JPH08150558A

JPH08150558A - 研磨装置

Info

Publication number: JPH08150558A
Application number: JP29022494A
Authority: JP
Inventors: Katsumi Mogi; 克己茂木; Osamu Endo; 修遠藤
Original assignee: Mitsubishi Materials Corp
Current assignee: Mitsubishi Materials Corp
Priority date: 1994-11-24
Filing date: 1994-11-24
Publication date: 1996-06-11
Anticipated expiration: 2017-02-18
Also published as: JP3257304B2

Abstract

(57)【要約】【目的】研磨装置に係り、ウェーハ等の研磨ワークの
簡易かつ確実な脱着、研磨作業の自動化等を図る。【構成】ヘッド３と研磨盤４とを具備するとともに、
ヘッド３が、研磨ワーク２の背面２ｄ全面に亙って密着
させられる弾性材料よりなる吸着体１１と、その背面１
１ａを支持する保持キャリア９と、研磨ワーク２の外周
縁２ａを半径方向外方から支持する支持リング１０とを
具備し、吸着体１１および保持キャリア９を貫通して吸
着面１１ｂに開口し研磨ワーク２によって閉鎖される複
数の圧力調整孔１２が、研磨ワーク２の外周縁２ａ近傍
に周方向に均等に配設され、その圧力調整孔１２に圧力
調整手段１７が接続されており、吸着体１１に生じる圧
力分布を均等なものとするとともに、研磨ワーク２の吸
着面１１ｂからの剥離を僅かな高圧状態で迅速に実施す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、研磨装置に係り、特
に、集積回路を形成する半導体ウェーハ等の表面を研磨
するための研磨装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、ＬＳＩ等の集積回路を製造するた
めの半導体ウェーハ（以下、単にウェーハという。）
は、デバイスの微細化に伴って、高精度かつ無欠陥表面
となるように研磨することが要求されるようになってき
た。この研磨のメカニズムは、微粒子シリカ等によるメ
カニカルな要素とアルカリ液によるエッチング要素とを
複合したメカノ・ケミカル研磨法に基づいている。

【０００３】したがって、研磨剤や研磨布の性質がウェ
ーハの表面状態を決定する主な要素となるので、従来
は、これらについての改良が数多くなされてきた。しか
し、最近のウェーハの精度、特に平坦度向上等の要求に
対しては研磨装置自体の重要度が高まりつつある。

【０００４】従来、この種の研磨装置としては、例え
ば、特開平２−２４３２６３号に示される構造のものが
ある。この研磨装置は、ウェーハ３を保持するヘッド
と、該ヘッドに支持されたウェーハに研磨面を摺動させ
るプラテン（研磨盤）とを具備している。

【０００５】ヘッドは、その下部にヘッドを吸着支持す
るキャリアを有している。キャリアは、空孔群を穿設し
た弾性膜と、ウェーハを半径方向外方から支持するリン
グとを具備しており、空孔群には管路を介して純水供給
ユニット、真空源ユニットおよび管路圧制御装置が接続
されている。

【０００６】この研磨装置によれば、純水供給ユニット
の作動によって弾性膜に純水が供給され、真空源ユニッ
トの作動によってウェーハの弾性膜への吸着および弾性
膜からの剥離が実施され、管路圧制御装置の作動によっ
て、研磨時における管路内の圧力が一定となるように制
御されるようになっている。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
に構成される研磨装置においては、弾性膜に設けた空孔
群に真空源ユニットから空気圧を供給することにより、
ヘッドへのウェーハの着脱を実施することとしている。
この場合に、真空源ユニットの作動によってヘッドに一
旦吸着されたウェーハは、純水が含浸された弾性膜に、
純水によって密着状態に維持されようとするため、真空
源ユニットから単に高圧空気を吹き出すのみでは弾性膜
からウェーハを剥離することは困難であるという問題が
ある。

