JPH08148089A - Method of forming thin film in face external surface of cathode-ray tube - Google Patents
Method of forming thin film in face external surface of cathode-ray tubeInfo
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、陰極線管のフェース
外表面に反射防止膜、帯電防止膜、反射帯電防止膜など
の薄膜を形成する方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a thin film such as an antireflection film, an antistatic film or a reflection antistatic film on the outer surface of the face of a cathode ray tube.
【０００２】[0002]
【従来の技術】一般に陰極線管は、図２に示すように、
ガラスからなるフェース１の内面に蛍光体スクリーン２
が形成され、この蛍光体スクリーン２をファンネル３の
ネック４内に配置された電子銃５から放出される電子ビ
ームにより水平、垂直走査することにより、画像を表示
する構造に形成されている。なお、図２に示した陰極線
管はカラー受像管であり、６は蛍光体スクリーン２に対
向してその内側に配置されたシャドウマスク、７はフェ
ース１の側壁を緊締する防爆バンド、８はその防爆バン
ドに取付けられたラグ板である。2. Description of the Related Art Generally, a cathode ray tube is constructed as shown in FIG.
Phosphor screen 2 on the inner surface of face 1 made of glass
Is formed, and the phosphor screen 2 is horizontally and vertically scanned by an electron beam emitted from an electron gun 5 arranged in the neck 4 of the funnel 3 to form an image display structure. The cathode ray tube shown in FIG. 2 is a color picture tube, 6 is a shadow mask disposed inside the phosphor screen 2 so as to face it, 7 is an explosion-proof band for tightening the side wall of the face 1, and 8 is its It is a lug plate attached to the explosion-proof band.
【０００３】このような陰極線管において、一般にフェ
ース１の外表面は、鏡面に形成されているため、このフ
ェース１の外表面で外光の反射がおこり、その内面に形
成されている蛍光体スクリーン２上に描かれる画像と重
なり、フェース１を通して見る画像のコントラストを劣
化させる。特にコンピュータのディスプレイなどでは、
近距離から画面を見ることが多いため、外光の反射が目
の疲労を促進する。In such a cathode ray tube, since the outer surface of the face 1 is generally formed as a mirror surface, external light is reflected by the outer surface of the face 1 and the phosphor screen formed on the inner surface thereof. 2 overlaps with the image drawn on the surface 2 and deteriorates the contrast of the image viewed through the face 1. Especially for computer displays,
Since the screen is often viewed from a short distance, the reflection of external light promotes eye fatigue.
【０００４】また蛍光体スクリーン２に高電圧を印加す
る陰極線管では、その高電圧がフェース１の外表面に誘
導されて帯電し、この帯電によりフェース１の外表面に
ごみが付着して、画像をみにくくする。またフェース１
の外表面に人体が接触した場合、電撃を受ける。In a cathode ray tube for applying a high voltage to the phosphor screen 2, the high voltage is induced on the outer surface of the face 1 and charged, and dust is attached to the outer surface of the face 1 by this charging, and an image is formed. Hard to see. Also face 1
If a human body touches the outer surface of the, it will receive an electric shock.
【０００５】このようなフェース外表面の反射、帯電ま
たは反射帯電の両方を防止するため、従来よりフェース
の外表面に反射、帯電または反射帯電の両方を防止する
効果をもつ反射防止膜または帯電防止膜または反射帯電
防止膜などの薄膜を形成することが知られている。In order to prevent such reflection, electrification or both of the electrification on the outer surface of the face, an antireflection film or an electrification prevention which has the effect of preventing both reflection, electrification or reflection electrification on the outer surface of the face from the past. It is known to form thin films such as films or antireflection films.
【０００６】このような薄膜を形成する一方法として、
スピンコート法によりエチルシリケート（Ｓｉ（ＯＣ2
Ｈ5 ）4 などを主成分とする薄膜形成液を塗布して、反
射防止膜または帯電防止膜または反射帯電防止膜などの
薄膜を形成する方法がある。As one method for forming such a thin film,
Ethyl silicate (Si (OC 2
There is a method of forming a thin film such as an antireflection film, an antistatic film, or a reflection antistatic film by applying a thin film forming liquid containing H 5 ) 4 as a main component.
【０００７】従来このスピンコート法による薄膜形成に
は、図３に示す薄膜形成装置が用いられている。この薄
膜形成装置は、上端部に開口をもち、所定角度傾斜した
チャンバー９と、このチャンバー９の開口部に回転可能
に支持された陰極線管保持板１０と、薄膜形成液をスプ
レーするスプレー装置とを有する。Conventionally, the thin film forming apparatus shown in FIG. 3 has been used for forming a thin film by the spin coating method. This thin film forming apparatus has a chamber 9 having an opening at the upper end and inclined at a predetermined angle, a cathode ray tube holding plate 10 rotatably supported by the opening of the chamber 9, and a spray device for spraying a thin film forming liquid. Have.
