JPH08213808A - 非可逆回路素子 - Google Patents

非可逆回路素子

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JPH08213808A
JPH08213808A JP3450195A JP3450195A JPH08213808A JP H08213808 A JPH08213808 A JP H08213808A JP 3450195 A JP3450195 A JP 3450195A JP 3450195 A JP3450195 A JP 3450195A JP H08213808 A JPH08213808 A JP H08213808A
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JP
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magnet
magnets
heat insulating
magnetic field
solder
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JP3450195A
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Yukihiro Kawada
幸広 川田
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Taiyo Yuden Co Ltd
Original Assignee
Taiyo Yuden Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 熱的安定性を確保し、十分な磁界を得つつ、
非可逆回路素子の小型化・薄型化を図る。 【構成】 容量基板100では、フェライト102を包
みように中心導体104が設けられており、一つのポー
トに終端抵抗106が設けられている。各ポートに対応
して端子108が設けられている。中心導体104に対
する引出用電極及び端子108は、通常の軟化温度の半
田によって固定されている。容量基板100の半田接合
部には、断熱材(耐熱材)110が塗布されている。ま
た、直流磁界印加用の磁石120,122についても、
その表面に同様の断熱材110が塗布されている。この
ような容量基板100,磁石120,122を、カバー
10とシールドケース12で挟むようにして、アイソレ
ータが組立られている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えばマイクロ波帯
域で使用されるアイソレータなどの非可逆回路素子にか
かり、更に具体的には、その熱的安定性,小型化・薄型
化のための改良に関する。
【0002】
【背景技術】マイクロ波帯で使用される非可逆回路素子
としては、例えば図5に示すようなものがある。この例
はアイソレータで、カバー10とシールドケース12と
の間に、磁石14,16と容量基板18が図示の順序で
重ねられた構成となっている。これらのうち、容量基板
18は、複数の中心導体20と回路(導波路)を構成す
る磁性体(例えばフェライト)22を含み、一つのポー
トに終端抵抗24が設けられている。また、側部に複数
の端子26が突出して設けられている。
【0003】終端抵抗24は、サーキュレータをアイソ
レータとするために用いられている。3ポートサーキュ
レータでは、通常、電磁波の進行方向が120゜曲げら
れる。ここで、いずれかのポートに終端抵抗を入れる
と、このポートへの出力はすべて熱に変換されるように
なり、アイソレータとして作用するようになる。
【0004】なお、この容量基板18の詳細な構造とし
ては、例えば、特開平5−37206号公報,同5−2
99904号公報に開示されたものがあり、あるいは、
特願平6−261013号として出願されたものがあ
る。
【0005】この容量基板18の上下には、中心導体2
0及びフェライト22の部分に直流磁界を形成するため
の磁石14,16が設けられる。なお、磁石16を省い
た構造もある。この場合は、カバー10及びシールドケ
ース12に磁気ヨークとしての機能を持たせるようにす
る。
【0006】ところで、このような非可逆回路素子がリ
フローソルダリングの手法で表面実装される場合は、リ
フロー半田付け時における高温に耐える安定性が要求さ
れる。具体的には、製造時も考慮すると、300度近く
の高温での熱的安定性が求められる。このため、素子内
部の半田付け部分に用いる半田材質として、製品後の表
面実装時のリフロー半田付けにおいて溶融の心配のない