【０００８】すなわち、高圧空気の圧力を相当以上に高
めていけばウェーハは弾性膜から剥離されることになる
が、この場合には、ウェーハに過大な応力が生じてウェ
ーハの健全性が害されることがあり、また、研磨後のウ
ェーハの研磨面の平坦度等、製品の形状精度を維持し得
ないことにもなる。

【０００９】かかる問題点を解決するために、従来、着
脱用の空孔群を、ウェーハに対して不均等に配置するこ
とが提案されている。すなわち、弾性膜からウェーハを
剥離する際に、ウェーハの一端側を弾性膜から離間させ
ることにより、ウェーハと弾性膜との間に空気を流入さ
せて純水による結合を断ち切ることができる。そして、
ウェーハと弾性膜とは、比較的低い空気圧によって瞬時
に剥離させられることになり、上記高圧空気による剥離
のような問題点が有効に解決されることになる。

【００１０】しかしながら、上記のように空孔群をウェ
ーハに対して偏在させる場合には、以下のような新たな
問題が生ずることになる。まず、ウェーハの背面、すな
わち、研磨される面の反対面に密着させられる弾性膜と
ウェーハとの接触面積が不均等なものとなるという問題
がある。つまり、空孔の開口面積分だけウェーハと弾性
膜との接触面積が減じられることになる。

【００１１】このため、ウェーハがプラテンの研磨面に
圧接させられると、その反力によってウェーハは弾性膜
に押し付けられることになるが、接触面積が不均等であ
るために、弾性膜への押し付け圧力の分布が不均等なも
のとなる。したがって、空孔群の設けられている領域に
おいて弾性膜が局部的に圧縮され、ウェーハの局部的な
弾性変形が許容される。この場合には、研磨終了後に弾
性膜から剥離されることによって、ウェーハに生じてい
た弾性変形が復元し、研磨面の平坦度が悪化してしまう
ことになる。

【００１２】また、空孔群の空気圧調整によってウェー
ハをヘッドに着脱することは、ウェーハの研磨作業の自
動化を企図しているものであるが、上記のように偏在し
ている空孔群により弾性膜からウェーハを剥離させる方
式のものであると、剥離したウェーハが傾斜させられた
状態でヘッドから離脱させられる。このため、離脱後の
ウェーハの位置合わせが困難になり、自動化を図る上で
支障がある。

【００１３】本発明は、上述した事情に鑑みてなされた
ものであって、ウェーハ等の研磨ワークを簡易かつ確実
に脱着し得るヘッドを有するとともに、研磨作業の自動
化を容易に図ることができる研磨装置を提供することを
目的としている。

【００１４】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、円盤状の研磨ワークを支持するヘッド
と、該ヘッドとの間に相対移動させられる研磨面を有す
る研磨盤とを具備し、前記研磨面に研磨ワークを圧接さ
せた状態で、研磨ワークと研磨面とを摺動させることに
より研磨ワークの一表面を研磨する研磨装置であって、
前記ヘッドが、前記研磨ワークの背面全面に亙って密着
させられる弾性材料よりなる吸着体と、該吸着体の背面
を支持する保持キャリアと、吸着体に密着させられた研
磨ワークの外周縁を半径方向外方から支持する支持リン
グとを具備するとともに、前記吸着体および保持キャリ
アを貫通して吸着体の吸着面に開口し研磨ワークによっ
て閉鎖される複数の圧力調整孔が、研磨ワークの外周縁
近傍に周方向に均等に配設され、該圧力調整孔に、該圧
力調整孔内の圧力を変化させる圧力調整手段が接続され
ている研磨装置を提案している。

【００１５】上記研磨装置においては、圧力調整孔が、
吸着体に密着させられた研磨ワークの外周縁から半径方
向内方２５ｍｍまでの範囲内に設けられていることとす
れば効果的であり、また、吸着体の吸着面に開口する圧
力調整孔の口径が０．５ｍｍから２ｍｍとされているこ
ととしてもよい。

