JPH0814995B2 - 半導体メモリ - Google Patents

半導体メモリ

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JPH0814995B2
JPH0814995B2 JP1830689A JP1830689A JPH0814995B2 JP H0814995 B2 JPH0814995 B2 JP H0814995B2 JP 1830689 A JP1830689 A JP 1830689A JP 1830689 A JP1830689 A JP 1830689A JP H0814995 B2 JPH0814995 B2 JP H0814995B2
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    • G11C17/00Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards
    • G11C17/08Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements
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    • G11C17/12Read-only memories programmable only once; Semi-permanent stores, e.g. manually-replaceable information cards using semiconductor devices, e.g. bipolar elements in which contents are determined during manufacturing by a predetermined arrangement of coupling elements, e.g. mask-programmable ROM using field-effect devices

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Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、MOS(絶縁ゲート型)トランジスタを用い
てなるセンス回路に係り、特に、プログラマブル・ロジ
ック・アレイ(PLA)、マスクROMや、不揮発性メモリな
どのリード・オンリ・メモリ(ROM)に使用されるセン
ス回路に関する。
(従来の技術) 第12図は、ROMの回路構成の一部を示している。ここ
では、メモリセルが二次元の格子状(例えば説明の簡単
化のために6行×24列)に配列されたメモリセルアレイ
MAおよびその周辺回路の一部を示している。このメモリ
セルアレイMAは、各列線(ビット線)BL1〜BL24ごとに
複数個のメモリセル(例えばNチャネルMOSトランジス
タ)が並列に接続され、この各NチャンネルMOSトラン
ジスタのゲートに各行線(ワード線)WL1〜WL6が接続さ
れており、プログラマブル・ロジック・アレイ(PLA)
により構成されている。
ワード線WL1〜WL6は、入力端子101〜106からの信号IN
1〜IN6がインバータ107〜112により反転されたワード線
駆動信号▲▼〜▲▼により駆動され、ビッ
ト線BL1〜BL24に読出された信号はそれぞれセンス回路S
A1〜SA24によりセンスされ、このセンス回路SA1〜SA24
の出力は、例えば8列ごとに設けられた8入力オア回路
OR1〜OR3を経て出力端子113〜115に出力される。
第13図は、第12図中の1列分の回路(例えば第1列目
の回路)を代表的に取出し、その従来例を示している。
即ち、第13図において、N1〜N6は並列接続されたメモリ
セル用のNチャネルMOSトランジスタであり、各ソース
相互接続点が基準電位である接地電位Vssに接続され、
各ドレインがビット線BLに接続され、各ゲートにはワー
ド線駆動信号IN1〜IN6のうちの1つが入力する。
ビット線BLに入力端が接続されているセンス回路SAに
おいて、TP1は電源電位Vccとビット線BLとの間にソース
・ドレイン間が接続されているプリチャージ用のPチャ
ネルMOSトランジスタ、TP2は同じくVcc電位とビット線B
Lとの間にソース・ドレイン間が接続されているハイレ
ベル保持用のPチャネルMOSトランジスタ、IV1はビット
線BLに入力端が接続された第1のインバータ、IV2はこ
の第1のインバータIV1の出力を反転して出力信号OUTと
する第2のインバータであり、この出力信号OUTは第12
図のオア回路113に入力する。プリチャージ用のトラン
ジスタTP1のゲートにはプリチャージ信号▲▼が入
力し、ハイレベル保持用のトランジスタTP2のゲートに
は第1のインバータIV1の出力が入力する。
次に、上記センス回路の動作について、第14図および
第15図を参照して説明する。第14図は、出力信号OUTが
ハイレベル(“H")からロウレベル(“L")に変化する
場合の様子を示しており、初期状態(図示期間A)で
は、ワード線駆動信号▲▼〜▲▼がそれぞ
れ“L"、NチャネルMOSトランジスタN1〜N6はそれぞれ
オフになっており、プリチャージ信号▲▼は“H"、
プリチャージ用のトランジスタTP1はオフになってお
り、ハイレベル保持用のトランジスタTP2はオンになっ
ており、このハイレベル保持用のトランジスタTP2によ
りビット線BLは“H"レベルが供給されており、第1のイ
ンバータIV1の出力は“L"であり、この“L"によってハ
イレベル保持用のトランジスタTP2がオンになってい
る。
この後、図示の期間Bのように、先ず、プリチャージ
信号▲▼が活性化レベル“L"になり、引き続き、ワ
ード線駆動信号▲▼〜▲▼のうちの例えば
▲▼以外の信号▲▼〜▲▼は“L"を
保持したままで信号▲▼が活性化レベル“H"に遷
移すると、プリチャージ用のトランジスタTP1がオンに
なった後にNチャネルMOSトランジスタN1がオンにな
る。これにより、ビット線BLの電位は“L"に遷移し始め
るが、オン状態のプリチャージ用のトランジスタTP1お
よびハイレベル保持用のトランジスタTP2から電流が供
給されているので、徐々に遷移し始める。このビット線
BLの電位が第1のインバータIV1の閾値電圧VTH1より低
くなると、この第1のインバータIV1は反転し、その出
力が“L"から“H"に遷移し始める。この第1のインバー
タIV1の出力の電位が第2のインバータIV2の閾値電圧V
TH2より高くなると、第2のインバータIV2が反転し、出
力信号OUTは“L"になる。また、第1のインバータIV1の
出力“H"によりハイレベル保持用のトランジスタTP2は
オフになる。
この後、図示の期間Cのように、信号IN1は“H"、残
りの信号▲▼〜▲▼は“L"を保持したまま
でプリチャージ信号▲▼が非活性化レベル“H"にな
ると、プリチャージ用のトランジスタTP1がオフにな
り、ビット線BLはオン状態のNチャネルMOSトランジス
タN1により“L"状態に保持され、第1のインバータIV1
の出力は“H"状態に保持され、第2のインバータIV2の
出力信号OUTは“L"状態に保持される。
第15図は、出力信号OUTが“L"から“H"に変化する場
合の様子を示しており、初期状態(図示期間A)では、
ワード線駆動信号▲▼〜▲▼のうちの例え
ば信号▲▼以外の信号▲▼〜▲▼は
“L"、信号▲▼は“H"になっており、Nチャネル
MOSトランジスタN1〜N6のうちのトランジスタN1はオン
状態、残りのトランジスタN2〜N6はオフ状態になってい
る。プリチャージ信号▲▼は“H"、プリチャージ用