【０００８】その陰極線管保持板１０には、中央部に陰
極線管１２を取付けるための開孔が形成されている。チ
ャンバー９には、チャンバー９内に乾燥気体を放出する
気体放出部１３、チャンバー９内の気体を排出する気体
排出部１４が設けられている。スプレー装置は、上記陰
極線管保持板１０に保持された陰極線管１２のフェース
外表面に薄膜形成液をスプレーするチャンバー９内に配
置されたノズル１５と、このノズル１５に薄膜形成液を
供給するディスペンサー１６とからなる。The cathode ray tube holding plate 10 is formed with an opening at the center for attaching the cathode ray tube 12. The chamber 9 is provided with a gas discharge unit 13 that discharges a dry gas into the chamber 9 and a gas discharge unit 14 that discharges the gas inside the chamber 9. The spray device includes a nozzle 15 arranged in a chamber 9 for spraying a thin film forming liquid on the outer surface of the face of the cathode ray tube 12 held by the cathode ray tube holding plate 10, and a dispenser for supplying the thin film forming liquid to the nozzle 15. 16 and.
【０００９】薄膜の形成は、陰極線管保持板１０の開孔
にフェース１の外表面がチャンバー９の内側になるよう
に、たとえばフェース１の側壁を緊締する防爆バンド７
に取付けられたラグ板８などを利用して陰極線管１２を
取付ける。そして気体排出部１４からチャンバー９内の
気体を排出しながら、陰極線管保持板１０とともにこの
陰極線管保持板１０に取付けられた陰極線管１２をその
管軸を回転中心軸として回転させ、ディスペンサー１６
から供給される薄膜形成液をノズル１５からスプレーし
て、上記回転する陰極線管１２のフェース１の外表面に
塗布する。ついで回転する陰極線管１２の遠心力により
フェース１の外表面に塗布された薄膜形成液の塗布膜の
膜厚を均一にする。その後、気体放出部１３から乾燥気
体を放出させて、フェース１の外表面に塗布された薄膜
形成液を乾燥する。For forming the thin film, the explosion-proof band 7 is tightened, for example, by tightening the side wall of the face 1 so that the outer surface of the face 1 is inside the chamber 9 in the opening of the cathode ray tube holding plate 10.
The cathode ray tube 12 is attached using the lug plate 8 attached to the. Then, while discharging the gas in the chamber 9 from the gas discharge part 14, the cathode ray tube holding plate 10 and the cathode ray tube 12 attached to this cathode ray tube holding plate 10 are rotated about the tube axis as a rotation center axis, and the dispenser 16
The thin film forming liquid supplied from the nozzle 15 is sprayed from the nozzle 15 and applied to the outer surface of the face 1 of the rotating cathode ray tube 12. Then, the centrifugal force of the rotating cathode ray tube 12 makes the film thickness of the coating film of the thin film forming liquid applied on the outer surface of the face 1 uniform. After that, a dry gas is discharged from the gas discharge part 13 to dry the thin film forming liquid applied to the outer surface of the face 1.
【００１０】しかしながらこのような方法により薄膜を
形成すると、特に揮発性の薄膜形成液を用いて薄膜を形
成する場合、３０〜４０回程度連続して薄膜を形成して
も、ほとんど問題は生じないが、それ以上連続して薄膜
を形成すると、乾燥した薄膜が薄膜形成液とともにフェ
ース１の外表面に付着して膜欠点が生ずるという問題が
ある。However, when a thin film is formed by such a method, particularly when a thin film is formed by using a volatile thin film forming liquid, even if the thin film is continuously formed about 30 to 40 times, almost no problem occurs. However, if a thin film is further formed continuously, there is a problem that the dried thin film adheres to the outer surface of the face 1 together with the thin film forming liquid to cause a film defect.
