JPH08254611A - ビーム・スプリッタ - Google Patents
ビーム・スプリッタInfo
- Publication number
- JPH08254611A JPH08254611A JP7057154A JP5715495A JPH08254611A JP H08254611 A JPH08254611 A JP H08254611A JP 7057154 A JP7057154 A JP 7057154A JP 5715495 A JP5715495 A JP 5715495A JP H08254611 A JPH08254611 A JP H08254611A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- refractive index
- film thickness
- optical film
- beam splitter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/10—Beam splitting or combining systems
- G02B27/14—Beam splitting or combining systems operating by reflection only
- G02B27/142—Coating structures, e.g. thin films multilayers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B27/00—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
- G02B27/28—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising
- G02B27/283—Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00 for polarising used for beam splitting or combining
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Polarising Elements (AREA)
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
- Optical Filters (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 光線入射角が２２．５°で、分岐比の偏光依
存性が小さいビーム・スプリッタを提供することであ
る。 【構成】 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板１上
に複数の光学膜２を積層してなるビーム・スプリッタで
ある。各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚は、基板１に
近い順に、第１層は屈折率が１．４４±０．１０で光学
的膜厚が０．０５〜０．１５、第２層は屈折率が１．６
８±０．１０で光学的膜厚が０．０１〜０．１０、第３
層は屈折率が１．４４±０．１０で光学的膜厚が０．５
０〜０．６０、第４層は屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．２５〜０．３５、第５層は屈折率１．
４４±０．１０で光学的膜厚が０．２５〜０．３５であ
る。光学的膜厚は、屈折率をｎとし、実際の膜厚をｄと
し、帯域の中心を決定する波長をλとして、ｎ×ｄ／λ
で表される相対値である。
存性が小さいビーム・スプリッタを提供することであ
る。 【構成】 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板１上
に複数の光学膜２を積層してなるビーム・スプリッタで
ある。各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚は、基板１に
近い順に、第１層は屈折率が１．４４±０．１０で光学
的膜厚が０．０５〜０．１５、第２層は屈折率が１．６
８±０．１０で光学的膜厚が０．０１〜０．１０、第３
層は屈折率が１．４４±０．１０で光学的膜厚が０．５
０〜０．６０、第４層は屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．２５〜０．３５、第５層は屈折率１．
４４±０．１０で光学的膜厚が０．２５〜０．３５であ
る。光学的膜厚は、屈折率をｎとし、実際の膜厚をｄと
し、帯域の中心を決定する波長をλとして、ｎ×ｄ／λ
で表される相対値である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光増幅モジュール等に
採用されるビーム・スプリッタに関する。例えば、光増
幅モジュールにおいては、ビーム・スプリッタにより信
号光の一部を監視光として取り出してそのパワーを検出
し、該監視光のパワーの変動に応じて信号光の増幅を行
うようにしている。このような信号光から監視光を分岐
させる等のために使用されるビーム・スプリッタにおい
て、Ｐ偏光とＳ偏光とで分岐比が異なる性質である偏光
依存性を小さくすることが要望されている。
採用されるビーム・スプリッタに関する。例えば、光増
幅モジュールにおいては、ビーム・スプリッタにより信
号光の一部を監視光として取り出してそのパワーを検出
し、該監視光のパワーの変動に応じて信号光の増幅を行
うようにしている。このような信号光から監視光を分岐
させる等のために使用されるビーム・スプリッタにおい
て、Ｐ偏光とＳ偏光とで分岐比が異なる性質である偏光
依存性を小さくすることが要望されている。
【０００２】
【従来の技術】ビーム・スプリッタは、単一の光ビーム
を二以上の光ビームに分岐するために使用される。これ
と逆に二以上の光ビームを単一の光ビームに結合するた
めにも使用される。
を二以上の光ビームに分岐するために使用される。これ
と逆に二以上の光ビームを単一の光ビームに結合するた
めにも使用される。
【０００３】ビーム・スプリッタは、ガラス基板上に複
数の誘電体等からなる光学膜を多層に形成して構成さ
れ、該多層膜に対して所定の光線入射角が設定された光
軸上に光を導き入れるようにして構成されており、この
入射光の一部を該多層膜で反射させ、残りを透過させる
ように機能する。なお、光線入射角とは、ビーム・スプ
リッタの多層膜に直交する線と入射される光線とのなす
角度をいう。
数の誘電体等からなる光学膜を多層に形成して構成さ
れ、該多層膜に対して所定の光線入射角が設定された光
軸上に光を導き入れるようにして構成されており、この
入射光の一部を該多層膜で反射させ、残りを透過させる
ように機能する。なお、光線入射角とは、ビーム・スプ
リッタの多層膜に直交する線と入射される光線とのなす
角度をいう。
【０００４】そして、従来は、光線入射角が１０°以下
又は４５°で、Ｐ偏光とＳ偏光とで分岐比が異なる性質
を分岐比の偏光依存性というものとして、反射側におけ
る偏光依存性（反射するＰ偏光とＳ偏光の差）が０．５
ｄＢ程度のものが実現されている。なお、Ｐ偏光とは多
層膜への入射面に平行な偏光面を有する偏光をいい、Ｓ
偏光とは多層膜への入射面に垂直な偏光面を有する偏光
をいう。
又は４５°で、Ｐ偏光とＳ偏光とで分岐比が異なる性質
を分岐比の偏光依存性というものとして、反射側におけ
る偏光依存性（反射するＰ偏光とＳ偏光の差）が０．５
ｄＢ程度のものが実現されている。なお、Ｐ偏光とは多
層膜への入射面に平行な偏光面を有する偏光をいい、Ｓ
偏光とは多層膜への入射面に垂直な偏光面を有する偏光
をいう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】ここで、光増幅モジュ
ール等に使用されているショート・ウエーブ・パス・フ
ィルタ（ＳＷＰＦ）やロング・ウエーブ・パス・フィル
タ（ＬＷＰＦ）は、光線入射角が２２．５°に設定され
ているものが多く、同じく光増幅モジュール等に使用さ
れるビーム・スプリッタも、光線入射角を２２．５°に
すると、光学要素の光学的配置が簡単になる等、モジュ
ールの構成上都合が良い。
ール等に使用されているショート・ウエーブ・パス・フ
ィルタ（ＳＷＰＦ）やロング・ウエーブ・パス・フィル
タ（ＬＷＰＦ）は、光線入射角が２２．５°に設定され
ているものが多く、同じく光増幅モジュール等に使用さ
れるビーム・スプリッタも、光線入射角を２２．５°に
すると、光学要素の光学的配置が簡単になる等、モジュ
ールの構成上都合が良い。
【０００６】また、従来は、反射側における偏光依存性
