JPH08181193A - ウエハシートおよびそれを用いた半導体製造装置 - Google Patents

ウエハシートおよびそれを用いた半導体製造装置

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JPH08181193A
JPH08181193A JP31895694A JP31895694A JPH08181193A JP H08181193 A JPH08181193 A JP H08181193A JP 31895694 A JP31895694 A JP 31895694A JP 31895694 A JP31895694 A JP 31895694A JP H08181193 A JPH08181193 A JP H08181193A
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JP
Japan
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pellet
wafer sheet
pellets
semiconductor manufacturing
picking
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JP31895694A
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Masaru Shimizu
勝 清水
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Hitachi Ltd
Renesas Eastern Japan Semiconductor Inc
Original Assignee
Hitachi Tokyo Electronics Co Ltd
Hitachi Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 ウエハシートのペレット裏面への転写による
異物付着を確実に防止する。 【構成】 ダイシングされたペレット2を保持するウエ
ハシート3は、個々のペレット2の中央部に円状のピッ
クアップ孔3aが設けられ、ペレット2をピックアップ
する突き上げ針5aによりペレット2の裏面から突き上
げてウエハシート3から剥離させる。ウエハシート3に
おいて、突き上げ針5aが接触する位置にはピックアッ
プ孔3aが設けられ、突き上げ針5aがペレット2の裏
面と直接接触するのでペレット2の裏面に破損したウエ
ハシートが付着することを防止できる。また、突き上げ
針5aはペレット2の傷を防止するために先端部に丸み
または平坦の形状となっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ウエハシートおよびそ
れを用いた半導体製造装置に関し、特に、ダイシングさ
れたペレットにおけるピックアップに適用して有効な技
術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】本発明者が検討したところによれば、半
導体ウエハおよびダイシングされたペレットを保持する
ウエハシートは、UVテープや弱粘着テープなどの粘着
性樹脂テープからなっており、このウエハシートを半導
体ウエハの裏面における全面および半導体ウエハを保持
する枠であるウエハリングに貼り付けてダイシングを行
っている。
【0003】また、ダイシングされたペレットをピック
アップする半導体製造装置においては、ウエハシートが
貼り付けられた半導体ウエハにおける目標のペレットの
裏面を下側から突き上げ針によって押し上げて、当該ペ
レットをピックアップするダイレクトピックアップ方式
が一般的である。
【0004】なお、ダイシングされたペレットのピック
アップについて記載されている例としては、株式会社サ
イエンスフォーラム、昭和59年7月25日発行「最新
半導体工場自動化システム 総合技術集成」中村正克・
藍光郎(編)、P136,P137があり、この文献に
は、半導体ウエハからペレットを分離し、ペレット付け
可能な状態にするペレッタイズ工程の自動化についてが
記載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記のよう
なウエハシートおよび半導体製造装置では、次のような
問題点があることが本発明者により見い出された。
【0006】すなわち、ペレットの裏面全面にウエハシ
ートが貼り付けられていることおよびペレットをピック
アップする突き上げ針の先端部が尖っていることによ
り、ペレットのピックアップ時において、ウエハシート
が破損してしまいペレットの裏面にその破損したウエハ
シートが付着することによって異物付着の原因となり、
ペレット付け不良となってしまう恐れがある。
【0007】本発明の目的は、ウエハシートのペレット
裏面への転写による異物付着を確実に防止することので
きるウエハシートおよびそれを用いた半導体製造装置を
提供することにある。
【0008】本発明の前記ならびにその他の目的と新規
な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかに
なるであろう。
【0009】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0010】すなわち、本発明のウエハシートは、個々
のペレットが位置する中心部にペレットを直接ピックア
ップするピックアップ孔を設けたものである。
【0011】また、本発明の半導体製造装置は、個々の
ペレットが位置する中心部にペレットを直接ピックアッ
プするピックアップ孔が設けられたウエハシートを用
い、ペレットにおけるピックアップ用の突き上げ針の先
端部が、平坦または丸みを帯びた形状よりなり、ウエハ
シートのピックアップ孔を通過させて突き上げ針の先端
部を直接ペレットに接触させてピックアップするもので
ある。
【0012】さらに、本発明の半導体製造装置は、個々
のペレットが位置する中心部にペレットを直接ピックア
ップするピックアップ孔が設けられたウエハシートを用
い、ペレットをピックアップするピックアップ機構部
が、ペレットに接触することなくペレットをピックアッ
プする無接触ピックアップ機構よりなるものである。
【0013】また、本発明の半導体製造装置は、前記無
接触ピックアップ機構が、先端部から高圧の気体を噴射
する噴射ノズルと、噴射ノズルから噴射させる高圧の気
体を出力する気体圧縮手段とよりなり、気体圧縮手段に
より出力された高圧の気体を噴射ノズルからピックアッ
プ孔を通過させて目標のペレットに直接噴射することに
よりピックアップを行うものである。
【0014】さらに、本発明の半導体製造装置は、噴射
ノズルの先端部から噴射される高圧の気体が、空気また
は不活性ガスよりなるものでる。
【0015】また、本発明の半導体製造装置は、無接触
ピックアップ機構が、ピックアップを行う目標のペレッ
ト周辺に貼り付けられたウエハシートだけを負圧によっ
て吸着する吸着ノズルと、吸着ノズルに負圧を印加する
負圧印加手段とよりなり、負圧印加手段により負圧が印
加された吸着ノズルによって、目標のペレット周辺に貼
り付けられたウエハシートだけを吸着固定させてペレッ
トのピックアップを行うものである。
【0016】
【作用】上記した本発明のウエハシートによれば、個々
のペレットが位置する中心部にペレットを直接ピックア
ップするピックアップ孔を設けたことにより、ペレット
のピックアップ時において、突き上げ針によるウエハシ
ートの破損がなくなり、ペレットの裏面への破損したウ
エハシートの付着を防止することができる。
【0017】また、上記した本発明の半導体製造装置に
よれば、個々のペレットが位置する中心部にペレットを
直接ピックアップするピックアップ孔が設けられたウエ
ハシートを用い、ペレットにおけるピックアップ用の突
き上げ針の先端部を平坦または丸みを帯びた形状とする
ことにより、ピックアップによるペレットの傷付きを防
止することができる。
【0018】さらに、上記した本発明の半導体製造装置
によれば、個々のペレットが位置する中心部に前記ペレ
ットを直接ピックアップするピックアップ孔が設けられ
たウエハシートを用い、ペレットをピックアップするピ
ックアップ機構部がペレットに接触することなくペレッ
トをピックアップする無接触ピックアップ機構よりなる
ことにより、ピックアップによるペレットの傷付きを確
実に防止することができる。
【0019】また、上記した本発明の半導体製造装置に
よれば、気体圧縮手段から出力された高圧の気体を噴射
ノズルの先端部から噴射させて、ピックアップ孔を通過
させピックアップする目標のペレットそれ自体に直接噴
射することにより、ペレットに無接触で目標のペレット
だけをピックアップすることができる。
【0020】さらに、上記した本発明の半導体製造装置
によれば、噴射ノズルの先端部から噴射される高圧の気
体を空気または不活性ガスとすることによって、ペレッ
トそれ自体に直接噴射して無接触で目標のペレットのピ
ックアップを行いながら同時にペレットの裏面をクリー
ニングすることができる。
【0021】また、上記した本発明の半導体製造装置に
よれば、ピックアップする目標の前記ペレット周辺に貼
り付けられたウエハシートだけを吸着する形状の吸着ノ
ズルに負圧印加手段が負圧を印加することにより、目標
のペレット周辺に貼り付けられているウエハシートだけ
を吸着固定できるので、ペレットを吸着して所定の位置
に移動させる移送ノズルによって目標のペレットを移動
させるだけでウエハシートから目標のペレットを無接触
で剥離させることができるので、確実にピックアップに
よるペレットの傷付きを防止することができる。
【0022】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。
【0023】(実施例1)図1は、本発明の実施例1に
よるリングフレームおよび半導体ウエハが貼り付けられ
たウエハシートの平面図、図2,図3は、本発明の実施
例1によるペレット分類装置におけるピックアップ機構
部の説明図、図4は、本発明の実施例1によるピックア
ップ機構部の平面図、図5は、本発明の実施例1による
ピックアップ機構部における突き上げ針の拡大図であ
る。
【0024】本実施例1において、半導体ウエハ1およ