【００１１】これは、上記薄膜形成装置では、陰極線管
１２の下方に配置されたノズル１５からフェース１の外
表面に薄膜形成液をスプレーするため、陰極線管１２を
回転しながらフェース１の外表面に塗布された薄膜形成
液の塗布膜を均一にするとき、その一部がノズル１５に
落下する。また陰極線管１２の回転遠心力によりフェー
ス１の外表面に塗布された余剰の薄膜形成液がフェース
外表面の周辺部から飛散し、その一部がノズル１５に落
下する。そしてこれらノズル１５に落下した薄膜形成液
が、その後気体放出部１３から放出される乾燥気体によ
り乾燥し、特にノズル１５のスプレー孔付近に付着した
膜状の固形物が、その後のスプレー時に、薄膜形成液と
ともにフェース１の外表面に吹付けられるためである。
このような原因による膜欠点は、特に多数回連続的にス
プレーを繰返した場合や、一旦スプレーを中止し、再度
スプレーを開始する場合などに発生しやすい。In the thin film forming apparatus, the thin film forming liquid is sprayed from the nozzle 15 disposed below the cathode ray tube 12 onto the outer surface of the face 1. Therefore, the outer surface of the face 1 is rotated while rotating the cathode ray tube 12. When the coating film of the thin film-forming liquid applied to (1) is made uniform, a part of it drops onto the nozzle 15. Further, due to the rotational centrifugal force of the cathode ray tube 12, the excess thin film forming liquid applied to the outer surface of the face 1 is scattered from the peripheral portion of the outer surface of the face, and a part of the liquid drops into the nozzle 15. Then, the thin film forming liquid that has dropped onto these nozzles 15 is dried by the dry gas that is then discharged from the gas discharge unit 13, and in particular, the film-shaped solid matter that has adhered to the vicinity of the spray holes of the nozzles 15 is thin film during the subsequent spraying. This is because the outer surface of the face 1 is sprayed with the forming liquid.
A film defect due to such a cause is likely to occur particularly when spraying is repeated a large number of times continuously, or when spraying is stopped once and spraying is restarted.
【００１２】[0012]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、陰極線
管のフェース外表面に反射防止膜、帯電防止膜、反射帯
電防止膜などの薄膜を形成する方法として、上端部に開
口をもち、所定角度傾斜したチャンバーと、このチャン
バーの開口部に回転可能に支持された陰極線管保持板
と、スプレー装置とを有する薄膜形成装置を用いて、ス
ピンコート法により薄膜を形成する方法がある。As described above, as a method for forming a thin film such as an antireflection film, an antistatic film, or a reflection antistatic film on the outer surface of the face of a cathode ray tube, the film has an opening at the upper end and has a predetermined shape. There is a method of forming a thin film by a spin coating method using a thin film forming apparatus having a chamber inclined at an angle, a cathode ray tube holding plate rotatably supported by an opening of the chamber, and a spraying device.
【００１３】しかしながらこの方法により薄膜を形成す
ると、上記薄膜形成装置では、陰極線管の下方に薄膜形
成液をスプレーするノズルが配置されているため、フェ
ース外表面に塗布された薄膜形成液の塗布膜を陰極線管
を回転しながら均一にするとき、その一部がノズルに落
下する。また陰極線管の回転遠心力によりフェースの外
表面に塗布された余剰の薄膜形成液がフェースの外表面
の周辺部から飛散し、その一部がノズルに落下する。そ
してこれらノズルに落下した薄膜形成液が、その後気体
放出部から放出される乾燥気体により乾燥し、特にノズ
ルのスプレー孔付近近に付着した膜状の固形物が、その
後のスプレー時に薄膜形成液とともにフェースの外表面
に吹付けられて膜欠点となる。このような膜欠点は、特
に多数回連続的にスプレーを繰返した場合や、一旦スプ
レーを中止したのち、再度スプレーを開始する場合など
に発生しやすいという問題がある。However, when a thin film is formed by this method, in the above-mentioned thin film forming apparatus, since the nozzle for spraying the thin film forming liquid is arranged below the cathode ray tube, the coating film of the thin film forming liquid applied to the outer surface of the face is formed. When rotating the cathode ray tube to make it uniform, part of it falls into the nozzle. Further, due to the rotational centrifugal force of the cathode ray tube, the excess thin film forming liquid applied to the outer surface of the face is scattered from the peripheral portion of the outer surface of the face, and a part of the liquid drops to the nozzle. Then, the thin film forming liquid that has dropped onto these nozzles is dried by the dry gas that is then discharged from the gas discharge part, and in particular, the film-like solid matter that has adhered near the spray holes of the nozzles together with the thin film forming liquid during the subsequent spraying. Spraying on the outer surface of the face causes film defects. There is a problem that such a film defect is likely to occur particularly when the spray is repeatedly repeated many times or when the spray is once stopped and then restarted.
