JPH08138446A - 透明導電膜付きガラス板及びそれを用いた透明タッチパネル - Google Patents
透明導電膜付きガラス板及びそれを用いた透明タッチパネルInfo
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- JPH08138446A JPH08138446A JP27510194A JP27510194A JPH08138446A JP H08138446 A JPH08138446 A JP H08138446A JP 27510194 A JP27510194 A JP 27510194A JP 27510194 A JP27510194 A JP 27510194A JP H08138446 A JPH08138446 A JP H08138446A
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Landscapes
- Push-Button Switches (AREA)
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- Position Input By Displaying (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】各種の入力機器に用いられる透明タッチパネル
およびそれを製造するのに適した透明導電膜付きガラス
板を提供すること。 【構成】ガラス板上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜、
ＳｎＯ２を主成分とする薄膜、、ＴｉＯ２を主成分とす
る薄膜、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜、ＳｎＯ２を主成
分とする薄膜を順次積層形成し、ガラス板から第２層の
厚みを３０〜１２０ｎｍ、第３層の厚みを１０〜１１０
ｎｍ、第４層の厚みを３０〜１２０ｎｍ、第５層の厚み
を２０〜３０ｎｍとした透明導電膜付きガラス板。
およびそれを製造するのに適した透明導電膜付きガラス
板を提供すること。 【構成】ガラス板上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜、
ＳｎＯ２を主成分とする薄膜、、ＴｉＯ２を主成分とす
る薄膜、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜、ＳｎＯ２を主成
分とする薄膜を順次積層形成し、ガラス板から第２層の
厚みを３０〜１２０ｎｍ、第３層の厚みを１０〜１１０
ｎｍ、第４層の厚みを３０〜１２０ｎｍ、第５層の厚み
を２０〜３０ｎｍとした透明導電膜付きガラス板。
Description
【０００１】本発明は各種の入力機器に用いられる透明
導電膜付きガラス板及び透明タッチパネルに関する。
導電膜付きガラス板及び透明タッチパネルに関する。
【０００２】透明タッチパネルは、電卓、リモコン、電
話機、コピー機、電子手帳、制御機器、携帯端末機、ゲ
ーム機器、教育機器等の各種機器の入力手段として用い
られる。従来、このような用途に用いられる透明導電膜
付きガラス板及び透明タッチパネルとしては、ガラス板
上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１層、Ｓ
ｎＯ２を主成分とする透明導電膜からなる第２層を順次
積層形成した透明導電膜付きガラス板、及びこの透明導
電膜付きガラス板を第１電極板とし、透明導電性膜が設
けられた可撓性を有する透明板を第２電極板として、第
１電極板と第２電極板とを、所定の空隙を設けて対向配
置してなる透明タッチパネルが知られている。
話機、コピー機、電子手帳、制御機器、携帯端末機、ゲ
ーム機器、教育機器等の各種機器の入力手段として用い
られる。従来、このような用途に用いられる透明導電膜
付きガラス板及び透明タッチパネルとしては、ガラス板
上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１層、Ｓ
ｎＯ２を主成分とする透明導電膜からなる第２層を順次
積層形成した透明導電膜付きガラス板、及びこの透明導
電膜付きガラス板を第１電極板とし、透明導電性膜が設
けられた可撓性を有する透明板を第２電極板として、第
１電極板と第２電極板とを、所定の空隙を設けて対向配
置してなる透明タッチパネルが知られている。
【０００３】ところで、透明導電膜には、可視光透過率
が高いことと、抵抗値のリニアリティが要求される。こ
こで、抵抗値のリニアリティとは、ある起点に対して任
意の点を選択したときの二点間の抵抗値と距離の比例関
係の度合いを示すもので、通常、直線に沿って被膜のシ
ート抵抗を測定し、標準偏差を平均値で除した百分率で
評価されるものである。
が高いことと、抵抗値のリニアリティが要求される。こ
こで、抵抗値のリニアリティとは、ある起点に対して任
意の点を選択したときの二点間の抵抗値と距離の比例関
係の度合いを示すもので、通常、直線に沿って被膜のシ
ート抵抗を測定し、標準偏差を平均値で除した百分率で
評価されるものである。
【０００４】そして、透明導電膜付きガラス板やこれを
用いた透明タッチパネルには、使用される携帯端末器の
性能向上に伴って、より高い可視光透過率、抵抗値のリ
ニアリティが要求されるようになっており、例えば、可
視光透過率については、波長５５０ｎｍでの透過率９３
％以上、抵抗値のリニアリティについては５％以内とい
うような性能が要求されている。
用いた透明タッチパネルには、使用される携帯端末器の
