JPH08175959A - 皮膚化粧料 - Google Patents
皮膚化粧料Info
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- JPH08175959A JPH08175959A JP32534094A JP32534094A JPH08175959A JP H08175959 A JPH08175959 A JP H08175959A JP 32534094 A JP32534094 A JP 32534094A JP 32534094 A JP32534094 A JP 32534094A JP H08175959 A JPH08175959 A JP H08175959A
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- skin
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 次の一般式（１）
【化１】
〔式中、Ｒ1 は水素原子又はｔ−ブチル基を示し、Ｒ2
は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル若しくはアシル
基を示す〕で表わされる安息香酸アニリド類又はその塩
を含有する皮膚化粧料。 【効果】 皮膚のシワ形成及び色素沈着を抑制する。
は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル若しくはアシル
基を示す〕で表わされる安息香酸アニリド類又はその塩
を含有する皮膚化粧料。 【効果】 皮膚のシワ形成及び色素沈着を抑制する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は皮膚化粧料に関し、詳細
には皮膚のシワ形成及び色素沈着を抑制し、皮膚の老化
を防止する化粧料に関する。
には皮膚のシワ形成及び色素沈着を抑制し、皮膚の老化
を防止する化粧料に関する。
【０００２】
【従来の技術】健康で美しい肌を保つことは、老若男女
を問わず重大な関心事となっている。
を問わず重大な関心事となっている。
【０００３】ところが、肌は加齢、紫外線、温・湿度、
疾病、ストレス、食習慣等により影響を受け、老化、諸
機能の低下、その他種々のトラブルが発生する。皮膚の
老化の典型は「シワ」や「シミ（色素沈着）」の形成で
あり、これらは特に女性にとって美容上の大きな悩みの
一つとなっている。
疾病、ストレス、食習慣等により影響を受け、老化、諸
機能の低下、その他種々のトラブルが発生する。皮膚の
老化の典型は「シワ」や「シミ（色素沈着）」の形成で
あり、これらは特に女性にとって美容上の大きな悩みの
一つとなっている。
【０００４】これらのうち、真皮のトラブルの一つであ
るシワは、加齢や太陽光線による皮膚の老化（光老化）
により発生する。老化のメカニズムは明らかではない
が、皮膚の場合、生体の最外層に位置して、生体防御の
最前線の役割を担っていることから、環境因子による障
害の蓄積が皮膚加齢現象に大きく作用していると考えら
れる。とりわけ紫外線は皮膚加齢、シワ形成に関与する
最大の環境因子と考えられる。すなわち、紫外線により
産生されるフリーラジカル（特に活性酸素）は日焼けな
どの急性炎症のみでなく、慢性的に繰り返されることに
より光老化を誘発することが知られている。詳細には紫
外線により発生する各種フリーラジカルや活性酸素（ス
ーパーオキシド、ハイドロキシラジカル、一重項酸素
等）は真皮成分のＤＮＡ−蛋白クロスリンク（架橋結
合）、コラーゲンやエラスチンなどの蛋白クロスリンク
の障害、変性、ＳＯＤなどの抗酸化酵素の不活化、細胞
成分の膜脂質過酸化とこれによる細胞機能の劣化などを
惹起し、その結果として老化、シワが形成されると考え
られている（フレグランス ジャーナル，１１巻，４９
−５４，１９９２）。
るシワは、加齢や太陽光線による皮膚の老化（光老化）
により発生する。老化のメカニズムは明らかではない
が、皮膚の場合、生体の最外層に位置して、生体防御の
最前線の役割を担っていることから、環境因子による障
害の蓄積が皮膚加齢現象に大きく作用していると考えら
れる。とりわけ紫外線は皮膚加齢、シワ形成に関与する
最大の環境因子と考えられる。すなわち、紫外線により
産生されるフリーラジカル（特に活性酸素）は日焼けな
どの急性炎症のみでなく、慢性的に繰り返されることに
より光老化を誘発することが知られている。詳細には紫
外線により発生する各種フリーラジカルや活性酸素（ス
ーパーオキシド、ハイドロキシラジカル、一重項酸素
等）は真皮成分のＤＮＡ−蛋白クロスリンク（架橋結
合）、コラーゲンやエラスチンなどの蛋白クロスリンク
の障害、変性、ＳＯＤなどの抗酸化酵素の不活化、細胞
成分の膜脂質過酸化とこれによる細胞機能の劣化などを
惹起し、その結果として老化、シワが形成されると考え
られている（フレグランス ジャーナル，１１巻，４９
−５４，１９９２）。
【０００５】そこで、このようなシワの形成を予防する
ために、従来、ビタミンＥのような抗酸化剤の利用（特
開昭６１−２１５３０９号公報、特開昭６２−２６３１
１０号公報）、各種植物抽出物の利用（特開昭６２−６
１９２４号公報、特開昭６３−１７４９１１号公報、特
開平６−６５０４３号公報等）、コラーゲン等細胞外マ