【００１４】この発明は、上記問題点を解決するために
なされたものであり、特に薄膜形成液をスプレーするノ
ズルのスプレー孔付近に付着して乾燥した膜状の固形物
が、その後のスプレー時に薄膜形成液とともにフェース
の外表面に吹付けられるために生ずる膜欠点を低減する
ことを目的とする。The present invention has been made in order to solve the above-mentioned problems, and in particular, a film-like solid substance which is attached and dried in the vicinity of a spray hole of a nozzle for spraying a thin film-forming liquid is dried during the subsequent spraying. It is intended to reduce film defects caused by being sprayed on the outer surface of the face together with the thin film forming liquid.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】陰極線管のフェース外表
面に薄膜形成液をスプレーする工程と、陰極線管を管軸
を回転中心軸として回転させ、上記スプレーによりフェ
ース外表面に塗布された薄膜形成液を均一な塗布膜にす
る工程と、その塗布膜を乾燥してフェース外表面に薄膜
を形成する工程とを有する陰極線管のフェース外表面に
薄膜を形成する方法において、薄膜形成液をスプレーす
るノズルの位置を可変とし、このノズルの位置をフェー
ス外表面に薄膜形成液をスプレーする工程と塗布膜およ
び薄膜を形成する工程とで異ならしめた。Means for Solving the Problems A step of spraying a thin film forming liquid on the outer surface of the face of a cathode ray tube, and a step of rotating the cathode ray tube with a tube axis as a rotation center axis to form a thin film applied on the outer surface of the face by the spraying. In a method of forming a thin film on the outer surface of a cathode ray tube, which comprises a step of forming a uniform coating film of the liquid and a step of drying the coating film to form a thin film on the outer surface of the face, a thin film forming liquid is sprayed. The position of the nozzle was made variable, and the position of this nozzle was made different between the step of spraying the thin film forming liquid on the outer surface of the face and the step of forming the coating film and the thin film.
【００１６】また、薄膜形成液をスプレーする工程後、
位置を移動したノズルのスプレー孔をその移動位置にお
いて洗浄するようにした。After the step of spraying the thin film forming liquid,
The spray hole of the nozzle whose position was moved was cleaned at the moving position.
【００１７】[0017]
【作用】上記のように、薄膜形成液をスプレーするノズ
ルの位置を可変とし、このノズルの位置をフェース外表
面に薄膜形成液をスプレーする工程と塗布膜および薄膜
を形成する工程とで異ならしめると、ノズルからのスプ
レーによりフェース外表面に塗布された薄膜形成液を陰
極線管を回転しながら均一な塗布膜にするとき、落下す
る薄膜形成液、また陰極線管の回転遠心力により飛散す
る薄膜形成液のノズルのスプレー孔への付着を防止する
ことができ、従来スプレー孔付近に付着して乾燥した膜
状の固形物がその後のスプレー時に、薄膜形成液ととも
にフェース外表面に吹付けられるために生じた膜欠点を
低減することができる。As described above, the position of the nozzle for spraying the thin film forming liquid is made variable, and the position of this nozzle is made different between the process of spraying the thin film forming liquid on the outer surface of the face and the process of forming the coating film and the thin film. When the thin film forming liquid applied to the outer surface of the face by spraying from the nozzle is made into a uniform coating film while rotating the cathode ray tube, the thin film forming liquid that drops and the thin film formation that is scattered by the centrifugal force of the rotation of the cathode ray tube. It is possible to prevent the liquid from adhering to the spray hole of the nozzle, and because the film-like solid matter that has adhered to the vicinity of the spray hole and has dried is sprayed onto the outer surface of the face together with the thin film forming liquid during subsequent spraying. The generated film defects can be reduced.
【００１８】また、薄膜形成液をスプレーする工程後、
位置を移動したノズルのスプレー孔をその移動位置にお
いて洗浄することにより、膜欠点の発生をさらに低減す
ることができる。After the step of spraying the thin film forming liquid,
By cleaning the spray holes of the nozzles whose positions have been moved at the moving positions, it is possible to further reduce the occurrence of film defects.
【００１９】[0019]
【実施例】以下、図面を参照してこの発明を実施例に基
づいて説明する。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will now be described based on embodiments with reference to the drawings.
【００２０】図１にその一実施例に係る薄膜形成装置を
示す。この薄膜形成装置は、上端部に開口をもち、水平
面に対して１５°傾斜した有底筒状のチャンバー２０
と、陰極線管１２を保持してチャンバー２０の上部開口
部に回転可能に支持され、駆動装置（図示せず）により
回転駆動される陰極線管保持板２１と、この陰極線管保
持板２１に保持された陰極線管１２のフェース１の外表
面に薄膜形成液をスプレーするスプレー装置２２とを有
する。FIG. 1 shows a thin film forming apparatus according to the embodiment. This thin film forming apparatus has a bottomed cylindrical chamber 20 having an opening at the upper end and inclined by 15 ° with respect to a horizontal plane.
