JPH08167553A - 被処理材の固定装置 - Google Patents
被処理材の固定装置Info
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- JPH08167553A JPH08167553A JP31028694A JP31028694A JPH08167553A JP H08167553 A JPH08167553 A JP H08167553A JP 31028694 A JP31028694 A JP 31028694A JP 31028694 A JP31028694 A JP 31028694A JP H08167553 A JPH08167553 A JP H08167553A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】マスクブランクス等の薄板平面形状物の被処理
材の平面度を損なうことなく保持でき、被処理材に対す
る処理精度の向上を可能とした被処理材の固定装置を提
供する。 【構成】マスクブランクス１６の下面を多数のコイルバ
ネからなる弾性支持点２０…で受けると共に、マスクブ
ランクス１６の端部を重力方向には低剛性で水平面方向
には高剛性な弾性保持部材２４…で保持するように構成
した。
材の平面度を損なうことなく保持でき、被処理材に対す
る処理精度の向上を可能とした被処理材の固定装置を提
供する。 【構成】マスクブランクス１６の下面を多数のコイルバ
ネからなる弾性支持点２０…で受けると共に、マスクブ
ランクス１６の端部を重力方向には低剛性で水平面方向
には高剛性な弾性保持部材２４…で保持するように構成
した。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造関連装置の
被処理材の固定装置に係り、詳しくは、マスクブランク
ス等の薄板平面形状物の被処理材をマスクホルダ等の被
処理材保持部材に固定する被処理材の固定装置に関す
る。
被処理材の固定装置に係り、詳しくは、マスクブランク
ス等の薄板平面形状物の被処理材をマスクホルダ等の被
処理材保持部材に固定する被処理材の固定装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】通常、電子ビーム描画装置、又はマスク
検査装置等においては、被処理材であるマスクブランク
スをマスクホルダ（カセット）に固定した後、マスクホ
ルダをステージ上に位置決め固定し、ステージを移動さ
せながらマスクブランクスに描画したり、または検査す
るようになっている。
検査装置等においては、被処理材であるマスクブランク
スをマスクホルダ（カセット）に固定した後、マスクホ
ルダをステージ上に位置決め固定し、ステージを移動さ
せながらマスクブランクスに描画したり、または検査す
るようになっている。
【０００３】従来、被処理材であるマスクブランクスを
マスクホルダに固定する場合の固定装置としては、図６
に示す機械式クランプ方式のもの、すなわち、マスクホ
ルダａに、平面度良く加工された基準面ｂを有する基準
片ｃを３点あるいは４点配設すると共に、これら基準片
ｃ…（１か所のみ図示）に対向してバネｄにより基準片
ｃ方向に付勢された支持部材ｅ…（１か所のみ図示）を
配設し、マスクブランクスｇの端縁部の３点あるいは４
点を、支持部材ｅ…により基準片ｃ…に押付けた状態で
支持することにより固定するものが知られている。
マスクホルダに固定する場合の固定装置としては、図６
に示す機械式クランプ方式のもの、すなわち、マスクホ
ルダａに、平面度良く加工された基準面ｂを有する基準
片ｃを３点あるいは４点配設すると共に、これら基準片
ｃ…（１か所のみ図示）に対向してバネｄにより基準片
ｃ方向に付勢された支持部材ｅ…（１か所のみ図示）を
配設し、マスクブランクスｇの端縁部の３点あるいは４
点を、支持部材ｅ…により基準片ｃ…に押付けた状態で
支持することにより固定するものが知られている。
【０００４】また、他の固定装置としては、図示しない
が、３点あるいは４点配設された基準片部に真空チャッ
クを設けて吸着固定する真空チャック方式のものがあ
る。しかしながら、このように、３点あるいは４点を支
持又は吸着固定する構造とした場合、１〜２μｍ以下の