性能向上に伴って、より高い可視光透過率、抵抗値のリ
ニアリティが要求されるようになっており、例えば、可
視光透過率については、波長５５０ｎｍでの透過率９３
％以上、抵抗値のリニアリティについては５％以内とい
うような性能が要求されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来のガラス板上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜か
らなる第１層、ＳｎＯ２を主成分とする透明導電膜から
なる第２層を順次積層形成した透明導電膜付きガラス板
にあっては、酸化錫（ＳｎＯ２）の光学定数によって透
過率が決まり、膜厚を選定しても、波長５５０ｎｍの透
過率（以下、Ｔ５５０と呼ぶ）として８９〜９０％が限
界であって、高透過率Ｔ５５０＝９３％以上を得ること
はできない。
た従来のガラス板上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜か
らなる第１層、ＳｎＯ２を主成分とする透明導電膜から
なる第２層を順次積層形成した透明導電膜付きガラス板
にあっては、酸化錫（ＳｎＯ２）の光学定数によって透
過率が決まり、膜厚を選定しても、波長５５０ｎｍの透
過率（以下、Ｔ５５０と呼ぶ）として８９〜９０％が限
界であって、高透過率Ｔ５５０＝９３％以上を得ること
はできない。
【０００６】そこで、本出願人は、先にガラス板上に、
ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１層、ＴｉＯ２
を主成分とする第２層、ＳｎＯ２を主成分とする透明導
電膜からなる第３層を順次積層形成した透明導電膜付き
ガラス板を提案している。これによれば、Ｔ５５０＝９
２％が得られるものの、分光透過率曲線に山谷が生じ、
可視光領域でフラットな透過率を得るという点では不十
分であった。
ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１層、ＴｉＯ２
を主成分とする第２層、ＳｎＯ２を主成分とする透明導
電膜からなる第３層を順次積層形成した透明導電膜付き
ガラス板を提案している。これによれば、Ｔ５５０＝９
２％が得られるものの、分光透過率曲線に山谷が生じ、
可視光領域でフラットな透過率を得るという点では不十
分であった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
請求項１の透明導電膜付きガラス板は、ガラス板上に、
ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１層、ＳｎＯ２
を主成分とする薄膜からなる第２層、ＴｉＯ２を主成分
とする薄膜からなる第３層、ＳｉＯ２を主成分とする薄
膜からなる第４層、ＳｎＯ２を主成分とする薄膜からな
る第５層を順次積層形成し、前記第２層の厚みを３０〜
１２０ｎｍ、第３層の厚みを１０〜１１０ｎｍ、第４層
の厚みを３０〜８０ｎｍ、第５層の厚みを２０〜３０ｎ
ｍとした。
請求項１の透明導電膜付きガラス板は、ガラス板上に、
ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１層、ＳｎＯ２
を主成分とする薄膜からなる第２層、ＴｉＯ２を主成分
とする薄膜からなる第３層、ＳｉＯ２を主成分とする薄
膜からなる第４層、ＳｎＯ２を主成分とする薄膜からな
る第５層を順次積層形成し、前記第２層の厚みを３０〜
１２０ｎｍ、第３層の厚みを１０〜１１０ｎｍ、第４層
の厚みを３０〜８０ｎｍ、第５層の厚みを２０〜３０ｎ
ｍとした。
【０００８】請求項２の透明タッチパネルは、請求項１
に記載の透明導電膜付きガラス板を第１電極板とし、透
明導電性膜が設けられた可撓性を有する透明板を第２電
極板として、前記第１電極板の透明導電膜と第２電極板
の透明導電膜とを所定の空隙を設けて対向配置した。こ
こで２枚の電極板はそれぞれの板に被覆された透明導電
膜が内側になるように対向配置される。
に記載の透明導電膜付きガラス板を第１電極板とし、透
明導電性膜が設けられた可撓性を有する透明板を第２電
極板として、前記第１電極板の透明導電膜と第２電極板
の透明導電膜とを所定の空隙を設けて対向配置した。こ
こで２枚の電極板はそれぞれの板に被覆された透明導電
膜が内側になるように対向配置される。
【０００９】以下に本発明を添付図面に基づいて説明す
る。図１は本発明に係る透明導電膜付きガラス板の模式
的構成図である。
る。図１は本発明に係る透明導電膜付きガラス板の模式
的構成図である。
【００１０】この透明導電膜付きガラス板１は、ガラス
板２上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなるアンダ
ーコート層としての第１層３を、この第１層３上にＳｎ
Ｏ２を主成分とする薄膜からなる第２層４を、この第２
層４上にＴｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第３層５
を、この第３層５上にＳｉＯ２を主成分とする薄膜から
なる第４層６を、この第４層６上にＳｎＯ２を主成分と
する薄膜からなる第５層７を順次積層形成してなる。
板２上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなるアンダ
ーコート層としての第１層３を、この第１層３上にＳｎ
Ｏ２を主成分とする薄膜からなる第２層４を、この第２
層４上にＴｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第３層５
を、この第３層５上にＳｉＯ２を主成分とする薄膜から