A cathode ray tube holding plate 21 which holds the cathode ray tube 12 and is rotatably supported in the upper opening of the chamber 20 and is rotationally driven by a driving device (not shown), and is held by the cathode ray tube holding plate 21. And a spray device 22 for spraying a thin film forming liquid on the outer surface of the face 1 of the cathode ray tube 12.
【００２１】上記陰極線管保持板２１には、中央部に陰
極線管１２のフェース１を挿入することが可能な開孔が
形成されており、陰極線管１２は、その開孔にフェース
１の外表面が下向きかつチャンバー２０の内側になるよ
うに、フェース１の側壁を緊締する防爆バンド７に取付
けられたラグ板８などを利用して取付けられる。この陰
極線管保持板２１に取付けられた陰極線管１２は、鉛直
線２３に対して管軸（Ｚ軸）が１５°の角度θで傾斜
し、この傾斜した管軸を回転中心軸として陰極線管保持
板２１とともに回転駆動される。An opening into which the face 1 of the cathode ray tube 12 can be inserted is formed in the central portion of the cathode ray tube holding plate 21, and the cathode ray tube 12 has an outer surface of the face 1 in the opening. Is faced downward and inside the chamber 20, using a lug plate 8 or the like attached to the explosion-proof band 7 that tightens the side wall of the face 1. The cathode ray tube 12 attached to the cathode ray tube holding plate 21 has a tube axis (Z axis) inclined at an angle θ of 15 ° with respect to the vertical line 23, and holds the cathode ray tube with the inclined tube axis as a rotation center axis. It is driven to rotate together with the plate 21.
【００２２】チャンバー２０には、その底部にフェース
１の外表面に塗布された薄膜形成液を乾燥するホットエ
アなどの乾燥気体を放出する気体放出部２４が設けられ
ている。また側壁には、チャンバー２０内の気体を排出
する気体排出部２５が設けられている。The chamber 20 is provided at its bottom with a gas discharge part 24 for discharging a dry gas such as hot air for drying the thin film forming liquid applied to the outer surface of the face 1. Further, a gas discharge part 25 for discharging the gas in the chamber 20 is provided on the side wall.
【００２３】スプレー装置２２は、実線で示したチャン
バー２０内の中央部側をスプレー位置とし、破線で示し
た側壁側を退避位置として、チャンバー２０内に移動可
能に配置された一対のノズル２６と、チャンバー２０の
底部を貫通するパイプ２７を介してノズル２６に薄膜形
成液を供給するディスペンサー２８と、側壁側に移動し
たノズル２６に洗浄液をスプレーするノズル２９および
側壁側に移動したノズル２６をノズル２９とともに覆う
カバー３０とから構成されている。そのディスペンサー
２８は、薄膜形成液槽３２を備え、この薄膜形成液槽３
２内の薄膜形成液を加圧してノズル２６に供給する構造
に構成されている。The spray device 22 has a pair of nozzles 26 movably arranged in the chamber 20 with the central portion side of the chamber 20 shown by the solid line as the spray position and the side wall side shown by the broken line as the retracted position. A dispenser 28 for supplying a thin film forming liquid to the nozzle 26 through a pipe 27 penetrating the bottom of the chamber 20, a nozzle 29 for spraying a cleaning liquid on the nozzle 26 moved to the side wall side, and a nozzle 26 moved to the side wall side. It is composed of a cover 30 that covers together with 29. The dispenser 28 includes a thin film forming liquid tank 32.
The thin film forming liquid in 2 is pressurized and supplied to the nozzle 26.
【００２４】薄膜の形成は、まず陰極線管１２のフェー
ス外表面を弗酸、弗化アンモニウム、または水酸化ナト
リウム水溶液により洗浄し、さらに純水により洗浄した
のち、たとえば高圧エアを吹付けて乾燥する。To form a thin film, first, the outer surface of the face of the cathode ray tube 12 is washed with an aqueous solution of hydrofluoric acid, ammonium fluoride, or sodium hydroxide, and further with pure water, and then dried by blowing high-pressure air, for example. .
【００２５】ついでそのフェース外表面を乾燥した陰極
線管１２を、フェース外表面が下向きかつチャンバー２
０の内側になるように陰極線管保持板２１に取付け、陰
極線管保持板２１とともに管軸を回転中心軸として回転
する。そして気体排出部２５からチャンバー２０内の気
体を排出しながら、チャンバー２０内の中央部側のスプ
レー位置に位置するノズル２６から上記回転する陰極線
管１２のフェース外表面に、たとえば反射防止膜形成液
として、エチルシリケートを主成分として、イソプロピ
ルアルコール、塩酸、水などを含む所定量の薄膜形成液
をスプレーする。Then, the cathode ray tube 12 whose outer surface is dried is placed in the chamber 2 with the outer surface of the face facing downward.
