JPH08129186A - Liquid crystal display device - Google Patents
Liquid crystal display deviceInfo
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- JPH08129186A JPH08129186A JP26945694A JP26945694A JPH08129186A JP H08129186 A JPH08129186 A JP H08129186A JP 26945694 A JP26945694 A JP 26945694A JP 26945694 A JP26945694 A JP 26945694A JP H08129186 A JPH08129186 A JP H08129186A
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- crystal display
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、携帯情報端末
等に好適に用いられる液晶表示装置に関するものであ
る。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a liquid crystal display device suitable for use in, for example, portable information terminals.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、例えば、携帯情報端末等に好適に
用いられる液晶表示装置、つまり、小型でかつ安価な液
晶表示装置の開発が活発に行われている。特に、二端子
素子を用いた液晶表示装置は、薄膜トランジスタ（Thin
Film Transistor）を用いた液晶表示装置と比較して、
製造工程が簡単であり、しかも低コストで製造可能とな
っている。そして、二端子素子を用い、アクティブマト
リクス駆動方式で駆動される液晶表示装置は、基板上に
おける該素子が占める面積を小さくすることができるの
で、いわゆる光効率が良好であり、表示品位に優れてい
る。2. Description of the Related Art In recent years, for example, a liquid crystal display device suitably used for a portable information terminal, that is, a small-sized and inexpensive liquid crystal display device has been actively developed. In particular, a liquid crystal display device using a two-terminal element is a thin film transistor (Thin
Compared with the liquid crystal display device using Film Transistor,
The manufacturing process is simple and it can be manufactured at low cost. In a liquid crystal display device which is driven by an active matrix driving method using a two-terminal element, the area occupied by the element on a substrate can be reduced, so that so-called light efficiency is favorable and display quality is excellent. There is.
【０００３】上記従来の液晶表示装置の構成について、
図１０および図１１を参照しながら、以下に簡単に説明
する。Regarding the structure of the above conventional liquid crystal display device,
A brief description will be given below with reference to FIGS. 10 and 11.
【０００４】図１０に示すように、上記従来の液晶表示
装置は、基板５０と対向基板５１との間に液晶層５２を
有してなっている。また、基板５０の背面側（同図にお
いて下側）には、図示しないバックライト（照明用光
源）が配設されている。上記の基板５０上には、二端子
素子であるＭＩＭ (Metal Insulator Metal)素子６１…
と、画素電極であるＩＴＯ(Indium-tin oxide)電極６２
…と、バスラインである信号線６３…とが形成されてお
り、これらＭＩＭ素子６１…、ＩＴＯ電極６２…、およ
び信号線６３…を完全に覆うようにして配向膜６４が形
成されている。図１１にも示すように、各ＩＴＯ電極６
２は、マトリクス状に配設された透明電極であり、隣接
する該ＩＴＯ電極６２…同士が接触しないように、所定
の間隔を置いて形成されている。つまり、隣接するＩＴ
Ｏ電極６２…間には、隙間６２ａ…が形成されている。As shown in FIG. 10, the above conventional liquid crystal display device has a liquid crystal layer 52 between a substrate 50 and a counter substrate 51. Further, a backlight (light source for illumination), which is not shown, is arranged on the back side (lower side in the figure) of the substrate 50. MIM (Metal Insulator Metal) elements 61, which are two-terminal elements, are formed on the substrate 50.
And an ITO (Indium-tin oxide) electrode 62 which is a pixel electrode
, And signal lines 63, which are bus lines, are formed, and an alignment film 64 is formed so as to completely cover the MIM elements 61, the ITO electrodes 62, and the signal lines 63. As shown in FIG. 11, each ITO electrode 6
Reference numeral 2 is a transparent electrode arranged in a matrix, and is formed with a predetermined interval so that the adjacent ITO electrodes 62 do not come into contact with each other. That is, adjacent IT
A gap 62a is formed between the O electrodes 62.
【０００５】上記の対向基板５１における対向面側に
は、各ＩＴＯ電極６２に対応する位置に、Ｒ（赤）・Ｇ
（緑）・Ｂ（青）のカラーフィルタ７３…が形成されて
おり、これらカラーフィルタ７３…を覆うようにして、
ＩＴＯ電極６２…の対向電極７４…が形成されている。
また、上記対向面における隙間６２ａ…に対応する位置
には、遮光膜であるブラックマトリックス５５が形成さ
れている。上記のブラックマトリックス５５は、該隙間
６２ａ…から漏れる光を遮光するようになっている。つ
まり、上記従来の液晶表示装置は、ブラックマトリック
ス５５で光を遮光することにより、コントラスト等の表
示品位を良好な状態に保つようになっている。On the facing surface side of the above-mentioned counter substrate 51, R (red) / G is provided at a position corresponding to each ITO electrode 62.
(Green) / B (blue) color filters 73 ... Are formed, and the color filters 73 ...
The counter electrodes 74 ... Of the ITO electrodes 62 ... Are formed.
Further, a black matrix 55, which is a light-shielding film, is formed at a position corresponding to the gaps 62a on the facing surface. The black matrix 55 blocks light leaking from the gaps 62a. That is, in the above-mentioned conventional liquid crystal display device, the black matrix 55 blocks the light so that the display quality such as the contrast is maintained in a good state.
【０００６】また、上記従来の液晶表示装置が、液晶が
備える電気光学特性を利用して各種表示を行うと共に、
いわゆるタッチパネルとしての機能を兼ね備えている場
合には、図１２に示すように、対向電極７４…における
信号線６３…に対応する位置に、開口部７４ａ…が設け
られている。つまり、この場合には、信号線６３…が、
対向基板５１を介して入力される信号を認識する認識部
位となっている。尚、上記の信号は、いわゆるペン入力
により入力される。Further, the above-mentioned conventional liquid crystal display device performs various displays by utilizing electro-optical characteristics of liquid crystal,
When it also has a function as a so-called touch panel, as shown in FIG. 12, openings 74a are provided at positions corresponding to the signal lines 63 in the counter electrodes 74. That is, in this case, the signal lines 63 ...
It is a recognition part for recognizing a signal input through the counter substrate 51. The above signals are input by so-called pen input.
【０００７】上記の開口部７４ａ…は、例えば、対向電
極７４…にエッチング等を施すことにより形成されてい
る。開口部７４ａ…は、信号線６３…の幅よりも若干狭
い幅を有する細長い長方形状に形成されている。そし
て、信号線６３…は、対向基板５１の開口部７４ａ…を
介して入力される信号を認識するようになっている。The openings 74a ... Are formed, for example, by etching the counter electrodes 74. The openings 74a ... Are formed in an elongated rectangular shape having a width slightly narrower than the width of the signal lines 63. The signal lines 63 ... Recognize signals input through the openings 74a.
【０００８】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来の構成では、ＩＴＯ電極６２…間の隙間６２ａ…から
漏れる光を、対向基板５１に形成されたブラックマトリ
ックス５５によって遮光するようになっている。このた
め、上記従来の液晶表示装置は、基板５０および対向基
板５１を対向させて貼り合わせる（パネル化）際に、隙
間６２ａ…の位置とブラックマトリックス５５の位置と
を厳密に合致させなければならない。即ち、位置合わせ
に高精度が要求される。例えば、両者の位置合わせが若
干（数μｍ程度）ずれた場合には、ブラックマトリック
ス５５は、隙間６２ａ…から漏れる光を遮光することが
できなくなる。However, in the above-mentioned conventional configuration, the light leaking from the gaps 62a between the ITO electrodes 62 is shielded by the black matrix 55 formed on the counter substrate 51. Therefore, in the above-described conventional liquid crystal display device, when the substrate 50 and the counter substrate 51 are opposed to each other and bonded (panelized), the positions of the gaps 62a ... And the positions of the black matrix 55 must be exactly matched. . That is, high precision is required for alignment. For example, when the alignment between the two is slightly shifted (about several μm), the black matrix 55 cannot block the light leaking from the gaps 62a.