なる第４層６を、この第４層６上にＳｎＯ２を主成分と
する薄膜からなる第５層７を順次積層形成してなる。
【００１１】ここで、ガラス板２としては、フロートガ
ラスなど、従来より透明導電膜付きガラス板に用いられ
ているものであれば良く、また透明ガラスに限定される
ものではない。
ラスなど、従来より透明導電膜付きガラス板に用いられ
ているものであれば良く、また透明ガラスに限定される
ものではない。
【００１２】ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第１
層３は、基体に含まれるナトリウム等がＳｎＯ２を主成
分とする第２層４及び第５層７に拡散してその電気特性
に影響を及ぼすことを防止するためのものである。この
第１層３は、光学特性には影響を及ぼさないので、その
膜厚はアンダーコート層として機能するに充分な厚みで
あれば良く、１０〜５０ｎｍの厚みとするのが好まし
く、より好ましくは、２０〜３０ｎｍである。ＳｉＯ２
を主成分とする薄膜を形成する方法としては、生産性の
点からＳｉＨ４（モノシラン）とＯ２（酸素）を４００
〜６００℃で反応させる常圧ＣＶＤ法を適用することが
好ましい。また、原料中にＰ（燐）やＢ（ほう素）の化
合物を混合し、これらの元素を含むＳｉＯ２を主成分と
する薄膜を用いることもできる。
層３は、基体に含まれるナトリウム等がＳｎＯ２を主成
分とする第２層４及び第５層７に拡散してその電気特性
に影響を及ぼすことを防止するためのものである。この
第１層３は、光学特性には影響を及ぼさないので、その
膜厚はアンダーコート層として機能するに充分な厚みで
あれば良く、１０〜５０ｎｍの厚みとするのが好まし
く、より好ましくは、２０〜３０ｎｍである。ＳｉＯ２
を主成分とする薄膜を形成する方法としては、生産性の
点からＳｉＨ４（モノシラン）とＯ２（酸素）を４００
〜６００℃で反応させる常圧ＣＶＤ法を適用することが
好ましい。また、原料中にＰ（燐）やＢ（ほう素）の化
合物を混合し、これらの元素を含むＳｉＯ２を主成分と
する薄膜を用いることもできる。
【００１３】なお、ガラス板２として、ほう珪酸ガラス
を主体とする無アルカリガラスを用いる場合には、Ｓｉ
Ｏ２を主成分とする薄膜からなる第１層３を省略するこ
とができる。
を主体とする無アルカリガラスを用いる場合には、Ｓｉ
Ｏ２を主成分とする薄膜からなる第１層３を省略するこ
とができる。
【００１４】ＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる第２
層４は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくする
ために設けられるものである。ＳｎＯ２を主成分とする
薄膜を形成する方法としては、生産性の点から塩素を含
む錫化合物と酸素を４００〜６００℃で反応させる常圧
ＣＶＤ法が好適である。塩素を含む錫化合物としては、
モノブチル錫トリクロライドや四塩化錫（ＳｎＣｌ４）
などが使用される。
層４は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくする
ために設けられるものである。ＳｎＯ２を主成分とする
薄膜を形成する方法としては、生産性の点から塩素を含
む錫化合物と酸素を４００〜６００℃で反応させる常圧
ＣＶＤ法が好適である。塩素を含む錫化合物としては、
モノブチル錫トリクロライドや四塩化錫（ＳｎＣｌ４）
などが使用される。
【００１５】このＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる
第２層４の厚みは、３０〜１２０ｎｍとするのが好まし
く、より好ましくは６０〜１００ｎｍである。膜厚が３
０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低下し、１
２０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低下す
る。また、この第２層４はピンホール等の影響で第５層
７と短絡された場合でも第５層７のシート抵抗に影響を
及ぼすことがないよう、高いシート抵抗を有することが
望ましく、例えば１０ｋΩ／□以上が好ましい。ＳｎＯ
２を主成分とする薄膜の高抵抗化はアルミニウム（Ａ
ｌ）やインジウム（Ｉｎ）などの３価の金属元素をドー
プすることによっておこなう事ができる。
第２層４の厚みは、３０〜１２０ｎｍとするのが好まし
く、より好ましくは６０〜１００ｎｍである。膜厚が３
０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低下し、１
２０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低下す
る。また、この第２層４はピンホール等の影響で第５層
７と短絡された場合でも第５層７のシート抵抗に影響を
及ぼすことがないよう、高いシート抵抗を有することが
望ましく、例えば１０ｋΩ／□以上が好ましい。ＳｎＯ
２を主成分とする薄膜の高抵抗化はアルミニウム（Ａ
ｌ）やインジウム（Ｉｎ）などの３価の金属元素をドー
プすることによっておこなう事ができる。
【００１６】ＴｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第３
層５は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくする
ために設けられるものである。ＴｉＯ２を主成分とする
薄膜を形成する方法としては、チタン化合物と酸素等の
酸化剤を４００〜６００℃で反応させる常圧ＣＶＤ法が