が０．５ｄＢ程度と比較的に大きく、従って、例えば、
光源として直線偏光を出力するＬＤ（半導体レーザ）を
用いている場合には、その偏光状態によって、ビーム・
スプリッタにおける分岐比が変化することになり、特性
が一定しないことになるから、実用上都合が悪い。
が０．５ｄＢ程度と比較的に大きく、従って、例えば、
光源として直線偏光を出力するＬＤ（半導体レーザ）を
用いている場合には、その偏光状態によって、ビーム・
スプリッタにおける分岐比が変化することになり、特性
が一定しないことになるから、実用上都合が悪い。
【０００７】よって本発明の目的は、光線入射角が２
２．５°で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプ
リッタを提供することである。
２．５°で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプ
リッタを提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明のビーム・スプリ
ッタは、基板上に複数の光学膜を積層してなるビーム・
スプリッタであって、屈折率１．５１±０．１０のガラ
ス基板と、該ガラス基板上に形成された屈折率が２．２
３±０．１０で光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第１
層と、該第１層上に形成された屈折率が１．４４±０．
１０で光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第２層と、該
第２層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で光
学的膜厚が０．３０〜０．４０の第３層と、該第３層上
に形成された屈折率が１．４４±０．１０で光学的膜厚
が０．１０〜０．２０の第４層と、該第４層上に形成さ
れた屈折率が２．２３±０．１０で光学的膜厚が０．１
０〜０．２０の第５層と、該第５層上に形成された屈折
率が１．４４±０．１０で光学的膜厚が０．１０〜０．
２０の第６層と、該第６層上に形成された屈折率が２．
２３±０．１０で光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第
７層と、該第７層上に形成された屈折率が１．４４±
０．１０で光学的膜厚が０．２０〜０．３０の第８層
と、該第８層上に形成された屈折率が２．２３±０．１
０で光学的膜厚が０．５５〜０．６５の第９層と、該第
９層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で光学
的膜厚が０．４０〜０．５０の第１０層と、該第１０層
上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で光学的膜
厚が２．５０〜３．５０の第１１層と、該第１１層上に
形成された屈折率が１．４４±０．１０で光学的膜厚が
０．２０〜０．３０の第１２層と、を備えて構成され
る。
ッタは、基板上に複数の光学膜を積層してなるビーム・
スプリッタであって、屈折率１．５１±０．１０のガラ
ス基板と、該ガラス基板上に形成された屈折率が２．２
３±０．１０で光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第１
層と、該第１層上に形成された屈折率が１．４４±０．
１０で光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第２層と、該
第２層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で光
学的膜厚が０．３０〜０．４０の第３層と、該第３層上
に形成された屈折率が１．４４±０．１０で光学的膜厚
が０．１０〜０．２０の第４層と、該第４層上に形成さ
れた屈折率が２．２３±０．１０で光学的膜厚が０．１
０〜０．２０の第５層と、該第５層上に形成された屈折
率が１．４４±０．１０で光学的膜厚が０．１０〜０．
２０の第６層と、該第６層上に形成された屈折率が２．
２３±０．１０で光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第
７層と、該第７層上に形成された屈折率が１．４４±
０．１０で光学的膜厚が０．２０〜０．３０の第８層
と、該第８層上に形成された屈折率が２．２３±０．１
０で光学的膜厚が０．５５〜０．６５の第９層と、該第
９層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で光学
的膜厚が０．４０〜０．５０の第１０層と、該第１０層
上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で光学的膜
厚が２．５０〜３．５０の第１１層と、該第１１層上に
形成された屈折率が１．４４±０．１０で光学的膜厚が
０．２０〜０．３０の第１２層と、を備えて構成され
る。
【０００９】なお、光学的膜厚は、屈折率をｎとし、実
際の膜厚をｄとし、帯域の中心を決定する波長をλとし
て、ｎ×ｄ／λ で表される相対値である。
際の膜厚をｄとし、帯域の中心を決定する波長をλとし
て、ｎ×ｄ／λ で表される相対値である。
【００１０】
【作用】本願発明者等は、ガラス基板の屈折率、光学膜
の層数、各光学膜の屈折率及び光学的膜厚を、前記のよ
うに設定することにより、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が反射側で０．１〜０．２ｄＢ以下
のビーム・スプリッタを実現できることを実証した。
の層数、各光学膜の屈折率及び光学的膜厚を、前記のよ
うに設定することにより、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が反射側で０．１〜０．２ｄＢ以下
のビーム・スプリッタを実現できることを実証した。
【００１１】従って、光増幅モジュール等に使用されて
いるショート・ウエーブ・パス・フィルタ（ＳＷＰＦ）
やロング・ウエーブ・パス・フィルタ（ＬＷＰＦ）等の
他の光部品の光線入射角２２．５°と同じ光線入射角の
ビーム・スプリッタが実現され、光学要素の光学的配置
が簡単になる等、光増幅モジュール等の設計の容易化を
図ることができる。
いるショート・ウエーブ・パス・フィルタ（ＳＷＰＦ）
やロング・ウエーブ・パス・フィルタ（ＬＷＰＦ）等の
他の光部品の光線入射角２２．５°と同じ光線入射角の
ビーム・スプリッタが実現され、光学要素の光学的配置
が簡単になる等、光増幅モジュール等の設計の容易化を
図ることができる。
【００１２】また、分岐比の偏光依存性が小さいから、
入射光の偏光状態によって、ビーム・スプリッタにおけ
る分岐比が変化するということがなくなり、一定した特
性を実現することができる。
入射光の偏光状態によって、ビーム・スプリッタにおけ
る分岐比が変化するということがなくなり、一定した特
性を実現することができる。
【００１３】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照しつつ説
明することにする。図１はビーム・スプリッタの基本的
構成を示す図である。このビーム・スプリッタは、ガラ
ス基板１上に、複数の光学膜２を積層・形成して構成さ
れている。光学膜２は、高屈折率層、中間屈折率層、低
屈折率層のいずれかとなるようにその材料が選択され、
イオンアシスト蒸着あるいはイオンプレーティング等に
より、所定の厚さとなるように形成される。
明することにする。図１はビーム・スプリッタの基本的
構成を示す図である。このビーム・スプリッタは、ガラ
ス基板１上に、複数の光学膜２を積層・形成して構成さ
れている。光学膜２は、高屈折率層、中間屈折率層、低
屈折率層のいずれかとなるようにその材料が選択され、
イオンアシスト蒸着あるいはイオンプレーティング等に
より、所定の厚さとなるように形成される。
【００１４】なお、以下の説明における光学的膜厚は、
屈折率をｎとし、実際の膜厚をｄとし、帯域の中心を決
定する波長をλとして、ｎ×ｄ／λ で表される相対値
である。 （１）第１実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第１２層までの
全１２層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈
折率層を以下のように交互に積層して構成されている。
ガラス基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的
