、
ガラス基板１２はコンベア５５により基板搬出部５４Ａ
から次の現像工程に搬出される。When the exposure process is completed, the base 22 descends,
The glass substrate 12 is transported to the substrate unloading section 54A by the conveyor 55.
To the next developing step.
【００４５】上述したように、本実施例によれば、露光
用マスク２６が背面側の負圧で押し上げられることによ
り、露光用マスクの自重によるたわみが相殺され、正常
な状態に維持される。同時に、露光時にはエアチャンバ
２９内を空気が流れることによって露光用マスクが冷却
され、露光用マスクの温度上昇を防ぐことができる。As described above, according to the present embodiment, the exposure mask 26 is pushed up by the negative pressure on the back side, so that the deflection due to the weight of the exposure mask is offset and the normal state is maintained. At the same time, air flows in the air chamber 29 during exposure, so that the exposure mask is cooled and the temperature rise of the exposure mask can be prevented.
【００４６】従って、大型カラーフィルタ基板に対して
高精度で一括露光を行うことができ、均一性に優れた高
品質のカラーフィルタを作製することができる。また、
分割露光方式、基板を強制的にたわませて補正する方式
に比べて低コストで露光装置を構成することができる。Therefore, the large-scale color filter substrate can be collectively exposed with high accuracy, and a high-quality color filter having excellent uniformity can be manufactured. Also,
The exposure apparatus can be configured at a lower cost than the divided exposure method and the method of forcibly bending the substrate for correction.
【００４７】[0047]
【発明の効果】本発明に係る露光方法によれば、露光用
マスクの背面を負圧とすることにより、大気圧との差圧
によって露光用マスクが押し上げられ露光用マスクの自
重によるたわみを相殺することができ、精度の高い露光
が行える。According to the exposure method of the present invention, by making the back surface of the exposure mask a negative pressure, the exposure mask is pushed up by the pressure difference from the atmospheric pressure, and the deflection due to the weight of the exposure mask is offset. Therefore, highly accurate exposure can be performed.
【００４８】また、露光時に、露光用マスクの背面の負
圧の部分に気体を流すことにより、露光用マスクの温度
上昇を抑えることができ、露光用マスクの熱的変形を回
避することができる。従って、特に大型の被露光基板に
対する露光に適用して好適ならしめるものである。Further, at the time of exposure, by causing gas to flow in the negative pressure portion on the back surface of the exposure mask, it is possible to suppress the temperature rise of the exposure mask and avoid thermal deformation of the exposure mask. . Therefore, it is suitable for exposure to a particularly large substrate to be exposed.
【００４９】本発明に係る露光装置によれば、負圧と大
気圧との差圧により露光用マスクを押し上げ、露光用マ
スクの自重によるたわみを相殺することができる。ま
た、空間室内に気体を供給する気体供給源を有すること
により、露光時に、露光用マスクを冷却し、その温度上
昇を抑えることができ、露光用マスクの熱変形を回避す
ることができる。この露光装置は、大型の被露光基板に
対する露光に適用して好適である。そして、露光装置
は、そのたわみ補正手段を差圧を利用する簡単な機構で
構成することができるので、低コスト化が図れる。According to the exposure apparatus of the present invention, the exposure mask can be pushed up by the differential pressure between the negative pressure and the atmospheric pressure, and the deflection due to the weight of the exposure mask can be offset. Further, by having a gas supply source for supplying gas into the space chamber, it is possible to cool the exposure mask at the time of exposure, suppress the temperature rise thereof, and avoid thermal deformation of the exposure mask. This exposure apparatus is suitable for exposure to a large substrate to be exposed. Further, in the exposure apparatus, since the deflection correction means can be configured by a simple mechanism that uses the differential pressure, the cost can be reduced.
【図１】本発明に係る露光方法に用いる露光装置の原理
的構成図である。FIG. 1 is a principle configuration diagram of an exposure apparatus used in an exposure method according to the present invention.
【図２】本発明に係る露光装置の具体例を示す正面図で
ある。FIG. 2 is a front view showing a specific example of an exposure apparatus according to the present invention.
【図３】本発明に係る露光装置の具体例を示す平面図で
ある。FIG. 3 is a plan view showing a specific example of an exposure apparatus according to the present invention.
【図４】本発明に係る露光装置の具体例を示す側面図で
ある。FIG. 4 is a side view showing a specific example of the exposure apparatus according to the present invention.
【図５】図３の要部の拡大図である。5 is an enlarged view of a main part of FIG.
【図６】図５の一部破断とする正面図である。FIG. 6 is a front view of FIG. 5 with a part thereof cut away.
【図７】カラーフィルタの一例を示す断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view showing an example of a color filter.
【図８】従来例の説明に供する構成図である。FIG. 8 is a configuration diagram for explaining a conventional example.
１２ 被露光基板 ２２ 基板位置決め基台 ２３ 露光用マスク機構 ２４ 光源 ２６ 露光用マスク ２７ 枠状部材 ２８ カバー体 ２９ 空間室 ３４ 真空ポンプ ３８ 空気供給源 ４０ 自動流量調整弁 ４１ 流量調整弁コントローラ ４２ 微差圧計 12 substrate to be exposed 22 substrate positioning base 23 exposure mask mechanism 24 light source 26 exposure mask 27 frame member 28 cover body 29 space chamber 34 vacuum pump 38 air supply source 40 automatic flow rate control valve 41 flow rate control valve controller 42 slight difference Pressure gauge
Claims (4)
マスクを配置して露光する露光方法において、 前記露光用マスクの自重によるたわみを、前記露光用マ
スクの背面に形成した負圧により押し上げて補正し、こ
の状態で露光することを特徴とする露光方法。1. An exposure method in which an exposure mask is arranged on a substrate to be exposed at a predetermined interval to perform exposure, wherein the deflection of the exposure mask due to its own weight is caused by a negative pressure formed on the back surface of the exposure mask. An exposure method characterized by exposing by pushing up to correct and exposing in this state.
とする請求項２に記載の露光方法。2. The exposure method according to claim 2, wherein a gas is caused to flow through the negative pressure portion.
れる露光用マスクと、 該露光用マスクの背面に配したカバー体と、 前記露光用マスクと前記カバー体との間に形成された空
間室と、 前記空間室内を負圧にする排気手段とを備えたことを特
徴とする露光装置。3. An exposure mask, which is arranged on the substrate to be exposed at a predetermined interval, a cover body disposed on the back surface of the exposure mask, and formed between the exposure mask and the cover body. And an evacuation unit for making the inside of the space chamber a negative pressure.
給源を有して成ることを特徴とする請求項３に記載の露
光装置。4. The exposure apparatus according to claim 3, further comprising a gas supply source for flowing a gas into the space chamber.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7080516A JPH08279336A (en) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | Exposing method and aligner |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7080516A JPH08279336A (en) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | Exposing method and aligner |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08279336A true JPH08279336A (en) | 1996-10-22 |
Family
ID=13720486
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7080516A Pending JPH08279336A (en) | 1995-04-05 | 1995-04-05 | Exposing method and aligner |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08279336A (en) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| JP2002299231A (en) * | 2001-04-03 | 2002-10-11 | Nikon Corp | Aligner |
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-
1995
- 1995-04-05 JP JP7080516A patent/JPH08279336A/en active Pending
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