It is attached to the cathode ray tube holding plate 21 so as to be inside 0, and is rotated together with the cathode ray tube holding plate 21 with the tube axis as the rotation center axis. Then, while discharging the gas in the chamber 20 from the gas discharge part 25, for example, an antireflection film forming liquid is applied to the face outer surface of the rotating cathode ray tube 12 from the nozzle 26 positioned at the spray position on the center side in the chamber 20. As a main component, ethyl silicate is sprayed with a predetermined amount of a thin film forming liquid containing isopropyl alcohol, hydrochloric acid, water and the like.
【００２６】そして、スプレー後、直ちにノズル２６を
破線で示した側壁側の退避位置に移動し、好ましくは、
その退避位置なおいて、ノズル２９からたとえばエチル
アルコールを洗浄液として３kg／cm2 の圧力でスプレー
して、ノズル２６のスプレー孔を洗浄する。Immediately after spraying, the nozzle 26 is immediately moved to the retracted position on the side wall shown by the broken line, and preferably,
At the retracted position, the nozzle 29 is sprayed with a cleaning liquid such as ethyl alcohol at a pressure of 3 kg / cm @ 2 to clean the spray hole of the nozzle 26.
【００２７】一方、管軸を回転中心軸として回転する陰
極線管１２の遠心力によりフェース外表面に塗布された
余剰の薄膜形成液を除去して、フェース外表面の全面に
均一な塗布膜を形成する。ついで陰極線管１２を管軸を
回転中心軸として回転しながら、気体放出部２４から乾
燥気体を放出して、上記フェース外表面の塗布膜を乾燥
する。On the other hand, the excessive thin film forming liquid applied to the outer surface of the face is removed by the centrifugal force of the cathode ray tube 12 which rotates about the tube axis as a central axis of rotation, and a uniform coating film is formed on the entire outer surface of the face. To do. Then, while rotating the cathode ray tube 12 with the tube axis as the rotation center axis, a dry gas is discharged from the gas discharge part 24 to dry the coating film on the outer surface of the face.
【００２８】ところで、上記薄膜形成装置のように薄膜
形成液をスプレーするノズル２６を、チャンバー２０内
の中央部側をスプレー位置、側壁側を退避位置としてチ
ャンバー２０内に移動可能に配置し、その中央部側のス
プレー位置において陰極線管１２のフェース外表面に薄
膜形成液をスプレーしたのち、直ちに側壁側の退避位置
に移動すると、フェース外表面に塗布された薄膜形成液
の一部が落下しても、その退避位置に設けられたカバー
３０によって、ノズル２６への付着を防止することがで
きる。またフェース外表面に薄膜形成液の均一な塗布膜
を形成するとき、陰極線管１２の回転遠心力により余剰
の薄膜形成液は、フェース外表面の周辺部から飛散する
が、この飛散する薄膜形成液も、カバー３０によってノ
ズル２６への付着を防止することができる。その結果、
従来フェース外表面から落下、あるいはフェース外表面
の周辺部から飛散する薄膜形成液が、薄膜形成液をスプ
レーするノズルに付着して乾燥し、その乾燥した膜状の
固形物がその後のスプレー時に薄膜形成液とともにフェ
ース外表面に吹付けられるために生じた膜欠点を大幅に
低減することができる。By the way, the nozzle 26 for spraying the thin film forming liquid as in the above thin film forming apparatus is movably arranged in the chamber 20 with the central portion side of the chamber 20 as the spray position and the side wall side as the retreat position. When the thin film forming liquid is sprayed on the outer surface of the face of the cathode ray tube 12 at the spraying position on the center side and immediately moved to the retracted position on the side wall side, a part of the thin film forming liquid applied on the outer surface of the face falls. Also, the cover 30 provided at the retracted position can prevent the nozzle 26 from adhering. Further, when a uniform coating film of the thin film forming liquid is formed on the outer surface of the face, the excess thin film forming liquid is scattered from the peripheral portion of the outer surface of the face by the rotational centrifugal force of the cathode ray tube 12, but this thin film forming liquid is scattered. Also, the cover 30 can prevent adhesion to the nozzle 26. as a result,
Conventionally, the thin film forming liquid that has fallen from the outer surface of the face or scattered from the peripheral portion of the outer surface of the face adheres to the nozzle that sprays the thin film forming liquid and dries, and the dried film-like solid substance forms a thin film during subsequent spraying. It is possible to significantly reduce film defects caused by being sprayed on the outer surface of the face together with the forming liquid.