のトランジスタTP1はオフになっており、ハイレベル保
持用のトランジスタTP2もオフになっており、ビット線B
Lはオン状態のトランジスタN1により“L"レベルが供給
されており、第1のインバータIV1の出力は“H"であ
り、この“H"によってハイレベル保持用のトランジスタ
TP2がオフになっている。
この後、図示の期間Bのように、先ず、プリチャージ
信号▲▼が活性化レベル“L"になり、引き続き、ワ
ード線駆動信号▲▼〜▲▼のうちの信号▲
▼以外の信号▲▼〜▲▼は“L"を保
持したままで信号▲▼が非活性化レベル“L"に遷
移すると、プリチャージ用のトランジスタTP1がオンに
なった後にNチャネルMOSトランジスタN1がオフにな
る。これにより、ビット線BLは“H"に遷移し始める。こ
のビット線BLの電位が第1のインバータIV1の閾値電位
VTH1より高くなると、この第1のインバータIV1は反転
し、その出力が“H"から“L"に遷移し始める。この第1
のインバータIV1の出力の電位が第2のインバータIV2の
閾値電圧VTH2より低くなると、第2のインバータIV2が
反転し、出力信号OUTは“H"になる。また、第1のイン
バータIV1の出力“L"によりハイレベル保持用のトラン
ジスタTP2がオンになる。
この後、図示の期間Cのように、ワード線駆動信号▲
▼〜▲▼が“L"を保持したままでプリチャ
ージ信号▲▼が非活性化レベル“H"になると、プリ
チャージ用のトランジスタTP1がオフになり、ビット線B
Lはオン状態のハイレベル保持用のトランジスタTP2によ
り“H"状態に保持され、第1のインバータIV1の出力は
“L"状態に保持され、第2のインバータIV2の出力信号O
UTは“H"状態に保持される。
しかし、上記センス回路においては、ワード線駆動信
号入力が“H"に遷移してから出力信号OUTが“L"に変化
するまでの時間(第14図中のtpHL)、およびワード線駆
動信号入力が“L"に遷移してから出力信号OUTが“H"に
変化するまでの時間(第15図中のtpLH)が大きく、セン
ス回路の動作速度が遅いという問題がある。
以下、この問題点について詳述する。プリチャージ用
のトランジスタTP1のオン抵抗をRp1、ハイレベル保持用
のトランジスタTP2のオン抵抗をRp2、NチャネルMOSト
ランジスタN1〜N6のそれぞれのオン抵抗をRN、“H"レ
ベルの電位をVcc(例えば5V)、“L"レベルの電位を0
(V)で表わし、第1のインバータIV1の閾値電圧VTH1
を例えばVcc/2に設定したとする。第14図中の期間Bに
出力信号OUTが“H"から“L"へ遷移するためには、この
ときプリチャージ用のトランジスタTP1およびハイレベ
ル保持用のトランジスタTP2がそれぞれオンしているの
で、ビット線BLの電位VBLが第1のインバータの閾値電
圧VTH1より低くなる必要がある。これを式で表わす
と、 となる。この不等式を解くと、 を得る。つまり、(1)式は、プリチャージ用のトラン
ジスタTP1のオン抵抗Rp1およびハイレベル保持用のト
ランジスタTP2のオン抵抗Rp2の並列抵抗値がNチャネ
ルMOSトランジスタN1のオン抵抗RNよりも大きくなる必
要があることを示している。この場合、一般に、半導体
メモリにおいて、NチャネルMOSトランジスタはデザイ
ンルールの最小寸法を用いるのでそのオン抵抗RNは大
きく、このNチャネルMOSトランジスタのオン抵抗RNよ
りもプリチャージ用のトランジスタTP1のオン抵抗Rp1
およびハイレベル保持用のトランジスタTP2のオン抵抗
Pp2の並列抵抗値が大きくなる必要があるということ
は、このプリチャージ用のトランジスタTP1のオン抵抗
Rp1およびハイレベル保持用のトランジスタTP2のオン
抵抗Rp2をそれぞれかなり大きく設定する必要がある。
このことは、伝達時間tp∝オン抵抗の関係からみれば、
伝達時間tpが増大する要因になり、前記したように信号
入力が遷移してから出力信号OUTが変化するまでの時間
(第14図中のtpHL)が大きくなることを意味し、センス
回路の動作速度が遅くなる原因になる。
また、前記センス回路においては、出力信号OUTが
“H"から“L"に変化する場合の時間tpHLと出力信号OUT
が“L"から“H"に変化する場合の時間tpLHとの間に、tp
HL>tpLHの関係がある。この理由を述べると、第14図に
示したように、出力信号OUTが“H"から“L"に変化する
場合には、期間Bにおいてプリチャージ信号▲▼が
“L"に遷移した後に信号▲▼が“H"に遷移した
時、ビット線BLの電位は“L"に遷移し始めるが、オン状
態のプリチャージ用のトランジスタTP1およびハイレベ
ル保持用のトランジスタTP2から電流が供給されている
ので徐々に遷移し、信号▲▼が“H"に遷移してか
ら少し後に出力信号OUTのレベル遷移が始まることにな
り、tpHLは大きい。これに対して、第15図に示したよう
に、出力信号OUTが“L"から“H"に変化する場合には、
期間Bにおいてプリチャージ信号PRが“L"に遷移した
時、ビット線BLの電位は直ぐに“H"に遷移し始めるの
で、プリチャージ信号PRが“L"に遷移した直後に出力信
号OUTのレベル遷移が始まることになり、tpLHは小さ
い。
(発明が解決しようとする課題) 上記したように従来のセンス回路は、センス回路は、
センス動作の条件としてプリチャージ用のトランジスタ
のオン抵抗およびハイレベル保持用のトランジスタのオ
ン抵抗をそれぞれかなり大きく設定する必要があり、信
号入力が遷移してから出力信号が変化するまでの時間が
大きく、動作速度が遅いという問題がある。
本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、
その目的は、信号入力が遷移してから出力信号が変化す
るまでの時間が小さくなり、センス回路の動作速度が速
くなり、しかも消費電流の低減化が可能となり、半導体
メモリに使用して好適なセンス回路を提供することにあ
る。
また、本発明は、電源電圧が例えば5Vから2V程度まで
の広い範囲にわたり、正常な動作が可能となり、しかも
高速性を有し、半導体メモリに使用して好適なセンス回
路を提供することを目的とする。
[発明の構成] (課題を解決するための手段) 第1の発明に係るセンス回路は、電源電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に電源電位を伝達
する電源電位伝達手段と、上記入力端の電位とは逆相の
信号がゲートに与えられ、前記電源電位と入力端との間
で電源電位伝達手段に直列に接続された第1のNチャネ
ルMOSトランジスタとを具備することを特徴とする。
第2の発明に係るセンス回路は、電源電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に電源電位を伝達
する電源電位伝達手段と、上記入力端と基準電位との間
に接続されて恒常的または一時的に基準電位を伝達する
基準電位伝達手段と、上記入力端の電位とは逆相の信号
がそれぞれのゲートに与えられ、前記電源電位と入力端
との間で電源電位伝達手段に直列に接続された第1のN
チャネルMOSトランジスタおよび上記入力端と基準電位
伝達手段との間で基準電位伝達手段に直列に接続された
第1のPチャネルMOSトランジスタとを具備することを
特徴とする。
第3の発明に係るセンス回路は、電源電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に電源電位を伝達
する電位伝達手段と、上記入力端の電位と同相の信号が
ゲートに与えられ、前記電源電位と上記入力端との間で
前記電位伝達手段に直列に接続された第1のMOSトラン