高精度に加工されたマスクブランクスｇの平面度が、マ
スクブランクスｇの自重、また、マスクブランクスｇ自
身の平面度とマスクホルダａの３点あるいは４点のＺ方
向基準面ｂで形成される平面との相性（平面度傾向の
差）によって、マスクブランクスｇ自身の平面度が悪化
させられる問題があった。
が、３点あるいは４点配設された基準片部に真空チャッ
クを設けて吸着固定する真空チャック方式のものがあ
る。しかしながら、このように、３点あるいは４点を支
持又は吸着固定する構造とした場合、１〜２μｍ以下の
高精度に加工されたマスクブランクスｇの平面度が、マ
スクブランクスｇの自重、また、マスクブランクスｇ自
身の平面度とマスクホルダａの３点あるいは４点のＺ方
向基準面ｂで形成される平面との相性（平面度傾向の
差）によって、マスクブランクスｇ自身の平面度が悪化
させられる問題があった。
【０００５】特に「５００９マスク」、すなわち、１辺
が５インチの正方形で厚さが０．０９インチ（２．３ｍ
ｍ）の薄いガラスマスクは、自重たわみが大きく、マス
クの大きさと厚さで変わるが、１〜２μｍ、又はそれ以
上に平面度が悪化するといった問題がある。
が５インチの正方形で厚さが０．０９インチ（２．３ｍ
ｍ）の薄いガラスマスクは、自重たわみが大きく、マス
クの大きさと厚さで変わるが、１〜２μｍ、又はそれ以
上に平面度が悪化するといった問題がある。
【０００６】また、同一マスクブランクスｇの固定精度
の繰り返し再現性についても、３点あるいは４点のＺ方
向基準面ｂとバネｄの力で押上げられる支持部材ｅ…の
押し点との微小なオフセットにより、マスクブランクス
ｇに曲げモーメントが発生し、平面度の再現性が悪くな
るといった問題がある。
の繰り返し再現性についても、３点あるいは４点のＺ方
向基準面ｂとバネｄの力で押上げられる支持部材ｅ…の
押し点との微小なオフセットにより、マスクブランクス
ｇに曲げモーメントが発生し、平面度の再現性が悪くな
るといった問題がある。
【０００７】従来においては、電子ビーム描画装置に
て、「５００９マスク」に描画するパターンの位置精度
は、０．１〜０．１５μｍ／１００ｍｍピッチ程度で問
題がなかった。換言すれば、マスクブランクスｇの端縁
部の３点あるいは４点を支持又は吸着固定する構造で得
られる平面度で十分機能を満足していた。
て、「５００９マスク」に描画するパターンの位置精度
は、０．１〜０．１５μｍ／１００ｍｍピッチ程度で問
題がなかった。換言すれば、マスクブランクスｇの端縁
部の３点あるいは４点を支持又は吸着固定する構造で得
られる平面度で十分機能を満足していた。
【０００８】しかし、近年は、描画するパターンの位置
精度として０．０６〜０．０８μｍ又はそれ以下が要求
されている。換言すれば、３点あるいは４点を支持又は
吸着固定する構造で得られる平面度では不十分となっ
た。
精度として０．０６〜０．０８μｍ又はそれ以下が要求
されている。換言すれば、３点あるいは４点を支持又は
吸着固定する構造で得られる平面度では不十分となっ
た。
【０００９】因みに、パターン位置精度の変化は、ｔ：
被処理材の厚さ、δ：平面度変化量、Ｌ：被処理材の長
さ、ΔＬ：水平方向の変化量（マスク表面の伸縮量）と
した場合、次式で表される。
被処理材の厚さ、δ：平面度変化量、Ｌ：被処理材の長
さ、ΔＬ：水平方向の変化量（マスク表面の伸縮量）と
した場合、次式で表される。
【００１０】（４ｔδ）／Ｌ＝ΔＬ たとえば、縦横１００ｍｍの正方形で、厚さが２．３ｍ
ｍのマスクの平面度が０．５μｍ（δ）変化したとする
と、上記式より、（４×２．３ｍｍ×０．５μｍ）／１
００ｍｍ＝約０．０５μｍとなり、１００ｍｍで約０．
０５μｍの処理精度の低下となる。
ｍのマスクの平面度が０．５μｍ（δ）変化したとする
と、上記式より、（４×２．３ｍｍ×０．５μｍ）／１
００ｍｍ＝約０．０５μｍとなり、１００ｍｍで約０．
０５μｍの処理精度の低下となる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】上記のように、従来の
被処理材の固定装置にあっては、マスクブランクス等の
薄板平面形状物の被処理材の端縁部を、３点あるいは４
点で支持又は吸着固定する構造であったため、被処理材