軟化溶融温度の高い高温半田を使用している。具体的に
は、容量基板18の中心導体20の外部引出し部分28
に、軟化溶融温度の高い半田を使用する。あるいは、外
部引出し部分28の周辺部を、液晶ポリマーなどの断熱
性の高い部材で形成して表面実装時の断熱性を確保す
る。更に、直流磁界印加用磁石14,16として、表面
実装時の半田リフローでの熱に対して安定な素材である
ことを最優先に選ぶようにするなどである。
【0007】次に、非可逆回路素子は、例えば携帯電話
やコードレス電話などの移動体通信に使われており、よ
り小型化,薄型化が求められている。これに応えるた
め、波長の大きさに依存する分布定数型から集中定数型
に推移している。また、集中定数型となってからも、信
号ラインをストリップラインからマイクロストリップラ
インに変え、より薄型となっている。更に現在では、カ
バーやシールドケースを磁気ヨークとして利用すること
によって、直流磁界印加用の磁石を2枚から1枚にし、
一段と薄型化が図られている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような背景技術には、次のような不都合がある。 (1)上述したように、非可逆回路素子製造時において
使用する半田は、熱的安定性の観点から通常より高い温
度で軟化溶融する材質となっているので、製造段階での
半田リフロー温度を上げる必要が生じる。すると、非可
逆回路素子を構成している部材のすべてについて極めて
高い温度における熱的安定性が求められるようになり、
結果的に、各部の材質が限定されてしまうという不都合
が生ずる。
【0009】(2)また、熱的安定性を最優先にする
と、所望の磁場を得るために磁石の形状を大きくせざる
を得なくなり、今度は薄型化の要請に反することとな
る。詳述すると、従来非可逆回路素子に用いられている
磁石の材質は、コスト面の優位性の他に熱的安定性の高
さからフェライト系のものが使われている。しかし、薄
型化の進んだ現在、更にそれを薄型化するとしても、フ
ェライト系磁石ではほぼ限界の域に達している。すなわ
ち、現状よりも薄型化すると所望の磁界を得ることがで
きくなってしまう。
【0010】また、他の材質の磁石を用いるとしても、
所望の磁界は得られるものの、300度近傍まで加熱さ
れると不可逆減磁を生じるというように、熱的安定性の
面で満足し得ない。
【0011】この発明は、以上の点に着目したもので、
その目的は、熱的安定性を確保しつつ、材料の制限を回
避することである。他の目的は、熱的安定性を確保しつ
つ、良好に非可逆回路素子の小型化・薄型化を図ること
である。更に他の目的は、熱的安定性を確保し、十分な
磁界を得つつ、非可逆回路素子の小型化・薄型化を図る
ことである。
【0012】
【課題を解決するための手段と作用】前記目的を達成す
るため、この発明によれば、直流磁界用の磁石や半田付
け部分に断熱材が施される。半田リフローの時間はさほ
ど長くはないので、半田付け部分や磁石に断熱材を施す
ことで、十分それらの部分の温度上昇を抑制することが
できる。
【0013】また、他の発明によれば、熱に対して比較
的安定で、しかもフェライト系磁石より最大残留磁束密
度や保磁力が非常に高いSmCo・2-17系磁石が用いられ
る。これにより、非可逆回路素子として要求される直流
磁界を比較的小型,かつ薄型の形状の磁石で得ることが
できる。また、磁壁のピンニング効果が働き、磁化の反
転や不可逆減磁の発生が抑えられる。熱的安定性も、フ
ェライト系磁石にほぼ準じており、実用的には全く問題
はない。
【0014】更に他の発明によれば、SmCo・2-17系磁
石と断熱絶縁材が用いられるので、全体として良好な熱
的安定性を得ることができるとともに、素子全体の小型
化,薄型化を実現できる。この発明の前記及び他の目
的,特徴,利点は、次の詳細な説明及び添付図面から明
瞭になろう。
【0015】
【好ましい実施例の説明】この発明には数多くの実施例
が有り得るが、ここでは適切な数の実施例を示し、詳細
に説明する。
【0016】<実施例1>最初に、図1を参照しなが
ら、主として熱的安定性に対する改良を行った実施例1
について説明する。まず、同図(A)を参照して第1の
例について説明する。容量基板100は、基本的には前
記背景技術と同様となっている。すなわち、フェライト
102を包み込むように複数の中心導体104が設けら
れており、これらが容量基板100内に収納されて3ポ
ートの回路を構成している。そして、一つのポートに終
端抵抗106が設けられており、これによってアイソレ
ータとしての特性が得られる構成となっている。また、
回路の各ポートに対応して端子108が設けられてい