トリクスの制御剤の利用（特開平４−７４０１６号公
報、特開平３−２０２０６号公報等）、レチノイン酸や
α−ヒドロキシ酸の利用などが提案されてきた。
ために、従来、ビタミンＥのような抗酸化剤の利用（特
開昭６１−２１５３０９号公報、特開昭６２−２６３１
１０号公報）、各種植物抽出物の利用（特開昭６２−６
１９２４号公報、特開昭６３−１７４９１１号公報、特
開平６−６５０４３号公報等）、コラーゲン等細胞外マ
トリクスの制御剤の利用（特開平４−７４０１６号公
報、特開平３−２０２０６号公報等）、レチノイン酸や
α−ヒドロキシ酸の利用などが提案されてきた。
【０００６】しかしながら、このような従来の手段のシ
ワ予防改善効果は十分でなかった。
ワ予防改善効果は十分でなかった。
【０００７】一方、シミのような色素沈着は、表皮内で
メラノサイトにより合成されるメラニン色素が増加する
ことにより発生し、その発症機序については紫外線、女
性ホルモン、遺伝的要因などの関与が指摘されている
が、未だ十分解明されていない。そのため、これまでは
メラニンの生成抑制や既成メラニンの還元などを目的と
した薬剤が美白剤として研究されてきており、これまで
にアルブチンやコウジ酸、ビタミンＣ、カンゾウエキス
（特開昭６３−２３８０９号公報、特開平１−１４９７
０６号公報）、カッコン（特開昭６４−１６７０９号公
報）、ヒドロキシスチルベン（特開昭６４−３８００９
号公報）、３−ヒドロキシクロモン（特開昭５５−１１
１４１０号公報、特開昭５５−１４３９０８号公報）、
イソフラボン（特開昭５８−２２５００４号公報）など
が開発されている。しかし、実際の化粧品への配合性に
優れ、かつ美白効果の高い物質はほとんど無いのが実情
である。
メラノサイトにより合成されるメラニン色素が増加する
ことにより発生し、その発症機序については紫外線、女
性ホルモン、遺伝的要因などの関与が指摘されている
が、未だ十分解明されていない。そのため、これまでは
メラニンの生成抑制や既成メラニンの還元などを目的と
した薬剤が美白剤として研究されてきており、これまで
にアルブチンやコウジ酸、ビタミンＣ、カンゾウエキス
（特開昭６３−２３８０９号公報、特開平１−１４９７
０６号公報）、カッコン（特開昭６４−１６７０９号公
報）、ヒドロキシスチルベン（特開昭６４−３８００９
号公報）、３−ヒドロキシクロモン（特開昭５５−１１
１４１０号公報、特開昭５５−１４３９０８号公報）、
イソフラボン（特開昭５８−２２５００４号公報）など
が開発されている。しかし、実際の化粧品への配合性に
優れ、かつ美白効果の高い物質はほとんど無いのが実情
である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】従って本発明の目的
は、皮膚の老化すなわちシワ及び色素沈着の形成予防及
び改善に有効な皮膚化粧料を提供することにある。
は、皮膚の老化すなわちシワ及び色素沈着の形成予防及
び改善に有効な皮膚化粧料を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】斯かる実情に鑑み本発明
者らは鋭意研究を行った結果、下記一般式（１）で表わ
される安息香酸アニリド類又はその塩を配合すれば、優
れたシワ及び色素沈着の形成予防及び改善作用を有する
皮膚化粧料が得られることを見出し本発明を完成した。
者らは鋭意研究を行った結果、下記一般式（１）で表わ
される安息香酸アニリド類又はその塩を配合すれば、優
れたシワ及び色素沈着の形成予防及び改善作用を有する
皮膚化粧料が得られることを見出し本発明を完成した。
【００１０】すなわち本発明は下記一般式（１）
【００１１】
【化２】
【００１２】〔式中、Ｒ1 は水素原子又はｔ−ブチル基
を示し、Ｒ2 は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル若
しくはアシル基を示す〕で表わされる安息香酸アニリド
類又はその塩を含有する皮膚化粧料を提供するものであ
る。
を示し、Ｒ2 は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル若
しくはアシル基を示す〕で表わされる安息香酸アニリド
類又はその塩を含有する皮膚化粧料を提供するものであ
る。
【００１３】本発明で用いる安息香酸アニリド類は、前
記一般式（１）で表わされるものであるが、この式中、
Ｒ2 の具体例としては、水素原子；メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、イソペンチル基等のアルキル基；ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、イ
ソブチリル基、ｎ−バレリル基、イソバレリル基、ピバ
リル基等のアシル基が挙げられるが、このうち水素原子
が特に好ましい。
記一般式（１）で表わされるものであるが、この式中、
Ｒ2 の具体例としては、水素原子；メチル基、エチル
基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、
イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−
ペンチル基、イソペンチル基等のアルキル基；ホルミル
