JPH0815633A - 光走査装置 - Google Patents
光走査装置Info
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- JPH0815633A JPH0815633A JP14744394A JP14744394A JPH0815633A JP H0815633 A JPH0815633 A JP H0815633A JP 14744394 A JP14744394 A JP 14744394A JP 14744394 A JP14744394 A JP 14744394A JP H0815633 A JPH0815633 A JP H0815633A
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- hologram
- laser
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- laser light
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ホログラムを用いても薄型化が可能な光走査
装置を提供する。 【構成】 走査用ホログラム16にはレーザ光を回折す
る回折領域32が複数設けられ、その外側がレーザ光を
透過させる透過領域30となっている。半導体レーザ1
0から射出されたレーザ光は透過領域を30を通過した
後入射ミラー14で反射され、所定の入射角で走査用ホ
ログラム16の回折領域32に入射する。半導体レーザ
10と、集光レンズ11が走査用ホログラム16の面に
平行に配置されているため、従来のような斜め下方への
張り出し等がなくなり、ケース35の形状を従来よりも
薄くすることができる。
装置を提供する。 【構成】 走査用ホログラム16にはレーザ光を回折す
る回折領域32が複数設けられ、その外側がレーザ光を
透過させる透過領域30となっている。半導体レーザ1
0から射出されたレーザ光は透過領域を30を通過した
後入射ミラー14で反射され、所定の入射角で走査用ホ
ログラム16の回折領域32に入射する。半導体レーザ
10と、集光レンズ11が走査用ホログラム16の面に
平行に配置されているため、従来のような斜め下方への
張り出し等がなくなり、ケース35の形状を従来よりも
薄くすることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、光走査装置に関し、詳
しくは光を偏向させる手段としてホログラムを用いた光
走査装置に関するものである。
しくは光を偏向させる手段としてホログラムを用いた光
走査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、光を偏向させる手段としてホログ
ラムを用いた光走査装置としては、図7に示すようなも
のが知られている。この光走査装置100は、半導体レ
ーザ101と、集光レンズ102と、走査用ホログラム
103とを有しており、半導体レーザ101から出射さ
れたレーザ光は集光レンズ102によって略平行光とな
った後、走査用ホログラム103に形成されている回折
領域112に入射する。この回折領域112にて回折さ
れたレーザ光は、反射ミラー104,105により反射
された後、感光体ドラム120に照射される。走査用ホ
ログラム103はモータ122の図示しない回転軸に取
り付けられており、モータ122の回転駆動に伴って走
査用ホログラム103が回転することにより、回折領域
112にて回折されたレーザ光は感光体ドラム120上
をその長手方向に直線走査する。すなわち、ホログラム
103でレーザ光の偏向および収束が行われる。
ラムを用いた光走査装置としては、図7に示すようなも
のが知られている。この光走査装置100は、半導体レ
ーザ101と、集光レンズ102と、走査用ホログラム
103とを有しており、半導体レーザ101から出射さ
れたレーザ光は集光レンズ102によって略平行光とな
った後、走査用ホログラム103に形成されている回折
領域112に入射する。この回折領域112にて回折さ
れたレーザ光は、反射ミラー104,105により反射
された後、感光体ドラム120に照射される。走査用ホ
ログラム103はモータ122の図示しない回転軸に取
り付けられており、モータ122の回転駆動に伴って走
査用ホログラム103が回転することにより、回折領域
112にて回折されたレーザ光は感光体ドラム120上
をその長手方向に直線走査する。すなわち、ホログラム
103でレーザ光の偏向および収束が行われる。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記構
成の光走査装置100において、通常用いられる走査用