膜厚は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： ２．２３±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第２層： １．４４±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第３層： ２．２３±０．１０ ０．３０〜０．４０ 第４層： １．４４±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第５層： ２．２３±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第６層： １．４４±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第７層： ２．２３±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第８層： １．４４±０．１０ ０．２０〜０．３０ 第９層： ２．２３±０．１０ ０．５５〜０．６５ 第１０層： １．４４±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第１１層： ２．２３±０．１０ ２．５０〜３．５０ 第１２層： １．４４±０．１０ ０．２０〜０．３０ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第１層、第３
層、第５層、第７層、第９層及び第１１層の形成材料と
しては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用している。低
屈折率層、即ち、第２層、第４層、第６層、第８層、第
１０層及び第１２層の形成材料としては、ＳｉＯ2 （二
酸化シリコン）を採用している。高屈折率層の形成材料
としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化タンタル）を
採用することができる。
屈折率をｎとし、実際の膜厚をｄとし、帯域の中心を決
定する波長をλとして、ｎ×ｄ／λ で表される相対値
である。 （１）第１実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第１２層までの
全１２層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈
折率層を以下のように交互に積層して構成されている。
ガラス基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的
膜厚は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： ２．２３±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第２層： １．４４±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第３層： ２．２３±０．１０ ０．３０〜０．４０ 第４層： １．４４±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第５層： ２．２３±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第６層： １．４４±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第７層： ２．２３±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第８層： １．４４±０．１０ ０．２０〜０．３０ 第９層： ２．２３±０．１０ ０．５５〜０．６５ 第１０層： １．４４±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第１１層： ２．２３±０．１０ ２．５０〜３．５０ 第１２層： １．４４±０．１０ ０．２０〜０．３０ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第１層、第３
層、第５層、第７層、第９層及び第１１層の形成材料と
しては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用している。低
屈折率層、即ち、第２層、第４層、第６層、第８層、第
１０層及び第１２層の形成材料としては、ＳｉＯ2 （二
酸化シリコン）を採用している。高屈折率層の形成材料
としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化タンタル）を
採用することができる。
【００１５】前記のように構成されたビーム・スプリッ
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図２に示す。図２において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図２中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図２に示す。図２において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図２中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
【００１６】図２から明らかなように、前記のように構
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が極めて小さいビ
ーム・スプリッタが実現される。なお、このビーム・ス
プリッタの分岐比（反射光：透過光）は、１：７であ
る。
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が極めて小さいビ
ーム・スプリッタが実現される。なお、このビーム・ス
プリッタの分岐比（反射光：透過光）は、１：７であ
る。
【００１７】このように、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （２）第２実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第５層までの全
５層であり、ガラス基板１上に高屈折率層、中間屈折率
層及び低屈折率層を以下のように積層して構成されてい
る。ガラス基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光
学的膜厚は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４４±０．１０ ０．０５〜０．１５ 第２層： １．６８±０．１０ ０．０１〜０．１０ 第３層： １．４４±０．１０ ０．５０〜０．６０ 第４層： ２．２３±０．１０ ０．２５〜０．３５ 第５層： １．４４±０．１０ ０．２５〜０．３５ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第４層の形成材
料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用してい
る。中間屈折率層、即ち、第２層の形成材料としては、
Ａｌ2 Ｏ3 （アルミナ）を採用している。低屈折率層、
即ち、第１層、第３層及び第５層の形成材料としては、
ＳｉＯ2 （二酸化シリコン）を採用している。高屈折率
層の形成材料としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化
タンタル）を採用することができる。
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （２）第２実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第５層までの全
５層であり、ガラス基板１上に高屈折率層、中間屈折率
層及び低屈折率層を以下のように積層して構成されてい
る。ガラス基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光
学的膜厚は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４４±０．１０ ０．０５〜０．１５ 第２層： １．６８±０．１０ ０．０１〜０．１０ 第３層： １．４４±０．１０ ０．５０〜０．６０ 第４層： ２．２３±０．１０ ０．２５〜０．３５ 第５層： １．４４±０．１０ ０．２５〜０．３５ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第４層の形成材