基、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブチリル基、イ
ソブチリル基、ｎ−バレリル基、イソバレリル基、ピバ
リル基等のアシル基が挙げられるが、このうち水素原子
が特に好ましい。
【００１４】上記一般式（１）で表わされる安息香酸ア
ニリド類の中でも具体的には特に４−ヒドロキシ−Ｎ−
（２−ヒドロキシフェニル）安息香酸アミド（化合物
１）、４−ヒドロキシ−Ｎ−（３−ヒドロキシフェニ
ル）ベンズアミド（化合物２）、４−ヒドロキシ−Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物
３）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物
４）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−
（３−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物
５）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−
（２−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物６）
等が好ましいが、何らこれらに限定されるものではな
い。
ニリド類の中でも具体的には特に４−ヒドロキシ−Ｎ−
（２−ヒドロキシフェニル）安息香酸アミド（化合物
１）、４−ヒドロキシ−Ｎ−（３−ヒドロキシフェニ
ル）ベンズアミド（化合物２）、４−ヒドロキシ−Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物
３）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物
４）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−
（３−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物
５）、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ−
（２−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（化合物６）
等が好ましいが、何らこれらに限定されるものではな
い。
【００１５】安息香酸アニリド類（１）の一部は公知の
化合物であり公知の方法により製造することができる
〔文献：特開平６−７２８６６号及び特願平６−１２６
２７８号〕。しかしながら、当該化合物が皮膚老化防止
作用を持つことについては知られていない。
化合物であり公知の方法により製造することができる
〔文献：特開平６−７２８６６号及び特願平６−１２６
２７８号〕。しかしながら、当該化合物が皮膚老化防止
作用を持つことについては知られていない。
【００１６】安息香酸アニリド類は、製造手段により、
又は使用目的により、水和物、溶媒和物、塩の形態で安
定させる場合もあるが、本発明においてはこれらのいず
れも使用することができる。塩としてはナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アミ
ン塩等が挙げられる。
又は使用目的により、水和物、溶媒和物、塩の形態で安
定させる場合もあるが、本発明においてはこれらのいず
れも使用することができる。塩としてはナトリウム、カ
リウム等のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アミ
ン塩等が挙げられる。
【００１７】本発明の皮膚化粧料における上記安息香酸
アニリド類又はその塩の配合量は一般的に０．００１〜
２０重量％程度とすることが好ましく、０．０５〜５重
量％とすることがより好ましい。
アニリド類又はその塩の配合量は一般的に０．００１〜
２０重量％程度とすることが好ましく、０．０５〜５重
量％とすることがより好ましい。
【００１８】本発明の皮膚化粧料は上記必須成分の他、
アラントイン、ビタミンＥ誘導体、グリチルリチン、ア
スコルビン酸誘導体等公知の抗炎症剤、抗酸化剤などを
添加することによりシワやシミの形成抑制効果の向上を
はかることができる。
アラントイン、ビタミンＥ誘導体、グリチルリチン、ア
スコルビン酸誘導体等公知の抗炎症剤、抗酸化剤などを
添加することによりシワやシミの形成抑制効果の向上を
はかることができる。
【００１９】更に、本発明の皮膚化粧料には、必要に応
じて通常の化粧料に配合される成分、例えばヒアルロン
酸やセラミドなどの保湿剤、紫外線吸収剤、アルコール
類、キレート剤、ワセリン、ラノリン、セレシン、マイ
クロクリスタリンワックス、カルナウバロウ、キャンデ
リラロウ、高級脂肪酸、高級アルコール等の固形・半固
形油分；水溶性及び油溶性ポリマー；無機及び有機顔
料、シリコーン又はフッ素化合物で処理された無機及び
有機顔料、有機染料等の色剤；アニオン性活性剤、カチ
オン性活性剤、非イオン性活性剤、ジメチルポリシロキ
サン・ポリオキシアルキレン共重合体、ポリエーテル変
性シリコーン等の界面活性剤；その他水、防腐剤、酸化
防止剤、色素、増粘剤、pH調整剤、香料、血行促進剤、
冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤などを、本発明の
効果を損なわない範囲で、適宜配合することができる。
じて通常の化粧料に配合される成分、例えばヒアルロン
酸やセラミドなどの保湿剤、紫外線吸収剤、アルコール
類、キレート剤、ワセリン、ラノリン、セレシン、マイ
クロクリスタリンワックス、カルナウバロウ、キャンデ
リラロウ、高級脂肪酸、高級アルコール等の固形・半固
形油分；水溶性及び油溶性ポリマー；無機及び有機顔
料、シリコーン又はフッ素化合物で処理された無機及び
有機顔料、有機染料等の色剤；アニオン性活性剤、カチ
オン性活性剤、非イオン性活性剤、ジメチルポリシロキ
サン・ポリオキシアルキレン共重合体、ポリエーテル変
性シリコーン等の界面活性剤；その他水、防腐剤、酸化
防止剤、色素、増粘剤、pH調整剤、香料、血行促進剤、
冷感剤、制汗剤、殺菌剤、皮膚賦活剤などを、本発明の
効果を損なわない範囲で、適宜配合することができる。
【００２０】本発明の化粧料は種々の用途及び形態、例
えば油／水型、水／油型の乳化化粧料、クリーム、化粧
乳液、化粧水、油性化粧料、パック剤、ファンデーショ
ン等として用いることができる。また本発明の化粧料
は、常法により製造することができる。本発明の皮膚化
粧料は一般皮膚化粧料に限定されるものではなく、医薬
部外品、薬用化粧料等を包含するものである。
えば油／水型、水／油型の乳化化粧料、クリーム、化粧
乳液、化粧水、油性化粧料、パック剤、ファンデーショ
ン等として用いることができる。また本発明の化粧料
は、常法により製造することができる。本発明の皮膚化
粧料は一般皮膚化粧料に限定されるものではなく、医薬
部外品、薬用化粧料等を包含するものである。
【００２１】
【発明の効果】本発明の皮膚化粧料は、皮膚の老化予防
・改善効果、すなわちシワ、色素沈着（シミ等）の形成
を予防し、改善する効果に優れるものである。特に本発
明化粧料は紫外線照射により生じるシワの形成、色素沈
着を有効に抑制する。
・改善効果、すなわちシワ、色素沈着（シミ等）の形成
を予防し、改善する効果に優れるものである。特に本発
明化粧料は紫外線照射により生じるシワの形成、色素沈
着を有効に抑制する。
【００２２】
【実施例】次に実施例を挙げて本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
が、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【００２３】合成例１ ｏ−アミノフェノール（１０．９９ｇ，１００．０mmo
l) をピリジン−クロロホルム（５：１）混合溶媒（１
８０ml）中に溶解し、−２０℃で撹拌しp-アセトキシ安
息香酸クロリド（１０．０ｇ，５０．０mmol)をクロロ
ホルム（２００ml）中に溶解したものを、３．５時間か
けてゆっくり滴下した。滴下終了よりさらに１時間撹拌
し、反応を終了した。反応溶液を室温で濃縮し、その残
留物にエタノール（１００ml）を加え、溶解した後、メ
チルアミン ４０％メタノール溶液（１０．０ｇ，１４
０．０mmol) を滴下し、５０℃で一時間撹拌した。反応
溶液を再び減圧濃縮し、その残留物を酢酸エチルで抽出
した。有機層を12％塩酸、蒸留水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。濾過後、減圧濃縮したところ、褐色油状物
質が得られた。これをシルカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム−メタノール混合溶媒で溶出
し、減圧濃縮した後、残留物を酢酸エチル−ｎ−ヘキサ
ンで再結晶したところ、白色粉末結晶として、４−ヒド
ロキシ−ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）安息香酸アミ
ド（５．０２ｇ，４５％）（化合物１）が得られた。 mp.159.1-159.7℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 6.78-7.06(m,2H),6.88(d,2H,J=10Hz),7.04(d,1H,J=7H
z),7.71(d,1H,J=7Hz),7.87(d,2H,J=10Hz),9.37(s,1H),
9.76(s,1H),10.13(s,1H) IR:(KBr):cm-1 3616,3340,2956,1641,1515,1434,828
l) をピリジン−クロロホルム（５：１）混合溶媒（１
８０ml）中に溶解し、−２０℃で撹拌しp-アセトキシ安
息香酸クロリド（１０．０ｇ，５０．０mmol)をクロロ
ホルム（２００ml）中に溶解したものを、３．５時間か
けてゆっくり滴下した。滴下終了よりさらに１時間撹拌
し、反応を終了した。反応溶液を室温で濃縮し、その残
留物にエタノール（１００ml）を加え、溶解した後、メ
チルアミン ４０％メタノール溶液（１０．０ｇ，１４
０．０mmol) を滴下し、５０℃で一時間撹拌した。反応
溶液を再び減圧濃縮し、その残留物を酢酸エチルで抽出
した。有機層を12％塩酸、蒸留水、炭酸水素ナトリウム
水溶液、飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸ナトリウム
で乾燥した。濾過後、減圧濃縮したところ、褐色油状物
質が得られた。これをシルカゲルカラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム−メタノール混合溶媒で溶出
し、減圧濃縮した後、残留物を酢酸エチル−ｎ−ヘキサ
ンで再結晶したところ、白色粉末結晶として、４−ヒド
ロキシ−ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）安息香酸アミ
ド（５．０２ｇ，４５％）（化合物１）が得られた。 mp.159.1-159.7℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 6.78-7.06(m,2H),6.88(d,2H,J=10Hz),7.04(d,1H,J=7H
z),7.71(d,1H,J=7Hz),7.87(d,2H,J=10Hz),9.37(s,1H),
9.76(s,1H),10.13(s,1H) IR:(KBr):cm-1 3616,3340,2956,1641,1515,1434,828
【００２４】合成例２ 合成例１と同様にして４−ヒドロキシ−Ｎ−（３−ヒド
ロキシフェニル）ベンズアミド（化合物２）を得た（３
５％）。 mp.230-231℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 6.87(d,1H,J=8Hz),6.93(d,2H,J=8Hz),7.38(t,1H,J=8H
z),7.64(d,1H,J=8Hz),7.76(s,1H),7.86(d,1H,J=8Hz),8.
00(d,1H,J=8Hz),10.00(br.s,2H),10.13(s,1H)
ロキシフェニル）ベンズアミド（化合物２）を得た（３
５％）。 mp.230-231℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 6.87(d,1H,J=8Hz),6.93(d,2H,J=8Hz),7.38(t,1H,J=8H
z),7.64(d,1H,J=8Hz),7.76(s,1H),7.86(d,1H,J=8Hz),8.
00(d,1H,J=8Hz),10.00(br.s,2H),10.13(s,1H)
【００２５】合成例３ 合成例１と同様にして４−ビドロキシ−Ｎ−（４−ヒド
ロキシフェニル）ベンズアミド（化合物３）を得た（６
１％）。 mp.276.1℃( 自動融点測定) NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 6.71(d,2H,J=9Hz),6.82(d,2H,J=8Hz),7.43(d,2H,J=9H
z),7.81(d,2H,J=8Hz),9.17(s,1H),9.74(s,1H),10.00(s,
1H)
ロキシフェニル）ベンズアミド（化合物３）を得た（６
１％）。 mp.276.1℃( 自動融点測定) NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 6.71(d,2H,J=9Hz),6.82(d,2H,J=8Hz),7.43(d,2H,J=9H
z),7.81(d,2H,J=8Hz),9.17(s,1H),9.74(s,1H),10.00(s,
1H)
【００２６】合成例４ ３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸
（６．２６ｇ，２５．０mmol) 及び ｐ−アミノフェノ
ール（２．７３ｇ，２５．０mmol）を酢酸エチル−ジメ
チルホルムアミド（４：１）混合溶媒（６０ml）中に溶
解し、０℃で撹拌しながらＮ，Ｎ1−ジシクロヘキシカ
ルボジイミド（５．１６ｇ，２５．０mmol)を酢酸エチ
ル（２０ml) に溶解させたものを加えた。１時間後、室
温に戻し、さらに２時間撹拌し、反応を終了した。反応
溶液を濾過し、ウレアを除去した後、クロロホルムで抽
出した。有機層を、３％塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、減圧濃縮した。残留物
を、メタノール−エーテルに溶解し、遊離するウレアを
濾別し、溶液を再度濃縮し、さらに酢酸エチル−エーテ
ル−ｎ−ヘキサン混合溶媒で再結晶したところ、白色結
晶として３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ
−（４−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（５．１８
ｇ，６１％）（化合物４）が得られた。 mp.237-241℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 1.43(s,18H),6.73(d,2H,J=9Hz),7.45(d,2H,J=9Hz),7.50
(br.s,1H),7.65(s,2H)，9.18(br.s,1H),9.80(s,1H) IR:(KBr):cm-1 3616,3340,2956,1641,1515,1430,828
（６．２６ｇ，２５．０mmol) 及び ｐ−アミノフェノ
ール（２．７３ｇ，２５．０mmol）を酢酸エチル−ジメ