ホログラム103の回折領域112に対してレーザ光が
入射する入射角は、回折効率が高くなるように45゜近
辺に設定されている。すなわち、集光レンズ102の光
軸も走査用ホログラム103の面に対し約45゜傾くよ
うに配置される。このため、半導体レーザ101および
集光レンズ102が走査用ホログラム103に対し斜め
下方に張り出すので、光走査装置100を薄型にするこ
とは困難であるという問題があった。
成の光走査装置100において、通常用いられる走査用
ホログラム103の回折領域112に対してレーザ光が
入射する入射角は、回折効率が高くなるように45゜近
辺に設定されている。すなわち、集光レンズ102の光
軸も走査用ホログラム103の面に対し約45゜傾くよ
うに配置される。このため、半導体レーザ101および
集光レンズ102が走査用ホログラム103に対し斜め
下方に張り出すので、光走査装置100を薄型にするこ
とは困難であるという問題があった。
【0004】また、半導体レーザ101、集光レンズ1
02を基準となるケース130の底面に対し斜めに取り
付けなければならず、走査用ホログラム103へのレー
ザ光の入射角の調整時には、半導体レーザ101と集光
レンズ102とを同時に回転、移動させる必要があり、
ケース130の構造が複雑となる共に入射位置の位置合
わせも難しく、生産性が低いという問題があった。
02を基準となるケース130の底面に対し斜めに取り
付けなければならず、走査用ホログラム103へのレー
ザ光の入射角の調整時には、半導体レーザ101と集光
レンズ102とを同時に回転、移動させる必要があり、
ケース130の構造が複雑となる共に入射位置の位置合
わせも難しく、生産性が低いという問題があった。
【0005】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、薄型化が可能な光走査装置を提
供することを目的とする。
になされたものであり、薄型化が可能な光走査装置を提
供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の光走査装置では、レーザ光源と、そのレーザ
光源から出射されたレーザ光を集光されたレーザ光ある
いは平行なレーザ光として出力する光学素子とからなる
レーザユニットと、レーザ光を回折して感光媒体上を走
査させる走査用ホログラムと、前記レーザユニットから
のレーザ光を走査用ホログラムに入射させる入射制御手
段とを備え、前記レーザユニットから出力されるレーザ
光は、前記走査用ホログラムの面と略平行な方向に出射
されて、前記入射制御手段へ到達する。
に本発明の光走査装置では、レーザ光源と、そのレーザ
光源から出射されたレーザ光を集光されたレーザ光ある
いは平行なレーザ光として出力する光学素子とからなる
レーザユニットと、レーザ光を回折して感光媒体上を走
査させる走査用ホログラムと、前記レーザユニットから
のレーザ光を走査用ホログラムに入射させる入射制御手
段とを備え、前記レーザユニットから出力されるレーザ
光は、前記走査用ホログラムの面と略平行な方向に出射
されて、前記入射制御手段へ到達する。
【0007】このとき、前記走査用ホログラムは回折領
域と透過領域とを有し、前記入射制御手段は、前記レー
ザユニットから出力されたレーザ光が前記走査用ホログ
ラムの前記透過領域を通過した後、前記回折領域に入射
するようにレーザ光を導いてもよい。
域と透過領域とを有し、前記入射制御手段は、前記レー
ザユニットから出力されたレーザ光が前記走査用ホログ
ラムの前記透過領域を通過した後、前記回折領域に入射
するようにレーザ光を導いてもよい。
【0008】また、前記透過領域における前記レーザ光
の透過率がその領域内で徐々に変化してもよい。
の透過率がその領域内で徐々に変化してもよい。
【0009】また、前記入射制御手段が反射型ホログラ
ムを有してもよい。
ムを有してもよい。
【0010】
【作用】上記の構成を有する本発明の請求項1の光走査
装置においては、レーザユニットが走査用ホログラム面
と略平行な方向にレーザ光を射出するため、レーザユニ
ットを走査用ホログラム面に平行に配置でき、斜め下方
に張り出すことがないため、薄型化が可能となる。従っ
て、光走査装置のケースの構成も簡単となり生産性も向
上する。また、入射制御手段により走査用ホログラムへ
の入射位置および入射角度を容易に調整することができ
る。
装置においては、レーザユニットが走査用ホログラム面
と略平行な方向にレーザ光を射出するため、レーザユニ
ットを走査用ホログラム面に平行に配置でき、斜め下方
に張り出すことがないため、薄型化が可能となる。従っ
て、光走査装置のケースの構成も簡単となり生産性も向
上する。また、入射制御手段により走査用ホログラムへ