ジスタとを具備することを特徴とする。
第4の発明に係るセンス回路は、電源電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に電源電位を伝達
する第1の電位伝達手段と、上記入力端の電位と逆相の
信号がゲートに与えられ、前記電源電位と上記入力端と
の間で第1の電位伝達手段に直列に接続された第1のMO
Sトランジスタと、電源電位と入力端との間に接続され
て恒常的または一時的に電源電位を伝達する第2の電位
伝達手段と、上記入力端の電位と同相の信号がゲートに
与えられ、前記電源電位と上記入力端との間で第2の電
位伝達手段に直列に接続され、前記第1のMOSトランジ
スタとは逆導電型の第2のMOSトランジスタとを具備す
ることを特徴とする。
第5の発明に係るセンス回路は、基準電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に基準電位を伝達
する電位伝達手段と、上記入力端の電位と同相の信号が
ゲートに与えられ、前記基準電位と上記入力端との間で
前記電位伝達手段に直列に接続された第1のMOSトラン
ジスタとを具備することを特徴とする。
第6の発明に係るセンス回路は、基準電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に基準電位を伝達
する第1の電位伝達手段と、上記入力端の電位と逆相の
信号がゲートに与えられ、前記基準電位と上記入力端と
の間で第1の電位伝達手段に直列に接続された第1のMO
Sトランジスタと、基準電位と入力端との間に接続され
て恒常的または一時的に基準電位を伝達する第2の電位
伝達手段と、上記入力端の電位と同相の信号がゲートに
与えられ、前記基準電位と上記入力端との間で第2の電
位伝達手段に直列に接続され、前記第1のMOSトランジ
スタとは逆導電型の第2のMOSトランジスタとを具備す
ることを特徴とする。
第7の発明に係るセンス回路は、電源電位と入力端と
の間に接続されて恒常的または一時的に電源電位を伝達
する第1の電源電位伝達手段と、上記入力端と基準電位
との間に接続されて恒常的または一時的に基準電位を伝
達する基準電位伝達手段と、上記入力端の電位とは逆相
の信号がそれぞれのゲートに与えられ、前記電源電位と
入力端との間で第1の電源電位伝達手段に直列に接続さ
れた第1のNチャネルMOSトランジスタおよび上記入力
端と基準電位伝達手段との間で基準電位伝達手段に直列
に接続された第1のPチャネルMOSトランジスタと、電
源電位と入力端との間に接続されて恒常的または一時的
に電源電位を伝達する第2の電源電位伝達手段と、上記
入力端の電位と同相の信号がゲートに与えられ、前記電
源電位と上記入力端との間で第2の電源電位伝達手段に
直列に接続された第2のPチャネルMOSトランジスタと
を具備することを特徴とする。
(作用) 第1の発明に係るセンス回路においては、入力端の電
位が“L"に遷移し始める時、この時に電源電位伝達手段
からの電流の供給はオフ状態の第1のNチャネルMOSト
ランジスタにより遮断され、入力端の電位の遷移が一層
速くなる。また、センス動作の条件として電源電位伝達
手段のオン抵抗を低く設定することが可能となる。これ
により、入力端の電位が“L"に遷移し始めてから出力信
号のレベル遷移が始まるまでの時間tpHLが一層短くな
る。
第2の発明に係るセンス回路においては、入力端の電
位が“L"に遷移し始める時、この時に電源電位伝達手段
からの電流の供給はオフ状態の第1のNチャネルMOSト
ランジスタにより遮断され、しかも、この時にオン状態
になっている第1のPチャネルMOSトランジスタおよび
基準電位伝達手段との直列回路を通して入力端の電荷が
基準電位に放電されるようになり、入力端の電位の遷移
が一層速くなる。また、センス動作の条件として電源電
位伝達手段のオン抵抗を低く設定することが可能とな
る。これにより、入力端の電位が“L"に遷移し始めてか
ら出力信号のレベル遷移が始まるまでの時間tpHLおよび
入力端の電位が“H"に遷移し始めてから出力信号のレベ
ル遷移が始まるまでの時間tpLHが一層短くなる。また、
第1のNチャネルMOSトランジスタおよび第1のPチャ
ネルMOSトランジスタのスイッチング動作時に直流電流
が流れることはなく、低消費電力化が可能となる。
第3の発明に係るセンス回路においては、入力端の電
位が“L"に遷移し始めた時、この時にオフ状態になって
いる第1のMOSトランジスタによって電位伝達手段から
の電流の供給が遮断され、入力端の電位の“L"への遷移
が速くなり、入力端の電位が“L"に遷移し始めてから出
力信号のレベル遷移が始まるまでの時間tpHLが一層短く
なる。また、入力端の電位が“H"に遷移し始めた時、オ
ン状態の電位伝達手段および第1のMOSトランジスタの
直列回路を介して入力端に電流が供給され、入力端の電
位が後段の回路の所定の閾値電圧を越えるようになり、
センス動作が可能となる。従って、このセンス回路は、
電源電位が5V〜2Vで動作可能であり、5Vで高速動作を達
成でき、2Vでも確実に動作する。
第4の発明に係るセンス回路においては、入力端の電
位が“L"に遷移し始める時、この時に第1の電位伝達手
段からの電流の供給はオフ状態の第1のMOSトランジス
タにより遮断され、入力端の電位の“L"への遷移が一層
速くなる。また、センス動作の条件として第1の電位伝
達手段のオン抵抗を低く設定することが可能となる。こ
れにより、入力端の電位が“L"に遷移し始めてから出力
信号のレベル遷移が始まるまでの時間tpHLが一層短くな
る。また、入力端の電位が“H"に遷移し始めた時、オン
状態の第2の電位伝達手段および第2のMOSトランジス
タの直列回路を介して入力端に電流が供給され、入力端
の電位が後段の回路の所定の閾値電圧を越えるようにな
り、センス動作が可能となる。従って、このセンス回路
は、電源電位が5V〜2Vで動作可能であり、5Vで高速動作
を達成でき、2Vでも確実に動作する。
第5の発明に係るセンス回路においては、入力端の電
位が“H"に遷移し始めた時、この時にオフ状態になって
いる第1のMOSトランジスタによって入力端が基準電位
から遮断され、入力端の電位の“H"への遷移が速くな
り、入力端の電位が“H"に遷移し始めてから出力信号の
レベル遷移が始まるまでの時間tpLHが一層短くなる。ま
た、入力端の電位が“L"に遷移し始めた時、オン状態の
電位伝達手段および第1のMOSトランジスタの直列回路
を介して入力端の電荷が放電され、入力端の電位が後段
の回路の所定の閾値電圧以下に低下するようになり、セ
ンス動作が可能となる。従って、このセンス回路は、電
源電位が5V〜2Vで動作可能であり、5Vで高速動作を達成
でき、2Vでも確実に動作する。
第6の発明に係るセンス回路においては、入力端の電
位が“H"に遷移し始める時、この時にオフ状態になって
いる第1のMOSトランジスタによって入力端が基準電位
から遮断され、入力端の電位の“H"への遷移が一層速く
なる。また、センス動作の条件として第1の電位伝達手
段のオン抵抗を低く設定することが可能となる。これに
より、入力端の電位が“H"に遷移し始めてから出力信号
のレベル遷移が始まるまでの時間tpLHが一層短くなる。
また、入力端の電位が“L"に遷移し始めた時、オン状態
の第2の電位伝達手段および第2のMOSトランジスタの
直列回路を介して入力端の電荷が放電され、入力端の電
位が後段の回路の所定の閾値電圧以下に低下するように
なり、センス動作が可能となる。従って、このセンス回
路は、電源電位が5V〜2Vで動作可能であり、5Vで高速動
作を達成でき、2Vでも確実に動作する。