る。中心導体104に対する引出用の電極は、通常の軟
化温度,例えば230℃程度の半田によって固定されて
いる。また、端子108も、同様の軟化温度の半田によ
って容量基板100に固定されている。
【0017】ところで、本実施例では、図中にハッチン
グで示すように、容量基板100の半田接合部に断熱材
(耐熱材)として接着剤のシリコーン樹脂110が塗布
されている。また、容量基板100の上下に位置する直
流磁界印加用の磁石120,122についても、その表
面に同様の断熱材110が塗布されている。このような
容量基板100,磁石120,122を、図5の背景技
術のようにカバーとシールドケースで挟むようにして、
アイソレータが組立られている。
【0018】このようにして、断熱対策を施した本実施
例のアイソレータと断熱対策を施していない背景技術に
かかるアイソレータに対し、それぞれ260℃,30se
cの半田リフロー処理を行った。その結果、本実施例に
て作製したアイソレータについては、特性,形状ともに
リフロー前後で格別な変化は認められなかった。しか
し、断熱対策のない従来のアイソレータでは、端子10
8の脱落が生じ、特性評価に至らなかった。
【0019】リフロー時における半田付け部分の面積は
極めて小さく、その狭い部分の半田が溶融されればよ
く、また、半田リフロー時は長時間高温に保持されるも
のではない。従って、非可逆回路素子製造時において既
に半田付けされた部分に断熱材を施すことで、その部分
については半田リフロー時にリフロー温度まで温度が上
昇しなくなる。
【0020】このように、本実施例によれば、半田付け
部分に断熱対策を施すことにより、高温で軟化溶融する
特別の半田を用いることなく、通常多用されている半田
を用いることができる。また、表面実装時の半田リフロ
ーに伴う熱覆歴による半田の軟化溶融や部材の位置ずれ
なども生じない。従って、断熱性の高い液晶ポリマーな
どの材料を用いる必要がなく使用する材料の選択の幅が
広がるようになる。
【0021】また、磁石に断熱材を施すことにより、半
田リフロー処理の時間内で磁石まで熱が伝わることが阻
止される。これにより、半田リフローに伴う磁石の温度
上昇を抑えることができ、それに伴う不可逆減磁の問題
も解消される。更に、磁石に対する熱的安定性の条件が
緩和されるので、この点からも材料の制限が緩和され、
更には形状の小型化・薄型化が可能となり、結果的に素
子全体としての小型化・薄型化も実現できる。
【0022】なお、前記実施例では、断熱材110を容
量基板100の半田接合部のみに塗布したが、基板全面
に塗布しても、リフロー処理に対して同様の効果を得る
ことができる。ただし、終端抵抗106からの発熱対策
を施すことは必要であり、その部分に対する断熱材11
0の塗布は控えるようにする。また、磁石122を省く
とともに、カバー及びシールドケースに磁気ヨークとし
ての機能を持たせる構造としてもよい。
【0023】次に、図1(B)を参照しながら第2の例
について説明する。この実施例は磁石の周囲に断熱対策
を施すようにしたものである。容量基板100は前記例
と同様の構成となっており、中心導体104の電極や端
子部分は、通常の軟化温度230℃の半田によって固定
されている。
【0024】ところで、本実施例では、このような容量
基板100の上面,すなわち半田接合部面全体に、片面
(磁石側)が粘着剤の付いた断熱ポリイミドフィルムを
断熱絶縁シート200として載せている。そして、この
断熱絶縁シート200を図5に示した磁石14に接着
し、更に、カバー10及びシールドケース12によって
アイソレータを組み立てた。磁石16側についても同様
である。
【0025】なお、断熱絶縁シート200は、終端抵抗
106からの発熱を考慮し、終端抵抗106の位置する
部分に切り欠き202を形成している。このようにする
ことで、終端抵抗106における熱の発散が阻害され
ず、良好に行われる。
【0026】このようにして、作製したアイソレータと
断熱対策を処置していないアイソレータに対し、それぞ
れ260℃,30secの半田リフロー処理を行った。そ
の結果、本実施例にて作製したアイソレータは、特性,
形状ともにリフロー前後で変化は認められなかった。し
かし、断熱対策なしのアイソレータでは、端子の脱落が
生じ、特性評価に至らなかった。
【0027】<実施例2>次に、図2を参照しながら実
施例2について説明する。まず、同図(A)の実施例か
ら説明する。この実施例では、磁石300,302とし
て、フェライト系磁石の代わりに、サマリウム・コバル
ト磁石の2−17系(以下、「SmCo・2-17系」と表示
する)磁石を用いている。この磁石は、熱に対して比較