の入射位置および入射角度を容易に調整することができ
る。
【0011】また、請求項2の光走査装置においては、
走査用ホログラムが回折領域と透過領域とを有し、レー
ザ光が透過領域を通過した後、回折領域に入射するよう
にしている。
走査用ホログラムが回折領域と透過領域とを有し、レー
ザ光が透過領域を通過した後、回折領域に入射するよう
にしている。
【0012】また、請求項3の光走査装置においては、
走査用ホログラムの透過領域における透過率を徐々に変
化させているので、回折領域における回折効率の変動に
伴って生じる感光媒体の露光出力の変動を、透過領域の
透過率の変化により補正することができ、露光出力を一
定に保つことが可能となる。
走査用ホログラムの透過領域における透過率を徐々に変
化させているので、回折領域における回折効率の変動に
伴って生じる感光媒体の露光出力の変動を、透過領域の
透過率の変化により補正することができ、露光出力を一
定に保つことが可能となる。
【0013】また、請求項4の光走査装置においては、
入射制御手段に反射型ホログラムを用いることにより、
収差補正も行うことができる。
入射制御手段に反射型ホログラムを用いることにより、
収差補正も行うことができる。
【0014】
【実施例】以下、本発明を具体化した一実施例を図面を
参照して説明する。
参照して説明する。
【0015】本発明を好適に適用した図1(a)及び図
1(b)に示す光走査装置のケース35内には、半導体
レーザ10の出射口には半導体レーザ10より出射され
るレーザ光を平行光とするための集光レンズ11が設け
られている。本発明のレーザユニットはこれら半導体レ
ーザ10と集光レンズ11とから構成される。この半導
体レーザ10及び集光レンズ11は、その光軸が走査用
ホログラム16の面と平行となり、さらに走査用ホログ
ラム16の上方位置に配置されている。この走査用ホロ
グラム16は透明の円盤状の基板からなるものであり、
その中心はモータ24の回転軸に固着されてモータ24
の回転駆動に伴って回転可能である。
1(b)に示す光走査装置のケース35内には、半導体
レーザ10の出射口には半導体レーザ10より出射され
るレーザ光を平行光とするための集光レンズ11が設け
られている。本発明のレーザユニットはこれら半導体レ
ーザ10と集光レンズ11とから構成される。この半導
体レーザ10及び集光レンズ11は、その光軸が走査用
ホログラム16の面と平行となり、さらに走査用ホログ
ラム16の上方位置に配置されている。この走査用ホロ
グラム16は透明の円盤状の基板からなるものであり、
その中心はモータ24の回転軸に固着されてモータ24
の回転駆動に伴って回転可能である。
【0016】そして、その走査用ホログラム16の周方
向にはレーザ光を回折する円弧状のホログラムファセッ
トからなる回折領域32が複数個、本実施例では6個設
けられている。走査用ホログラム16上ではこれら6個
の回折領域32により円環状の回折領域が形成される。
また、それらの回折領域32の円周方向外側部分がレー
ザ光を透過させる透過領域30となっている。なお、走
査用ホログラム16の基板の材料としては、樹脂、例え
ば、ポリカーボネート、PMMA、ポリイミド等を用い
た基板を使用することができる。また、樹脂以外にガラ
スやセラミック等を用いてもよい。
向にはレーザ光を回折する円弧状のホログラムファセッ
トからなる回折領域32が複数個、本実施例では6個設
けられている。走査用ホログラム16上ではこれら6個
の回折領域32により円環状の回折領域が形成される。
また、それらの回折領域32の円周方向外側部分がレー
ザ光を透過させる透過領域30となっている。なお、走
査用ホログラム16の基板の材料としては、樹脂、例え
ば、ポリカーボネート、PMMA、ポリイミド等を用い
た基板を使用することができる。また、樹脂以外にガラ
スやセラミック等を用いてもよい。
【0017】また、半導体レーザ10及び集光レンズ1
1の光軸上で且つ走査用ホログラム16の透過領域30
の上方には、集光レンズ11から出力されたレーザ光の
進路を下方へ90°曲げて透過領域30へ導く反射ミラ
ー13が配置されている。さらに、透過領域30を透過
後のレーザ光の光軸上には、そのレーザ光を走査用ホロ
グラム16の回折領域32へ入射させるための入射ミラ
ー14が配置されている。
1の光軸上で且つ走査用ホログラム16の透過領域30
の上方には、集光レンズ11から出力されたレーザ光の
進路を下方へ90°曲げて透過領域30へ導く反射ミラ
ー13が配置されている。さらに、透過領域30を透過
後のレーザ光の光軸上には、そのレーザ光を走査用ホロ
グラム16の回折領域32へ入射させるための入射ミラ
ー14が配置されている。
【0018】走査用ホログラム16の回折領域32の上
方には回折されたレーザ光を感光体ドラム22の方向へ