料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用してい
る。中間屈折率層、即ち、第２層の形成材料としては、
Ａｌ2 Ｏ3 （アルミナ）を採用している。低屈折率層、
即ち、第１層、第３層及び第５層の形成材料としては、
ＳｉＯ2 （二酸化シリコン）を採用している。高屈折率
層の形成材料としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化
タンタル）を採用することができる。
【００１８】前記のように構成されたビーム・スプリッ
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図３に示す。図３において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図３中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図３に示す。図３において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図３中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
【００１９】図３から明らかなように、前記のように構
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が極めて小さいビ
ーム・スプリッタが実現される。なお、このビーム・ス
プリッタの分岐比（反射光：透過光）は、１：１６であ
る。
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が極めて小さいビ
ーム・スプリッタが実現される。なお、このビーム・ス
プリッタの分岐比（反射光：透過光）は、１：１６であ
る。
【００２０】このように、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （３）第３実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第３層までの全
３層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈折率
層を以下のように交互に積層して構成している。ガラス
基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚
は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４６±０．１０ ０．７３〜０．８３ 第２層： ２．３０±０．１０ ０．１３〜０．２３ 第３層： １．４６±０．１０ ０．２２〜０．３２ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第２層の形成材
料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用してい
る。低屈折率層、即ち、第１層及び第３層の形成材料と
しては、ＳｉＯ2（二酸化シリコン）を採用している。
高屈折率層の形成材料としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5
（五酸化タンタル）を採用することができる。
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （３）第３実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第３層までの全
３層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈折率
層を以下のように交互に積層して構成している。ガラス
基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚
は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４６±０．１０ ０．７３〜０．８３ 第２層： ２．３０±０．１０ ０．１３〜０．２３ 第３層： １．４６±０．１０ ０．２２〜０．３２ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第２層の形成材
料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用してい
る。低屈折率層、即ち、第１層及び第３層の形成材料と
しては、ＳｉＯ2（二酸化シリコン）を採用している。
高屈折率層の形成材料としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5
（五酸化タンタル）を採用することができる。
【００２１】前記のように構成されたビーム・スプリッ
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図４に示す。図４において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図４中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図４に示す。図４において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図４中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
【００２２】図４から明らかなように、前記のように構
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・
スプリッタが実現される。なお、このビーム・スプリッ
タの分岐比（反射光：透過光）は、１：１６である。
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・
スプリッタが実現される。なお、このビーム・スプリッ
タの分岐比（反射光：透過光）は、１：１６である。
【００２３】このように、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （４）第４実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第３層までの全
３層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈折率
層を以下のように交互に積層して構成している。ガラス
基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚
は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４４±０．１０ ０．５８〜０．６８ 第２層： ２．２３±０．１０ ０．２５〜０．３５ 第３層： １．４４±０．１０ ０．１８〜０．２８ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第２層の形成材
料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用してい
る。低屈折率層、即ち、第１層及び第３層の形成材料と
しては、ＳｉＯ2（二酸化シリコン）を採用している。
高屈折率層の形成材料としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5
（五酸化タンタル）を採用することができる。
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （４）第４実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第３層までの全
３層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈折率
層を以下のように交互に積層して構成している。ガラス
基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚
は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４４±０．１０ ０．５８〜０．６８ 第２層： ２．２３±０．１０ ０．２５〜０．３５ 第３層： １．４４±０．１０ ０．１８〜０．２８ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第２層の形成材
料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用してい
る。低屈折率層、即ち、第１層及び第３層の形成材料と
しては、ＳｉＯ2（二酸化シリコン）を採用している。