チルホルムアミド（４：１）混合溶媒（６０ml）中に溶
解し、０℃で撹拌しながらＮ，Ｎ1−ジシクロヘキシカ
ルボジイミド（５．１６ｇ，２５．０mmol)を酢酸エチ
ル（２０ml) に溶解させたものを加えた。１時間後、室
温に戻し、さらに２時間撹拌し、反応を終了した。反応
溶液を濾過し、ウレアを除去した後、クロロホルムで抽
出した。有機層を、３％塩酸、炭酸水素ナトリウム水溶
液、飽和食塩水で順次洗浄し、減圧濃縮した。残留物
を、メタノール−エーテルに溶解し、遊離するウレアを
濾別し、溶液を再度濃縮し、さらに酢酸エチル−エーテ
ル−ｎ−ヘキサン混合溶媒で再結晶したところ、白色結
晶として３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−Ｎ
−（４−ヒドロキシフェニル）ベンズアミド（５．１８
ｇ，６１％）（化合物４）が得られた。 mp.237-241℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 1.43(s,18H),6.73(d,2H,J=9Hz),7.45(d,2H,J=9Hz),7.50
(br.s,1H),7.65(s,2H)，9.18(br.s,1H),9.80(s,1H) IR:(KBr):cm-1 3616,3340,2956,1641,1515,1430,828
【００２７】合成例５ 合成例４と同様にして３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）ベンズアミ
ド（化合物５）を得た（２０％）。 mp.237-241℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 1.44(s,18H),6.42-6.51(m,1H),7.13-7.04(m,2H),7.29
(s,1H),7.47(br.s,1H),7.64(s,2H),9.33(br.s,1H),9.90
(s,1H)
ドロキシ−Ｎ−（３−ヒドロキシフェニル）ベンズアミ
ド（化合物５）を得た（２０％）。 mp.237-241℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 1.44(s,18H),6.42-6.51(m,1H),7.13-7.04(m,2H),7.29
(s,1H),7.47(br.s,1H),7.64(s,2H),9.33(br.s,1H),9.90
(s,1H)
【００２８】合成例６ 合成例４と同様にして３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒ
ドロキシ−Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）ベンズアミ
ド（化合物６）を得た（５０％）。 mp.237-241℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 1.44(s,18H),6.79-7.06(m,2H),7.00(d,1H,J=8Hz),7.53
(br.s,1H),7.64(d,1H,J=8Hz),7.72(s,2H),9.47(s,1H),
9.67(br.s,1H) IR:(KBr):cm-1 3620,3334,2962,1638,1605,1533,1455,1368,1239,750
ドロキシ−Ｎ−（２−ヒドロキシフェニル）ベンズアミ
ド（化合物６）を得た（５０％）。 mp.237-241℃ NMR:(DMSO-d6):δ;ppm 1.44(s,18H),6.79-7.06(m,2H),7.00(d,1H,J=8Hz),7.53
(br.s,1H),7.64(d,1H,J=8Hz),7.72(s,2H),9.47(s,1H),
9.67(br.s,1H) IR:(KBr):cm-1 3620,3334,2962,1638,1605,1533,1455,1368,1239,750
【００２９】実施例１ 合成例１〜６で得られた化合物１〜６をそれぞれ１重量
％含有するエタノール溶液を調製し、以下の試験に供し
た。
％含有するエタノール溶液を調製し、以下の試験に供し
た。
【００３０】（試験１） ヘアレスマウスによるシワ形成抑制試験：ヘアレスマウ
ス（ＨＲ／ＩＣＲ、実験開始時６週齢）の背部に安息香
酸アニリド類（１）のエタノール溶液を８０μl 塗布し
た。２時間後エタノールで皮膚表面上の安息香酸アニリ
ド類（１）を拭き取り、健康線用ランプ（東芝製、ＳＥ
２０）を６本使用し、１回の照射量が１ＭＥＤ以下とな
るように調節してＵＶＢ光の照射を行い、週５回の照射
を８週間にわたって行った。照射のエネルギー量をＵＶ
−Ｒａｄｉｏｍｅｔｅｒ（ＴＯＫＹＯ ＯＰＴＩＣＡＬ
社製、ＵＶＲ−３０５／３６５Ｄ）を用いて測定した。
また、コントロールとしてエタノールのみを塗布したも
のをサンプルと同様に塗布した。試験終了後、形成され
たシワの度数を肉眼により下記の基準（シワ指数）で評
価した。その結果を表１に示す。
ス（ＨＲ／ＩＣＲ、実験開始時６週齢）の背部に安息香
酸アニリド類（１）のエタノール溶液を８０μl 塗布し
た。２時間後エタノールで皮膚表面上の安息香酸アニリ
ド類（１）を拭き取り、健康線用ランプ（東芝製、ＳＥ
２０）を６本使用し、１回の照射量が１ＭＥＤ以下とな