第7の発明に係るセンス回路においては、第2の発明
に係るセンス回路の効果と第4の発明に係るセンス回路
の効果とが同時に得られ、入力端の電位が“L"に遷移し
始めてから出力信号のレベル遷移が始まるまでの時間tp
HLおよび入力端の電位が“H"に遷移し始めてから出力信
号のレベル遷移が始まるまでの時間tpLHが一層短くなる
と共に、電源電位が5V〜2Vで動作可能であり、5Vで高速
動作を達成でき、2Vでも確実に動作する。
(実施例) 以下、図面を参照して本発明の一実施例を詳細に説明
する。
第1図は、第12図に示したようなROMにおける1列分
の回路(例えば第1列目の回路)を代表的に取出して示
しており、第13図を参照して前述した従来例の回路と比
べてセンス回路SA″が異なり、その他は同じであるので
第13図中と同一符号を付してその説明を省略する。この
センス回路SA″は、第13図を参照して前述した従来のセ
ンス回路SAと比べて、電源電位とビット線BLとの間で電
源電位伝達手段(例えば前記したようなプリチャージ用
のトランジスタTP1)に直列に、ゲートに第1のインバ
ータIV1の出力が与えられるNチャネルMOSトランジスタ
TN1が付加挿入されている点が異なり、その他は同じで
あるので第13図中と同一符号を付してその説明を省略す
る。
このセンス回路SA″の基本的な動作は、第14図および
第15図に示したような第13図の従来のセンス回路SAの動
作と同様に第2図および第3図に示すように行われるの
でその詳述は省略するが、ワード線駆動信号▲▼
が“H"に遷移してから出力信号OUTのレベル遷移が始ま
るまでの時間tpHL、およびワード線駆動信号▲▼
が“L"に遷移してから出力信号OUTのレベル遷移が始ま
るまでの時間tpLHが一層短くなるように改善される。以
下、付加された回路部分の動作を説明する。
即ち、第2図に示した出力信号OUTが“H"になってい
る初期状態の期間Aでは、第1のインバータIV1の“L"
出力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオフ、P
チャネルMOSトランジスタTP2がオンになっており、この
後の期間Bにおいてプリチャージ信号▲▼が活性化
し、さらに、ワード線駆動信号▲▼が“H"に遷移
した時、メモリセル用のNチャネルMOSトランジスタN1
がオンし、メモリセル用のNチャネルMOSトランジスタN
1〜N6群からなる論理回路の出力によりビット線BLの電
位は“L"に遷移し始めるが、この時にオン状態になって
いるプリチャージ用のトランジスタTP1からの電流の供
給はオフ状態のNチャネルMOSトランジスタTN1により遮
断されるようになり、ビット線BLの電位の遷移が一層速
くなるのである。
この場合、ハイレベル保持用のPチャネルMOSトラン
ジスタTP2がオン状態になっているが、通常、このハイ
レベル保持用のPチャネルMOSトランジスタTP2のオン抵
抗は非常に大きく設定するので、ビット線BLの電位の遷
移速度に影響を及ぼすことはない。従って、ワード線駆
動信号▲▼が“H"に遷移してから出力信号が“H"
から“L"に変化するまでの時間tpHLが小さくなり、セン
ス回路SA″のスイッチング動作速度が速くなる。
この後の期間Cにおいて、プリチャージ信号▲▼
が非活性状態になると、第1のインバータIV1の“H"出
力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオン、Pチ
ャネルMOSトランジスタTP2がオフになる。
また、第3図に示した出力信号OUTが“L"になってい
る初期状態の期間Aでは、第1のインバータIV1の“H"
出力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオン、P
チャネルMOSトランジスタTP2がオフになっており、この
後の期間Bにおいてプリチャージ信号▲▼が活性化
し、さらに、ワード線駆動信号▲▼が“L"に遷移
した時、ビット線BLの電位は“H"に遷移し始めるが、こ
の時にオン状態になっているプリチャージ用のトランジ
スタTP1とNチャネルMOSトランジスタTN1との直列回路
から電流が供給されるようになり、ビット線BLの電位は
速く“H"に遷移するようになる。
この後の期間Cにおいて、プリチャージ信号▲▼
が非活性状態になると、第1のインバータIV1の“L"の
出力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオフ、P
チャネルMOSトランジスタTP2がオンになる。
次に、上記センス回路SA″によれば、センス動作の条
件としてプリチャージ用のトランジスタTP1のオン抵抗
を従来例のものよりも低く設定することが可能となり、
一層の高速化が可能となることについて詳述する。
プリチャージ用のトランジスタTP1のオン抵抗をRp
1、ハイレベル保持用のトランジスタTP2のオン抵抗をR
p2、NチャネルMOSトランジスタTN1のオン抵抗をRn1、
NチャネルMOSトランジスタN1〜N6のそれぞれのオン抵
抗をRN、“H"レベルの電位をVcc(例えば5V)、“L"レ
ベルの電位を0(V)で表わし、第1のインバータIV1
の閾値電位VTH1を例えばVcc/2に設定したとする。第2
図中の期間Dには、ビット線BLはオン状態のプリチャー
ジ用のトランジスタTP1およびNチャネルMOSトランジス
タTN1の直列回路から電流が供給されており、このビッ
ト線BLの電位VBLが第1のインバータIV1の閾値電圧VT
H1より低くなる必要がある。これを式で表わすと、 となる。この不等式を解くと、 RN<Rp1+Rn1 ……(2) を得る。つまり、プリチャージ用のトランジスタTP1の
オン抵抗Rp1およびNチャネルMOSトランジスタTN1のオ
ン抵抗Rn1の直列抵抗値がNチャネルMOSトランジスタN
1のオン抵抗RNよりも大きくなる必要があることを示し
ている。この場合、NチャネルMOSトラジスタTN1は、そ
のソースがビット線BLに接続されてるので、ビット線BL
の電位の上昇につれてバックゲート効果によりそのオン
抵抗Rn1が大きくなる。そこで、プリチャージ用のトラ
ンジスタTP1のオン抵抗Rp1を、従来例のプリチャージ
用のトランジスタTP1のオン抵抗Rp1より小さくして
も、プリチャージ用のトランジスタTP1のオン抵抗Rp1
およびNチャネルMOSトランジスタTN1のオン抵抗Rn1の
直列抵抗値は上式(2)を満足できる。
従って、伝達時間tp∝オン抵抗の関係からみれば、伝
達時間tpが減少する要因になり、第3図の期間Bにおい
て、プリチャージ信号▲▼が活性化し、さらに、ワ
ード線駆動信号▲▼が“L"に遷移した時、ビット
線BLの電位は“H"に遷移し始めるが、この時にオン状態
になっているプリチャージ用のトランジスタTP1とNチ
ャネルMOSトランジスタTN1との直列回路から電流が速く
供給されるようになり、ビット線BLの電位は速く“H"に
遷移するようになるので、ワード線駆動信号▲▼
が“L"に遷移してから出力信号OUTが変化するまでの時
間tpLHが小さくなることを意味し、センス回路SA″のス
イッチング動作速度が速くなる。
また、上記センス回路SA″によれば、スイッチング動
作時に直流電流が流れることはなく、低消費電力化が可
能となる。
なお、上記実施例では、プリチャージ用のトランジス
タTP1をプリチャージ信号▲▼により一時的にオン
させたが、恒常的にオンさせるようにしても、上記実施
例と同様の効果が得られる。
第4図は、第1図のセンス回路をさらに発展させた実
施例を示しており、第1図のセンス回路に対して、ビッ
ト線BLと接地電位Vssとの間に、ゲートに第1のインバ