高屈折率層の形成材料としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5
（五酸化タンタル）を採用することができる。
【００２４】前記のように構成されたビーム・スプリッ
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図５に示す。図５において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図５中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図５に示す。図５において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図５中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
【００２５】図５から明らかなように、前記のように構
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・
スプリッタが実現される。なお、このビーム・スプリッ
タの分岐比（反射光：透過光）は、１：１７である。
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・
スプリッタが実現される。なお、このビーム・スプリッ
タの分岐比（反射光：透過光）は、１：１７である。
【００２６】このように、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （５）第５実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第６層までの全
６層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈折率
層を以下のように交互に積層して構成している。ガラス
基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚
は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４４±０．１０ ０．５４〜０．６４ 第２層： ２．２３±０．１０ ０．４９〜０．５９ 第３層： １．４４±０．１０ ０．９０〜１．３０ 第４層： ２．２３±０．１０ ０．２１〜０．３１ 第５層： １．４４±０．１０ ０．２３〜０．３３ 第６層： ２．２３±０．１０ ０．４８〜０．５８ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第２層、第４層
及び第６層の形成材料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタ
ン）を採用している。低屈折率層、即ち、第１層、第３
層及び第５層の形成材料としては、ＳｉＯ2 （二酸化シ
リコン）を採用している。高屈折率層の形成材料として
は、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化タンタル）を採用す
ることができる。
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （５）第５実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第６層までの全
６層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈折率
層を以下のように交互に積層して構成している。ガラス
基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜厚
は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： １．４４±０．１０ ０．５４〜０．６４ 第２層： ２．２３±０．１０ ０．４９〜０．５９ 第３層： １．４４±０．１０ ０．９０〜１．３０ 第４層： ２．２３±０．１０ ０．２１〜０．３１ 第５層： １．４４±０．１０ ０．２３〜０．３３ 第６層： ２．２３±０．１０ ０．４８〜０．５８ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第２層、第４層
及び第６層の形成材料としては、ＴｉＯ2 （二酸化チタ
ン）を採用している。低屈折率層、即ち、第１層、第３
層及び第５層の形成材料としては、ＳｉＯ2 （二酸化シ
リコン）を採用している。高屈折率層の形成材料として
は、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化タンタル）を採用す
ることができる。
【００２７】前記のように構成されたビーム・スプリッ
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図６に示す。図６において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図６中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図６に示す。図６において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図６中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
【００２８】図６から明らかなように、前記のように構
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・
スプリッタが実現される。なお、このビーム・スプリッ
タの分岐比（反射光：透過光）は、１：１８である。
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が小さいビーム・
スプリッタが実現される。なお、このビーム・スプリッ
タの分岐比（反射光：透過光）は、１：１８である。
【００２９】このように、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （６）第６実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第１２層までの
全１２層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈
折率層を以下のように交互に積層して構成している。ガ
ラス基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜
厚は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： ２．２３±０．１０ ０．３９〜０．５０ 第２層： １．４４±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第３層： ２．２３±０．１０ ０．２７〜０．４０ 第４層： １．４４±０．１０ ０．０７〜０．２０ 第５層： ２．２３±０．１０ ０．０９〜０．２０ 第６層： １．４４±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第７層： ２．２３±０．１０ ０．１３〜０．２３ 第８層： １．４４±０．１０ ０．２０〜０．３３ 第９層： ２．２３±０．１０ ０．５０〜０．６５ 第１０層： １．４４±０．１０ ０．３０〜０．５０ 第１１層： ２．２３±０．１０ ２．４０〜３．５０ 第１２層： １．４４±０．１０ ０．１９〜０．３０ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第１層、第３
層、第５層、第７層、第９層及び第１１層の形成材料と
しては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用している。低
屈折率層、即ち、第２層、第４層、第６層、第８層、第
１０層及び第１２層の形成材料としては、ＳｉＯ2 （二
酸化シリコン）を採用している。高屈折率層の形成材料
としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化タンタル）を
採用することができる。
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。 （６）第６実施例 この実施例では光学膜２は、第１層から第１２層までの
全１２層であり、ガラス基板１上に高屈折率層及び低屈
折率層を以下のように交互に積層して構成している。ガ
ラス基板１の屈折率、各光学膜２の屈折率及び光学的膜