【００１６】

【作用】本発明に係る研磨装置によれば、圧力調整手段
の作動によって、圧力調整孔内の圧力が負圧状態とされ
ることにより、研磨ワークがその背面を吸着体に密着さ
せられる。吸着体は、弾性材料により形成されているの
で、研磨ワークの背面の多少の凹凸を吸収して研磨ワー
クに密着する。

【００１７】また、吸着体は保持キャリアによってその
背面を支持されている。これにより、研磨ワークがヘッ
ドに安定して支持されることになる。また、ヘッドに設
けられた支持リングが研磨ワークの外周縁を半径方向外
方から支持するので、研磨盤の研磨面との摺動動作によ
って研磨ワークに作用する半径方向の外力に対抗して、
研磨ワークが吸着体に対して位置ずれしないように支持
される。

【００１８】このようにしてヘッドに支持された研磨ワ
ークは、研磨盤の研磨面との間に相対移動させられる際
に摺動させられてその一表面を研磨される。この場合に
おいて、吸着体に空けられた圧力調整孔は、周方向に均
等に配されているので、研磨盤の研磨面から受ける押し
付け圧力の分布が研磨ワーク全体に亙って均一なものと
され、研磨終了後の被研磨面の平坦度が向上されること
になる。

【００１９】また、圧力調整孔は、研磨ワークの外周縁
近傍に設けられているために、圧力調整手段の作動によ
ってその内部がわずかに高圧状態とされると、研磨ワー
クの外周縁が吸着体から離間する方向に即座に変位させ
られて、研磨ワークと吸着体との間の密着状態が解除さ
れ、研磨ワークが吸着体から剥離させられることにな
る。この場合においても、圧力調整孔が周方向に均等配
置されていることによって、研磨ワークと吸着体との剥
離は、全周に亙って同時に実施され、研磨ワークがヘッ
ドから離脱させられるときに傾きが生じないように保持
される。

【００２０】また、圧力調整孔を、吸着体に密着させら
れた研磨ワークの外周縁から半径方向内方２５ｍｍまで
の範囲内に設けることとすれば、吸着体から研磨ワーク
を剥離させるための圧力を低く抑えつつ短時間で確実に
剥離させることが可能となる。

【００２１】さらに、吸着体の吸着面に開口する圧力調
整孔の口径を０．５ｍｍから２ｍｍとすれば、各圧力調
整孔の近傍における吸着体の局部的な変形を確実に防止
し得て、研磨ワークの形状精度を向上することが可能と
なる。

【００２２】

【実施例】以下、本発明に係る研磨装置の一実施例につ
いて、図１および図２を参照して説明する。本実施例の
研磨装置１も、ウェーハ２の研磨装置１であって、ウェ
ーハ２を支持するヘッド３と、該ヘッド３に対して相対
移動させられる研磨面４ａを有する研磨盤４とを具備し
ている基本構成において、従来例と共通している。

【００２３】しかし、本実施例の研磨装置１は、ヘッド
３の構造において従来例と相違している。本実施例の研
磨装置１のヘッド３は、図１に示すように、回転軸５の
下端に取り付けられるハウジング６と、該ハウジング６
内に圧力室７を区画形成するダイヤフラム８と、このダ
イヤフラム８に取り付けられる円盤状の保持キャリア９
および該保持キャリア９の半径方向外方に全周に亙って
配されリテーナリング１０と、保持キャリア９の下面に
貼着されるポリウレタン等の弾性材料よりなるインサー
ト１１（吸着体）とを具備している。

【００２４】前記インサート１１は、保持キャリア９の
略全面に亙って貼着される平板状に形成されていて、貼
着されることによって保持キャリア９にその背面１１ａ
を安定して支持されるようになっている。また、このイ
ンサート１１の下面に設けられる吸着面１１ｂは、リテ
ーナリング１０の下面１０ａより若干上方に配置されて
いる。

【００２５】これにより、吸着面１１ｂにウェーハ２が
吸着されると、該ウェーハ２の外周縁２ａがリテーナリ
ング１０の内周面１０ｂによって半径方向外方から支持
され、研磨時におけるウェーハ２の水平方向移動が抑制
されるようになっている。