ータIV1の出力が与えられるPチャネルMOSトランジスタ
TP3、および基準電位伝達手段(例えばゲートにプリチ
ャージ信号▲▼とは相捕的なディスチャージ信号PR
が与えられるディスチャージ用のNチャネルMOSトラン
ジスタTN2)が直列に付加接続されている。
このセンス回路の基本的な動作は、第2図および第3
図に示したような第1図のセンス回路SA″の動作と同様
に行われるのでその詳述は省略するが、第1図のセンス
回路SA″と同様にワード線駆動信号▲▼が“H"に
遷移してから出力信号OUTのレベル遷移が始まるまでの
時間tpHLが一層短くなるように改善される。以下、付加
された回路部分の動作を説明する。
即ち、第16図に示した出力信号OUTが“H"になってい
る初期状態の期間Aでは、第1のインバータIV1の“L"
出力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオフ、P
チャネルMOSトランジスタTP2およびTP3がオンになって
おり、この後の期間Bにおいてプリチャージ信号▲
▼が活性化すると、PチャネルMOSトランジスタTP1及び
NチャネルMOSトランジスタTN2がオンになる。そして、
ビット線BLの電荷は、PチャネルMOSトランジスタTP3と
NチャネルMOSトランジスタTN2の直列回路を通して接地
電位Vssに放電される。この時、ビット線BLの電位が第
1のインバータIV1の閾値を下回ることがないように、
各MOSトランジスタのオン抵抗が設定されている。さら
に、ワード線駆動信号▲▼が“H"に遷移した時、
メモリセル用のNチャネルMOSトランジスタN1がオン
し、メモリセル用のNチャネルMOSトランジスタN1〜N6
群からなる論理回路の出力によりビット線BLの電位は
“L"に遷移し始めるが、この時にオン状態になっている
プリチャージ用のトランジスタTP1からの電流の供給は
オフ状態のNチャネルMOSトランジスタTN1により遮断さ
れ、しかも、この時にオン状態になっているPチャネル
MOSトランジスタTP3とディスチャージ用のNチャネルMO
SトランジスタTN2との直列回路、およびメモリセル用の
NチャネルMOSトランジスタN1を通してビット線BLの電
荷が接地電位Vssに放電されるようになり、ビット線BL
の電位の遷移が一層速くなるのである。
この場合、ハイレベル保持用のPチャネルMOSトラン
ジスタTP2がオン状態になっているが、通常、このハイ
レベル保持用のPチャネルMOSトランジスタTP2のオン抵
抗は非常に大きく設定するので、ビット線BLの電位の遷
移速度に影響を及ぼすことはない。従って、ワード線駆
動信号▲▼が“H"に遷移してから出力信号が“H"
から“L"に変化するまでの時間tpHLが小さくなり、セン
ス回路SA″のスイッチング動作速度が速くなる。
この後の期間Cにおいて、プリチャージ信号▲▼
が非活性状態になると、第1のインバータIV1の“H"出
力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオン、Pチ
ャネルMOSトランジスタTP2およびTP3がオフになる。
また、第3図に示した出力信号OUTが“L"になってる
初期状態の期間Aでは、第1のインバータIV1の“H"出
力によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオン、Pチ
ャネルMOSトランジスタTP2およびTP3がオフになってお
り、この後の期間Bにおいてプリチャージ信号▲▼
が活性化し、さらに、ワード線駆動信号▲▼が
“L"に遷移した時、ビット線BLの電位は“H"に遷移し始
めるが、この時にオン状態になっているプリチャージ用
のトランジスタTP1とNチャネルMOSトランジスタTN1と
の直列回路から電流が供給され、しかも、ビット線BLの
電荷の放電はオフ状態のディスチャージ用のNチャネル
MOSトランジスタTN2により遮断されるようになり、ビッ
ト線BLの電位は速く“H"に遷移するようになる。
この後の期間Cにおいて、プリチャージ信号▲▼が
非活性状態になると、第1のインバータIV1の“L"出力
によってNチャネルMOSトランジスタTN1がオフ、Pチャ
ネルMOSトランジスタTP2およびTP3がオンになる。
また、上記センス回路SA″においても、スイッチング
動作時に直流電流が流れることはなく、低消費電力化が
可能となる。
なお、上記実施例では、プリチャージ用のトランジス
タTP1およびディスチャージ用のトランジスタTN2をプリ
チャージ信号▲▼およびディスチャージ信号PRによ
り一時的にオンさせたが、恒常的にオンさせるようにし
ても、上記実施例と同様の効果が得られる。
第5図は、第4図のセンス回路の変形例を示してお
り、第4図のセンス回路のプリチャージ用のPチャネル
MOSトランジスタTP1に代えて、それぞれ相異なる3個の
制御信号S1〜S3が各ゲートに与えられる3個のPチャネ
ルMOSトランジスタTP41〜TP43が直列接続されて用いら
れ、ディスチャージ用のNチャネルMOSトランジスタTN2
に代えて、それぞれ相異なる2個の制御信号S4、S5が各
ゲートに与えられる2個のNチャネルMOSトランジスタT
N44、TN45が直列接続されて用いられるように変更され
ている。従って、制御信号S1〜S3がそれぞれ“L"の時に
PチャネルMOSトランジスタTP41〜TP43がそれぞれオン
になり、制御信号S4、S5がそれぞれ“H"の時にNチャネ
ルMOSトランジスタTN44、TN45がそれぞれオンになる点
が、第4図のセンス回路の動作と異なる。
ところで、上記各実施例のセンス回路は、電源電圧が
5V±0.5Vで動作可能であるが、電源電圧Vccが例えば2V
程度の低い電圧になると、出力信号OUTが“L"から“H"
に変化する場合の正常な動作が不可能になる。即ち、Vc
c電位が2V、第1のインバータIV1の閾値電圧VTH1が1
V、NチャネルMOSトランジスタTN1の閾値電圧VTHNが1V
であるとすると、第3図に示した出力信号OUTが“L"に
なっている初期状態の期間Aでは、第1のインバータIV
1の“H"出力によってNチャネルMOSトランジスタTN1が
オンになっており、この後の期間Bにおいてプリチャー
ジ信号▲▼が活性化し、さらに、信号▲▼が
“L"に遷移した時、ビット線BLの電位は“H"に遷移し始
めるが、Vcc電位から上記NチャネルMOSトランジスタTN
1の閾値電圧VTHNを差引いたレベル(2V−1V=1V)まで
しか上昇しなくなり、ビット線BLの電位が第1のインバ
ータIV1の閾値電圧VTH1を越えることができなくなり、
第1のインバータIV1の出力が“H"のまま、第2のイン
バータIV2の出力信号OUTが“L"のままになってしまう。
これに対して、以下、Vcc電位が5V〜2Vで動作可能で
あり、5Vで高速動作を達成でき、2Vでも確実に動作する
ように改善されたセンス回路を説明する。
第6図に示すセンス回路は、第1図に示したセンス回
路と比べて、NチャネルMOSトランジスタTN1を用いず
に、Vcc電位とビット線BLとの間でプリチャージ用のト
ランジスタTP1に直列に、ゲートに第2のインバータIV2
の出力信号OUTが与えられるPチャネルMOSトランジスタ
TP4が挿入されている点が異なり、その他は同じである
ので第1図中と同一符号を付してその説明を省略する。
第6図のセンス回路の基本的な動作は、第2図および
第3図に示したような第1図のセンス回路の動作と同様
に行われるのでその詳述は省略するが、ワード線駆動信
号▲▼が“H"に遷移してから出力信号OUTのレベ
ル遷移が始まるまでの時間tpHLが短くなるので、センス
動作が高速化すると共に動作電源電圧が5Vから2V程度の