【０００９】従って、上記従来の液晶表示装置は、両者
の位置合わせが厳密に行われていない場合には、コント
ラスト等の表示品位が低下してしまうという問題点を有
している。Therefore, the above-mentioned conventional liquid crystal display device has a problem that the display quality such as contrast is deteriorated when the alignment between the two is not performed strictly.
【００１０】また、上記従来の構成では、信号線６３…
は、細長い長方形状に形成された開口部７４ａ…を介し
て入力される信号を認識するようになっている。従っ
て、信号線６３…により構成される認識部位を大きく形
成することができない。また、基板５０および対向基板
５１の位置合わせが厳密に行われていない場合には、信
号線６３…は、開口部７４ａ…を介して信号を読み取る
ことができない。このため、上記従来の液晶表示装置
は、信号を読み取る際に、該信号の読み取り動作のミス
や、該ミスに伴う誤作動が発生し易くなるという問題点
を有している。Further, in the above conventional structure, the signal lines 63 ...
Recognizes a signal input through the openings 74a ... Therefore, the recognition site formed by the signal lines 63 ... Can not be formed large. Further, if the alignment of the substrate 50 and the counter substrate 51 is not strictly performed, the signal lines 63 cannot read the signal through the openings 74a. Therefore, the conventional liquid crystal display device described above has a problem that when a signal is read, an error in reading the signal or a malfunction due to the error is likely to occur.
【００１１】本発明は、上記従来の問題点に鑑みなされ
たものであり、その目的は、基板および対向基板の位置
合わせが厳密に行われていない場合においても、コント
ラスト等の表示品位を良好な状態に保つことができる液
晶表示装置を提供することにある。また、他の目的は、
信号の読み取り動作の信頼性が向上された液晶表示装置
を提供することにある。The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object thereof is to provide good display quality such as contrast even when the substrate and the counter substrate are not precisely aligned. An object is to provide a liquid crystal display device which can be kept in a state. And for other purposes,
An object of the present invention is to provide a liquid crystal display device in which the reliability of signal reading operation is improved.
【００１２】[0012]
【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明の液
晶表示装置は、上記の課題を解決するために、所定の間
隔を置いて配設された複数の画素電極と、信号線とを基
板上に有する液晶表示装置において、上記信号線は不透
明な材質からなり、かつ、画素電極間の隙間をほぼ埋め
るように形成された凸設部位を有していることを特徴と
している。In order to solve the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to a first aspect of the present invention includes a plurality of pixel electrodes arranged at a predetermined interval and a signal line. The liquid crystal display device provided on the substrate is characterized in that the signal line is made of an opaque material and has a protruding portion formed so as to substantially fill the gap between the pixel electrodes.
【００１３】請求項２記載の発明の液晶表示装置は、上
記の課題を解決するために、請求項１記載の液晶表示装
置において、対向電極が、対向基板における上記画素電
極に対応する位置に配設され、かつ、上記凸設部位が、
対向基板を介して入力される信号を認識する認識部位で
あることを特徴としている。In order to solve the above-mentioned problems, a liquid crystal display device according to a second aspect of the present invention is the liquid crystal display device according to the first aspect, in which the counter electrode is arranged at a position corresponding to the pixel electrode on the counter substrate. And the protruding portion is
It is characterized in that it is a recognition portion for recognizing a signal input through the counter substrate.
【００１４】[0014]
【作用】請求項１記載の構成によれば、不透明な材質か
らなる信号線は、画素電極間の隙間をほぼ埋めるように
形成された凸設部位を有している。このため、例えば、
非線形素子により液晶が駆動される液晶表示装置におい
ては、信号線は、バスラインとしての機能の他、画素電
極間の隙間から漏れる光を遮光する遮光膜としての機能
も兼ね備えることができる。従って、対向基板にブラッ
クマトリックス等の遮光膜を形成する必要がない。ま
た、該遮光膜を形成する必要がないので、基板および対
向基板を対向させて貼り合わせる際に、両者の位置合わ
せを厳密に行う必要もない。つまり、両者の位置合わせ
が若干ずれていても、液晶表示装置は、コントラスト等
の表示品位の低下を招くことがない。このため、基板お
よび対向基板を貼り合わせる際の精度がそれ程要求され
ない。According to the first aspect of the invention, the signal line made of an opaque material has a protruding portion formed so as to substantially fill the gap between the pixel electrodes. So, for example,
In a liquid crystal display device in which liquid crystal is driven by a non-linear element, the signal line can have not only a function as a bus line but also a function as a light shielding film that shields light leaking from the gap between the pixel electrodes. Therefore, it is not necessary to form a light shielding film such as a black matrix on the counter substrate. Further, since it is not necessary to form the light-shielding film, it is not necessary to strictly align the both when the substrate and the counter substrate are opposed to each other and bonded. That is, the liquid crystal display device does not deteriorate the display quality such as contrast even if the alignment between the two is slightly deviated. Therefore, the precision in bonding the substrate and the counter substrate is not so required.
【００１５】これにより、基板および対向基板の位置合
わせが厳密に行われていない場合においても、コントラ
スト等の表示品位を良好な状態に保つことができる液晶
表示装置を提供することができる。As a result, it is possible to provide a liquid crystal display device which can maintain a good display quality such as contrast even when the alignment of the substrate and the counter substrate is not strictly performed.
【００１６】請求項２記載の構成によれば、対向電極
は、対向基板における画素電極に対応する位置に配設さ
れている。つまり、対向電極は、信号線の凸設部位に対
応する位置には形成されていない。また、信号線の凸設
部位は、対向基板を介して入力される信号を認識する認
識部位となっている。従って、信号線の凸設部位は、対
向電極間に形成されている隙間を介して入力される信号
を認識することができる。また、対向電極間に形成され
ている隙間を利用するので、信号線の凸設部位により構
成される認識部位を従来よりも大きく形成することがで
きる。従って、信号を読み取る際に、該信号の読み取り
動作のミスや、該ミスに伴う誤作動が発生し難くなる。According to the structure of the second aspect, the counter electrode is arranged at a position corresponding to the pixel electrode on the counter substrate. That is, the counter electrode is not formed at the position corresponding to the protruding portion of the signal line. The protruding portion of the signal line is a recognition portion that recognizes a signal input via the counter substrate. Therefore, the protruding portion of the signal line can recognize the signal input through the gap formed between the counter electrodes. Further, since the gap formed between the counter electrodes is used, the recognition portion formed by the protruding portion of the signal line can be formed larger than before. Therefore, when the signal is read, it is less likely that an error in reading the signal or a malfunction due to the error will occur.
【００１７】これにより、信号の読み取り動作の信頼性
が向上された液晶表示装置を提供することができる。As a result, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the reliability of the signal reading operation is improved.
【００１８】[0018]
〔実施例１〕本発明の一実施例について図１ないし図５
に基づいて説明すれば、以下の通りである。尚、以下の
説明においては、二端子素子を備えた液晶表示装置を例
に挙げることとする。[Embodiment 1] FIG. 1 to FIG.
The explanation is based on the following. In the following description, a liquid crystal display device having a two-terminal element will be taken as an example.