【００２６】また、このインサート１１には、図２に示
すように、その外周縁１１ｃの近傍に周方向に等間隔を
おいて８個の圧力調整孔１２が設けられている。本実施
例においては、図２に鎖線で示すように、外径６インチ
すなわち１５０ｍｍのウェーハ２を研磨することとして
おり、前記圧力調整孔１２は、そのウェーハ２の外周縁
２ａから半径方向内方に７．５ｍｍ程度の位置に設けら
れている。この位置に設けることとしたのは、ウェーハ
２の方向性を示すために形成される切欠部２ｃを避け
て、圧力調整孔１２を可能な限りウェーハ２の外周縁２
ａに近づけるためである。

【００２７】本実施例においては、圧力調整孔１２は、
その口径が１．０ｍｍとされている。このように小さく
構成することとしたのは、インサート１１がウェーハ２
の背面２ｄに密着しないこととなる面積を極力縮小する
ことにより、ディンプルの形成等の不都合を回避するた
めである。

【００２８】また、前記保持キャリア９には、前記イン
サート１１の圧力調整孔１２に連通する管路１３（圧力
調整孔）がそれぞれ設けられているとともに、該管路１
３は、前記ダイヤフラム８を貫通してその上部に配され
るマニホールド１４に接続されている。さらに、該マニ
ホールド１４には、エアチューブ１５を介して空気圧源
１６および圧力調整装置１７（圧力調整手段）が接続さ
れている。図中、符号１８は、各管路１３に空気圧を分
配するための溝である。

【００２９】この圧力調整装置１７は、ウェーハ２のヘ
ッド６への着脱時およびウェーハ２の研磨時にそれぞれ
作動させられて、ウェーハ２をヘッド３に吸着する際に
は圧力調整孔１２内を負圧状態に、ウェーハ２をヘッド
３から離脱させる際には圧力調整孔１２内を比較的高圧
状態に、そして、ウェーハ２の研磨時には圧力調整孔１
２内をわずかに高圧状態とするように空気圧源１６から
の圧力を調整するようになっている。

【００３０】このように構成された本実施例の研磨装置
１の作用について以下に説明する。まず、ヘッド３にウ
ェーハ２を支持させるには、ヘッド３の下端面に設けら
れたインサート１１の吸着面１１ｂにウェーハ２の背面
２ｄを接触状態に配し、圧力調整装置１７を作動させて
圧力調整孔１２内の圧力を負圧状態とする。これにより
ウェーハ２は、その背面２ｄがインサート１１の吸着面
１１ｂに密着させられるとともに、その外周縁２ａをリ
テーナリング１０の内周面１０ｂ側に配することによ
り、ヘッド３に安定して保持されることになる。

【００３１】この際、インサート１１が弾性材料により
構成されているので、該インサート１１は、ウェーハ２
の背面２ｄの多少の凹凸に倣って弾性変形させられて、
インサート１１の背面１１ａに密着させられることにな
る。

【００３２】次に、上記研磨装置１によりヘッド３に保
持されたウェーハ２を研磨する場合には、研磨盤４を作
動してその研磨面４ａを水平旋回させるとともに、ヘッ
ド３を回転軸５回りに回転させながら研磨盤４の研磨面
４ａに近接させ、両者間に相対移動を生じさせる。そし
て、ヘッド３に保持されたウェーハ２の被研磨面２ｂを
研磨盤４の研磨面４ａに接触させて、圧力室７の圧力を
増大させることにより、ウェーハ２を研磨面４ａに押し
付けながら摺動させて、被研磨面２ｂを研磨する。この
際、圧力調整装置１７の作動により、圧力調整孔１２内
は、若干高圧状態とされる。