厚は、以下のように設定されている。 屈折率 光学的膜厚 基 板： １．５１±０．１０ −−− 第１層： ２．２３±０．１０ ０．３９〜０．５０ 第２層： １．４４±０．１０ ０．４０〜０．５０ 第３層： ２．２３±０．１０ ０．２７〜０．４０ 第４層： １．４４±０．１０ ０．０７〜０．２０ 第５層： ２．２３±０．１０ ０．０９〜０．２０ 第６層： １．４４±０．１０ ０．１０〜０．２０ 第７層： ２．２３±０．１０ ０．１３〜０．２３ 第８層： １．４４±０．１０ ０．２０〜０．３３ 第９層： ２．２３±０．１０ ０．５０〜０．６５ 第１０層： １．４４±０．１０ ０．３０〜０．５０ 第１１層： ２．２３±０．１０ ２．４０〜３．５０ 第１２層： １．４４±０．１０ ０．１９〜０．３０ 外部媒質： １．００ −−− ガラス基板１の形成材料としては、ＢＫ−７ガラスを採
用している。また、高屈折率層、即ち、第１層、第３
層、第５層、第７層、第９層及び第１１層の形成材料と
しては、ＴｉＯ2 （二酸化チタン）を採用している。低
屈折率層、即ち、第２層、第４層、第６層、第８層、第
１０層及び第１２層の形成材料としては、ＳｉＯ2 （二
酸化シリコン）を採用している。高屈折率層の形成材料
としては、前記以外にＴａ2 Ｏ5 （五酸化タンタル）を
採用することができる。
【００３０】前記のように構成されたビーム・スプリッ
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図７に示す。図７において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図７中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
タに、光線入射角２２．５°で光を入射した場合の特性
を図７に示す。図７において、縦軸は透過率（％）であ
り、横軸は波長（ｎｍ）であり、中心波長は、１５５０
ｎｍである。また、図７中、Ｐ偏光の特性は記号Ｐで、
Ｓ偏光の特性は記号Ｓで示されている。
【００３１】図７から明らかなように、前記のように構
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が極めて小さいビ
ーム・スプリッタが実現される。なお、このビーム・ス
プリッタの分岐比（反射光：透過光）は、１：９であ
る。
成することにより、１５５０ｎｍを中心とした±１０ｎ
ｍ以上の帯域で、分岐比の偏光依存性が極めて小さいビ
ーム・スプリッタが実現される。なお、このビーム・ス
プリッタの分岐比（反射光：透過光）は、１：９であ
る。
【００３２】このように、光線入射角が２２．５°で、
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。
分岐比の偏光依存性が小さいビーム・スプリッタが実現
されるから、このビーム・スプリッタが採用される光増
幅モジュール等の光学要素の光学的配置が簡単になり、
設計の容易化を図ることができるとともに、入射光の偏
光状態にかかわらず一定した特性を実現することができ
る。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
光線入射角が２２．５°で、分岐比の偏光依存性が小さ
いビーム・スプリッタが提供できるという効果を奏す
る。
光線入射角が２２．５°で、分岐比の偏光依存性が小さ
いビーム・スプリッタが提供できるという効果を奏す
る。
【図１】本発明実施例のビーム・スプリッタの基本的構
成を示す図である。
成を示す図である。
【図２】本発明第１実施例のビーム・スプリッタの特性
を示す図である。
を示す図である。
【図３】本発明第２実施例のビーム・スプリッタの特性
を示す図である。
を示す図である。
【図４】本発明第３実施例のビーム・スプリッタの特性
を示す図である。
を示す図である。
【図５】本発明第４実施例のビーム・スプリッタの特性
を示す図である。
を示す図である。
【図６】本発明第５実施例のビーム・スプリッタの特性
を示す図である。
を示す図である。
【図７】本発明第６実施例のビーム・スプリッタの特性
を示す図である。
を示す図である。
１ ガラス基板 ２ 光学膜
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 福島 暢洋 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (12)
- 【請求項１】 基板上に複数の光学膜を積層してなるビ
ーム・スプリッタであって、 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板と、 該ガラス基板上に形成された屈折率が２．２３±０．１
０で光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第１層と、 該第１層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第２層と、 該第２層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．３０〜０．４０の第３層と、 該第３層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第４層と、 該第４層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第５層と、 該第５層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第６層と、 該第６層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第７層と、 該第７層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．２０〜０．３０の第８層と、 該第８層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．５５〜０．６５の第９層と、 該第９層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第１０層と、 該第１０層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０
で光学的膜厚が２．５０〜３．５０の第１１層と、 該第１１層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０
で光学的膜厚が０．２０〜０．３０の第１２層と、を備
えたビーム・スプリッタ。 - 【請求項２】 請求項１に記載のビーム・スプリッタに
おいて、 前記第１層、前記第３層、前記第５層、前記第７層、前
記第９層及び前記第１１層はＴｉＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 か
らなる蒸着膜であり、 前記第２層、前記第４層、前記第６層、前記第８層、前
記第１０層及び前記第１２層はＳｉＯ2 からなる蒸着膜
であるビーム・スプリッタ。 - 【請求項３】 基板上に複数の光学膜を積層してなるビ
ーム・スプリッタであって、 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板と、 該ガラス基板上に形成された屈折率が１．４４±０．１
０で光学的膜厚が０．０５〜０．１５の第１層と、 該第１層上に形成された屈折率が１．６８±０．１０で
光学的膜厚が０．０１〜０．１０の第２層と、 該第２層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．５０〜０．６０の第３層と、 該第３層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．２５〜０．３５の第４層と、 該第４層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．２５〜０．３５の第５層と、を備えた
ビーム・スプリッタ。 - 【請求項４】 請求項３に記載のビーム・スプリッタに
おいて、 前記第１層、前記第３層及び前記第５層はＳｉＯ2 から
なる蒸着膜であり、 前記第２層はＡｌ2 Ｏ3 からなる蒸着膜であり、 前記第４層はＴｉＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 からなる蒸着膜で
あるビーム・スプリッタ。 - 【請求項５】 基板上に複数の光学膜を積層してなるビ
ーム・スプリッタであって、 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板と、 該ガラス基板上に形成された屈折率が１．４６±０．１