【００１９】本実施例にかかる液晶表示装置は、直視型
であり、カラー表示が可能となっている。液晶表示装置
は、いわゆるサンドイッチ構造セルであり、図１に示す
ように、基板１０と対向基板１１との間に液晶層１２を
有してなっている。上記液晶層１２を介して対向配置さ
れている基板１０および対向基板１１は、例えばガラス
や合成樹脂等の透明な絶縁体で形成されている。また、
基板１０の背面側（同図において下側）には、図示しな
いバックライト（照明用光源）が配設されている。つま
り、本実施例にかかる液晶表示装置は、透過型となって
いる。The liquid crystal display device according to the present embodiment is a direct-viewing type and is capable of color display. The liquid crystal display device is a so-called sandwich structure cell, and as shown in FIG. 1, has a liquid crystal layer 12 between a substrate 10 and a counter substrate 11. The substrate 10 and the counter substrate 11 that are arranged to face each other with the liquid crystal layer 12 in between are formed of a transparent insulator such as glass or synthetic resin. Also,
A back light (illumination light source) (not shown) is provided on the back side (lower side in the figure) of the substrate 10. That is, the liquid crystal display device according to the present embodiment is a transmissive type.
【００２０】図１および図２に示すように、上記の基板
１０上には、二端子素子（非線形素子）であるＭＩＭ
(Metal Insulator Metal)素子１…と、画素電極である
ＩＴＯ(Indium-tin oxide)電極２…と、バスラインであ
る信号線３…とが形成されており、これらＭＩＭ素子１
…、ＩＴＯ電極２…、および信号線３…、即ち、表示領
域を完全に覆うようにして配向膜４が形成されている。
ＭＩＭ素子１は、信号線３により入力される信号に基づ
いてＩＴＯ電極２を駆動する。各ＩＴＯ電極２は、マト
リクス状に配設された透明電極であり、隣接する該ＩＴ
Ｏ電極２…同士が接触しないように、所定の間隔を置い
て形成されている。As shown in FIGS. 1 and 2, MIM which is a two-terminal element (non-linear element) is provided on the substrate 10.
(Metal Insulator Metal) elements 1 ..., ITO (Indium-tin oxide) electrodes 2 ... which are pixel electrodes, and signal lines 3 ... which are bus lines are formed.
,, ITO electrodes 2, and signal lines 3, that is, the alignment film 4 is formed so as to completely cover the display area.
The MIM element 1 drives the ITO electrode 2 based on the signal input through the signal line 3. Each ITO electrode 2 is a transparent electrode arranged in a matrix, and the adjacent IT electrodes
The O electrodes 2 are formed at predetermined intervals so that they do not come into contact with each other.
【００２１】上記の信号線３…は、互いに平行に形成さ
れると共に、隣接するＩＴＯ電極２…間に形成されてい
る隙間２ａ…をほぼ埋めるように、該ＩＴＯ電極２…間
にも延びている。つまり、信号線３…は、凸設部位３ａ
…を有する略櫛形状に形成されており、該凸設部位３ａ
…が、画素電極であるＩＴＯ電極２…間の隙間２ａ…を
ほぼ埋めるように配設されている。信号線３…は、陽極
酸化が可能な金属、例えば、タンタルやニオブ等からな
っており、その表面には酸化被膜が形成されている。こ
のため、信号線３…は不透明となっており、また、凸設
部位３ａ…が上記の隙間２ａ…を埋めることにより、バ
スラインとしての機能の他、該隙間２ａ…から漏れる光
を遮光する遮光膜としての機能も兼ね備えている。The signal lines 3 are formed in parallel with each other and extend also between the ITO electrodes 2 so as to substantially fill the gaps 2a formed between the adjacent ITO electrodes 2. There is. That is, the signal lines 3 ...
Is formed in a substantially comb shape having the ...
Are arranged so as to substantially fill the gaps 2a between the ITO electrodes 2, which are pixel electrodes. The signal lines 3 are made of anodizable metal such as tantalum or niobium, and an oxide film is formed on the surface thereof. Therefore, the signal lines 3 ... Are opaque, and the protruding portions 3a ... Fill the above-mentioned gaps 2a .., thereby functioning as a bus line and blocking light leaking from the gaps 2a. It also functions as a light-shielding film.
【００２２】尚、互いに隣接するＩＴＯ電極２と凸設部
位３ａとの間隔は、絶縁不良を起こさない範囲内で、で
きるだけ狭い方が好ましい。該間隔は、信号線３…の凸
設部位３ａ…が遮光膜としての機能を具備できるよう
に、例えば３μｍ程度とすれば充分である。The distance between the ITO electrode 2 and the protruding portion 3a adjacent to each other is preferably as narrow as possible within a range in which insulation failure does not occur. It is sufficient that the distance is, for example, about 3 μm so that the protruding portions 3a of the signal lines 3 can function as a light shielding film.
【００２３】図１に示すように、上記のＭＩＭ素子１
は、信号線３と一体的に形成されている下部電極５と、
絶縁膜６と、上部電極７とを備えたスイッチ素子であ
る。上記の下部電極５（即ち、信号線３…）は、陽極酸
化が可能な金属、例えば、タンタルやニオブ等からなっ
ている。絶縁膜６は、下部電極５表面を例えば陽極酸化
することにより形成されており、例えば、酸化タンタル
（Ｔａ2 Ｏ5 ）や酸化ニオブ（Ｎｂ2 Ｏ5 ）等の金属酸
化物からなっている。上部電極７は、クロム、タンタ
ル、チタン、アルミニウム、銅等の一般に電極として用
いられる金属からなっており、ＩＴＯ電極２に電気的に
接続されている。つまり、ＭＩＭ素子１は、信号線３お
よびＩＴＯ電極２に電気的に接続されている。As shown in FIG. 1, the MIM element 1 described above is used.
Is a lower electrode 5 formed integrally with the signal line 3,
The switch element includes an insulating film 6 and an upper electrode 7. The lower electrode 5 (that is, the signal line 3 ...) Is made of a metal that can be anodized, such as tantalum or niobium. The insulating film 6 is formed by, for example, anodizing the surface of the lower electrode 5, and is made of, for example, a metal oxide such as tantalum oxide (Ta 2 O 5 ) or niobium oxide (Nb 2 O 5 ). The upper electrode 7 is made of a metal generally used as an electrode, such as chromium, tantalum, titanium, aluminum, and copper, and is electrically connected to the ITO electrode 2. That is, the MIM element 1 is electrically connected to the signal line 3 and the ITO electrode 2.
【００２４】上記の対向基板１１における対向面側に
は、各ＩＴＯ電極２に対応する位置に、Ｒ（赤）・Ｇ
（緑）・Ｂ（青）のカラーフィルタ１３…が形成されて
おり、これらカラーフィルタ１３…を覆うようにして、
ＩＴＯ電極２…の対向電極１４…が形成されている。つ
まり、対向電極１４…は、ＩＴＯ電極２…に対応する位
置に配設されている。上記の対向電極１４…は、ストラ
イプ状に配設された透明電極であり、バスラインとして
の機能を兼ね備えている。そして、液晶表示装置は、Ｉ
ＴＯ電極２…および対向電極１４…間に印加する電圧を
制御することにより液晶層１２を駆動し、液晶が備える
電気光学特性を利用して各種表示を行うようになってい
る。On the facing surface side of the above-mentioned counter substrate 11, R (red) .G is provided at a position corresponding to each ITO electrode 2.
(Green) and B (blue) color filters 13 ... Are formed, and these color filters 13 ...
The counter electrodes 14 of the ITO electrodes 2 are formed. That is, the counter electrodes 14 ... Are arranged at positions corresponding to the ITO electrodes 2. The counter electrodes 14 ... Are transparent electrodes arranged in stripes and also have a function as a bus line. The liquid crystal display device is
The liquid crystal layer 12 is driven by controlling the voltage applied between the TO electrode 2 and the counter electrode 14, and various displays are performed by utilizing the electro-optical characteristics of the liquid crystal.