びダイシングされたペレット2を保持する粘着性樹脂テ
ープであるウエハシート3は、それぞれのペレット2が
位置する中央部に、たとえば、円状のピックアップ孔3
aが設けられている。
【0025】また、このウエハシート3は、半導体ウエ
ハ1を保持するための枠であるウエハフレーム4に貼り
付けられた後、半導体ウエハ1が貼り付けられ、ダイシ
ングが行われる。
【0026】さらに、ウエハフレーム4へのウエハシー
ト3の貼り付け時における位置あわせおよびウエハフレ
ーム4にウエハシート3が貼り付けられた後の半導体ウ
エハ1の貼り付けは自動機によって自動的に行われる。
【0027】そして、ダイシングされたペレット2は、
図2,図3に示すように、たとえば、ペレット2をピッ
クアップして所定の位置に移動させる半導体製造装置で
あるペレット分類装置のピックアップ機構部5により、
目標のペレット2をペレット2の裏面から突き上げるこ
とによってウエハシート3から剥離させ、ペレット2を
所定の位置に移動させる真空チャックが設けられた移送
ノズル6にチャックさせて所定の位置まで移動させる。
【0028】また、ピックアップ機構部5は、図4に示
すように、ウエハシート3からペレット2を剥離すると
きにペレット2の傾きを防止するために4本の突き上げ
針5aが四辺のコーナ部に位置するように設けられてい
る。
【0029】よって、ウエハシート3において、これら
4本の突き上げ針5aが接触する位置にはピックアップ
孔3aが設けられているので、突き上げ針5aがペレッ
ト2の裏面と直接接触することによってペレット2がピ
ックアップされることになる。
【0030】さらに、突き上げ針5aは、ペレット2の
傷を防止するために、図5(a)に示すように、先端部
に丸みが付いた形状または図5(b)に示すように、先
端部が平坦になった形状のいずれかとなっている。
【0031】また、突き上げ針5aの先端部が平坦の形
状となっている場合、この平坦の面積を大きくした1本
の突き上げ針5aをペレット2の中心部に位置するよう
にしてピックアップを行うことにより、4本の突き上げ
針5aを不要とすることもできる。
【0032】次に、本実施例の作用について説明する。
【0033】ウエハシート3によってウエハフレーム4
に貼り付けられた半導体ウエハ1は、ペレット分類機の
ホルダ(図示せず)にセットされ、目標のペレット2を
ウエハシート3の下部からピックアップ機構部5におけ
る突き上げ針5aによって突き上げてウエハシート3か
ら剥離させる。
【0034】また、この時、前述したようにウエハシー
ト3にはピックアップ孔3aが設けられ、このピックア
ップ孔3aによって4本の突き上げ針5aが直接ペレッ
ト2と接触することになる。
【0035】そして、ウエハシート3から剥離したペレ
ット2は、半導体ウエハ1の上側に位置している移送ノ
ズル6にチャックさせて所定の位置に移動される。
【0036】また、これらの突き上げ針5a、移送ノズ
ル6などのペレット分類機の動作は、図示しない制御部
により制御が司られている。
【0037】それにより、本実施例1によれば、ピック
アップ孔3aを設けたウエハシート3を用いて、目標の
ペレット2を先端部に平坦または丸みが付けられた形状
の突き上げ針5aにより、直接ペレット2に接触させて
ウエハシート3から剥離させることによって、ペレット
2の裏面にウエハシート3の異物付着や突き上げによる
ペレット2の傷付きを確実に防止することができる。
【0038】(実施例2)図6,図7は、本発明の実施
例2によるペレット分類装置におけるピックアップ機構
部の説明図である。
【0039】本実施例2においては、ピックアップ孔3
aを設けたウエハシート3から目標のペレット2を剥離
させるピックアップ機構部(無接触ピックアップ機構)
7が高圧の気体を用いる機構となっている。
【0040】このピックアップ機構部7は、空気または
不活性ガスなどの高圧の気体が先端部から噴射する噴射
ノズル8が設けられ、この噴射ノズル8は、後述する高
圧の気体を出力するコンプレッサなどの気体圧縮装置に
接続されている。
【0041】そして、噴射ノズル8の先端部から高圧の
気体が噴射され、この高圧の気体はウエハシート3にピ
ックアップ孔3aが設けられているので直接ペレット2
に当たり、目標のペレット2を剥離させる。
【0042】また、このペレット2に噴射する高圧の気
体を空気または窒素ガスやアルゴンガスなどの不活性ガ
スとすることによって、ペレット2のピックアップ時に
ペレット2を同時にクリーニングする効果を持つことに
なる。
【0043】次に、このピックアップ機構部7を用いた
ペレット2の剥離方法について説明する。
【0044】まず、図7に示すように、所定の位置にペ
レット2の移動を行う移送ノズル6によって目標のペレ
ット2を押さえつけるような状態で固定する。
【0045】そして、気体圧縮装置(気体圧縮手段)9
により噴射ノズル8の先端部から高圧の気体を噴射しな
がら移送ノズル6により該ペレット2をチャックして引
き上げることにより、目標のペレット2をウエハシート
3から剥離させ、移送ノズルにより所定の位置に移動さ
せる。
【0046】また、本実施例でも、これらのピックアッ