進行させるための反射ミラー18が設けられており、こ
の反射ミラー18で反射されたレーザ光は、さらにこの
実施例の光走査装置内に設けられている反射ミラー20
により反射されて感光体ドラム22の表面に集光され
る。
方には回折されたレーザ光を感光体ドラム22の方向へ
進行させるための反射ミラー18が設けられており、こ
の反射ミラー18で反射されたレーザ光は、さらにこの
実施例の光走査装置内に設けられている反射ミラー20
により反射されて感光体ドラム22の表面に集光され
る。
【0019】このように構成された光走査装置では、図
1(a)に示すように、半導体レーザ10から射出され
たレーザ光は集光レンズ11でほぼ平行光とされた後、
反射ミラー13で進路を下方へ90゜曲げられ、図1
(b)に示すように走査用ホログラム16の透過領域3
0に垂直に入射する。透過領域30を通過したレーザ光
は入射制御手段である入射ミラー14で反射され、所定
の入射角で走査用ホログラム16の回折領域32に入射
する。回折領域32で回折されたレーザ光は反射ミラー
18および20で反射され、感光体ドラム22上に集光
される。そして、モータ24の回転駆動によって走査用
ホログラム16が回転することにより回折されたレーザ
光は感光体ドラム22上をその長手方向に直線走査す
る。
1(a)に示すように、半導体レーザ10から射出され
たレーザ光は集光レンズ11でほぼ平行光とされた後、
反射ミラー13で進路を下方へ90゜曲げられ、図1
(b)に示すように走査用ホログラム16の透過領域3
0に垂直に入射する。透過領域30を通過したレーザ光
は入射制御手段である入射ミラー14で反射され、所定
の入射角で走査用ホログラム16の回折領域32に入射
する。回折領域32で回折されたレーザ光は反射ミラー
18および20で反射され、感光体ドラム22上に集光
される。そして、モータ24の回転駆動によって走査用
ホログラム16が回転することにより回折されたレーザ
光は感光体ドラム22上をその長手方向に直線走査す
る。
【0020】このように、半導体レーザ10と、集光レ
ンズ11が走査用ホログラム16の面に平行に配置され
ているため、従来のような斜め下方への張り出し等がな
くなり、図1(b)に一点鎖線で示したようにケース3
5の形状を従来よりも薄くすることができる。
ンズ11が走査用ホログラム16の面に平行に配置され
ているため、従来のような斜め下方への張り出し等がな
くなり、図1(b)に一点鎖線で示したようにケース3
5の形状を従来よりも薄くすることができる。
【0021】また、図2(a)に示すように入射ミラー
14を平行移動させることにより走査用ホログラム16
の回折領域32への入射位置を制御することができる。
また、図2(b)に示すように、入射ミラー14を回転
させることにより入射角度を制御することができる。こ
のように、走査用ホログラム16への入射位置及び入射
角度の調整に際し、半導体レーザ10及び集光レンズ1
1を動かす必要はなく、入射ミラー14を調整するだけ
でよいため、構成が簡単となり調整も容易となる。
14を平行移動させることにより走査用ホログラム16
の回折領域32への入射位置を制御することができる。
また、図2(b)に示すように、入射ミラー14を回転
させることにより入射角度を制御することができる。こ
のように、走査用ホログラム16への入射位置及び入射
角度の調整に際し、半導体レーザ10及び集光レンズ1
1を動かす必要はなく、入射ミラー14を調整するだけ
でよいため、構成が簡単となり調整も容易となる。
【0022】ところで、走査用ホログラム16に形成さ
れている回折領域32であるホログラムファセットの回
折効率は場所により一定ではなく、図3の破線に示すよ
うにファセット中央部Aほど高く、周辺部B,Cほど低
くなっている。なお、A,B,Cの位置は図1(a)の
走査用ホログラム16に示してあるA,B,Cに対応し
ている。このため、1つのホログラムファセットで感光
体ドラム22を一走査することから、感光体ドラム22
上の走査線における露光出力は、中央部分ほど大きく、
端部ほど小さくなる。ここで、走査用ホログラム16の
透過領域30の透過率を各ファセットすなわち回折領域
32に対応する位置において図3の実線のように中央部
分ほど低くなり、端部ほど高くなるように徐々に変化さ
せることにより、回折効率の変動を打ち消し、感光体ド
ラム22上の走査線全体に渡り一定の露光出力を得るこ
とができる。
れている回折領域32であるホログラムファセットの回
折効率は場所により一定ではなく、図3の破線に示すよ
うにファセット中央部Aほど高く、周辺部B,Cほど低
くなっている。なお、A,B,Cの位置は図1(a)の
走査用ホログラム16に示してあるA,B,Cに対応し