【００２５】次に、上記構成の液晶表示装置の製造方法
について、図３および図４を参照しながら、以下にその
製造工程を説明する。Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device having the above-mentioned structure will be described below with reference to FIGS. 3 and 4.
【００２６】先ず、図３（ａ）に示すように、基板１０
上に、信号線３…および下部電極５…となるべき例えば
タンタル薄膜等の金属薄膜１５を、スパッタリング等に
より形成する。次に、同図（ｂ）に示すように、金属薄
膜１５上に、例えばポジ形のフォトレジスト１６を均一
に塗布する。尚、上記金属薄膜１５の厚みやフォトレジ
スト１６の塗布量は、特に限定されるものではない。First, as shown in FIG. 3A, the substrate 10
A metal thin film 15 such as a tantalum thin film, which is to be the signal lines 3 and the lower electrode 5, is formed on the top by sputtering or the like. Next, as shown in FIG. 3B, a positive photoresist 16, for example, is uniformly applied onto the metal thin film 15. The thickness of the metal thin film 15 and the coating amount of the photoresist 16 are not particularly limited.
【００２７】次いで、同図（ｃ）および図４に示すよう
に、フォトレジスト１６上に、信号線３…および下部電
極５…のパターンと同一のパターン（図中、便宜上、ハ
ッチングで示す）１７ａを有するフォトマスク１７を重
ね合わせる。その後、フォトマスク１７に紫外線等の光
を照射し、該フォトマスク１７を介してフォトレジスト
１６を露光する。これにより、金属薄膜１５上には、フ
ォトマスク１７のパターン１７ａと同一のパターンを有
するレジスト膜（図中、便宜上、網がけで示す）１６ａ
が形成される。Next, as shown in FIG. 4C and FIG. 4, the same pattern 17A as the pattern of the signal lines 3 ... And the lower electrodes 5 ... The photomask 17 having is overlapped. After that, the photomask 17 is irradiated with light such as ultraviolet rays, and the photoresist 16 is exposed through the photomask 17. As a result, on the metal thin film 15, a resist film 16a having the same pattern as the pattern 17a of the photomask 17 (indicated by a mesh in the figure for convenience) 16a.
Is formed.
【００２８】続いて、該フォトレジスト１６を現像した
後、レジスト膜１６ａにて被覆されていない金属薄膜１
５、即ち、金属薄膜１５における不要部分をエッチング
等により除去する。その後、レジスト膜１６ａを剥離す
る。これにより、図３（ｄ）に示すように、基板１０上
に、金属薄膜からなる信号線３…および下部電極５…が
形成される（図中、便宜上、下部電極５のみを示す）。
つまり、遮光膜としての機能を備えた信号線３…と、Ｍ
ＩＭ素子１…の下部電極５…とが一度に形成される。Subsequently, after developing the photoresist 16, the metal thin film 1 not covered with the resist film 16a.
5, that is, unnecessary portions of the metal thin film 15 are removed by etching or the like. Then, the resist film 16a is peeled off. As a result, as shown in FIG. 3D, the signal lines 3 and the lower electrodes 5 made of a metal thin film are formed on the substrate 10 (only the lower electrode 5 is shown in the figure for convenience).
That is, the signal lines 3 ... Having a function as a light shielding film, and M
The lower electrodes 5 of the IM elements 1 ... Are formed at once.
【００２９】次に、同図（ｅ）に示すように、信号線３
…表面および下部電極５…表面を陽極酸化することによ
り、金属酸化物からなる絶縁膜６を形成する。陽極酸化
を行う際に用いられる電解液としては、例えば、リン
酸、硼酸、酒石酸等の弱酸；これら弱酸のアンモニウム
塩を溶解させた希薄水溶液等が挙げられるが、特に限定
されるものではない。また、陰極の材質や、絶縁膜６の
厚みは、特に限定されるものではない。Next, as shown in FIG.
The surface and the lower electrode 5 ... The surface is anodized to form the insulating film 6 made of a metal oxide. Examples of the electrolytic solution used when performing anodization include weak acids such as phosphoric acid, boric acid and tartaric acid; dilute aqueous solutions in which ammonium salts of these weak acids are dissolved, but are not particularly limited. Moreover, the material of the cathode and the thickness of the insulating film 6 are not particularly limited.
【００３０】その後、同図（ｆ）に示すように、絶縁膜
６上に、上部電極７…をスパッタリング等の常法により
形成する。これにより、ＭＩＭ素子１…が基板１０上に
形成される。尚、上部電極７…の厚みは、特に限定され
るものではない。Thereafter, as shown in FIG. 3F, upper electrodes 7 ... Are formed on the insulating film 6 by a conventional method such as sputtering. As a result, the MIM elements 1 ... Are formed on the substrate 10. The thickness of the upper electrodes 7 ... Is not particularly limited.
【００３１】続いて、基板１０上に、ＩＴＯ電極２…を
スパッタリング等の常法により形成した後、所定の方法
により配向膜４を形成する。一方、対向基板１１上に、
カラーフィルタ１３…および対向電極１４…を所定の方
法により形成する。そして、これら基板１０および対向
基板１１を対向させて貼り合わせた後（パネル化）、公
知の方法にて両基板１０・１１間に液晶を封入すること
により液晶層１２を形成する。Subsequently, the ITO electrodes 2 ... Are formed on the substrate 10 by a conventional method such as sputtering, and then the alignment film 4 is formed by a predetermined method. On the other hand, on the counter substrate 11,
The color filters 13 and the counter electrodes 14 are formed by a predetermined method. Then, the substrate 10 and the counter substrate 11 are opposed to each other and bonded (panelized), and then a liquid crystal is sealed between the substrates 10 and 11 by a known method to form a liquid crystal layer 12.
【００３２】以上の製造工程により、液晶表示装置が製
造される。尚、上記製造方法においては、フォトレジス
ト１６がポジ形である場合を例示したが、フォトレジス
ト１６は、ネガ形であってもよい。また、露光方法とし
ては、近接式、密着式、投影式、ステップアンドレピー
ト方式等の光学式を好適に採用することができる。The liquid crystal display device is manufactured by the above manufacturing process. In the above manufacturing method, the case where the photoresist 16 is a positive type is illustrated, but the photoresist 16 may be a negative type. Further, as the exposure method, an optical method such as a proximity method, a contact method, a projection method, a step and repeat method can be preferably adopted.
【００３３】以上のように、本実施例にかかる液晶表示
装置は、不透明な材質からなる信号線３…が凸設部位３
ａ…を有する略櫛形状に形成されており、ＩＴＯ電極２
…間の隙間２ａ…をほぼ埋めるように配設されている。
即ち、信号線３…は、隙間２ａ…をほぼ埋めるように形
成された凸設部位３ａ…を有している。このため、信号
線３…は、バスラインとしての機能の他、該隙間２ａ…
から漏れる光を遮光する遮光膜としての機能も兼ね備え
ている。As described above, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the signal lines 3 ...
The ITO electrode 2 is formed in a substantially comb shape having a ...
It is arranged so as to almost fill the gaps 2a between.
That is, the signal lines 3 ... Have the protruding portions 3a ... Formed so as to substantially fill the gaps 2a. Therefore, the signal lines 3 ... In addition to functioning as bus lines, the gaps 2a.
It also has a function as a light-shielding film that blocks light leaking from it.