【００３３】この場合において、本実施例の研磨装置１
では、ウェーハ２をインサート１１に吸着させる圧力調
整孔１２が、ウェーハ２の外周縁２ａ近傍に全周に亙っ
て等間隔に設けられているので、ウェーハ２が研磨面４
ａに押し付けられることによってインサート１１表面に
均等な圧力分布が達成される。また、実際の研磨におい
ては、研磨布種類の違い（積層構造、圧縮率等の相違）
によって、ウェーハ外周縁の研磨形状に違いが生じる。
例えば、硬質単層研磨布を使用した場合、外周縁近傍
は、過少研磨となり、二層構造（表面硬質、下面軟質）
研磨布を使用した場合には、外周縁近傍は過研磨、いわ
ゆるダレが発生する。しかし、本実施例の研磨装置１に
よれば、過少研磨の場合には若干高い空気圧を、過研磨
の場合には低圧あるいは負圧の空気圧をそれぞれ圧力調
整孔１２内に供給することによって、外周縁近傍の圧力
分布を調整し、より精度の高い研磨を実現することがで
きる。

【００３４】そして、このようにして研磨されたウェー
ハ２は、圧力調整装置１７の作動によって圧力調整孔１
２内の圧力を高圧状態とされることによって、インサー
ト１１から剥離されて、ヘッド１から離脱させられるこ
とになる。この場合に、インサート１１の吸着面１１ｂ
に開口している圧力調整孔１２は、ウェーハ２の外周縁
２ａ近傍に配置されているので、若干高圧状態とするだ
けで、ウェーハ２の外周縁２ａがインサート１１から離
間する方向に即座に変位させられて、ウェーハ２とイン
サート１１との吸着状態が解除される。

【００３５】したがって、圧力調整孔１２を半径方向の
内方位置に配置して、かなりの高圧空気を供給すること
によって初めて離脱されていた従来の場合と比較して、
製品としてのウェーハ２に生ずる応力が少なくて済み、
ウェーハ２が健全な状態に維持され、かつ、平坦度等の
形状精度にも悪影響を及ぼすことがない。

【００３６】また、周方向に等間隔を空けて設けられた
複数の圧力調整孔１２には加圧空気が均等に分配される
ので、ウェーハ２とインサート１１との剥離は、全周に
亙ってほぼ同時に実施され、ウェーハ２は水平状態を維
持したまま、ヘッド３から離脱・落下させられることに
なる。したがって、離脱させられた後のウェーハ２は、
特別の位置決め装置を使用することなく、安定して一定
位置に配されることとなるので、後工程におけるウェー
ハ２のハンドリング等を容易なものとすることができ
る。その結果、ウェーハ２の吸着、研磨、離脱、搬送ま
でを含めた研磨作業の自動化を容易に図ることができ
る。

【００３７】次いで、上記実施例の研磨装置１による研
磨の結果を、従来の研磨装置と比較して図３から図５に
示す。これらの研磨作業は、以下の条件に基づいて実施
されている。ウェーハ・・・・熱酸化処理を施した６インチのシ
リコンウェーハ研磨圧力・・・・０．５ｋｇｆ／ｃｍ² 研磨取り代・・・・５０００Å

【００３８】図３は、上記実施例の研磨装置１による研
磨結果の一例を示している。また、図４は、従来の研磨
装置による研磨結果の一例を示している。これによれ
ば、本実施例の研磨装置１では、少ない等高線が現われ
ており、ウェーハ２の表面は極めて平坦に形成されてい
るといえる。これに対し、従来の研磨装置による研磨結
果では、等高線が極めて密に現われており、ウェーハ２
の表面にはかなりの凹凸が生じている。図３の例では、
研磨精度１σは４．５％であり、図４の例では、研磨精
度１σは８．４％となっている。これら図４、図５にお
いて、正負符号は、平均取り代からの高低を示してい
る。

【００３９】また、図５は、上記研磨をそれぞれ５回ず
つ実施した場合における研磨精度を比較した図である。
これによれば、全ての実施結果において、本実施例の研
磨装置１によるウェーハ２表面の研磨精度が優れている
ことがわかる。