的安定で、しかもフェライト系磁石より最大残留磁束密
度及び保磁力がともに非常に高いという利点がある。
【0028】なお、SmCo・2-17系磁石は導電性のた
め、容量基板18と磁石300,302との間にそれぞ
れ断熱絶縁シート304を挟んでいる。なお、このシー
トには、上述したようにリフロー工程で高温となること
から、絶縁性のみならず断熱性も要求される。断熱絶縁
シート304としては、例えば、ポリイミド,シリコー
ンなどの材料が用いられる。また、終端抵抗24に対応
する部分に、切り欠き305が設けられている。
【0029】そして、図2(A)に示す磁石2枚の構成
の素子について、磁石300,302を薄くし、非可逆
回路素子としての特性を調べた。磁石を2枚用いると直
流磁界は得易いが、薄くするに従って磁場は弱くなる。
しかし、断熱絶縁シート304を挟んで容量基板18と
磁石300,302との距離がほぼ「0」となるように
すれば、磁石300,302の厚みを0.3mm程度まで
薄型化しても、非可逆回路素子としての特性が得られ
た。
【0030】他方、フェライト磁石の一例としてSr異
方性磁石を用いて同様の構成の素子を作成し、同様の実
験を行った結果、容量基板と磁石との距離をほぼ「0」
とした場合でも、厚み0.5mm程度が非可逆回路素子の
特性を出す限界であった。
【0031】なお、本実施例の場合において、磁石30
0,302の厚みを0.3mm程度より薄型化した場合、
所望の磁場は得られるものの反磁界の影響が大となり、
リフロー半田付け工程を通すと、特性に乱れが生じ始め
る。
【0032】図2(B)は、非可逆回路素子全体を覆う
金属ケース10,12に磁気ヨークとしての機能を持た
せ、磁石を2枚から1枚として薄型化したタイプの実施
例である。このタイプのものについて、同様に、磁石3
00としてSmCo・2-17系磁石を用いた場合と、Sr異方
性磁石を用いた場合とを比較した。その結果、Sr異方
性磁石を用いた場合、厚み0.7mm程度が非可逆回路素
子としての特性を出す限界であった。しかし、本実施例
のSmCo・2-17系磁石を用いた場合は、厚みが0.4mm
程度まで薄型化が可能であった。
【0033】なお、前記実施例では断熱絶縁シートを用
いたが、その代わりに、SmCo・2-17系磁石とその下に
配置される容量基板との間に空間を設け、これによって
磁力線を制御するにようにしてもよい。また、断熱絶縁
シートの変りに、断熱絶縁用の樹脂や接着剤を容量基板
18上に塗布するようにしてもよい。かかる樹脂や接着
剤としては、例えばエポキシ系,紫外線硬化型,シリコ
ーン系などが用いられる。
【0034】このように、実施例2によれば、フェライ
ト系磁石の代わりにSmCo・2-17系磁石を用いることと
したので、極めて薄いもので所望の特性を得ることがで
き、非可逆回路素子をより薄型化することが可能とな
る。また、断熱絶縁材料を用いることで、熱的安定性に
ついても、満足し得る結果が得られる。
【0035】すなわち、SmCo・2-17系磁石は、熱に対
して比較的安定であり、しかもフェライト系磁石より最
大残留磁束密度及び保磁力がともに非常に高いという特
長がある。このため、所望の直流磁界を従来のフェライ
ト系磁石よりも小さな形状で得ることができる。また、
磁壁のピンニング効果,すなわち磁壁の移動を、磁性体
内の欠陥,内部応力,異相で抑えて磁化反転を抑制する
効果が働き、これによる磁化反転の抑制によって、磁化
の反転や不可逆減磁の発生といった磁性体の劣化が良好
に抑えられる。
【0036】更に、SmCo・2-17系磁石の熱的安定性に
ついては、フェライト系磁石よりも勝るということでは
ないが、ほぼそれに準じ、実用的に全く問題はない。つ
まり、熱的な問題を生ずることなく、薄型化を図っても
十分な強度の直流磁界を得ることができる。これに断熱
材を用いるようにすれば、もちろん十分な熱的安定性が
得られる。
【0037】<実施例3>次に、図3を参照しながら実
施例3について説明する。まず、同図(A)の磁石を2
枚用いるタイプの実施例から説明する。この実施例で
も、磁石400,402はSmCo・2-17系磁石によって
形成されている。また、前記実施例の断熱絶縁シートの
代りに、磁石への半田リフロー時の熱伝導を防止し、し
かも磁石とフェライト上の中心導体との接触を防止する
ため、磁石400,402の全体(あるいは少なくとも
容量基板側)を断熱絶縁用の樹脂あるいは接着剤404
で被覆した構成となっている。断熱絶縁用樹脂404と
しては、熱硬化性の樹脂,例えばナイロン系や液晶ポリ
マ系などの樹脂,あるいはエポキシ系,紫外線硬化型,
シリコーン系が用いられる。その他の部分は、背景技術