の自重による撓みや、固定時に発生する曲げモーメント
の影響で、平面度が損なわれ、結果として、電子ビーム
描画装置、又はマスク検査装置等の被処理材に対する処
理精度を向上させることができないといった問題があっ
た。
被処理材の固定装置にあっては、マスクブランクス等の
薄板平面形状物の被処理材の端縁部を、３点あるいは４
点で支持又は吸着固定する構造であったため、被処理材
の自重による撓みや、固定時に発生する曲げモーメント
の影響で、平面度が損なわれ、結果として、電子ビーム
描画装置、又はマスク検査装置等の被処理材に対する処
理精度を向上させることができないといった問題があっ
た。
【００１２】本発明は、上記事情に基づきなされたもの
で、マスクブランクス等の薄板平面形状物の被処理材の
平面度を損なうことなく保持でき、被処理材に対する処
理精度の向上を可能とした被処理材の固定装置を提供す
ることを目的とする。
で、マスクブランクス等の薄板平面形状物の被処理材の
平面度を損なうことなく保持でき、被処理材に対する処
理精度の向上を可能とした被処理材の固定装置を提供す
ることを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するための第１の手段として、薄板平面形状物の被処
理材を被処理材保持部材に固定する被処理材の固定装置
であって、前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処
理材の下面を多数の弾性支持点で受け、前記被処理材の
重力方向の位置決めを行った状態で支持する支持手段
と、前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理材の
端部を重力方向には低剛性で水平面方向には高剛性な弾
性保持部材で連結保持する保持手段とを具備してなる構
成としたものである。
決するための第１の手段として、薄板平面形状物の被処
理材を被処理材保持部材に固定する被処理材の固定装置
であって、前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処
理材の下面を多数の弾性支持点で受け、前記被処理材の
重力方向の位置決めを行った状態で支持する支持手段
と、前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理材の
端部を重力方向には低剛性で水平面方向には高剛性な弾
性保持部材で連結保持する保持手段とを具備してなる構
成としたものである。
【００１４】また、第２の手段として、薄板平面形状物
の被処理材を被処理材保持部材に固定する被処理材の固
定装置であって、前記被処理材保持部材に設けられ、前
記被処理材の下面を多数の弾性支持点で受け、前記被処
理材の重力方向の位置決めを行った状態で支持する支持
手段と、前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理
材の一端面側に設けられた複数の基準点及び他端面側に
設けられ水平面方向に前記被処理材を押圧する押圧部材
を有し、前記被処理材を複数の基準点に押付けて保持す
る保持手段とを具備してなる構成としたものである。
の被処理材を被処理材保持部材に固定する被処理材の固
定装置であって、前記被処理材保持部材に設けられ、前
記被処理材の下面を多数の弾性支持点で受け、前記被処
理材の重力方向の位置決めを行った状態で支持する支持
手段と、前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理
材の一端面側に設けられた複数の基準点及び他端面側に
設けられ水平面方向に前記被処理材を押圧する押圧部材
を有し、前記被処理材を複数の基準点に押付けて保持す
る保持手段とを具備してなる構成としたものである。
【００１５】
【作用】上記第１の手段の被処理材の固定装置によれ
ば、被処理材の下面を多数の弾性支持点で受けるため、
重力の影響を受け難い形で被処理材を支持でき、かつ、
被処理材の端部を重力方向には低剛性で水平面方向には
高剛性な弾性保持部材で連結保持するようにしたから、
被処理材をＸＹ方向には固定するが、その保持力が被処
理材の平面度を害することのない構造が得られる。これ