プ機構部7、気体圧縮装置9および移送ノズル6などの
ペレット分類機の動作は、図示しない制御部により制御
が司られている。
【0047】それにより、本実施例2でも、ウエハシー
ト3にピックアップ孔3aを設け、目標のペレット2に
噴射ノズル8の先端部から高圧の気体を噴射することに
より、ペレット2の裏面へのウエハシート3の異物付着
や突き上げによるペレット2の傷付きを確実に防止で
き、同時にペレット2のクリーニングも行うことができ
る。
【0048】(実施例3)図8,図9は、本発明の実施
例3によるペレット分類装置におけるピックアップ機構
部の説明図である。
【0049】本実施例3においては、ピックアップ孔3
aが設けられたウエハシート3から目標のペレット2を
ピックアップするピックアップ機構部(無接触ピックア
ップ機構)10が負圧を用いてウエハシート3を剥離す
る機構となっている。
【0050】このピックアップ機構部10は、先端部に
負圧が印加される吸着ノズル11が設けられ、この吸着
ノズル11は、後述する負圧を発生させる真空ポンプな
どの負圧印加手段に接続されている。
【0051】また、吸着ノズル11の先端部は、図9に
示すように、ペレット2の周辺部におけるウエハシート
3だけを吸着する吸着口として形成されており、ウエハ
シート3におけるピックアップ孔3aの部分、すなわ
ち、ペレット2それ自体の吸着は行われない。
【0052】次に、このピックアップ機構部10を用い
たペレット2の剥離方法について説明する。
【0053】まず、所定の位置にペレット2の移動を行
う移送ノズル6によって目標のペレット2を押さえつけ
るような状態で固定する。
【0054】そして、ピックアップ機構部10における
吸着ノズル11の先端部に負圧印加手段12により負圧
を印加して目標のペレット2の周辺部におけるウエハシ
ート3を吸着する。
【0055】次に、吸着ノズル11によって目標のペレ
ット2の周辺部におけるウエハシート3を吸着しながら
移送ノズル6により該ペレット2をチャックして引き上
げる。
【0056】よって、目標のペレットの周辺部における
ウエハシート3は吸着ノズルにより吸着固定され、目標
のペレット1は移送ノズル6により引き上げられるので
ペレット2はウエハシート3から剥離することになる。
その後、ウエハシート3から剥離したペレット2は移送
ノズル6により所定の位置に移動が行われる。
【0057】また、本実施例3においても、これらのピ
ックアップ機構部10、負圧印加手段12および移送ノ
ズル6などのペレット分類機の動作は、図示しない制御
部により制御が司られている。
【0058】それにより、本実施例3においては、ピッ
クアップ孔3aが設けられたウエハシート3における目
標のペレット2の周辺部を吸着ノズル11により固定し
てウエハシート3を剥離させるので、ペレット2の裏面
へのウエハシート3の異物付着や突き上げによるペレッ
ト2の傷付きを確実に防止できる。
【0059】以上、本発明者によってなされた発明を実
施例に基づき具体的に説明したが、本発明は前記実施例
に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲
で種々変更可能であることはいうまでもない。
【0060】たとえば、ペレット2のピックアップ時に
おいて、ウエハシート3におけるピックアップ孔3aの
位置確認を図示しないCCDカメラなどによって自動的
に行うことにより、より高精度に目標のペレット2のピ
ックアップを行うことができる。
【0061】
【発明の効果】本願によって開示される発明のうち、代
表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0062】(1)本発明によれば、ピックアップ孔を
設けたウエハシートにより、ピックアップ時におけるウ
エハシートの付着を確実に防止できる。
【0063】(2)また、本発明では、ペレットをピッ
クアップする半導体製造装置におけるピックアップ用の
突き上げ針の先端部を平坦または丸みを帯びた形状とす
ることによって、ピックアップ孔を設けたウエハシート
を用いてペレットを直接ピックアップしてもペレットへ
のウエハシートの付着およびペレットの傷付きなどを防
止できる。
【0064】(3)さらに、本発明においては、ペレッ
トをピックアップする半導体製造装置におけるピックア
ップ機構部を高圧の気体または負圧によりピックアップ
を行う無接触ピックアップ機構とすることにより、ピッ
クアップ孔を設けたウエハシートを用いても、確実にペ
レットへのウエハシートの付着およびペレットの傷付き
などを防止でき、高圧の気体によりペレットのクリーニ
ングも行うことができる。
【0065】(4)また、本発明によれば、上記
(1)、(2)によれば、ペレットへのウエハシートの
付着によるペレット付け不良がなくなり、半導体装置の
品質を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例1によるリングフレームおよび
半導体ウエハが貼り付けられたウエハシートの平面図で
ある。
【図2】本発明の実施例1によるペレット分類装置にお
けるピックアップ機構部の説明図である。