範囲まで拡大している。以下、付加された回路部分の動
作を説明する。
出力信号OUTが“H"から“L"に変化する場合に、第7
図に示すように、出力信号OUTが“H"になっている初期
状態の期間Aでは、第1のインバータIV1の“L"出力に
よってハイレベル保持用のPチャネルMOSトランジスタT
P2がオンになっており、第2のインバータIV2の“H"出
力によってPチャネルMOSトランジスタTP4がオフになっ
ている。この後の期間Bにおいて、プリチャージ信号▲
▼が活性化してからΔt時間後にワード線駆動信号
▲▼が“H"に遷移した時、メモリセル用のNチャ
ネルMOSトランジスタN1がオンになり、ビット線BLの電
位は“L"に遷移し始めるが、この時にオフ状態になって
いるPチャネルMOSトランジスタTP4によってVcc電位か
らの電流の供給が遮断される。従って、ビット線BLの電
位が“L"に遷移する動作は、オン状態のメモリセル用の
NチャネルMOSトランジスタN1によって支配され、ビッ
ト線BLの電位の遷移が速くなり、出力信号OUTの立ち下
がり時間tpHLが短くなる。
この場合、ハイレベル保持用のPチャネルMOSトラン
ジスタTP2がオン状態になっているが、通常、このハイ
レベル保持用のPチャネルMOSトランジスタTP2のオン抵
抗は非常に大きく設定するので、ビット線BLの電位の遷
移速度に影響を及ぼすことはない。しかも、このハイレ
ベル保持用のPチャネルMOSトランジスタTP2のオン抵抗
は非常に大きいので、Vcc電位と接地電位Vssとの間の直
流電流が減少し、低消費電力化が可能となる。
これに対して、出力信号OUTが“L"になっている初期
状態の期間では、第1のインバータIV1の“H"出力によ
ってハイレベル保持用のPチャネルMOSトランジスタTP2
がオフ、第2のインバータIV2の“L"出力によってPチ
ャネルMOSトランジスタTP4がオンになっている。この
後、プリチャージ信号▲▼が活性化した時、ビット
線BLの電位は“H"に遷移し始めるが、この時にオン状態
になっているPチャネルMOSトランジスタTP4とプリチャ
ージ用のトランジスタTP1との直列回路を介してVcc電位
からビット線BLに電流が供給されるようになり、ビット
線BLの電位の遷移速度は速い。
また、このビット線BLの電位VBLが第1のインバータ
IV1の閾値電厚VTH1を越えると、第1のインバータIV1
が反転してその出力が“L"に変化し、第2のインバータ
IV2の出力信号OUTが“H"に変化する。この第1のインバ
ータIV1の出力“L"によって、NチャネルMOSトランジス
タTN1がオフ、ハイレベル保持用のPチャネルMOSトラン
ジスタTP2がオンになり、このハイレベル保持用のPチ
ャネルMOSトランジスタTP2を介してVcc電位からビット
線BLに電流が供給されるようになる。同時に、第2のイ
ンバータIV2の出力信号OUTの“H"によってPチャネルMO
SトランジスタTP4がオフになり、このPチャネルMOSト
ランジスタTP4およびプリチャージ用のPチャネルMOSト
ランジスタTP1の直列回路を介しての電流の供給が停止
する。
第8図に示すセンス回路は、第1図に示したセンス回
路と比べて、Vcc電位とビット線BLとの間に、ゲートに
プリチャージ信号▲▼が与えられるプリチャージ用
のPチャネルMOSトランジスタTP5、およびゲートに第2
のインバータIV2の出力が与えられるプルアップ用のP
チャネルMOSトランジスタTP6が直列に付加接続されてい
る点が異なり、その他は同じであるので第1図中と同一
符号を付してその説明を省略する。
第8図のセンス回路の基本的な動作は、前述したよう
な第1図のセンス回路の動作と同様に行われるのでその
詳述は省略するが、動作速度の高速性を保ったまま、動
作電源電圧を例えば2V程度の低い電圧まで低下させても
出力信号OUTが“L"から“H"に変化する場合の正常な動
作が可能となる。以下、付加された回路部分の動作を説
明する。
第8図のセンス回路において、Vcc電位が例えば2V、
第1のインバータIV1の閾値電圧VTH1が例えば1Vである
とすると、出力信号OUTが“L"になっている初期状態の
期間では、第1のインバータIV1の“H"出力によってN
チャネルMOSトランジスタTN1がオン、ハイレベル保持用
のPチャネルMOSトランジスタTP2がオフ、第2のインバ
ータIV2の“L"出力によってPチャネルMOSトランジスタ
TP6がオンになっている。
この後、プリチャージ信号▲▼が活性化し、さら
に、ワード線駆動信号▲▼が“L"に遷移した時、
ビット線BLの電位は“H"に遷移し始めるが、オン状態の
プリチャージ用のPチャネルMOSトランジスタTP5および
プルアップ用のPチャネルMOSトランジスタTP6の直列回
路を介してVcc電位からビット線BLに電流が供給され、
ビット線BLの電位VBLが第1のインバータIV1の閾値電
圧VTH1を越えると、第1のインバータIV1が反転してそ
の出力が“L"に変化し、第2のインバータIV2の出力信
号OUTが“H"に変化する。
この第1のインバータIV1の出力“L"によって、Nチ
ャネルMOSトランジスタTN1がオフ、ハイレベル保持用の
PチャネルMOSトランジスタTP2がオンになり、このハイ
レベル保持用のPチャネルMOSトランジスタTP2を介して
Vcc電位からビット線BLに電流が供給されるようにな
る。同時に、第2のインバータIV2の出力信号OUTの“H"
によってプルアップ用のPチャネルMOSトランジスタTP6
がオフになり、プリチャージ用のPチャネルMOSトラン
ジスタTP5およびプルアップ用のPチャネルMOSトランジ
スタTP6の直列回路を介しての電流の供給が停止する。
なお、第8図のセンス回路は、第6図のセンス回路よ
りも高速であり、第6図のセンス回路と同様に、Vcc電
位が5V〜2Vで動作可能であり、5Vで高速動作を達成で
き、2Vでも確実に動作する。
第9図は、第6図のセンス回路の変形例を示してお
り、第6図のセンス回路におけるVcc電位と接地電位Vss
とを入れ替え、NチャネルMOSトランジスタとPチャネ
ルMOSトランジスタとを入れ替え、各信号入力のレベル
を反転させるように変更したものである。ここで、Pは
メモリセル用のPチャネルMOSトランジスタ、TN3〜TN5
はNチャネルMOSトランジスタ、IV1およびIV2はインバ
ータである。
第9図のセンス回路は、第6図のセンス回路の動作に
準じて動作し、Vcc電位が5V〜2Vで動作可能であり、出
力信号OUTの立上がり時間がtpLHが短くなるのでセンス
動作が高速になる。
第10図は、第8図のセンス回路の変形例を示してお
り、第8図のセンス回路におけるVcc電位と接地電位と
を入れ替え、NチャネルMOSトランジスタとPチャネルM
OSトランジスタとを入れ替え、各信号入力のレベルを反
転させるように変更したものである。ここで、Pはメモ
リセル用のPチャネルMOSトランジスタ、TP7はPチャネ
ルMOSトランジスタ、TN6〜TN9はNチャネルMOSトランジ
スタ、IV1およびIV2はインバータである。
第10図のセンス回路は、第8図のセンス回路の動作に
準じで動作し、Vcc電位が5V〜2Vで動作可能であり、出
力信号OUTの立上がり時間がtpLHが短くなるのでセンス
動作が高速になる。
第11図は、第4図のセンス回路に対して第8図のセン
ス回路と同様に、Vcc電位とビット線BLとの間に、ゲー
トにプリチャージ信号▲▼が与えられるプリチャー
ジ用のPチャネルMOSトランジスタTP5、およびゲートに
第2のインバータIV2の出力が与えられるプルアップ用
のPチャネルMOSトランジスタTP6が直列に付加接続され