【００４０】なお、本実施例においては、圧力調整孔１
２の数を８個とし、周方向に等間隔を空けて配置するこ
ととしたが、これに代えて、３個以上の任意数の圧力調
整孔１２を設けることとしてよい。また、上記実施例の
ように、圧力調整孔１２を等間隔を空けて配設するもの
に代えて、２以上の圧力調整孔１２を近接配置した空孔
群を周方向に間隔を空けて均等配置する方法によっても
上記と同様の効果を達成することができる。

【００４１】さらに、圧力調整孔１２を、ウェーハ２の
外周縁２ａよりも半径方向内方に７．５ｍｍ程度の位置
に設けることとしたが、ウェーハ２の背面２ｄによって
閉塞される位置で、かつ、外周縁近傍、例えば、ウェー
ハ２の半径の１／３よりも外方に配置されていればよ
い。

【００４２】ここで、圧力調整孔１２の配置として望ま
しい範囲を図６に示す。図６は、上記実施例と同様の６
インチのウェーハ２に対して８個の圧力調整孔１２を配
設した場合であって、圧力調整孔１２内に供給する空気
圧力をパラメータとした、ウェーハ２の外周縁２ａから
の半径方向距離に対する剥離に要した時間を表す図であ
る。

【００４３】この図６によれば、圧力調整孔１２の位置
が半径方向内方に移行すればするほど、剥離所要時間は
増大し、圧力調整孔１２に供給する空気圧力を増大させ
ればさせるほど、剥離所要時間は減少することが分か
る。ここで、例えば、供給空気圧力として４ｋｇ／ｃｍ
²を想定し、剥離所要時間として５秒程度を許容するこ
ととすれば、圧力調整孔の位置は、ウェーハ２の外周縁
２ａから約２５ｍｍ程度まで許容される。

【００４４】したがって、圧力調整孔１２の位置はウェ
ーハ２の外周縁２ａから約２５ｍｍまでの範囲が望まし
いことになる。また、さらに望ましくは、ウェーハ２の
外周縁２ａから約１０ｍｍまでの範囲に圧力調整孔１２
が配置されているのがよい。また、本実施例において
は、圧力調整孔１２の口径を１．０ｍｍとしたが、これ
に限定されるものではなく、２ｍｍ程度あるいはそれ以
下の口径を採用することができる。但し、着脱用に使用
されるものであるから、極度に細い口径の圧力調整孔１
２では不適当であるから、少なくとも０．５ｍｍ以上の
口径であることが必要である。

【００４５】なお、図６における斜線部、すなわち、ウ
ェーハ外周縁から半径方向内方に７ｍｍの範囲は、上述
したようにウェーハ２の一端部に設けられている切欠２
ｃによってウェーハ２の存在しない領域に圧力調整孔１
２が重なること回避するための領域を示し、その切欠２
ｃの端縁よりも半径方向内方に圧力調整孔１２を配置す
ることが望まれる。

【００４６】しかし、これは、ヘッド３とウェーハ２の
位相を合わせることが現状で困難であるためである。し
たがって、圧力調整孔１２の位置にウェーハ２の切欠２
ｃが一致しないように、ウェーハ２の位相合わせをする
ことができれるのであれば、切欠２ｃの端縁よりも半径
方向外方に圧力調整孔１２を配置することができ、これ
によっても上記実施例における場合と同等の効果を得る
ことができる。

【００４７】また、本実施例においては、インサート１
１をポリウレタンよりなるものとしたが、これに限定さ
れることなく、シリコンゴム等の他の弾性材料を使用す
ることとしてもよい。さらに、本発明においては、シリ
コンウェーハ２を研磨する場合に限定されず、ハードデ
ィスク用のアルミニウム基板等、同様の薄肉円盤状の研
磨ワークの表面を研磨する研磨装置１１として適用する
ことができる。