【００３４】つまり、ＩＴＯ電極２…間の隙間２ａ…部
分に設けられた信号線３…の凸設部位３ａ…により、該
隙間２ａ…から漏れる光を遮光することができる。従っ
て、対向基板１１における対向面側に、隙間２ａ…から
漏れる光を遮光するブラックマトリックス等の遮光膜を
形成する必要がない。また、ブラックマトリックス等の
遮光膜を形成する必要がないので、基板１０および対向
基板１１を対向させて貼り合わせる際に、両者の位置合
わせを厳密に行う必要もない。つまり、両者の位置合わ
せが若干（数μｍ程度）ずれていても、液晶表示装置
は、コントラスト等の表示品位の低下を招くことがな
い。このため、基板１０および対向基板１１を貼り合わ
せる際の精度がそれ程要求されない。That is, the light leaking from the gaps 2a can be blocked by the protruding portions 3a of the signal lines 3 provided in the gaps 2a between the ITO electrodes 2. Therefore, it is not necessary to form a light-shielding film such as a black matrix that shields light leaking from the gaps 2a ... On the opposing surface side of the counter substrate 11. Further, since it is not necessary to form a light-shielding film such as a black matrix, it is not necessary to strictly align the substrate 10 and the counter substrate 11 when they are bonded to each other. That is, the liquid crystal display device does not deteriorate the display quality such as contrast even if the alignment between the two is slightly deviated (about several μm). Therefore, the precision in bonding the substrate 10 and the counter substrate 11 is not so required.
【００３５】このように、ブラックマトリックス等の遮
光膜を形成する必要がなく、しかも、基板１０および対
向基板１１の位置合わせを厳密に行わなくても表示品位
が損なわれることがないので、製造工程が従来よりも簡
略化される。これにより、基板１０および対向基板１１
の位置合わせが厳密に行われていない場合においても、
コントラスト等の表示品位を良好な状態に保つことがで
きる液晶表示装置を従来よりも安価に提供することがで
きる。上記構成の液晶表示装置は、例えば、携帯情報端
末等に好適に用いられる。As described above, since it is not necessary to form a light-shielding film such as a black matrix and the display quality is not deteriorated even if the substrate 10 and the counter substrate 11 are not precisely aligned, the manufacturing process Is simpler than the conventional one. Thereby, the substrate 10 and the counter substrate 11
Even if the alignment of is not done exactly,
A liquid crystal display device capable of maintaining display quality such as contrast in a good state can be provided at a lower cost than before. The liquid crystal display device having the above configuration is suitably used, for example, in a mobile information terminal or the like.
【００３６】また、上述したように、信号線３…の凸設
部位３ａ…は、パターン１７ａを有するフォトマスク１
７をフォトレジスト１６上に重ね合わせ、露光・現像す
るだけで容易に形成することができる。つまり、信号線
３…の凸設部位３ａ…は、従来の信号線を形成する際に
用いられる図５に示すようなフォトマスク１９（図中、
便宜上、パターンをハッチングで示す）の代わりに、図
４に示すフォトマスク１７を用いるだけで容易に形成す
ることができる。従って、製造工程数を増加させること
なく、上記の凸設部位３ａ…を基板１０上に形成するこ
とができる。即ち、上記構成の液晶表示装置を従来の液
晶表示装置と同一の製造工程数で製造することができ
る。Further, as described above, the protruding portions 3a of the signal lines 3 ... Have the photomask 1 having the pattern 17a.
7 can be easily formed by superposing 7 on the photoresist 16 and exposing and developing. That is, the protruding portions 3a ... Of the signal lines 3 ... Are used for forming a conventional signal line, as shown in FIG.
Instead of (for convenience, the pattern is shown by hatching), it can be easily formed by using the photomask 17 shown in FIG. Therefore, the protruding portions 3a ... Can be formed on the substrate 10 without increasing the number of manufacturing steps. That is, the liquid crystal display device having the above configuration can be manufactured by the same number of manufacturing steps as the conventional liquid crystal display device.
【００３７】尚、本実施例においては、液晶表示装置が
ＭＩＭ素子１…を備えてなっている構成を例示して説明
したが、液晶表示装置の構成は、上記実施例の構成にの
み限定されるものではない。In the present embodiment, the liquid crystal display device has been described by exemplifying the configuration including the MIM elements 1 ... However, the configuration of the liquid crystal display device is limited to the configuration of the above embodiment. Not something.
【００３８】〔実施例２〕本発明の他の実施例について
図６に基づいて説明すれば、以下の通りである。尚、説
明の便宜上、前記の実施例１の図面に示した構成と同一
の機能を有する構成には、同一の符号を付記し、その説
明を省略する。[Embodiment 2] Another embodiment of the present invention will be described below with reference to FIG. For the sake of convenience of description, configurations having the same functions as the configurations shown in the drawings of the first embodiment will be designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
【００３９】本実施例にかかる液晶表示装置は、液晶が
備える電気光学特性を利用して各種表示を行うと共に、
いわゆるタッチパネルとしての機能も兼ね備えている。
つまり、本実施例にかかる液晶表示装置は、信号線３…
が、対向基板１１を介して入力される信号を認識する認
識部位となっている。その他の構成は、前記の実施例１
の液晶表示装置と同一である。尚、前記したように、信
号線３…は、隙間２ａ…から漏れる光を遮光する遮光膜
としての機能も兼ね備えている。The liquid crystal display device according to this embodiment performs various displays by utilizing the electro-optical characteristics of liquid crystal, and
It also has a so-called touch panel function.
That is, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the signal lines 3 ...
Is a recognition site for recognizing a signal input through the counter substrate 11. Other configurations are the same as those in the first embodiment.
It is the same as the liquid crystal display device of. As described above, the signal lines 3 also have a function as a light blocking film that blocks light leaking from the gaps 2a.
【００４０】図６に示すように、上記の対向基板１１に
おける対向面側に形成されている対向電極１４…は、基
板１０上に形成されているＩＴＯ電極２…に対応する位
置に配設されている。このため、対向電極１４…は、信
号線３…の凸設部位３ａ…に対応する位置には形成され
ていない。従って、対向電極１４…における信号線３…
に対応する位置に、例えばエッチング等により開口部を
設けなくても、信号線３…の凸設部位３ａ…は、隣接す
る対向電極１４…間に形成されている隙間を介して信号
を認識できるようになっている。即ち、凸設部位３ａ…
は、例えば、いわゆるペン入力等により入力される信号
を対向基板１１を介して認識できるようになっている。As shown in FIG. 6, the counter electrodes 14 formed on the facing surface side of the counter substrate 11 are arranged at positions corresponding to the ITO electrodes 2 formed on the substrate 10. ing. Therefore, the counter electrodes 14 ... Are not formed at the positions corresponding to the protruding portions 3a ... of the signal lines 3. Therefore, the signal lines 3 ... In the counter electrodes 14 ...
Even if an opening is not provided at a position corresponding to, for example, by etching or the like, the protruding portions 3a of the signal lines 3 can recognize a signal through a gap formed between the adjacent counter electrodes 14. It is like this. That is, the protruding portion 3a ...
For example, a signal input by a so-called pen input or the like can be recognized through the counter substrate 11.
【００４１】つまり、従来の液晶表示装置を製造する際
には必要であった対向電極１４…のエッチング工程を省
略することができる。このように、対向電極１４…に開
口部を設ける必要がないので、製造工程が従来よりも簡
略化され、液晶表示装置を従来よりも安価に提供するこ
とができる。That is, it is possible to omit the step of etching the counter electrodes 14, which was necessary when manufacturing the conventional liquid crystal display device. As described above, since it is not necessary to provide the openings in the counter electrodes 14 ..., The manufacturing process can be simplified as compared with the conventional case, and the liquid crystal display device can be provided at a lower cost than the conventional case.