好適である。チタン化合物としては、チタンテトライソ
プロポキシド（Ｔｉ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）４）やチタ
ンテトラ−ｎ−ブトキシド（Ｔｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
２ＣＨ３）４）などのアルコキシド、ジ−ｉ−プロポキ
シ・ビス（アセチルアセトナト）チタン（Ｔｉ（ＯＣＨ
（ＣＨ３）２）２（ＯＣ（ＣＨ３）ＣＨＣＯＣＨ３）
２）などのβ−ジケトンキレートや四塩化チタン（Ｔｉ
Ｃｌ４）が使用できる。
層５は、透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくする
ために設けられるものである。ＴｉＯ２を主成分とする
薄膜を形成する方法としては、チタン化合物と酸素等の
酸化剤を４００〜６００℃で反応させる常圧ＣＶＤ法が
好適である。チタン化合物としては、チタンテトライソ
プロポキシド（Ｔｉ（ＯＣＨ（ＣＨ３）２）４）やチタ
ンテトラ−ｎ−ブトキシド（Ｔｉ（ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ
２ＣＨ３）４）などのアルコキシド、ジ−ｉ−プロポキ
シ・ビス（アセチルアセトナト）チタン（Ｔｉ（ＯＣＨ
（ＣＨ３）２）２（ＯＣ（ＣＨ３）ＣＨＣＯＣＨ３）
２）などのβ−ジケトンキレートや四塩化チタン（Ｔｉ
Ｃｌ４）が使用できる。
【００１７】このＴｉＯ２を主成分とする薄膜からなる
第３層５の厚みは、１０〜１１０ｎｍとするのが好まし
く、より好ましくは２０〜９０ｎｍである。膜厚が１０
ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低下し、１１
０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低下する。
第３層５の厚みは、１０〜１１０ｎｍとするのが好まし
く、より好ましくは２０〜９０ｎｍである。膜厚が１０
ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低下し、１１
０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低下する。
【００１８】ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第４
層６は透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくするた
めに設けられるものであり、第１層３と同様にして形成
される。この第４層６の厚みは、３０〜８０ｎｍとする
のが好ましく、より好ましくは４０〜７０ｎｍである。
膜厚が３０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低
下し、８０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低
下する。
層６は透明導電膜付きガラス板の透過率を大きくするた
めに設けられるものであり、第１層３と同様にして形成
される。この第４層６の厚みは、３０〜８０ｎｍとする
のが好ましく、より好ましくは４０〜７０ｎｍである。
膜厚が３０ｎｍより薄い場合には長波長域の透過率が低
下し、８０ｎｍより厚い場合には短波長域の透過率が低
下する。
【００１９】ＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる第５
層７は本発明による透明導電膜付きガラスにおいて導電
性を付与するために設けられるものである。第５層７は
第２層４と同様にして形成されるが、導電性を調整する
ために原料ガス中にＨＦやＣＦ３Ｂｒ、ＣＨ３ＣＨＦ２
などのフッ素を含む化合物、あるいは五塩化アンチモン
などのアンチモンを含む化合物を混合し、被膜中にフッ
素やアンチモンを添加してもよい。
層７は本発明による透明導電膜付きガラスにおいて導電
性を付与するために設けられるものである。第５層７は
第２層４と同様にして形成されるが、導電性を調整する
ために原料ガス中にＨＦやＣＦ３Ｂｒ、ＣＨ３ＣＨＦ２
などのフッ素を含む化合物、あるいは五塩化アンチモン
などのアンチモンを含む化合物を混合し、被膜中にフッ
素やアンチモンを添加してもよい。
【００２０】この第５層７の厚みは、２０〜３０ｎｍと
するのが好ましく、より好ましくは２０〜２５ｎｍであ
る。膜厚が２０ｎｍより薄い場合には抵抗値のリニアリ
ティが５％を越えてしまい、３０ｎｍより厚い場合には
透過率が低下する。
するのが好ましく、より好ましくは２０〜２５ｎｍであ
る。膜厚が２０ｎｍより薄い場合には抵抗値のリニアリ
ティが５％を越えてしまい、３０ｎｍより厚い場合には
透過率が低下する。
【００２１】
【作用】ガラス板表面に薄膜を形成して得られる透明導
電膜付きガラス板において、ガラス板表面にＳｉＯ２を
主成分とする薄膜からなるアンダーコート層としての第
１層を形成し、この第１層上に厚みを３０〜１２０ｎｍ
としたＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる第２層を、
この第２層上に厚みを１０〜１１０ｎｍとしたＴｉＯ２
を主成分とする薄膜からなる第３層を、この第３層上に
厚みを３０〜８０ｎｍとしたＳｉＯ２を主成分とする薄
膜からなる第４層を、この第４層上に厚みを２０〜３０
ｎｍとしたＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる第５層
を順次積層形成することにより、波長５５０ｎｍでの透