により、被処理材の自重による撓みの発生を防止でき、
また、曲げモーメントの発生を防止でき、被処理材の平
面度を損なうことなく、装置の処理精度の向上が可能と
なる。
ば、被処理材の下面を多数の弾性支持点で受けるため、
重力の影響を受け難い形で被処理材を支持でき、かつ、
被処理材の端部を重力方向には低剛性で水平面方向には
高剛性な弾性保持部材で連結保持するようにしたから、
被処理材をＸＹ方向には固定するが、その保持力が被処
理材の平面度を害することのない構造が得られる。これ
により、被処理材の自重による撓みの発生を防止でき、
また、曲げモーメントの発生を防止でき、被処理材の平
面度を損なうことなく、装置の処理精度の向上が可能と
なる。
【００１６】また、第２の手段の被処理材の固定装置に
よれば、被処理材の下面を多数の弾性支持点で受けるた
め、重力の影響を受け難い形で被処理材を支持でき、か
つ、被処理材の一端面側に設けられた複数の基準点及び
他端面側に設けられ水平面方向に被処理材を押圧する押
圧部材を有し、被処理材を複数の基準点に押付けて保持
するようにしたから、被処理材をＸＹ方向には固定する
が、その保持力が被処理材の平面度を害することのない
構造が得られる。これにより、被処理材の自重による撓
みの発生を防止でき、また、曲げモーメントの発生を防
止でき、被処理材の平面度を損なうことなく、装置の処
理精度の向上が可能となる。
よれば、被処理材の下面を多数の弾性支持点で受けるた
め、重力の影響を受け難い形で被処理材を支持でき、か
つ、被処理材の一端面側に設けられた複数の基準点及び
他端面側に設けられ水平面方向に被処理材を押圧する押
圧部材を有し、被処理材を複数の基準点に押付けて保持
するようにしたから、被処理材をＸＹ方向には固定する
が、その保持力が被処理材の平面度を害することのない
構造が得られる。これにより、被処理材の自重による撓
みの発生を防止でき、また、曲げモーメントの発生を防
止でき、被処理材の平面度を損なうことなく、装置の処
理精度の向上が可能となる。
【００１７】
【実施例】以下、本発明の一実施例について、図１ない
し図３を参照して説明する。まず、図１及び図２におい
て、図中１は、電子ビーム描画装置、又はマスク検査装
置等の半導体製造関連装置におけるＸ，Ｙ方向に移動可
能なステージであり、このステージ１の上面部には、直
交する２辺に沿って位置測定用の２本のレーザミラー
２，４が配設されている。
し図３を参照して説明する。まず、図１及び図２におい
て、図中１は、電子ビーム描画装置、又はマスク検査装
置等の半導体製造関連装置におけるＸ，Ｙ方向に移動可
能なステージであり、このステージ１の上面部には、直
交する２辺に沿って位置測定用の２本のレーザミラー
２，４が配設されている。
【００１８】また、ステージ１の上面側には、平行な支
持台６，６を介して３つのステージ基準片８…が配設さ
れていると共に、これらステージ基準片８…に対向して
ステージホルダクランプバネ１０…が配設されており、
被処理材保持部材であるマスクホルダ（カセット）１２
が、前記ステージ基準片８…の下面に押付固定されてい
る。
持台６，６を介して３つのステージ基準片８…が配設さ
れていると共に、これらステージ基準片８…に対向して
ステージホルダクランプバネ１０…が配設されており、
被処理材保持部材であるマスクホルダ（カセット）１２
が、前記ステージ基準片８…の下面に押付固定されてい
る。
【００１９】また、マスクホルダ１２の上面には、三方
をコ字状の枠部１２Ａで囲繞された被処理材収容部とし
てのマスクブランクス収容部１４が形成されており、こ
のマスクブランクス収容部１４に、被処理材であるマス
クブランクス１６が後述する被処理材固定装置としての
マスクブランクス固定装置１８を介して固定されてい
る。
をコ字状の枠部１２Ａで囲繞された被処理材収容部とし
てのマスクブランクス収容部１４が形成されており、こ
のマスクブランクス収容部１４に、被処理材であるマス
クブランクス１６が後述する被処理材固定装置としての
マスクブランクス固定装置１８を介して固定されてい
る。
【００２０】マスクブランクス固定装置１８は、マスク
ブランクス１６の下面を多数のコイルバネからなる弾性
支持点２０…で受け、マスクブランクス１６の重力方向