０で光学的膜厚が０．７３〜０．８３の第１層と、 該第１層上に形成された屈折率が２．３０±０．１０で
光学的膜厚が０．１３〜０．２３の第２層と、 該第２層上に形成された屈折率が１．４６±０．１０で
光学的膜厚が０．２２〜０．３２の第３層と、を備えた
ビーム・スプリッタ。 - 【請求項６】 請求項５に記載のビーム・スプリッタに
おいて、 前記第１層及び前記第３層はＳｉＯ2 からなる蒸着膜で
あり、 前記第２層はＴｉＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 からなる蒸着膜で
あるビーム・スプリッタ。 - 【請求項７】 基板上に複数の光学膜を積層してなるビ
ーム・スプリッタであって、 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板と、 該ガラス基板上に形成された屈折率が１．４４±０．１
０で光学的膜厚が０．５８〜０．６８の第１層と、 該第１層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．２５〜０．３５の第２層と、 該第２層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．１８〜０．２８の第３層と、を備えた
ビーム・スプリッタ。 - 【請求項８】 請求項７に記載のビーム・スプリッタに
おいて、 前記第１層及び前記第３層はＳｉＯ2 からなる蒸着膜で
あり、 前記第２層はＴｉＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 からなる蒸着膜で
あるビーム・スプリッタ。 - 【請求項９】 基板上に複数の光学膜を積層してなるビ
ーム・スプリッタであって、 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板と、 該ガラス基板上に形成された屈折率が１．４４±０．１
０で光学的膜厚が０．５４〜０．６４の第１層と、 該第１層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．４９〜０．５９の第２層と、 該第２層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．９０〜１．３０の第３層と、 該第３層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．２１〜０．３１の第４層と、 該第４層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．２３〜０．３３の第５層と、 該第５層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．４８〜０．５８の第６層と、を備えた
ビーム・スプリッタ。 - 【請求項１０】 請求項９に記載のビーム・スプリッタ
において、 前記第１層、前記第３層及び前記第５層はＳｉＯ2 から
なる蒸着膜であり、 前記第２層、前記第４層及び前記第６層はＴｉＯ2 又は
Ｔａ2 Ｏ5 からなる蒸着膜であるビーム・スプリッタ。 - 【請求項１１】 基板上に複数の光学膜を積層してなる
ビーム・スプリッタであって、 屈折率１．５１±０．１０のガラス基板と、 該ガラス基板上に形成された屈折率が２．２３±０．１
０で光学的膜厚が０．３９〜０．５０の第１層と、 該第１層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．４０〜０．５０の第２層と、 該第２層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．２７〜０．４０の第３層と、 該第３層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．０７〜０．２０の第４層と、 該第４層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．０９〜０．２０の第５層と、 該第５層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．１０〜０．２０の第６層と、 該第６層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．１３〜０．２３の第７層と、 該第７層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．２０〜０．３３の第８層と、 該第８層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０で
光学的膜厚が０．５０〜０．６５の第９層と、 該第９層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０で
光学的膜厚が０．３０〜０．５０の第１０層と、 該第１０層上に形成された屈折率が２．２３±０．１０
で光学的膜厚が２．４０〜３．５０の第１１層と、 該第１１層上に形成された屈折率が１．４４±０．１０
で光学的膜厚が０．１９〜０．３０の第１２層と、を備
えたビーム・スプリッタ。 - 【請求項１２】 請求項１１に記載のビーム・スプリッ
タにおいて、 前記第１層、前記第３層、前記第５層、前記第７層、前
記第９層及び前記第１１層はＴｉＯ2 又はＴａ2 Ｏ5 か
らなる蒸着膜であり、 前記第２層、前記第４層、前記第６層、前記第８層、前
記第１０層及び前記第１２層はＳｉＯ2 からなる蒸着膜
であるビーム・スプリッタ。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7057154A JPH08254611A (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | ビーム・スプリッタ |
| US08/556,771 US5661602A (en) | 1995-03-16 | 1995-11-02 | Beam splitter |
| US08/825,568 US5745290A (en) | 1995-03-16 | 1997-03-31 | Beam splitter |
| US08/831,329 US5822124A (en) | 1995-03-16 | 1997-03-31 | Beam splitter |
| US08/831,341 US5798865A (en) | 1995-03-16 | 1997-03-31 | Beam splitter |
| US08/829,182 US5771118A (en) | 1995-03-16 | 1997-03-31 | Beam splitter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7057154A JPH08254611A (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | ビーム・スプリッタ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08254611A true JPH08254611A (ja) | 1996-10-01 |
Family
ID=13047656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7057154A Withdrawn JPH08254611A (ja) | 1995-03-16 | 1995-03-16 | ビーム・スプリッタ |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (5) | US5661602A (ja) |
| JP (1) | JPH08254611A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3290629B2 (ja) * | 1998-06-22 | 2002-06-10 | アルプス電気株式会社 | 光学多層膜フィルタ |
| DE50013066D1 (de) * | 1999-12-22 | 2006-08-03 | Schott Ag | Uv-reflektierendes interferenzschichtsystem |
| JP2002071946A (ja) * | 2000-08-30 | 2002-03-12 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 偏光フィルタおよびそれを用いた光学装置 |