ている。このため、1つのホログラムファセットで感光
体ドラム22を一走査することから、感光体ドラム22
上の走査線における露光出力は、中央部分ほど大きく、
端部ほど小さくなる。ここで、走査用ホログラム16の
透過領域30の透過率を各ファセットすなわち回折領域
32に対応する位置において図3の実線のように中央部
分ほど低くなり、端部ほど高くなるように徐々に変化さ
せることにより、回折効率の変動を打ち消し、感光体ド
ラム22上の走査線全体に渡り一定の露光出力を得るこ
とができる。
【0023】以上、本発明の一実施例を図1乃至図3を
用いて詳細に説明したが、本発明は以上詳述した実施例
に限定されるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲
で種々の変更を加えることができる。
用いて詳細に説明したが、本発明は以上詳述した実施例
に限定されるものではなく、その主旨を逸脱しない範囲
で種々の変更を加えることができる。
【0024】ホログラムの枚数および構成については特
に限定されない。例えば、図1の実施例では光走査、集
光を1枚の走査用ホログラム16のみで行っていたが、
その前後に補正用のホログラムを設けてもよい。すなわ
ち、例えば、図4に示すように走査用ホログラム16の
前に収差補正用ホログラム40を設けてもよい。一般に
走査用ホログラム16の作製時には半導体レーザよりも
波長の短いレーザ光の干渉が利用される。この記録時の
レーザ光と再生時のレーザ光の波長の違いにより収差が
発生し、感光体ドラム22上におけるレーザスポット径
が増大する。従って、高解像度を実現するためには収差
補正が必要となる。
に限定されない。例えば、図1の実施例では光走査、集
光を1枚の走査用ホログラム16のみで行っていたが、
その前後に補正用のホログラムを設けてもよい。すなわ
ち、例えば、図4に示すように走査用ホログラム16の
前に収差補正用ホログラム40を設けてもよい。一般に
走査用ホログラム16の作製時には半導体レーザよりも
波長の短いレーザ光の干渉が利用される。この記録時の
レーザ光と再生時のレーザ光の波長の違いにより収差が
発生し、感光体ドラム22上におけるレーザスポット径
が増大する。従って、高解像度を実現するためには収差
補正が必要となる。
【0025】この収差補正は収差補正用ホログラム40
で行うことができる。収差補正用ホログラム40の回折
方向は一般に走査用ホログラム16の回折方向とは逆で
あるため、入射ミラー14のあとに補正ミラー41を設
けてある。この場合も、入射位置の調整は入射ミラー1
4の調整で行うことができる。このように、入射制御手
段として収差補正用ホログラム40をも用いることによ
り、感光体ドラム22上でのレーザスポット径の増大を
防止でき、高解像度の実現が可能となる。なお、走査用
ホログラム16の後に半導体レーザ10の波長変動補正
用あるいはfθ補正用のホログラムを設けてもよい。
で行うことができる。収差補正用ホログラム40の回折
方向は一般に走査用ホログラム16の回折方向とは逆で
あるため、入射ミラー14のあとに補正ミラー41を設
けてある。この場合も、入射位置の調整は入射ミラー1
4の調整で行うことができる。このように、入射制御手
段として収差補正用ホログラム40をも用いることによ
り、感光体ドラム22上でのレーザスポット径の増大を
防止でき、高解像度の実現が可能となる。なお、走査用
ホログラム16の後に半導体レーザ10の波長変動補正
用あるいはfθ補正用のホログラムを設けてもよい。
【0026】また、図1に示す光走査装置において、入
射制御手段として入射ミラー14の代わりに上述した反
射型ホログラムを配置してもよい。これにより、入射位
置調整と収差補正とを反射型ホログラムにおいて行うこ
とができる。
射制御手段として入射ミラー14の代わりに上述した反
射型ホログラムを配置してもよい。これにより、入射位
置調整と収差補正とを反射型ホログラムにおいて行うこ
とができる。
【0027】また、透過領域30の透過率を順次変化さ
せる方法は特に限定しない。例えば、膜厚分布を有する
薄い金属膜を設けてもよい。また、光を吸収する色素等
を塗布してもよい。また、図5に示すように透過領域と
して回折領域32と同様のあるいは異なった他のホログ
ラム50を用いてもよい。このホログラム50の代わり
に回折格子を使用することもできる。このとき、回折領
域32に入射するレーザ光はホログラム50で回折され
ず垂直に透過するいわゆる0次回折光である。すなわ
ち、走査用ホログラム16の回折領域32における回折
効率が高い位置、つまりファセットの中央付近は、ホロ
グラム50においても図5に破線で示す1次及び高次の
回折光強度が大きく、実線で示す垂直に透過する0次回
折光強度は小さくなる。逆に回折効率が低い場合は0次