の位置決めを行った状態で支持する支持手段としての支
持機構２２と、マスクブランクス１６の端部を重力方向
（Ｚ方向）には低剛性で水平面方向（ＸＹ方向）には高
剛性な複数（この実施例では図１に示すように４セッ
ト）の弾性保持部材２４…で連結保持する保持手段とし
ての保持機構２６とで構成されている。
ブランクス１６の下面を多数のコイルバネからなる弾性
支持点２０…で受け、マスクブランクス１６の重力方向
の位置決めを行った状態で支持する支持手段としての支
持機構２２と、マスクブランクス１６の端部を重力方向
（Ｚ方向）には低剛性で水平面方向（ＸＹ方向）には高
剛性な複数（この実施例では図１に示すように４セッ
ト）の弾性保持部材２４…で連結保持する保持手段とし
ての保持機構２６とで構成されている。
【００２１】保持機構２６を構成する弾性保持部材２４
は、図３に詳図するような構成となっている。すなわ
ち、マスクホルダ１２の枠部１２Ａに一端を固定したＸ
Ｙ方向には剛性が高く、Ｚ方向には低剛性の板バネ２８
と、この板バネ２８にてマスクホルダ１２と連結された
被処理材保持具としてのマスクバサミ３０を有した構成
となっている。
は、図３に詳図するような構成となっている。すなわ
ち、マスクホルダ１２の枠部１２Ａに一端を固定したＸ
Ｙ方向には剛性が高く、Ｚ方向には低剛性の板バネ２８
と、この板バネ２８にてマスクホルダ１２と連結された
被処理材保持具としてのマスクバサミ３０を有した構成
となっている。
【００２２】マスクバサミ３０は、支持ピン３２により
連結された一対の挾持片３０Ａ，３０Ｂを有し、バネ３
４の付勢力でマスクブランクス１６の端をクランプする
ようになっている。
連結された一対の挾持片３０Ａ，３０Ｂを有し、バネ３
４の付勢力でマスクブランクス１６の端をクランプする
ようになっている。
【００２３】また、マスクバサミ３０の下面側には、バ
ネ３６，３６が配設されており、これらバネ３６，３６
によってマスクバサミ３０の重量を相殺し、マスクブラ
ンクス１６にＺ方向外力をかけないようになっている。
また、バネ３６，３６の付勢力は、調整ねじ３８，３８
の締め込み量を変えることにより調整可能となってい
る。
ネ３６，３６が配設されており、これらバネ３６，３６
によってマスクバサミ３０の重量を相殺し、マスクブラ
ンクス１６にＺ方向外力をかけないようになっている。
また、バネ３６，３６の付勢力は、調整ねじ３８，３８
の締め込み量を変えることにより調整可能となってい
る。
【００２４】また、ネジ４０は、図示しないマスクアン
クランプ機構によってマスクバサミ３０をリリースする
時の外力を受けるためのものである。しかして、上記の
ように構成された本発明の被処理材固定装置としてのマ
スクブランクス固定装置１８によれば、マスクブランク
ス１６の下面を多数のコイルバネからなる弾性支持点２
０…で受けるため、重力の影響を受け難い形でマスクブ
ランクス１６を保持でき、かつ、マスクブランクス１６
の端部を重力方向には低剛性で水平面方向には高剛性な
弾性保持部材２４…で保持するようにしたから、マスク
ブランクス１６をＸＹ方向には固定するが、その保持力
がマスクブランクス１６の平面度を害することのない構
造が得られる。これにより、マスクブランクス１６の自
重による撓みの発生を防止でき、また、曲げモーメント
の発生を防止でき、マスクブランクス１６の平面度を損
なうことなく、装置の処理精度の向上が可能となる。
クランプ機構によってマスクバサミ３０をリリースする
時の外力を受けるためのものである。しかして、上記の
ように構成された本発明の被処理材固定装置としてのマ
スクブランクス固定装置１８によれば、マスクブランク
ス１６の下面を多数のコイルバネからなる弾性支持点２
０…で受けるため、重力の影響を受け難い形でマスクブ
ランクス１６を保持でき、かつ、マスクブランクス１６
の端部を重力方向には低剛性で水平面方向には高剛性な
弾性保持部材２４…で保持するようにしたから、マスク
ブランクス１６をＸＹ方向には固定するが、その保持力
がマスクブランクス１６の平面度を害することのない構
造が得られる。これにより、マスクブランクス１６の自
重による撓みの発生を防止でき、また、曲げモーメント
の発生を防止でき、マスクブランクス１６の平面度を損