【００４８】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明に係る研磨
装置は、ヘッドが、研磨ワークの背面全面に亙って密着
させられる弾性材料よりなる吸着体と、その背面を支持
する保持キャリアと、研磨ワークの外周縁を半径方向外
方から支持する支持リングとを具備し、吸着体および保
持キャリアを貫通して吸着面に開口し研磨ワークによっ
て閉鎖される複数の圧力調整孔が、研磨ワークの外周縁
近傍に周方向に均等に配設され、その圧力調整孔に圧力
調整手段が接続されているので、研磨ワークの研磨に際
して、吸着体表面全域に亙って研磨圧力を均等に作用さ
せ被研磨面の平坦度を向上することができるという効果
を奏する。

【００４９】また、研磨ワークの外周縁近傍に周方向に
均等に配されている圧力調整孔内の圧力を高めて吸着体
から研磨ワークを剥離するので、研磨ワークに過大な応
力を発生させることなく迅速に剥離を実施することがで
きる。また、均等配置された圧力調整孔により同時に剥
離を実施するので、離脱時の研磨ワークの姿勢を一定に
保持することができ、その後の搬送工程への位置合わせ
作業を不要とすることができる。したがって、ヘッドに
よる研磨ワークの吸着から研磨終了後の研磨ワークの搬
送に至るまでの全研磨作業の自動化を容易に図ることが
できる。

【００５０】また、上記研磨装置において、圧力調整孔
を吸着体に密着させられた研磨ワークの外周縁から半径
方向内方２５ｍｍまでの範囲内に設けることとすれば、
４ｋｇｆ／ｃｍ²程度の工場空気圧によっても５秒以内
に、研磨ワークをヘッドから離脱させることができる。
さらに、吸着体の吸着面に開口する圧力調整孔の口径を
０．５ｍｍから２ｍｍとすれば、研磨時における吸着体
の圧力調整孔近傍の局部的な変形を防止して、研磨ワー
クの製品精度を向上することができるという効果を奏す
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る研磨装置の一実施例を示すヘッド
付近の縦断面図である。

【図２】図１の研磨装置のヘッドを吸着面側から見た平
面図である。

【図３】図１の研磨装置により研磨された研磨ワークの
表面研磨精度を示す図である。

【図４】図３と対比される従来の研磨装置による研磨ワ
ークの表面研磨精度を示す図である。

【図５】図３および図４の研磨精度測定を複数回実施し
た結果を示す図である。

【図６】図１の研磨装置における圧力調整孔の配置の望
ましい範囲を示す図である。

【符号の説明】

１研磨装置２ウェーハ（研磨ワーク）３ヘッド４研磨盤４ａ研磨面９保持キャリア１０リテーナリング（支持リング）１１インサート（吸着体）１２・１３圧力調整孔１７圧力調整手段

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】円盤状の研磨ワークを支持するヘッド
と、該ヘッドとの間に相対移動させられる研磨面を有す
る研磨盤とを具備し、前記研磨面に研磨ワークを圧接さ
せた状態で、研磨ワークと研磨面とを摺動させることに
より研磨ワークの一表面を研磨する研磨装置であって、前記ヘッドが、前記研磨ワークの背面全面に亙って密着
させられる弾性材料よりなる吸着体と、該吸着体の背面
を支持する保持キャリアと、吸着体に密着させられた研
磨ワークの外周縁を半径方向外方から支持する支持リン
グとを具備するとともに、前記吸着体および保持キャリアを貫通して吸着体の吸着
面に開口し研磨ワークによって閉鎖される複数の圧力調
整孔が、研磨ワークの外周縁近傍に周方向に均等に配設
され、該圧力調整孔に、該圧力調整孔内の圧力を変化させる圧
力調整手段が接続されていることを特徴とする研磨装
置。
【請求項２】圧力調整孔が、吸着体に密着させられた
研磨ワークの外周縁から半径方向内方２５ｍｍまでの範
囲内に設けられていることを特徴とする請求項１記載の
研磨装置。
【請求項３】吸着体の吸着面に開口する圧力調整孔の
口径が０．５ｍｍから２ｍｍとされていることを特徴と
する請求項１または請求項２記載の研磨装置。