| US6954592B2 (en) * | 2002-01-24 | 2005-10-11 | Jds Uniphase Corporation | Systems, methods and apparatus for bi-directional optical transceivers |
| US6948252B2 (en) * | 2002-02-28 | 2005-09-27 | Gibson William F | Light projecting goniometer |
| JP2005107317A (ja) * | 2003-09-30 | 2005-04-21 | Minolta Co Ltd | 偏光分離膜および偏光分離プリズム |
| JP2006134535A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Konica Minolta Opto Inc | ビームスプリッタ及び光ピックアップ装置 |
| US8817371B1 (en) * | 2008-08-01 | 2014-08-26 | Simon Andrew Boothroyd | Polarizing beam splitters |
| FR3130404A1 (fr) * | 2021-12-09 | 2023-06-16 | Valeo Comfort And Driving Assistance | Lame partiellement réfléchissante, dispositif d’affichage comprenant une telle lame, planche de bord et dispositif d’affichage tête-haute comprenant un tel dispositif d’affichage |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3781090A (en) * | 1972-11-06 | 1973-12-25 | Minolta Camera Kk | Four layer anti-reflection coating |
| JPH0394202A (ja) * | 1989-09-07 | 1991-04-19 | Fujitsu Ltd | 光分岐結合装置 |
| JPH05215906A (ja) * | 1992-01-31 | 1993-08-27 | Asahi Optical Co Ltd | 多層偏光分離膜 |
| JPH05215917A (ja) * | 1992-02-05 | 1993-08-27 | Asahi Optical Co Ltd | 多層偏光分離膜 |
| JPH0682623A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-25 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光ビーム分離素子及びその作製方法 |
| JP3168765B2 (ja) * | 1993-04-01 | 2001-05-21 | 松下電器産業株式会社 | 偏光装置および該偏光装置を用いた投写型表示装置 |
| JPH0758355A (ja) * | 1993-05-12 | 1995-03-03 | Optical Coating Lab Inc | Ｕｖ／ｉｒ反射太陽電池カバー |
| US5552671A (en) * | 1995-02-14 | 1996-09-03 | General Electric Company | UV Radiation-absorbing coatings and their use in lamps |
-
1995
- 1995-03-16 JP JP7057154A patent/JPH08254611A/ja not_active Withdrawn
- 1995-11-02 US US08/556,771 patent/US5661602A/en not_active Expired - Lifetime
-
1997
- 1997-03-31 US US08/829,182 patent/US5771118A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-03-31 US US08/825,568 patent/US5745290A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-03-31 US US08/831,329 patent/US5822124A/en not_active Expired - Fee Related
- 1997-03-31 US US08/831,341 patent/US5798865A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5771118A (en) | 1998-06-23 |
| US5661602A (en) | 1997-08-26 |
| US5822124A (en) | 1998-10-13 |
| US5745290A (en) | 1998-04-28 |
| US5798865A (en) | 1998-08-25 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5071225A (en) | Beam splitter for producing a plurality of splitted light beams for each of wavelength components of an incident light beam | |
| EP0307094B1 (en) | Optical image rotators | |
| US6310729B1 (en) | Dichroic mirror | |
| JPH08503315A (ja) | 偏光ビームスプリッタ及びこのビームスプリッタを用いる光磁気再生装置 | |
| JPH08254611A (ja) | ビーム・スプリッタ | |
| JPH02167502A (ja) | 光学製品とその製造方法 | |
| JPH11211916A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
| US5621832A (en) | Beam splitter and optical coupler using the same | |
| WO2022040912A1 (zh) | 一种低角度偏移滤光片 | |
| JP2009031406A (ja) | 非偏光ビームスプリッター及びそれを利用した光学計測機器 | |
| US5973835A (en) | Multilayer thin-film broad-band polarizing beam-splitter | |
| JPH08146218A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
| JP2741731B2 (ja) | 偏光子 | |
| JPH0682623A (ja) | 光ビーム分離素子及びその作製方法 | |
| JP2003014932A (ja) | 偏光ビームスプリッタ、および偏光ビームスプリッタの作成方法 | |
| US10145999B2 (en) | Polarizing beamsplitter that passes s-polarization and reflects p-polarization | |
| JPH08110406A (ja) | 光学多層膜 | |
| JPS6315562B2 (ja) | ||
| JP3113371B2 (ja) | 多層反射防止膜 | |
| JPS62127701A (ja) | 反射防止膜 | |
| JPH07225316A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
| JPH05232317A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
| JPH08286034A (ja) | 偏光ビームスプリッター | |
| US20090316267A1 (en) | Multilayer thin-film stack and optical element employing same | |
| WO2020161950A1 (ja) | 偏光ビームスプリッターおよび光学装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20020604 |