るように調節してＵＶＢ光の照射を行い、週５回の照射
を８週間にわたって行った。照射のエネルギー量をＵＶ
−Ｒａｄｉｏｍｅｔｅｒ（ＴＯＫＹＯ ＯＰＴＩＣＡＬ
社製、ＵＶＲ−３０５／３６５Ｄ）を用いて測定した。
また、コントロールとしてエタノールのみを塗布したも
のをサンプルと同様に塗布した。試験終了後、形成され
たシワの度数を肉眼により下記の基準（シワ指数）で評
価した。その結果を表１に示す。
【００３１】シワ指数： ０：シワが無形成 １：シワがかすかに形成 ２：シワが微量形成 ３：シワが若干形成 ４：シワが強固に形成
【００３２】（試験２） シワの解析：試験１において形成されたシワを詳細に解
析するため、各マウスについてハイドロフィリックエク
ザフレックス親水性ビニルシリコーン印像剤を用いて、
直径１cmの円形に３か所から皮膚のレプリカを採取し
た。このレプリカを水平状態において３０°方向から光
を照射し、シワによってできる影の割合を画像解析装置
を用いて面積率として求めた。この結果も表１に示す。
析するため、各マウスについてハイドロフィリックエク
ザフレックス親水性ビニルシリコーン印像剤を用いて、
直径１cmの円形に３か所から皮膚のレプリカを採取し
た。このレプリカを水平状態において３０°方向から光
を照射し、シワによってできる影の割合を画像解析装置
を用いて面積率として求めた。この結果も表１に示す。
【００３３】
【表１】
【００３４】（試験３） 褐色モルモット背部のＵＶＢによる色素沈着に対する効
果：褐色モルモットの背部毛をバリカンとシェーバーに
て丁寧に剃毛したのち、１．５cm四方に８分割する。各
々の部位に評価試料（１００mM，２０μｌ）を塗布し、
その２時間後に塗布した試料をエタノールで拭き取り、
ＵＶＢ領域の紫外線を最小紅斑量（ＭＥＤ）の２倍量を
照射する。ＵＶ照射後再度評価試料（１００mM，２０μ
ｌ）を塗布する。この操作を３日間繰り返す。それ以降
は試料（１００mM，１０μｌ）のみ１週間連続塗布し、
２週間後に色素沈着量を調べた。尚、コントロールとし
て、試料のかわりにエタノールを塗布した。評価は、色
差計により測定を行い、得られたマンセル値からＬ*値
を算出し、下記式の如くＵＶＢ照射２週間後のＬ*値か
らＵＶＢ照射前のＬ*値を差し引いた値（ΔＬ*）を求
め、色素沈着の程度を比較した。−ΔＬ*値が大きいほ
ど色素沈着の程度が強いことを示す。
果：褐色モルモットの背部毛をバリカンとシェーバーに
て丁寧に剃毛したのち、１．５cm四方に８分割する。各
々の部位に評価試料（１００mM，２０μｌ）を塗布し、
その２時間後に塗布した試料をエタノールで拭き取り、
ＵＶＢ領域の紫外線を最小紅斑量（ＭＥＤ）の２倍量を
照射する。ＵＶ照射後再度評価試料（１００mM，２０μ
ｌ）を塗布する。この操作を３日間繰り返す。それ以降
は試料（１００mM，１０μｌ）のみ１週間連続塗布し、
２週間後に色素沈着量を調べた。尚、コントロールとし
て、試料のかわりにエタノールを塗布した。評価は、色
差計により測定を行い、得られたマンセル値からＬ*値
を算出し、下記式の如くＵＶＢ照射２週間後のＬ*値か
らＵＶＢ照射前のＬ*値を差し引いた値（ΔＬ*）を求
め、色素沈着の程度を比較した。−ΔＬ*値が大きいほ
ど色素沈着の程度が強いことを示す。
【００３５】
【数１】 ΔＬ*＝ＵＶＢ照射後のＬ*値−ＵＶＢ照射前のＬ*値
【００３６】この結果を表２に示す。
【００３７】
【表２】
【００３８】以上の結果より本試料が優れた色素沈着抑
制作用を有することが示された。
制作用を有することが示された。
【００３９】以下、実施例２〜４において、それぞれの
組成の化粧料を常法により混合して製造した。
組成の化粧料を常法により混合して製造した。
【００４０】
【表３】 実施例２．クリーム： 化合物６ ０．２（重量％） コレステロール ０．５ コレステロールイソステアレート １ ポリエーテル変性シリコーン １．５ 環状シリコーン ２０ メチルフェニルポリシロキサン ２ メチルポリシロキサン ２ 硫酸マグネシウム ０．５ ５５％エタノール ５ カルボキシメチルキチン ０．５ アラントイン １ 香料，色素 微量 精製水 バランス 計 １００．０
【００４１】
【表４】 実施例３．スキンローション： 化合物６ ２（重量％） グリセリンモノステアレート １ エタノール １５ プロピレングリコール ４ イソプロピルパルミテート ３ ラノリン １ パラオキシ安息香酸メチル ０．１ 香料，色素 微量 精製水 ７３．９ 計 １００．０
【００４２】
【表５】 実施例４．パック剤： 化合物６ ４（重量％） ポリビニルアルコール ２０ グリセリン ５ エタノール １６ 香料，色素 微量 精製水 ５５ 計 １００．０
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 大須 弘之 栃木県芳賀郡市貝町赤羽2606−６ (72)発明者 時光 一郎 栃木県宇都宮市竹林町89−28
Claims (1)
- 【請求項１】 次の一般式（１） 【化１】 〔式中、Ｒ1 は水素原子又はｔ−ブチル基を示し、Ｒ2
は水素原子又は炭素数１〜５のアルキル若しくはアシル
基を示す〕で表わされる安息香酸アニリド類又はその塩