なうことなく、装置の処理精度の向上が可能となる。
【００２５】なお、上述の一実施例において、マスクブ
ランクス１６の下面を多数のコイルバネからなる弾性支
持点２０…で受けるものについて説明したが、図４に示
すように、ゴム、スポンジ等の非金属弾性体からなる弾
性支持点２０′…として、支持手段としての支持機構２
２′を構成するようにしても同様の効果が得られる。
ランクス１６の下面を多数のコイルバネからなる弾性支
持点２０…で受けるものについて説明したが、図４に示
すように、ゴム、スポンジ等の非金属弾性体からなる弾
性支持点２０′…として、支持手段としての支持機構２
２′を構成するようにしても同様の効果が得られる。
【００２６】また、板バネ２８とマスクバサミ３０を有
する弾性保持部材２４…の代わりに、図５のごとく、マ
スクブランクス１６の一端面側に設けられた複数の基準
点としてのＸＹ基準４２…を設けると共に、他端面側に
水平面方向（ＸＹ方向）にマスクブランクス１６を押圧
する押圧部材としてのバネ４４を設け、マスクブランク
ス１６を複数のＸＹ基準４２…に押付けて保持するよう
にしてもよい。そして、保持手段としての保持機構２
６′を構成するようにしてもよい。その他、本発明は上
記実施例に限らず、要旨を変えない範囲で種々変形実施
可能なことは勿論である。
する弾性保持部材２４…の代わりに、図５のごとく、マ
スクブランクス１６の一端面側に設けられた複数の基準
点としてのＸＹ基準４２…を設けると共に、他端面側に
水平面方向（ＸＹ方向）にマスクブランクス１６を押圧
する押圧部材としてのバネ４４を設け、マスクブランク
ス１６を複数のＸＹ基準４２…に押付けて保持するよう
にしてもよい。そして、保持手段としての保持機構２
６′を構成するようにしてもよい。その他、本発明は上
記実施例に限らず、要旨を変えない範囲で種々変形実施
可能なことは勿論である。
【００２７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
つぎのような効果を奏する。請求項１記載の被処理材の
固定装置によれば、被処理材の下面を多数の弾性支持点
で受けるため、重力の影響を受け難い形で被処理材を支
持でき、かつ、被処理材の端部を重力方向には低剛性で
水平面方向には高剛性な弾性保持部材で連結保持するよ
うにしたから、被処理材をＸＹ方向には固定するが、そ
の保持力が被処理材の平面度を害することのない構造が
得られる。これにより、被処理材の自重による撓みの発
生を防止でき、また、曲げモーメントの発生を防止で
き、被処理材の平面度を損なうことなく、装置の処理精
度の向上が可能となる。
つぎのような効果を奏する。請求項１記載の被処理材の
固定装置によれば、被処理材の下面を多数の弾性支持点
で受けるため、重力の影響を受け難い形で被処理材を支
持でき、かつ、被処理材の端部を重力方向には低剛性で
水平面方向には高剛性な弾性保持部材で連結保持するよ
うにしたから、被処理材をＸＹ方向には固定するが、そ
の保持力が被処理材の平面度を害することのない構造が
得られる。これにより、被処理材の自重による撓みの発
生を防止でき、また、曲げモーメントの発生を防止で
き、被処理材の平面度を損なうことなく、装置の処理精
度の向上が可能となる。
【００２８】また、請求項２記載の被処理材の固定装置
によれば、多数の弾性支持点が、バネで構成されている
から、構成が簡単かつ安価ですむ。また、請求項３記載
の被処理材の固定装置によれば、多数の弾性支持点が、
非金属弾性体で構成されているから、構成が簡単かつ安
価ですむ。
によれば、多数の弾性支持点が、バネで構成されている
から、構成が簡単かつ安価ですむ。また、請求項３記載
の被処理材の固定装置によれば、多数の弾性支持点が、
非金属弾性体で構成されているから、構成が簡単かつ安
価ですむ。
【００２９】また、請求項４記載の被処理材の固定装置
によれば、被処理材の下面を多数の弾性支持点で受ける
ため、重力の影響を受け難い形で被処理材を支持でき、
かつ、被処理材の一端面側に設けられた複数の基準点及
び他端面側に設けられ水平面方向に被処理材を押圧する
押圧部材を有し、被処理材を複数の基準点に押付けて保
持するようにしたから、被処理材をＸＹ方向には固定す
るが、その保持力が被処理材の平面度を害することのな