過率が９３％以上であり、かつ可視光領域の透過率が８
７％以上となり、可視光の透過スペクトルがフラットに
近くなる。
電膜付きガラス板において、ガラス板表面にＳｉＯ２を
主成分とする薄膜からなるアンダーコート層としての第
１層を形成し、この第１層上に厚みを３０〜１２０ｎｍ
としたＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる第２層を、
この第２層上に厚みを１０〜１１０ｎｍとしたＴｉＯ２
を主成分とする薄膜からなる第３層を、この第３層上に
厚みを３０〜８０ｎｍとしたＳｉＯ２を主成分とする薄
膜からなる第４層を、この第４層上に厚みを２０〜３０
ｎｍとしたＳｎＯ２を主成分とする薄膜からなる第５層
を順次積層形成することにより、波長５５０ｎｍでの透
過率が９３％以上であり、かつ可視光領域の透過率が８
７％以上となり、可視光の透過スペクトルがフラットに
近くなる。
【００２２】そして、この透明導電膜付きガラス板を用
いた本発明の透明タッチパネルによれば、視認性が向上
し、カラー表示にも対応することが可能となる。
いた本発明の透明タッチパネルによれば、視認性が向上
し、カラー表示にも対応することが可能となる。
【００２３】
【実施例】以下に、本発明の透明導電膜付きガラス板１
及び透明タッチパネルの具体的実施例について説明す
る。 実施例１ 大きさが３００＊３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの波長
５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラスを
洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板を４
５０℃に加熱し、基板表面にＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２の調
整されたガスを供給して、厚みが３０ｎｍのＳｉＯ２を
主成分とする第１層を成膜した。その後、基板を５００
℃に加熱し、Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、Ｎ２、Ｏ２及
び水蒸気の調整されたガスを供給して、第１層の膜表面
に厚みが８０ｎｍのＳｎＯ２を主成分とする第２層を成
膜した。ついで、Ｔｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４の蒸
気、Ｎ２、Ｏ２の調整されたガスを供給して、厚みが２
０ｎｍのＴｉＯ２を主成分とする第３層を成膜した。そ
して、第３層上に、上記と同様にして、厚みが４０ｎｍ
のＳｉＯ２を主成分とする第４層を成膜した。最後に、
Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、ＣＨ３ＣＨＦ２、Ｎ２、Ｏ
２及び水蒸気の調整されたガスを供給して、第４層の膜
表面に厚みが３０ｎｍのＳｎＯ２を主成分とする第５層
を成膜した。
及び透明タッチパネルの具体的実施例について説明す
る。 実施例１ 大きさが３００＊３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの波長
５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラスを
洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板を４
５０℃に加熱し、基板表面にＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２の調
整されたガスを供給して、厚みが３０ｎｍのＳｉＯ２を
主成分とする第１層を成膜した。その後、基板を５００
℃に加熱し、Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、Ｎ２、Ｏ２及
び水蒸気の調整されたガスを供給して、第１層の膜表面
に厚みが８０ｎｍのＳｎＯ２を主成分とする第２層を成
膜した。ついで、Ｔｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４の蒸
気、Ｎ２、Ｏ２の調整されたガスを供給して、厚みが２
０ｎｍのＴｉＯ２を主成分とする第３層を成膜した。そ
して、第３層上に、上記と同様にして、厚みが４０ｎｍ
のＳｉＯ２を主成分とする第４層を成膜した。最後に、
Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、ＣＨ３ＣＨＦ２、Ｎ２、Ｏ
２及び水蒸気の調整されたガスを供給して、第４層の膜
表面に厚みが３０ｎｍのＳｎＯ２を主成分とする第５層
を成膜した。
【００２４】このようにして得られた積層構造の透明導
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に実線で示している。同図からわかるように、波長
５５０ｎｍでの透過率が９４％で、可視光領域での透過
率の最小値は９０％であった。
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に実線で示している。同図からわかるように、波長
５５０ｎｍでの透過率が９４％で、可視光領域での透過
率の最小値は９０％であった。
【００２５】また、試料の中央を通り長辺に平行な直線
を１１等分した１０点でのシート抵抗を測定してリニア
リティを評価したところ、抵抗値のリニアリティは３％
であった。
を１１等分した１０点でのシート抵抗を測定してリニア
リティを評価したところ、抵抗値のリニアリティは３％
であった。