【図3】本発明の実施例1によるペレット分類装置にお
けるピックアップ機構部の説明図である。
【図4】本発明の実施例1によるピックアップ機構部の
平面図である。
【図5】本発明の実施例1によるピックアップ機構部に
おける突き上げ針の拡大図である。
【図6】本発明の実施例2によるペレット分類装置にお
けるピックアップ機構部の説明図である。
【図7】本発明の実施例2によるペレット分類装置にお
けるピックアップ機構部の説明図である。
【図8】本発明の実施例3によるペレット分類装置にお
けるピックアップ機構部の説明図である。
【図9】本発明の実施例3によるペレット分類装置にお
けるピックアップ機構部の説明図である。
【符号の説明】
1 半導体ウエハ 2 ペレット 3 ウエハシート 3a ピックアップ孔 4 ウエハフレーム 5 ピックアップ機構部 5a 突き上げ針 6 移送ノズル 7 ピックアップ機構部(無接触ピックアップ機構) 8 噴射ノズル 9 気体圧縮装置(気体圧縮手段) 10 ピックアップ機構部(無接触ピックアップ機構) 11 吸着ノズル 12 負圧印加手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/78 N

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体ウエハおよびダイシングされたペ
    レットを保持するウエハシートであって、個々の前記ペ
    レットが位置する中心部に前記ペレットを直接ピックア
    ップするピックアップ孔を設けたことを特徴とするウエ
    ハシート。
  2. 【請求項2】 ダイシングされた個々のペレットをピッ
    クアップする半導体製造装置であって、個々の前記ペレ
    ットが位置する中心部に前記ペレットを直接ピックアッ
    プするピックアップ孔が設けられたウエハシートを用
    い、前記ペレットをピックアップする突き上げ針の先端
    部が、平坦または丸みを帯びた形状よりなり、前記ウエ
    ハシートのピックアップ孔を通過させて前記突き上げ針
    の先端部によりピックアップを行う目標の前記ペレット
    を直接ピックアップすることを特徴とする半導体製造装
    置。
  3. 【請求項3】 ダイシングされた半導体ウエハにおける
    個々のペレットをピックアップする半導体製造装置であ
    って、個々の前記ペレットが位置する中心部に前記ペレ
    ットを直接ピックアップするピックアップ孔が設けられ
    たウエハシートを用い、前記ペレットをピックアップす
    るピックアップ機構部が、ペレットに接触することなく
    ペレットをピックアップする無接触ピックアップ機構よ
    りなることを特徴とする半導体製造装置。
  4. 【請求項4】 請求項3記載の半導体製造装置におい
    て、前記無接触ピックアップ機構が、先端部から高圧の
    気体を噴射する噴射ノズルと、前記噴射ノズルから噴射
    させる高圧の気体を出力する気体圧縮手段とよりなり、
    前記気体圧縮手段により出力された高圧の気体を前記噴
    射ノズルから前記ピックアップ孔を通過させて、ピック
    アップする目標の前記ペレットそれ自体に直接噴射する
    ことによりピックアップすることを特徴とする半導体製
    造装置。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の半導体製造装置におい
    て、前記噴射ノズルの先端部から噴射される高圧の気体
    が、空気または不活性ガスであることを特徴とする半導
    体製造装置。
  6. 【請求項6】 請求項3記載の半導体製造装置におい
    て、前記無接触ピックアップ機構が、ピックアップする
    目標の前記ペレット周辺に貼り付けられた前記ウエハシ
    ートだけを負圧によって吸着する吸着ノズルと、前記吸
    着ノズルに負圧を印加する負圧印加手段とよりなり、前
    記負圧印加手段により負圧が印加された前記吸着ノズル
    によって目標の前記ペレット周辺に貼り付けられている
    前記ウエハシートだけを吸着固定させることにより前記
    ペレットをピックアップすることを特徴とする半導体製
    造装置。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003060014A (ja) * 2001-08-17 2003-02-28 Disco Abrasive Syst Ltd 板状被加工物のための保持具
JP2016139652A (ja) * 2015-01-26 2016-08-04 旭化成株式会社 窒化物半導体発光素子の製造方法及び窒化物半導体発光素子

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003060014A (ja) * 2001-08-17 2003-02-28 Disco Abrasive Syst Ltd 板状被加工物のための保持具
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