い構造が得られる。これにより、被処理材の自重による
撓みの発生を防止でき、また、曲げモーメントの発生を
防止でき、被処理材の平面度を損なうことなく、装置の
処理精度の向上が可能となる。
によれば、被処理材の下面を多数の弾性支持点で受ける
ため、重力の影響を受け難い形で被処理材を支持でき、
かつ、被処理材の一端面側に設けられた複数の基準点及
び他端面側に設けられ水平面方向に被処理材を押圧する
押圧部材を有し、被処理材を複数の基準点に押付けて保
持するようにしたから、被処理材をＸＹ方向には固定す
るが、その保持力が被処理材の平面度を害することのな
い構造が得られる。これにより、被処理材の自重による
撓みの発生を防止でき、また、曲げモーメントの発生を
防止でき、被処理材の平面度を損なうことなく、装置の
処理精度の向上が可能となる。
【図１】本発明の一実施例を示す平面図。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図。
【図３】同じく一実施例のマスク保持部の詳細図。
【図４】本発明の他の実施例のマスク保持部の詳細図。
【図５】本発明のさらに異なる他の実施例のマスク保持
部の詳細図。
部の詳細図。
【図６】従来例のマスク保持部の詳細図。
１…ステージ、１２…マスクホルダ（被処理材保持部
材）、１６…マスクブランクス（被処理材）、１８…マ
スクブランクス固定装置（被処理材固定装置）、２０…
コイルバネからなる弾性支持点、２０′…非金属弾性体
からなる弾性支持点、２２…支持機構（支持手段）、２
４…弾性保持部材、２６，２６′…保持機構（保持手
段）、２８…板バネ、３０…マスクバサミ（被処理材保
持具）、４２…ＸＹ基準（基準点）、４４…バネ（押圧
部材）。
材）、１６…マスクブランクス（被処理材）、１８…マ
スクブランクス固定装置（被処理材固定装置）、２０…
コイルバネからなる弾性支持点、２０′…非金属弾性体
からなる弾性支持点、２２…支持機構（支持手段）、２
４…弾性保持部材、２６，２６′…保持機構（保持手
段）、２８…板バネ、３０…マスクバサミ（被処理材保
持具）、４２…ＸＹ基準（基準点）、４４…バネ（押圧
部材）。
Claims (4)
- 【請求項１】薄板平面形状物の被処理材を被処理材保持
部材に固定する被処理材の固定装置であって、 前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理材の下面
を多数の弾性支持点で受け、前記被処理材の重力方向の
位置決めを行った状態で支持する支持手段と、 前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理材の端部
を重力方向には低剛性で水平面方向には高剛性な弾性保
持部材で連結保持する保持手段と、を具備してなること
を特徴とする被処理材の固定装置。 - 【請求項２】前記支持手段の多数の弾性支持点が、バネ
で構成されていることを特徴とする請求項１記載の被処
理材の固定装置。 - 【請求項３】前記支持手段の多数の弾性支持点が、非金
属弾性体で構成されていることを特徴とする請求項１記
載の被処理材の固定装置。 - 【請求項４】薄板平面形状物の被処理材を被処理材保持
部材に固定する被処理材の固定装置であって、 前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理材の下面
を多数の弾性支持点で受け、前記被処理材の重力方向の
位置決めを行った状態で支持する支持手段と、 前記被処理材保持部材に設けられ、前記被処理材の一端
面側に設けられた複数の基準点及び他端面側に設けられ
水平面方向に前記被処理材を押圧する押圧部材を有し、
前記被処理材を複数の基準点に押付けて保持する保持手
段と、を具備してなることを特徴とする被処理材の固定
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31028694A JPH08167553A (ja) | 1994-12-14 | 1994-12-14 | 被処理材の固定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31028694A JPH08167553A (ja) | 1994-12-14 | 1994-12-14 | 被処理材の固定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08167553A true JPH08167553A (ja) | 1996-06-25 |