【００２６】次に、上記の透明導電膜付きガラス板１を
用いた透明タッチパネルについて図３を参照して説明す
る。この透明タッチパネル１１は同図（ａ）に示すよう
に、透明導電膜付きガラス板を第１電極板１２とし、透
明導電膜１８が設けられた可撓性を有する透明基体１７
を第２電極板１３として、第１電極板１２と第２電極板
１３とを間隙形成部材であるスペーサ１４を介して所定
の間隙、例えば約１００μｍをおいて対向配置させてな
る。
用いた透明タッチパネルについて図３を参照して説明す
る。この透明タッチパネル１１は同図（ａ）に示すよう
に、透明導電膜付きガラス板を第１電極板１２とし、透
明導電膜１８が設けられた可撓性を有する透明基体１７
を第２電極板１３として、第１電極板１２と第２電極板
１３とを間隙形成部材であるスペーサ１４を介して所定
の間隙、例えば約１００μｍをおいて対向配置させてな
る。
【００２７】この透明タッチパネルは、通常、対向した
２枚の透明導電膜付きガラス２２、２３の間隙に液晶２
４を封入してなる液晶ディスプレイパネル２１と組み合
わせた入力機器として使用される。図３（ｂ）のように
上記第２電極板１２である透明導電膜付きガラス板と平
行に液晶ディスプレイパネル２１を配置した入力機器の
場合、液晶ディスプレイパネルに対向する第２電極板１
２の基板であるガラス２の表面に反射防止処理を施し
て、視認性の向上をはかることができる。また、透明タ
ッチパネル１１と液晶ディスプレイパネル２１との間隙
に屈折率調整剤を挿入して視認性を向上させることも可
能である。さらに、図３（ｃ）のように、上記第２電極
板１２のガラス２表面に液晶ディスプレイパネルを駆動
させる透明導電膜２６を成膜し、タッチパネルと液晶デ
ィスプレイパネルを一体とすることにより視認性の向上
をはかることもできる。
２枚の透明導電膜付きガラス２２、２３の間隙に液晶２
４を封入してなる液晶ディスプレイパネル２１と組み合
わせた入力機器として使用される。図３（ｂ）のように
上記第２電極板１２である透明導電膜付きガラス板と平
行に液晶ディスプレイパネル２１を配置した入力機器の
場合、液晶ディスプレイパネルに対向する第２電極板１
２の基板であるガラス２の表面に反射防止処理を施し
て、視認性の向上をはかることができる。また、透明タ
ッチパネル１１と液晶ディスプレイパネル２１との間隙
に屈折率調整剤を挿入して視認性を向上させることも可
能である。さらに、図３（ｃ）のように、上記第２電極
板１２のガラス２表面に液晶ディスプレイパネルを駆動
させる透明導電膜２６を成膜し、タッチパネルと液晶デ
ィスプレイパネルを一体とすることにより視認性の向上
をはかることもできる。
【００２８】実施例２ 実施例１の第２層の厚みを９０ｎｍに、第３層の厚みを
１０ｎｍにした以外は実施例１と同様にして試料を得
た。この試料の、波長５５０ｎｍでの透過率は９３％、
可視光領域での透過率の最小値は８９％、抵抗値のリニ
アリティは３％であった。
１０ｎｍにした以外は実施例１と同様にして試料を得
た。この試料の、波長５５０ｎｍでの透過率は９３％、
可視光領域での透過率の最小値は８９％、抵抗値のリニ
アリティは３％であった。
【００２９】実施例３ 実施例１の第２層の厚みを９０ｎｍに、第４層の厚みを
５０ｎｍにした以外は実施例１と同様にして試料を得
た。この試料の、波長５５０ｎｍでの透過率は９３％、
可視光領域での透過率の最小値は８８％、抵抗値のリニ
アリティは３％であった。
５０ｎｍにした以外は実施例１と同様にして試料を得
た。この試料の、波長５５０ｎｍでの透過率は９３％、
可視光領域での透過率の最小値は８８％、抵抗値のリニ
アリティは３％であった。
【００３０】比較例１ 大きさが３００＊３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの波長
５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラスを
洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板を４
５０℃に加熱し、基板表面にＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２の調
整されたガスを供給して、厚みが２５ｎｍのＳｉＯ２を
主成分とする第１層を成膜した。その後、基板を５００
℃に加熱し、Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、Ｎ２、Ｏ２、
ＨＦの蒸気、及び水蒸気の調整されたガスを供給して、
第１層の膜表面に厚みが２５ｎｍのＳｎＯ２を主成分と
する第２層を成膜した。
５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラスを
洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板を４
５０℃に加熱し、基板表面にＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２の調
整されたガスを供給して、厚みが２５ｎｍのＳｉＯ２を
主成分とする第１層を成膜した。その後、基板を５００
℃に加熱し、Ｃ４Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、Ｎ２、Ｏ２、
ＨＦの蒸気、及び水蒸気の調整されたガスを供給して、
第１層の膜表面に厚みが２５ｎｍのＳｎＯ２を主成分と
する第２層を成膜した。
【００３１】このようにして得られた透明導電膜付きガ
ラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視光透過率を