【００４２】また、対向電極１４…間に形成されている
隙間を利用するので、信号線３…の凸設部位３ａ…によ
り構成される認識部位を従来よりも大きく形成すること
ができる。従って、信号を読み取る際に、該信号の読み
取り動作のミスや、該ミスに伴う誤作動が発生し難くな
る。これにより、信号の読み取り動作の信頼性が向上さ
れた液晶表示装置を提供することができる。Further, since the gap formed between the counter electrodes 14 is utilized, the recognition portion constituted by the protruding portions 3a of the signal lines 3 can be formed larger than before. Therefore, when the signal is read, it is less likely that an error in reading the signal or a malfunction due to the error will occur. As a result, it is possible to provide a liquid crystal display device in which the reliability of the signal reading operation is improved.
【００４３】〔実施例３〕本発明のさらに他の実施例に
ついて図７ないし図９に基づいて説明すれば、以下の通
りである。尚、説明の便宜上、前記の実施例１の図面に
示した構成と同一の機能を有する構成には、同一の符号
を付記し、その説明を省略する。[Third Embodiment] The following description will explain still another embodiment of the present invention with reference to FIGS. 7 to 9. For the sake of convenience of description, configurations having the same functions as the configurations shown in the drawings of the first embodiment will be designated by the same reference numerals, and the description thereof will be omitted.
【００４４】本実施例にかかる液晶表示装置は、反射型
となっており、液晶が備える電気光学特性を利用して各
種表示を行うと共に、いわゆるタッチパネルとしての機
能も兼ね備えている。つまり、本実施例にかかる液晶表
示装置は、信号線３…の凸設部位３ａ…が、対向基板１
１を介して入力される信号を認識する認識部位となって
いる。The liquid crystal display device according to the present embodiment is of a reflective type, and uses the electro-optical characteristics of the liquid crystal to perform various displays and also has a so-called touch panel function. That is, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the protruding portions 3a of the signal lines 3 ...
It is a recognition site for recognizing a signal input via 1.
【００４５】図７に示すように、基板１０上には、ＭＩ
Ｍ素子１…と、上部電極７…に電気的に接続されている
ＩＴＯ電極２４…と、信号線３…とが形成されている。
液晶層１２は、例えば液晶に色素を混合してなるゲスト
・ホスト液晶からなっている。上記のＩＴＯ電極２４…
は、反射電極２０…（後述する）に電気的に接続されて
いるコンタクト電極である。また、これらＭＩＭ素子１
…、ＩＴＯ電極２４…、および信号線３…を覆うように
して感光性樹脂層２１が形成されている。上記の感光性
樹脂層２１は、例えば、アクリル樹脂やポリイミド樹脂
等の感光性および絶縁性を備えた合成樹脂からなってい
る。また、感光性樹脂層２１の表面には、微細な凹凸２
１ａ…が形成されている。As shown in FIG. 7, on the substrate 10, MI
The M elements 1 ..., the ITO electrodes 24 ... That are electrically connected to the upper electrodes 7, ..., And the signal lines 3 ...
The liquid crystal layer 12 is composed of, for example, a guest-host liquid crystal formed by mixing a liquid crystal with a dye. The ITO electrode 24 ...
Is a contact electrode electrically connected to the reflection electrodes 20 ... (described later). In addition, these MIM elements 1
, ITO electrodes 24, and signal lines 3 are formed so as to cover the photosensitive resin layer 21. The photosensitive resin layer 21 is made of, for example, a synthetic resin having photosensitivity and insulation such as acrylic resin and polyimide resin. In addition, on the surface of the photosensitive resin layer 21, fine unevenness 2
.. are formed.
【００４６】感光性樹脂層２１の表面には、画素電極で
ある反射電極２０…が形成されている。反射電極２０…
は、クロム、タンタル、チタン、アルミニウム、銅等の
一般に電極として用いられる金属の薄膜からなってい
る。各反射電極２０は、マトリクス状に配設されてお
り、隣接する該反射電極２０…同士が接触しないよう
に、所定の間隔を置いて形成されている。また、上記信
号線３…の凸設部位３ａ…は、隣接する反射電極２０…
間に形成されている隙間２０ａ…に対応する位置に形成
されている。尚、信号線３…および反射電極２０…は、
感光性樹脂層２１によって互いに絶縁されている。On the surface of the photosensitive resin layer 21, the reflection electrodes 20 ... Which are pixel electrodes are formed. Reflective electrode 20 ...
Is made of a thin film of a metal such as chromium, tantalum, titanium, aluminum, and copper that is generally used as an electrode. The reflective electrodes 20 are arranged in a matrix and are formed at a predetermined interval so that the adjacent reflective electrodes 20 do not come into contact with each other. Further, the protruding portions 3a of the signal lines 3 are adjacent to the reflective electrodes 20.
It is formed at a position corresponding to the gaps 20a formed between. The signal lines 3 ... And the reflective electrodes 20 ...
The photosensitive resin layers 21 are insulated from each other.
【００４７】上記の反射電極２０…は、対向基板１１側
から入射する光を反射する反射板としての機能も兼ね備
えている。つまり、対向基板１１側から入射した光は、
液晶層１２を通過した後、反射電極２０…表面で反射
し、液晶層１２および対向基板１１を介して外部に出射
される。この際、感光性樹脂層２１の表面に形成されて
いる凹凸２１ａ…により、反射光は適度に散乱される。
このため、本実施例にかかる液晶表示装置は、表示画面
の明るさが視野角によって大きく変化することがない。
その他の構成は、前記の実施例１の液晶表示装置と同一
である。The above-mentioned reflection electrodes 20 also have a function as a reflection plate for reflecting the light incident from the counter substrate 11 side. That is, the light incident from the counter substrate 11 side is
After passing through the liquid crystal layer 12, the light is reflected by the surfaces of the reflective electrodes 20 and is emitted to the outside through the liquid crystal layer 12 and the counter substrate 11. At this time, the reflected light is appropriately scattered by the irregularities 21a formed on the surface of the photosensitive resin layer 21.
Therefore, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the brightness of the display screen does not change significantly depending on the viewing angle.
The other structure is the same as that of the liquid crystal display device of the first embodiment.
【００４８】次に、上記構成の液晶表示装置の製造方法
について、図７および図８を参照しながら、以下にその
製造工程を説明する。尚、説明の便宜上、前記の実施例
１にかかる液晶表示装置の製造方法における製造工程と
同一の製造工程については、その説明を省略する。Next, a method of manufacturing the liquid crystal display device having the above structure will be described below with reference to FIGS. 7 and 8. For convenience of explanation, description of the same manufacturing steps as those in the method of manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment will be omitted.
【００４９】先ず、上述した製造工程と同一の製造工程
を実施することにより、図７に示すように、基板１０上
に、ＭＩＭ素子１…、ＩＴＯ電極２４…、および信号線
３…を形成する。次に、これらＭＩＭ素子１…、ＩＴＯ
電極２４…、および信号線３…を覆うようにして、感光
性樹脂層２１となるべき感光性樹脂を均一に塗布する。
尚、感光性樹脂の塗布量は、特に限定されるものではな
い。First, by performing the same manufacturing process as the above-described manufacturing process, MIM elements 1, ..., ITO electrodes 24, and signal lines 3 are formed on the substrate 10 as shown in FIG. . Next, these MIM elements 1 ..., ITO
A photosensitive resin to be the photosensitive resin layer 21 is uniformly applied so as to cover the electrodes 24 and the signal lines 3.
The coating amount of the photosensitive resin is not particularly limited.