【００２９】特にノズル２６を退避位置に移動したの
ち、その退避位置に設けられたノズル２９から洗浄液を
スプレーしてノズル２６を洗浄すると、ノズル２６のス
プレー孔付近に付着する膜状の固形物をほぼ完全に除去
することができ、膜欠点をより大幅に低減することがで
きる。Particularly, after the nozzle 26 is moved to the retracted position and the cleaning liquid is sprayed from the nozzle 29 provided at the retracted position to clean the nozzle 26, the film-like solid matter adhering to the vicinity of the spray hole of the nozzle 26 is removed. It can be removed almost completely, and the film defects can be reduced more significantly.
【００３０】表１に、２５インチカラー受像管のフェー
ス外表面に反射防止膜形成液をスプレーしたのち、直ち
にノズルを退避位置に移動した場合（洗浄なし）をＡ、
ノズルを退避位置に移動したのち洗浄した場合をＢ、ノ
ズルを退避位置に移動することなく中央部側に固定した
場合（洗浄なし）をＣとして形成した反射防止膜の良品
率を比較して示す。Table 1 shows the case where the nozzle was immediately moved to the retracted position (no cleaning) after spraying the antireflection film forming liquid on the outer surface of the face of the 25-inch color picture tube.
The non-defective rate of the formed antireflection film is shown by comparing B when the nozzle is moved to the retracted position and then washed, and C when the nozzle is fixed to the center without moving to the retracted position (without cleaning). .
【表１】 [Table 1]
【００３１】この表１に示されているように、ノズルを
退避位置に移動することなく固定して薄膜を形成する場
合（Ｃ）は、良品率が３８％であったが、ノズルを退避
位置に移動すると（Ａ）、良品率が７２％と向上し、さ
らに退避位置に移動したのち洗浄すると（Ｂ）、良品率
が９５％と大幅に向上した。As shown in Table 1, in the case where the thin film was formed by fixing the nozzle without moving it to the retracted position (C), the non-defective rate was 38%. When moved to (A), the non-defective rate was improved to 72%, and when moved to the retracted position and washed (B), the non-defective rate was significantly improved to 95%.
【００３２】なお、上記実施例では、チャンバーの側壁
に近い位置をノズルの退避位置としたが、チャンバーの
外側に退避場所を設けて、薄膜形成液をスプレーしたの
ち、そのチャンバー外の退避位置に移動させるようにし
てもよい。In the above embodiment, the position near the side wall of the chamber was set as the nozzle withdrawal position. However, after providing the withdrawal place outside the chamber and spraying the thin film forming liquid, the withdrawal position was set outside the chamber. You may make it move.
【００３３】また、上記実施例では、主として陰極線管
のフェース外表面に反射防止膜を形成する場合について
説明したが、この発明は、その他、帯電防止膜、反射帯
電防止膜などを形成する場合にも適用可能である。In the above embodiment, the case where the antireflection film is formed mainly on the outer surface of the face of the cathode ray tube has been described. However, the present invention is also applicable to the case where an antistatic film, a reflection antistatic film or the like is formed. Is also applicable.
【００３４】[0034]
【発明の効果】陰極線管のフェース外表面に薄膜形成液
をスプレーする工程と、陰極線管を管軸を回転中心軸と
して回転させ、上記スプレーによりフェース外表面に付
着した薄膜形成液を均一な塗布膜にする工程と、その塗
布膜を乾燥してフェース外表面に薄膜を形成する工程と
を有する陰極線管のフェース外表面に薄膜を形成する方
法において、薄膜形成液をスプレーするノズルの位置を
可変とし、そのノズルの位置をフェース外表面に薄膜形
成液をスプレーする工程と塗布膜および薄膜を形成する
工程とで異ならしめると、フェース外表面に塗布された
薄膜形成液を陰極線管を回転しながら均一な塗布膜にす
るとき、落下する薄膜形成液、また陰極線管の回転遠心
力によりフェース外表面の周辺部から飛散する薄膜形成
液のノズルへの付着を防止することができ、従来ノズル
のスプレー孔付近に付着して乾燥した膜状の固形物がそ
の後のスプレー時に、薄膜形成液とともにフェース外表
面に吹付けられるために生じた膜欠点を低減することが
できる。EFFECT OF THE INVENTION A step of spraying a thin film forming liquid on the outer surface of the face of a cathode ray tube, and rotating the cathode ray tube with the tube axis as a rotation center axis, and uniformly applying the thin film forming liquid adhered to the outer surface of the face by the spraying. In the method of forming a thin film on the outer surface of the face of a cathode ray tube, which has a step of forming a film and a step of drying the applied film to form a thin film on the outer surface of the face, the position of the nozzle for spraying the thin film forming liquid is changed. When the position of the nozzle is made different between the step of spraying the thin film forming liquid on the outer surface of the face and the step of forming the coating film and the thin film, the thin film forming liquid applied on the outer surface of the face is rotated while rotating the cathode ray tube. When forming a uniform coating film, the thin film forming liquid that drops and the thin film forming liquid that scatters from the peripheral portion of the outer surface of the face due to the centrifugal force of rotation of the cathode ray tube is applied to the nozzle. The film-like solid matter that has been conventionally deposited near the spray hole of the nozzle and dried and then sprayed on the outer surface of the face together with the thin-film-forming liquid at the time of subsequent spraying is reduced. be able to.