回折光強度が大きく、1次及び高次回折光強度は小さく
なる。このため、回折領域32の回折効率の変動とほぼ
同じ変動を有するホログラム50あるいは回折格子を透
過領域に設けることにより、回折領域32における1次
回折光の強度変動を透過領域に設けたホログラム50あ
るいは回折格子の0次回折光強度の変化で補正すること
ができる。なお。ホログラム50あるいは回折格子への
入射角は必ずしも垂直である必要はなく、垂直に近い角
度であれば同様の効果が得られる。
せる方法は特に限定しない。例えば、膜厚分布を有する
薄い金属膜を設けてもよい。また、光を吸収する色素等
を塗布してもよい。また、図5に示すように透過領域と
して回折領域32と同様のあるいは異なった他のホログ
ラム50を用いてもよい。このホログラム50の代わり
に回折格子を使用することもできる。このとき、回折領
域32に入射するレーザ光はホログラム50で回折され
ず垂直に透過するいわゆる0次回折光である。すなわ
ち、走査用ホログラム16の回折領域32における回折
効率が高い位置、つまりファセットの中央付近は、ホロ
グラム50においても図5に破線で示す1次及び高次の
回折光強度が大きく、実線で示す垂直に透過する0次回
折光強度は小さくなる。逆に回折効率が低い場合は0次
回折光強度が大きく、1次及び高次回折光強度は小さく
なる。このため、回折領域32の回折効率の変動とほぼ
同じ変動を有するホログラム50あるいは回折格子を透
過領域に設けることにより、回折領域32における1次
回折光の強度変動を透過領域に設けたホログラム50あ
るいは回折格子の0次回折光強度の変化で補正すること
ができる。なお。ホログラム50あるいは回折格子への
入射角は必ずしも垂直である必要はなく、垂直に近い角
度であれば同様の効果が得られる。
【0028】また、透過領域30は光走査装置の薄型化
のためには必ずしも必要ではなく、例えば図6に示すよ
うに、透過領域を設けなくてもよい。
のためには必ずしも必要ではなく、例えば図6に示すよ
うに、透過領域を設けなくてもよい。
【0029】また、集光レンズ11の光軸は走査用ホロ
グラム16の面に対し、完全に平行となっている必要は
なく、概略平行であれば薄型化は可能である。また、図
1の実施例では集光レンズ11の光軸は走査用ホログラ
ム16の接線方向に配置されているがこれに限定される
わけではなく、走査用ホログラム16の面に略平行な面
内であれば、接線方向以外でも薄型化は可能である。例
えば、集光レンズ11の光軸を走査用ホログラム16の
半径方向に配置してもよい。
グラム16の面に対し、完全に平行となっている必要は
なく、概略平行であれば薄型化は可能である。また、図
1の実施例では集光レンズ11の光軸は走査用ホログラ
ム16の接線方向に配置されているがこれに限定される
わけではなく、走査用ホログラム16の面に略平行な面
内であれば、接線方向以外でも薄型化は可能である。例
えば、集光レンズ11の光軸を走査用ホログラム16の
半径方向に配置してもよい。
【0030】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように、本
発明の光走査装置では、レーザユニットが走査用ホログ
ラム面に平行な光軸に沿ってレーザ光を射出するため、
半導体レーザおよび集光手段を走査用ホログラム面に平
行に配置でき、斜め下方に張り出すことがないため、薄
型化が可能となる。このとき、光走査装置を収納するケ
ースの構成も簡単となり生産性も向上する。また、走査
用ホログラムへのレーザ光の入射位置及び入射角度を調
整するための入射制御手段を備えているので、それらの
調整のために半導体レーザや集光手段の位置、角度を調
整する必要がなく、その調整が極めて容易になる。
発明の光走査装置では、レーザユニットが走査用ホログ
ラム面に平行な光軸に沿ってレーザ光を射出するため、
半導体レーザおよび集光手段を走査用ホログラム面に平
行に配置でき、斜め下方に張り出すことがないため、薄
型化が可能となる。このとき、光走査装置を収納するケ
ースの構成も簡単となり生産性も向上する。また、走査
用ホログラムへのレーザ光の入射位置及び入射角度を調
整するための入射制御手段を備えているので、それらの
調整のために半導体レーザや集光手段の位置、角度を調
整する必要がなく、その調整が極めて容易になる。
【0031】さらに、走査用ホログラムが回折領域と、
透過率が徐々に変化している透過領域とを有し、レーザ
光が透過領域を通過した後、回折領域に入射させること
により、回折領域の回折効率の変動による露光出力の変
動を透過領域の透過率の変化により補正することがで
き、感光媒体上での露光出力を一定に保つことが可能と
なる。
透過率が徐々に変化している透過領域とを有し、レーザ