Family
ID=18003403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31028694A Pending JPH08167553A (ja) | 1994-12-14 | 1994-12-14 | 被処理材の固定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08167553A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002198307A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-07-12 | Nikon Corp | リソグラフィシステムの保持用チャック |
| US6480260B1 (en) | 1999-12-03 | 2002-11-12 | Asml Netherlands B.V. | Mask clamping apparatus, e.g. for a lithographic apparatus |
| US7307698B2 (en) | 2004-02-18 | 2007-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| US20120158191A1 (en) * | 2009-06-12 | 2012-06-21 | Niek Rijnveld | active vibration isolation and damping system |
| CN111558918A (zh) * | 2020-07-15 | 2020-08-21 | 苏州鼎纳自动化技术有限公司 | 一种薄型工件浮动支撑机构 |
-
1994
- 1994-12-14 JP JP31028694A patent/JPH08167553A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6480260B1 (en) | 1999-12-03 | 2002-11-12 | Asml Netherlands B.V. | Mask clamping apparatus, e.g. for a lithographic apparatus |
| USRE41307E1 (en) | 1999-12-03 | 2010-05-04 | Asml Netherlands B.V. | Mask for clamping apparatus, e.g. for a lithographic apparatus |
| JP2002198307A (ja) * | 2000-10-17 | 2002-07-12 | Nikon Corp | リソグラフィシステムの保持用チャック |
| US7307698B2 (en) | 2004-02-18 | 2007-12-11 | Canon Kabushiki Kaisha | Exposure apparatus and device manufacturing method |
| US20120158191A1 (en) * | 2009-06-12 | 2012-06-21 | Niek Rijnveld | active vibration isolation and damping system |
| US9488247B2 (en) * | 2009-06-12 | 2016-11-08 | Mecal B.V. | Active vibration isolation and damping system |
| CN111558918A (zh) * | 2020-07-15 | 2020-08-21 | 苏州鼎纳自动化技术有限公司 | 一种薄型工件浮动支撑机构 |
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