と同様である。
【0038】このようにして得たアイソレータにつき、
実施例2と同様に非可逆回路素子としての性能を維持で
きる薄型化の程度を検討したところ、磁石400,40
2の厚みを0.2mmまで薄型化できた。
【0039】同図(B)には、磁石を1枚用いるタイプ
の実施例が示されている。このタイプの場合には、厚み
0.3mm程度まで磁石400の薄型化が可能となった。
【0040】<実施例4>次に、図4を参照しながら実
施例4について説明する。この実施例は、前記実施例2
及び実施例3を組み合わせた実施例である。同図(A)
は磁石を2枚用いるタイプであり、同図(B)は磁石を
1枚用いるタイプである。
【0041】いずれにおいても、磁石500,502
は、その全体(少なくとも容量基板側)に断熱絶縁用の
樹脂又は接着剤504が塗布されており、容量基板18
と磁石500,502との間には断熱絶縁シート506
を介装した構成となっている。また、終端抵抗24に対
応する部分に、切り欠き507が設けられている。な
お、逆に、磁石500,502の金属ケース側(もしく
は全体)を断熱絶縁シートで覆い、容量基板18の表面
に断熱絶縁樹脂を塗布するようにしてもよい。このよう
な構成としても、前記実施例と同様の効果を得ることが
できる。
【0042】<他の実施例>この発明は、以上の開示に
基づいて多様に改変することが可能であり、例えば次の
ようなものがある。 (1)前記実施例は、本発明をアイソレータに適用した
ものであるが、他の非可逆回路素子にも同様に適用可能
である。また、直流磁界印加用の磁石が1枚のタイプと
するか2枚のタイプとするかも、必要に応じて選択して
よい。
【0043】(2)各部の形状や寸法,特に容量基板の
構造も、何ら前記実施例に限定されるものではない。断
熱絶縁用のシートや樹脂,接着剤についても同様であ
り、各種のものを用いてよい。 (3)更に、前記実施例に示した半田リフロー条件など
も任意であり、適宜設定してよい。
【0044】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、次のような効果がある。 (1)半田付け部分や磁石周囲に断熱材を施して半田リ
フロー処理することとしたので、熱的安定性を確保しつ
つ材料の制限が回避されるとともに、温度上昇に伴う減
磁が防止される。
【0045】(2)直流磁界用の磁石としてSmCo・2-17
系磁石を用いることとしたので、良好に非可逆回路素子
の小型化・薄型化を図ることができる。
【0046】(3)直流磁界用の磁石としてSmCo・2-17
系磁石を用いるとともに、断熱材を用いることとしたの
で、熱的安定性を確保し、十分な磁界を得つつ、非可逆
回路素子の小型化・薄型化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1の構成を示す分解斜視図である。
【図2】実施例2の構成を示す分解斜視図である。
【図3】実施例3の構成を示す分解斜視図である。
【図4】実施例4の構成を示す分解斜視図である。
【図5】非可逆回路素子の一般的な構成を示す分解斜視
図である。
【符号の説明】
10…カバー 12…シールドケース 18,100…容量基板 24,106…終端抵抗 102…フェライト 104…中心導体 108…端子 110…断熱材 120,122,300,302,400,402,5
00,502…磁石 200,304,506…断熱絶縁シート 202,305,507…切り欠き 404,504…断熱絶縁樹脂

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中心導体及び回路を構成する磁性体を含
    み、外部接続用の端子を備えた容量基板;前記磁性体に
    直流磁界を印加するための少なくとも一つの磁石;を備
    え、 前記容量基板の半田付け部分及び磁石に施された断熱
    材;を備えた非可逆回路素子。
  2. 【請求項2】 中心導体及び回路を構成する磁性体を含
    み、外部接続用の端子を備えた容量基板;前記磁性体に
    直流磁界を印加するための少なくとも一つの磁石;を備
    え、 前記磁石として、SmCo・2-17系磁石を用いた非可逆回
    路素子。
  3. 【請求項3】 前記磁石と容量基板との間に断熱絶縁材
    を施した請求項2記載の非可逆回路素子。
JP3450195A 1995-01-31 1995-01-31 非可逆回路素子 Withdrawn JPH08213808A (ja)

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