【００３５】また、薄膜形成液をスプレーする工程後、
位置を移動したノズルのスプレー孔付近をその移動位置
において洗浄すると、膜欠点の発生をさらに低減するこ
とができる。After the step of spraying the thin film forming liquid,
By cleaning the vicinity of the spray hole of the nozzle that has moved the position at the moving position, the occurrence of film defects can be further reduced.
【図１】この発明の一実施例に係る薄膜形成装置の構成
を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a thin film forming apparatus according to an embodiment of the present invention.
【図２】カラー受像管の構成を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a configuration of a color picture tube.
【図３】従来の薄膜形成装置の構成を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing a configuration of a conventional thin film forming apparatus.
１…フェース １２…陰極線管 ２０…チャンバー ２１…陰極線管保持板 ２２…スプレー装置 ２４…気体放出部 ２５…気体排出部 ２６…ノズル ２８…ディスペンサー ２９…ノズル ３０…カバー DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Face 12 ... Cathode ray tube 20 ... Chamber 21 ... Cathode ray tube holding plate 22 ... Spray device 24 ... Gas discharge part 25 ... Gas discharge part 26 ... Nozzle 28 ... Dispenser 29 ... Nozzle 30 ... Cover
Claims (2)
をスプレーする工程と、上記陰極線管を管軸を回転中心
軸として回転させ、上記スプレーにより上記フェース外
表面に塗布された薄膜形成液を均一な塗布膜にする工程
と、上記塗布膜を乾燥して上記フェース外表面に薄膜を
形成する工程とを有する陰極線管のフェース外表面に薄
膜を形成する方法において、 上記薄膜形成液をスプレーするノズルの位置を可変と
し、このノズルの位置を上記フェース外表面に薄膜形成
液をスプレーする工程と上記塗布膜および上記薄膜を形
成する工程とで異ならしめたことを特徴とする陰極線管
のフェース外表面に薄膜を形成する方法。1. A step of spraying a thin film forming liquid on the outer surface of the face of a cathode ray tube, and a step of rotating the cathode ray tube with a tube axis as a rotation center axis, and applying a thin film forming liquid applied on the outer surface of the face by the spraying. In the method of forming a thin film on the outer surface of the face of a cathode ray tube, which comprises a step of forming a uniform coating film and a step of drying the coating film to form a thin film on the outer surface of the face, the thin film forming liquid is sprayed. The position of the nozzle is variable, and the position of the nozzle is made different between the step of spraying a thin film forming liquid on the outer surface of the face and the step of forming the coating film and the thin film. A method of forming a thin film on the surface.
を移動したノズルのスプレー孔をその移動位置において
洗浄することを特徴とする請求項１記載の陰極線管のフ
ェース外表面に薄膜を形成する方法。2. The thin film is formed on the outer surface of the face of the cathode ray tube according to claim 1, wherein after the step of spraying the thin film forming liquid, the spray hole of the nozzle whose position has been moved is washed at the moving position. Method.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6291022A JPH08148089A (en) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | Method of forming thin film in face external surface of cathode-ray tube |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6291022A JPH08148089A (en) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | Method of forming thin film in face external surface of cathode-ray tube |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08148089A true JPH08148089A (en) | 1996-06-07 |
Family
ID=17763446
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6291022A Pending JPH08148089A (en) | 1994-11-25 | 1994-11-25 | Method of forming thin film in face external surface of cathode-ray tube |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08148089A (en) |
-
1994
- 1994-11-25 JP JP6291022A patent/JPH08148089A/en active Pending
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