を含有する皮膚化粧料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32534094A JPH08175959A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 皮膚化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32534094A JPH08175959A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 皮膚化粧料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08175959A true JPH08175959A (ja) | 1996-07-09 |
Family
ID=18175718
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32534094A Pending JPH08175959A (ja) | 1994-12-27 | 1994-12-27 | 皮膚化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08175959A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100786300B1 (ko) * | 2006-09-19 | 2007-12-18 | (주)아모레퍼시픽 | 3,4-메틸렌디옥시벤젠 또는 3,4-에틸렌디옥시벤젠 모핵을가지는 4-치환된 벤조산 유도체 화합물을 함유하는항노화용 화장료 조성물 |
| WO2008047758A1 (fr) * | 2006-10-17 | 2008-04-24 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Agent anti-inflammatoire contenant du 2-aminophénol ou un dérivé de celui-ci en tant que principe actif |
| WO2010110353A1 (ja) * | 2009-03-25 | 2010-09-30 | 味の素株式会社 | 新規アミド誘導体および美白剤 |
| JP2014529583A (ja) * | 2011-08-05 | 2014-11-13 | 株式会社アモーレパシフィックＡｍｏｒｅｐａｃｉｆｉｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 新規安息香酸アミド化合物 |
-
1994
- 1994-12-27 JP JP32534094A patent/JPH08175959A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100786300B1 (ko) * | 2006-09-19 | 2007-12-18 | (주)아모레퍼시픽 | 3,4-메틸렌디옥시벤젠 또는 3,4-에틸렌디옥시벤젠 모핵을가지는 4-치환된 벤조산 유도체 화합물을 함유하는항노화용 화장료 조성물 |
| WO2008035904A1 (en) * | 2006-09-19 | 2008-03-27 | Amorepacific Corporation | Method for processing 4-substituted benzoic acid derivatives having 3, 4-methylene- or 3,4-ethylenedioxybenzene moiety and the use of the same for antiaging cosmetics |
| WO2008047758A1 (fr) * | 2006-10-17 | 2008-04-24 | Kabushiki Kaisha Hayashibara Seibutsu Kagaku Kenkyujo | Agent anti-inflammatoire contenant du 2-aminophénol ou un dérivé de celui-ci en tant que principe actif |
| JP5357545B2 (ja) * | 2006-10-17 | 2013-12-04 | 株式会社林原 | ２−アミノフェノール又はその誘導体を有効成分とする抗炎症剤 |
| WO2010110353A1 (ja) * | 2009-03-25 | 2010-09-30 | 味の素株式会社 | 新規アミド誘導体および美白剤 |
| US9295624B2 (en) | 2009-03-25 | 2016-03-29 | Ajinomoto Co., Inc. | Amide derivative and whitening agent |
| JP2014529583A (ja) * | 2011-08-05 | 2014-11-13 | 株式会社アモーレパシフィックＡｍｏｒｅｐａｃｉｆｉｃ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ | 新規安息香酸アミド化合物 |
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