たセンス回路を示している。
第11図のセンス回路は、第4図のセンス回路および第
8図のセンス回路の動作に準じて動作し、Vcc電位から
V〜2Vで動作可能であり、出力信号OUTの立下がり時間t
pHLおよび立上がり時間がtpLHがそれぞれ短くなる。
[発明の効果] 上述したように本発明によれば、信号入力が遷移して
から出力信号が変化するまでの時間が小さくなり、セン
ス動作が速くなり、しかも、消費電流の低減化が可能と
なるセンス回路を実現できる。また、本発明によれば、
動作電源電圧が例えば5Vから2V程度までの範囲で、正常
な動作が可能となり、しかも、高速動作が可能なセンス
回路を実現できる。従って、本発明のセンス回路は半導
体メモリなどに使用して極めて好適である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明のセンス回路の一実施例を使用したROM
の一部を示す回路図、第2図は第1図中のセンス回路の
出力信号が“H"から“L"へ遷移する場合の動作を示す波
形図、第3図は第1図中のセンス回路の出力信号が“L"
から“H"へ遷移する場合の動作を示す波形図、第4図は
第1図中のセンス回路の他の例を示す回路図、第5図は
第4図のセンス回路の変形例を示す回路図、第6図は本
発明のセンス回路の他の実施例を示す回路図、第7図は
第6図のセンス回路の出力信号が“H"から“L"へ遷移す
る場合の動作を示す波形図、第8図は本発明のセンス回
路のさらに他の実施例を示す回路図、第9図は第6図の
センス回路の変形例を示す回路図、第10図は第8図のセ
ンス回路の変形例を示す回路図、第11図は本発明のセン
ス回路のさらに他の実施例を示す回路図、第12図はROM
の一般的な回路構成の一部を示す回路図、第13図は第12
図のROM中の1列分を取出してその従来例を示す回路
図、第14図は第13図中のセンス回路の出力信号が“H"か
ら“L"へ遷移する場合の動作を示す波形図、第15図は第
13図中のセンス回路の出力信号が“L"から“H"へ遷移す
る場合の動作を示す波形図、第16図は第4図中のセンス
回路の出力信号が“H"から“L"へ遷移する場合の動作を
示す波形図である。 SA″……センス回路、BL,BL1〜BL24……ビット線(入力
端)、TP1〜TP7,TP41〜TP43……PチャネルMOSトランジ
スタ、TN1〜TN9,TN44,TN45……NチャネルMOSトランジ
スタ、TP1,TP5……PチャネルMOSトランジスタ(電源電
位伝達手段)、TN2……NチャネルMOSトランジスタ(基
準電位伝達手段)、IV1……第1のインバータ、IV2……
第2のインバータ、N1〜N6,P……メモリセル用のMOSト
ランジスタ、▲▼……プリチャージ信号、PR……デ
ィスチャージ信号、▲▼〜▲▼……ワード
線駆動信号、S1〜S5……制御信号、Vcc……電源電位、V
ss……接地電位(基準電位)。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】メモリセルと、一端が前記メモリセルに接
    続されるビット線と、入力端が前記ビット線の他端に接
    続されるインバータと、第1電位が印加される第1電源
    端子と、一端が前記第1電源端子に接続され、プリチャ
    ージ信号がアクティブになるとオン状態になる第1MOSト
    ランジスタと、前記ビット線と前記第1MOSトランジスタ
    の他端の間に接続され、前記インバータの出力端が第1
    電位になるとオン状態になる第2MOSトランジスタと、前
    記ビット線と前記第1電源端子の間に接続され、前記イ
    ンバータの出力端が第2電位になるとオン状態になる第
    3MOSトランジスタとを具備することを特徴とする半導体
    メモリ。
  2. 【請求項2】請求項1記載の半導体メモリにおいて、 第2電位が印加される第2電源端子と、一端が前記第2
    電源端子に接続され、プリチャージ信号がアクティブに
    なるとオン状態になる第4MOSトランジスタと、前記ビッ
    ト線と前記第4MOSトランジスタの他端の間に接続され、
    前記インバータの出力端が第2電位になるとオン状態に
    なる第5MOSトランジスタとを具備することを特徴とする
    半導体メモリ。
  3. 【請求項3】メモリセルと、一端が前記メモリセルに接
    続されるビット線と、入力端が前記ビット線の他端に接
    続される第1インバータと、入力端が前記第1インバー
    タの出力端に接続される第2インバータと、第1電位が
    印加される第1電源端子と、一端が前記第1電源端子に
    接続され、前記第2インバータの出力端が第2電位にな
    るとオン状態になる第1MOSトランジスタと、前記ビット
    線と前記第1MOSトランジスタの他端の間に接続され、プ
    リチャージ信号がアクティブになるとオン状態になる第
    2MOSトランジスタと、前記ビット線と前記第1電源端子
    の間に接続され、前記第1インバータの出力端が第2電
    位になるとオン状態になる第3MOSトランジスタとを具備
    することを特徴とする半導体メモリ。
  4. 【請求項4】メモリセルと、一端が前記メモリセルに接
    続されるビット線と、入力端が前記ビット線の他端に接
    続される第1インバータと、入力端が前記第1インバー
    タの出力端に接続される第2インバータと、第1電位が
    印加される第1電源端子と、一端が前記第1電源端子に
    接続され、プリチャージ信号がアクティブになるとオン
    状態になる第1MOSトランジスタと、前記ビット線と前記
    第1MOSトランジスタの他端の間に接続され、前記第1イ
    ンバータの出力端が第1電位になるとオン状態になる第
    2MOSトランジスタと、前記ビット線と前記第1電源端子
    の間に接続され、前記第1インバータの出力端が第2電
    位になるとオン状態になる第3MOSトランジスタと、一端
    が前記第1電源端子に接続され、プリチャージ信号がア
    クティブになるとオン状態になる第4MOSトランジスタ
    と、前記ビット線と前記第4MOSトランジスタの他端の間
    に接続され、前記第2インバータの出力端が第2電位に
    なるとオン状態になる第5MOSトランジスタとを具備する
    ことを特徴とする半導体メモリ。
  5. 【請求項5】請求項1又は3又は4に記載の半導体メモ
    リにおいて、 第2電位が印加される第2電源端子を具備し、 前記メモリセルは、プログラマブル・ロジック・アレイ
    を構成し、前記メモリセルは、前記ビット線と前記第2
    電源端子の間に接続され、前記メモリセルのゲートに
    は、ワード線駆動信号が印加される ことを特徴とする半導体メモリ。
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Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5027008A (en) * 1990-02-15 1991-06-25 Advanced Micro Devices, Inc. CMOS clamp circuits
JPH04238197A (ja) * 1991-01-22 1992-08-26 Nec Corp センスアンプ回路
JP3516307B2 (ja) * 1992-12-24 2004-04-05 ヒュンダイ エレクトロニクス アメリカ デジタルトランジスタで構成される差動アナログトランジスタ