光が透過領域を通過した後、回折領域に入射させること
により、回折領域の回折効率の変動による露光出力の変
動を透過領域の透過率の変化により補正することがで
き、感光媒体上での露光出力を一定に保つことが可能と
なる。
【0032】また、入射制御手段として反射型ホログラ
ムを用いることにより、収差補正も同時に行うことがで
きる。
ムを用いることにより、収差補正も同時に行うことがで
きる。
【図1】本発明の光走査装置の一実施例を示す要部上面
図および側面図である。
図および側面図である。
【図2】入射位置調整を説明する部分図である。
【図3】回折効率および透過率の位置による変化を示す
説明図である。
説明図である。
【図4】本発明の光走査装置の他の実施例を示す部分側
面図である。
面図である。
【図5】本発明の光走査装置の他の実施例を示す部分側
面図である。
面図である。
【図6】本発明の光走査装置の他の実施例を示す部分側
面図である。
面図である。
【図7】従来の光走査装置の構成を示す側面図である。
10 半導体レーザ 11 集光レンズ 14 入射ミラー 16 走査用ホログラム 30 透過領域 32 回折領域
Claims (4)
- 【請求項1】 レーザ光源と、そのレーザ光源から出射
されたレーザ光を集光されたレーザ光あるいは平行なレ
ーザ光として出力する光学素子とからなるレーザユニッ
トと、 レーザ光を回折して感光媒体上を走査させる走査用ホロ
グラムと、 前記レーザユニットからのレーザ光を走査用ホログラム
に入射させる入射制御手段とを備え、 前記レーザユニットから出力されるレーザ光は、前記走
査用ホログラムの面と略平行な方向に出射されて、前記
入射制御手段へ到達することを特徴とする光走査装置。 - 【請求項2】 請求項1記載の光走査装置において、前
記走査用ホログラムは回折領域と透過領域とを有し、前
記入射制御手段は、前記レーザユニットから出力された
レーザ光が前記走査用ホログラムの前記透過領域を通過
した後、前記回折領域に入射するようにレーザ光を導く
ことを特徴とする光走査装置。 - 【請求項3】 請求項2記載の光走査装置において、前
記透過領域における前記レーザ光の透過率がその領域内
で徐々に変化していることを特徴とする光走査装置。 - 【請求項4】 請求項1記載の光走査装置において、前
記入射制御手段が反射型ホログラムを有することを特徴
とする光走査装置。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14744394A JPH0815633A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | 光走査装置 |
US08/496,006 US5691831A (en) | 1994-06-29 | 1995-06-28 | Optical beam scanning device with hologram disc |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14744394A JPH0815633A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | 光走査装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0815633A true JPH0815633A (ja) | 1996-01-19 |
Family
ID=15430463
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14744394A Pending JPH0815633A (ja) | 1994-06-29 | 1994-06-29 | 光走査装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0815633A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100349940B1 (ko) * | 2000-09-29 | 2002-08-24 | 삼성전자 주식회사 | 회전 홀로그램 디스크를 이용한 스캐닝 장치 |
-
1994
- 1994-06-29 JP JP14744394A patent/JPH0815633A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100349940B1 (ko) * | 2000-09-29 | 2002-08-24 | 삼성전자 주식회사 | 회전 홀로그램 디스크를 이용한 스캐닝 장치 |
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