分光光度計により測定した。この測定結果を図２に破線
で示している。同図からわかるように、波長５５０ｎｍ
での透過率は９０％で、抵抗値のリニアリティは４％で
あった。
ラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視光透過率を
分光光度計により測定した。この測定結果を図２に破線
で示している。同図からわかるように、波長５５０ｎｍ
での透過率は９０％で、抵抗値のリニアリティは４％で
あった。
【００３２】比較例２ 大きさが３００＊３２０ｍｍ、厚みが１．１ｍｍの波長
５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラスを
洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板を４
５０℃に加熱し、基板表面にＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２の調
整されたガスを供給して、厚みが３０ｎｍのＳｉＯ２を
主成分とする第１層を成膜した。その後、基板を５００
℃に加熱し、Ｔｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４の蒸気、Ｎ
２、Ｏ２の調整されたガスを供給して、第１層の膜表面
に厚みが１１０ｎｍのＴｉＯ２を主成分とする第２層を
成膜した。ついで、基板を５００℃に保ったまま、Ｃ４
Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、Ｎ２、Ｏ２及び水蒸気の調整さ
れたガスを供給して、第２層の膜表面に厚みが６０ｎｍ
のＳｎＯ２を主成分とする第３層を成膜した。
５５０ｎｍにおける透過率が９２％のフロートガラスを
洗浄、乾燥してガラス板（基板）とした。この基板を４
５０℃に加熱し、基板表面にＳｉＨ４、Ｎ２、Ｏ２の調
整されたガスを供給して、厚みが３０ｎｍのＳｉＯ２を
主成分とする第１層を成膜した。その後、基板を５００
℃に加熱し、Ｔｉ［ＯＣＨ（ＣＨ３）２］４の蒸気、Ｎ
２、Ｏ２の調整されたガスを供給して、第１層の膜表面
に厚みが１１０ｎｍのＴｉＯ２を主成分とする第２層を
成膜した。ついで、基板を５００℃に保ったまま、Ｃ４
Ｈ９ＳｎＣｌ３の蒸気、Ｎ２、Ｏ２及び水蒸気の調整さ
れたガスを供給して、第２層の膜表面に厚みが６０ｎｍ
のＳｎＯ２を主成分とする第３層を成膜した。
【００３３】このようにして得られた積層構造の透明導
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に鎖線で示している。同図からわかるように、波長
５５０ｎｍでの透過率は９１％、抵抗値のリニアリティ
は３％であったが、可視光領域での透過率の最小値は７
０％であった。
電膜付きガラス板を徐冷し、試料とし、この試料の可視
光透過率を分光光度計により測定した。この測定結果を
図２に鎖線で示している。同図からわかるように、波長
５５０ｎｍでの透過率は９１％、抵抗値のリニアリティ
は３％であったが、可視光領域での透過率の最小値は７
０％であった。
【００３４】比較例３ 実施例１の第５層の厚みを５０ｎｍとした以外は、実施
例１と同様である。この試料の、波長５５０ｎｍでの透
過率は９１％、可視光領域での透過率の最小値は８７
％、抵抗値のリニアリティは２％であった。
例１と同様である。この試料の、波長５５０ｎｍでの透
過率は９１％、可視光領域での透過率の最小値は８７
％、抵抗値のリニアリティは２％であった。
【００３５】比較例４ 実施例１の第２層の厚みを６０ｎｍとし、第４層の厚み
を２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様である。この
試料の、波長５５０ｎｍでの透過率は９０％、可視光領
域での透過率の最小値は８５％、抵抗値のリニアリティ
は３％であった。
を２０ｎｍとした以外は、実施例１と同様である。この
試料の、波長５５０ｎｍでの透過率は９０％、可視光領
域での透過率の最小値は８５％、抵抗値のリニアリティ
は３％であった。
【００３６】このように、実施例１〜３においては、波
長５５０ｎｍでの透過率が９３％以上で、かつ可視光領
域での透過率の最小値が８７％以上が得られ、抵抗値の
リニアリティも５％以下が得られるが、比較例１〜４に
おいては、波長５５０ｎｍでの透過率が９３％以上とな
らない（比較例１〜４）、あるいは可視光領域での透過
率の最小値が８７％未満となる（比較例２、４）。
長５５０ｎｍでの透過率が９３％以上で、かつ可視光領
域での透過率の最小値が８７％以上が得られ、抵抗値の
リニアリティも５％以下が得られるが、比較例１〜４に
おいては、波長５５０ｎｍでの透過率が９３％以上とな
らない（比較例１〜４）、あるいは可視光領域での透過
率の最小値が８７％未満となる（比較例２、４）。
【００３７】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば可
視光透過率が高く、かつ透過率の波長依存性が小さい透
明導電膜付きガラス板を得ることができる。そして、こ
の透明導電膜付きガラス板を用いた本発明の透明タッチ
パネルによれば、視認性が良く、カラー表示にも対応で
きる。また、本発明の透明導電膜付きガラス板はその優
れた光学特性を利用して面発熱体や帯電防止ガラスなど
にも好適に使用し得る。
視光透過率が高く、かつ透過率の波長依存性が小さい透
明導電膜付きガラス板を得ることができる。そして、こ
の透明導電膜付きガラス板を用いた本発明の透明タッチ
パネルによれば、視認性が良く、カラー表示にも対応で