【００５０】次いで、感光性樹脂上に、図８に示すフォ
トマスク２５を重ね合わせる。上記のフォトマスク２５
は、所定のパターン（図中、便宜上、ハッチングで示
す）を有している。その後、フォトマスク２５に紫外線
等の光を照射し、該フォトマスク２５を介して感光性樹
脂を露光・現像する。これにより、該感光性樹脂表面
に、微細で角張った凸部が形成される。Then, a photomask 25 shown in FIG. 8 is superposed on the photosensitive resin. Photomask 25 above
Have a predetermined pattern (indicated by hatching for convenience in the figure). After that, the photomask 25 is irradiated with light such as ultraviolet rays, and the photosensitive resin is exposed and developed through the photomask 25. As a result, fine and angular projections are formed on the surface of the photosensitive resin.
【００５１】続いて、感光性樹脂を所定の温度で熱処理
し、表面を若干溶融させることにより、上記凸部を微細
で滑らかな凸部に変化させる。その後、該感光性樹脂表
面に絶縁性を有する感光性樹脂を均一に塗布し、硬化さ
せる。これにより、表面に微細な凹凸２１ａ…を有する
感光性樹脂層２１が形成される。尚、上記露光・現像さ
れる感光性樹脂と、絶縁性を有する感光性樹脂とは、そ
の材質が互いに同一であってもよく、また、互いに異な
っていてもよい。Subsequently, the photosensitive resin is heat-treated at a predetermined temperature to slightly melt the surface, so that the convex portions are changed into fine and smooth convex portions. Then, a photosensitive resin having an insulating property is uniformly applied to the surface of the photosensitive resin and cured. As a result, the photosensitive resin layer 21 having fine irregularities 21a on its surface is formed. The materials of the photosensitive resin to be exposed and developed and the photosensitive resin having an insulating property may be the same or different from each other.
【００５２】その後、感光性樹脂層２１におけるＩＴＯ
電極２４…に対応する部分を、エッチング等により除去
することによって、コンタクトホール２２…を形成す
る。その後、感光性樹脂層２１上に、反射電極２０…を
スパッタリング等の常法により形成する。これにより、
反射電極２０…は、上記のコンタクトホール２２…を介
してＩＴＯ電極２４…に電気的に接続される。尚、反射
電極２０…の厚みは、特に限定されるものではない。After that, the ITO in the photosensitive resin layer 21
The contact holes 22 are formed by removing the portions corresponding to the electrodes 24 by etching or the like. Then, the reflective electrodes 20 ... Are formed on the photosensitive resin layer 21 by a conventional method such as sputtering. This allows
The reflective electrodes 20 ... Are electrically connected to the ITO electrodes 24 ... Through the contact holes 22. The thickness of the reflective electrodes 20 ... Is not particularly limited.
【００５３】そして、上記基板１０および対向基板１１
を対向させて貼り合わせた後（パネル化）、公知の方法
にて両基板１０・１１間に液晶を封入することにより液
晶層１２を形成する。以上の製造工程により、液晶表示
装置が製造される。The substrate 10 and the counter substrate 11 are then
After facing each other and bonding (paneling), liquid crystal is sealed between both substrates 10 and 11 by a known method to form a liquid crystal layer 12. A liquid crystal display device is manufactured by the above manufacturing process.
【００５４】以上のように、本実施例にかかる液晶表示
装置は、不透明な材質からなる信号線３…が凸設部位３
ａ…を有する略櫛形状に形成されており、反射電極２０
…間の隙間２０ａ…に対応する位置に形成されている。
つまり、信号線３…の凸設部位３ａ…は、上記の隙間２
０ａ…をほぼ埋めるように配設されており、遮光膜とし
ての機能も兼ね備えている。As described above, in the liquid crystal display device according to the present embodiment, the signal lines 3 ...
The reflective electrode 20 is formed in a substantially comb shape having a ...
It is formed at a position corresponding to the gap 20a between.
That is, the protruding portions 3a ... Of the signal lines 3 ...
It is arranged so as to almost fill 0a ... And also has a function as a light shielding film.
【００５５】また、本実施例にかかる液晶表示装置は、
信号線３…の凸設部位３ａ…が、反射電極２０…間の隙
間２０ａ…に対応する位置に形成されている。このた
め、凸設部位３ａ…は、該隙間２０ａ…を介して信号を
認識することができる。Further, the liquid crystal display device according to the present embodiment is
The protruding portions 3a of the signal lines 3 are formed at positions corresponding to the gaps 20a between the reflective electrodes 20. Therefore, the protruding portions 3a ... Can recognize a signal through the gaps 20a.
【００５６】これにより、前記実施例１・２と同様の作
用・効果を奏することができる。即ち、基板１０および
対向基板１１の位置合わせが厳密に行われていない場合
においても、コントラスト等の表示品位を良好な状態に
保つことができ、かつ、信号の読み取り動作の信頼性が
向上された液晶表示装置を従来よりも安価に提供するこ
とができる。As a result, the same action and effect as those of the first and second embodiments can be obtained. That is, even when the substrate 10 and the counter substrate 11 are not precisely aligned, the display quality such as contrast can be maintained in a good state, and the reliability of the signal reading operation is improved. A liquid crystal display device can be provided at a lower cost than ever before.
【００５７】尚、本実施例においては、図７に示すよう
に、反射電極２０…間の隙間２０ａ…の幅が、信号線３
…の凸設部位３ａ…の幅とほぼ等しい場合を例に挙げて
説明したが、上記隙間２０ａ…の幅は、凸設部位３ａ…
の幅よりも狭くなっていてもよい。例えば、図９に示す
ように、反射電極２０…間の隙間２０ｂ…の幅を、信号
線３…の凸設部位３ａ…の幅よりも狭くすることによ
り、信号線３…は、遮光膜としての機能をより一層効果
的に発揮することができる。In this embodiment, as shown in FIG. 7, the width of the gaps 20a between the reflection electrodes 20 ...
The description has been given by taking the case where the width is substantially equal to the width of the protruding portions 3a ..., However, the width of the gap 20a.
May be narrower than the width of. For example, as shown in FIG. 9, the widths of the gaps 20b between the reflection electrodes 20 are made narrower than the widths of the protruding portions 3a of the signal lines 3 so that the signal lines 3 serve as a light shielding film. The function of can be exhibited more effectively.
【００５８】また、本実施例においては、液晶表示装置
の基板１０が透明な絶縁体で形成されている構成を例示
して説明したが、液晶表示装置が反射型である場合に
は、基板１０は、シリコン等の不透明な材質で形成され
ていてもよい。例えば、基板がシリコンで形成されてい
る場合には、二端子素子や画素電極、信号線等からなる
回路を該基板上に集積することができ、液晶表示装置の
一層の薄型化・小型化を図ることができる。Further, in the present embodiment, the substrate 10 of the liquid crystal display device has been described as an example in which the substrate 10 is formed of a transparent insulator. However, when the liquid crystal display device is a reflection type, the substrate 10 May be made of an opaque material such as silicon. For example, when the substrate is made of silicon, a circuit composed of two-terminal elements, pixel electrodes, signal lines, etc. can be integrated on the substrate, and the liquid crystal display device can be made thinner and smaller. Can be planned.
【００５９】[0059]
【発明の効果】本発明の請求項１記載の液晶表示装置
は、以上のように、信号線は不透明な材質からなり、か
つ、画素電極間の隙間をほぼ埋めるように形成された凸
設部位を有している構成である。As described above, in the liquid crystal display device according to the first aspect of the present invention, the signal line is made of an opaque material, and the convex portion is formed so as to substantially fill the gap between the pixel electrodes. It is a structure having.