JP2723015B2 (ja) * 1993-12-01 1998-03-09 日本電気株式会社 半導体記憶装置
US5610429A (en) * 1994-05-06 1997-03-11 At&T Global Information Solutions Company Differential analog transistors constructed from digital transistors
DE69621870T2 (de) * 1995-03-31 2003-01-02 Infineon Technologies Ag Nieder-Leistungs-Leseverstärker des Typs Gain Speicherzelle
US5654652A (en) * 1995-09-27 1997-08-05 Cypress Semiconductor Corporation High-speed ratio CMOS logic structure with static and dynamic pullups and/or pulldowns using feedback
US5757205A (en) * 1996-07-22 1998-05-26 International Business Machines Corporation Power-saving dynamic circuit
US5896046A (en) * 1997-01-27 1999-04-20 International Business Machines Corporation Latch structure for ripple domino logic
US7576568B1 (en) * 1997-09-26 2009-08-18 Texas Instruments Incorporated Self-selecting precharged domino logic circuit
US7750682B2 (en) 2008-03-10 2010-07-06 International Business Machines Corporation CMOS back-gated keeper technique
TWI409817B (zh) * 2009-04-20 2013-09-21 Winbond Electronics Corp 快閃記憶體的資料感測模組與感測電路
US8284610B2 (en) * 2009-06-10 2012-10-09 Winbond Electronics Corp. Data sensing module and sensing circuit for flash memory
CN101930801B (zh) * 2009-06-24 2013-10-23 华邦电子股份有限公司 快闪存储器的数据感测模块与感测电路
KR101683402B1 (ko) * 2015-12-24 2016-12-06 엘지전자 주식회사 스태빌라이저 및 이를 구비한 세탁물 처리 기기

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60224197A (ja) * 1984-04-20 1985-11-08 Hitachi Ltd 記憶素子回路およびそれを用いたマイクロコンピュータ
JPS6246494A (ja) * 1985-08-23 1987-02-28 Hitachi Ltd 不揮発性半導体記憶装置

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3989955A (en) * 1972-09-30 1976-11-02 Tokyo Shibaura Electric Co., Ltd. Logic circuit arrangements using insulated-gate field effect transistors
JPS5833638B2 (ja) * 1979-09-21 1983-07-21 株式会社日立製作所 メモリ装置
US4365172A (en) * 1980-01-11 1982-12-21 Texas Instruments Incorporated High current static MOS driver circuit with low DC power dissipation
US4458336A (en) * 1980-10-22 1984-07-03 Fujitsu Limited Semiconductor memory circuit
US4459497A (en) * 1982-01-25 1984-07-10 Motorola, Inc. Sense amplifier using different threshold MOS devices
JPS5949022A (ja) * 1982-09-13 1984-03-21 Toshiba Corp 多値論理回路
US4494020A (en) * 1983-04-13 1985-01-15 Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha High sensitivity sense amplifier using different threshold valued MOS devices
US4614883A (en) * 1983-12-01 1986-09-30 Motorola, Inc. Address transition pulse circuit
JPS60182096A (ja) * 1984-02-29 1985-09-17 Fujitsu Ltd 半導体記憶装置
JPS60230132A (ja) * 1984-04-27 1985-11-15 Fuji Photo Film Co Ltd 放射線画像情報読取装置
JPS61107594A (ja) * 1984-10-31 1986-05-26 Toshiba Corp センス増幅回路
JPS61172300A (ja) * 1985-01-26 1986-08-02 Toshiba Corp 半導体記憶装置
US4785424A (en) * 1986-05-27 1988-11-15 Seeq Technology, Inc. Apparatus for page mode programming of an EEPROM cell array with false loading protection
US4825106A (en) * 1987-04-08 1989-04-25 Ncr Corporation MOS no-leak circuit
US4916334A (en) * 1987-07-29 1990-04-10 Kabushiki Kaisha Toshiba High voltage booster circuit for use in EEPROMs
US4958091A (en) * 1988-06-06 1990-09-18 Micron Technology, Inc. CMOS voltage converter

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60224197A (ja) * 1984-04-20 1985-11-08 Hitachi Ltd 記憶素子回路およびそれを用いたマイクロコンピュータ
JPS6246494A (ja) * 1985-08-23 1987-02-28 Hitachi Ltd 不揮発性半導体記憶装置

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