きる。また、本発明の透明導電膜付きガラス板はその優
れた光学特性を利用して面発熱体や帯電防止ガラスなど
にも好適に使用し得る。
【図１】本発明に係る透明導電膜付きガラスの模式的構
成図である。
成図である。
【図２】本発明の一実施例及び比較例の可視光透過特性
を示す線図である。
を示す線図である。
【図３】本発明に係る透明タッチパネルの模式的構成図
である。
である。
１…透明導電膜付きガラス板、２…ガラス板、３…第１
層、４…第２層、５…第３層、６…第４層、７…第５
層、１１…透明タッチパネル、１２…第１電極板、１３
…第２電極板、１４…スペーサ、１６…透明導電膜、１
７…基体、１８…透明導電膜、２１…液晶ディスプレイ
パネル、２２、２３…電極板、２４…液晶、２５…基
体、２６、２７…透明導電膜、２８…基体
層、４…第２層、５…第３層、６…第４層、７…第５
層、１１…透明タッチパネル、１２…第１電極板、１３
…第２電極板、１４…スペーサ、１６…透明導電膜、１
７…基体、１８…透明導電膜、２１…液晶ディスプレイ
パネル、２２、２３…電極板、２４…液晶、２５…基
体、２６、２７…透明導電膜、２８…基体
Claims (2)
- 【請求項１】ガラス板上に、ＳｉＯ２を主成分とする薄
膜からなる第１層、ＳｎＯ２を主成分とする薄膜からな
る第２層、ＴｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第３
層、ＳｉＯ２を主成分とする薄膜からなる第４層、Ｓｎ
Ｏ２を主成分とする薄膜からなる第５層を順次積層形成
し、前記第２層の厚みを３０〜１２０ｎｍ、第３層の厚
みを１０〜１１０ｎｍ、第４層の厚みを３０〜１２０ｎ
ｍ、第５層の厚みを２０〜３０ｎｍとしたことを特徴と
する透明導電膜付きガラス板。 - 【請求項２】請求項１に記載の透明導電膜付きガラス板
を第１電極板とし、透明導電性膜が設けられた可撓性を
有する透明板を第２電極板として、前記第１電極板の透
明導電膜と第２電極板の透明導電膜とを所定の空隙を設
けて対向配置してなることを特徴とする透明タッチパネ
ル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27510194A JPH08138446A (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | 透明導電膜付きガラス板及びそれを用いた透明タッチパネル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27510194A JPH08138446A (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | 透明導電膜付きガラス板及びそれを用いた透明タッチパネル |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08138446A true JPH08138446A (ja) | 1996-05-31 |
Family
ID=17550781
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27510194A Pending JPH08138446A (ja) | 1994-11-09 | 1994-11-09 | 透明導電膜付きガラス板及びそれを用いた透明タッチパネル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08138446A (ja) |
Cited By (35)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004014814A1 (en) * | 2002-08-09 | 2004-02-19 | 3M Innovative Properties Company | Multifunctional multilayer optical film |
| JP2006268085A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | タッチパネル |
| US8264466B2 (en) | 2006-03-31 | 2012-09-11 | 3M Innovative Properties Company | Touch screen having reduced visibility transparent conductor pattern |
| CN102837467A (zh) * | 2011-06-22 | 2012-12-26 | 信义光伏产业(安徽)控股有限公司 | 一种透明导电膜玻璃及其制备方法 |
| US8454181B2 (en) | 2010-08-25 | 2013-06-04 | Ford Global Technologies, Llc | Light bar proximity switch |
| US8878438B2 (en) | 2011-11-04 | 2014-11-04 | Ford Global Technologies, Llc | Lamp and proximity switch assembly and method |
| US8922340B2 (en) | 2012-09-11 | 2014-12-30 | Ford Global Technologies, Llc | Proximity switch based door latch release |
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