【００６０】このため、対向基板にブラックマトリック
ス等の遮光膜を形成する必要がない。また、該遮光膜を
形成する必要がないので、基板および対向基板を貼り合
わせる際に、両者の位置合わせが若干ずれていても、コ
ントラスト等の表示品位の低下を招くことがない。これ
により、基板および対向基板の位置合わせが厳密に行わ
れていない場合においても、コントラスト等の表示品位
を良好な状態に保つことができる液晶表示装置を提供す
ることができるという効果を奏する。Therefore, it is not necessary to form a light shielding film such as a black matrix on the counter substrate. Further, since it is not necessary to form the light-shielding film, even when the positions of the substrate and the counter substrate are slightly misaligned, the display quality such as contrast is not deteriorated. As a result, it is possible to provide a liquid crystal display device that can maintain a display quality such as contrast in a good state even when the alignment of the substrate and the counter substrate is not strictly performed.
【００６１】本発明の請求項２記載の液晶表示装置は、
以上のように、対向電極が、対向基板における画素電極
に対応する位置に配設され、かつ、凸設部位が、対向基
板を介して入力される信号を認識する認識部位である構
成である。A liquid crystal display device according to claim 2 of the present invention is
As described above, the counter electrode is arranged at a position corresponding to the pixel electrode on the counter substrate, and the protruding portion is a recognition portion for recognizing a signal input via the counter substrate.
【００６２】このため、信号線の凸設部位は、対向電極
間に形成されている隙間を介して入力される信号を認識
することができる。また、対向電極間に形成されている
隙間を利用するので、信号線の凸設部位により構成され
る認識部位を従来よりも大きく形成することができる。
従って、信号を読み取る際に、該信号の読み取り動作の
ミスや、該ミスに伴う誤作動が発生し難くなる。これに
より、信号の読み取り動作の信頼性が向上された液晶表
示装置を提供することができるという効果を奏する。Therefore, the protruding portion of the signal line can recognize the signal input through the gap formed between the counter electrodes. Further, since the gap formed between the counter electrodes is used, the recognition portion formed by the protruding portion of the signal line can be formed larger than before.
Therefore, when the signal is read, it is less likely that an error in reading the signal or a malfunction due to the error will occur. As a result, it is possible to provide the liquid crystal display device in which the reliability of the signal reading operation is improved.
【図１】本発明の一実施例における液晶表示装置の要部
の断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a main part of a liquid crystal display device according to an embodiment of the present invention.
【図２】上記液晶表示装置の要部の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a main part of the liquid crystal display device.
【図３】上記液晶表示装置の製造工程を示すものであ
り、（ａ）〜（ｆ）共に、各製造工程における液晶表示
装置の要部の断面図である。FIG. 3 is a cross-sectional view of a main part of the liquid crystal display device in each manufacturing process, showing the manufacturing process of the liquid crystal display device.
【図４】上記液晶表示装置を製造する際に用いられるフ
ォトマスクの要部の平面図である。FIG. 4 is a plan view of a main part of a photomask used when manufacturing the liquid crystal display device.
【図５】従来の液晶表示装置を製造する際に用いられる
フォトマスクの要部の平面図である。FIG. 5 is a plan view of a main part of a photomask used when manufacturing a conventional liquid crystal display device.
【図６】本発明の他の実施例における液晶表示装置の要
部の平面図である。FIG. 6 is a plan view of a main part of a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention.
【図７】本発明のさらに他の実施例における液晶表示装
置の要部の断面図である。FIG. 7 is a cross-sectional view of a main part of a liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention.
【図８】図７の液晶表示装置を製造する際に用いられる
フォトマスクの要部の平面図である。FIG. 8 is a plan view of a main part of a photomask used when manufacturing the liquid crystal display device of FIG.
【図９】本発明のさらに他の実施例における液晶表示装
置の要部の断面図である。FIG. 9 is a sectional view of a main part of a liquid crystal display device according to still another embodiment of the present invention.
【図１０】従来の液晶表示装置の要部の断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view of a main part of a conventional liquid crystal display device.
【図１１】従来の液晶表示装置の要部の平面図である。FIG. 11 is a plan view of a main part of a conventional liquid crystal display device.
【図１２】従来の液晶表示装置の要部の平面図である。FIG. 12 is a plan view of a main part of a conventional liquid crystal display device.
１ ＭＩＭ素子（二端子素子） ２ ＩＴＯ電極（画素電極） ２ａ 隙間 ３ 信号線 ３ａ 凸設部位（認識部位） ４ 配向膜 ５ 下部電極 ６ 絶縁膜 ７ 上部電極 １０ 基板 １１ 対向基板 １２ 液晶層 １３ カラーフィルタ １４ 対向電極 ２０ 反射電極（画素電極） ２０ａ 隙間 ２１ 感光性樹脂層 ２４ ＩＴＯ電極 1 MIM element (two-terminal element) 2 ITO electrode (pixel electrode) 2a Gap 3 Signal line 3a Projection part (recognition part) 4 Alignment film 5 Lower electrode 6 Insulating film 7 Upper electrode 10 Substrate 11 Counter substrate 12 Liquid crystal layer 13 Color Filter 14 Counter electrode 20 Reflective electrode (pixel electrode) 20a Gap 21 Photosensitive resin layer 24 ITO electrode
Claims (2)
電極と、信号線とを基板上に有する液晶表示装置におい
て、 上記信号線は不透明な材質からなり、かつ、画素電極間
の隙間をほぼ埋めるように形成された凸設部位を有して
いることを特徴とする液晶表示装置。1. A liquid crystal display device having a plurality of pixel electrodes arranged at predetermined intervals and a signal line on a substrate, wherein the signal line is made of an opaque material, and between the pixel electrodes. A liquid crystal display device having a convex portion formed so as to substantially fill a gap.
極に対応する位置に配設され、かつ、上記凸設部位が、
対向基板を介して入力される信号を認識する認識部位で
あることを特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。2. A counter electrode is arranged at a position corresponding to the pixel electrode on a counter substrate, and the protruding portion is
The liquid crystal display device according to claim 1, wherein the liquid crystal display device is a recognition portion that recognizes a signal input through the counter substrate.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26945694A JP3083712B2 (en) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Liquid crystal display |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP26945694A JP3083712B2 (en) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Liquid crystal display |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08129186A true JPH08129186A (en) | 1996-05-21 |
| JP3083712B2 JP3083712B2 (en) | 2000-09-04 |
Family
ID=17472693
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP26945694A Expired - Fee Related JP3083712B2 (en) | 1994-11-02 | 1994-11-02 | Liquid crystal display |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3083712B2 (en) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999053368A1 (en) * | 1998-04-08 | 1999-10-21 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display and electronic device |
| JP2008304951A (en) * | 2002-12-27 | 2008-12-18 | Sharp Corp | Display device substrate and liquid crystal display device having same |
| US8605016B2 (en) | 2002-12-27 | 2013-12-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device substrate and liquid crystal display device having the same |
| WO2015172484A1 (en) * | 2014-05-13 | 2015-11-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate, manufacturing method therefor, and display device |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0682047A (en) * | 1992-09-01 | 1994-03-22 | Mitsubishi Electric Corp | Multifunction electric hot plate base |
-
1994
- 1994-11-02 JP JP26945694A patent/JP3083712B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999053368A1 (en) * | 1998-04-08 | 1999-10-21 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal display and electronic device |
| US6873383B1 (en) | 1998-04-08 | 2005-03-29 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
| US7092055B2 (en) | 1998-04-08 | 2006-08-15 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
| US7483100B2 (en) | 1998-04-08 | 2009-01-27 | Seiko Epson Corporation | Liquid crystal device and electronic apparatus |
| JP2008304951A (en) * | 2002-12-27 | 2008-12-18 | Sharp Corp | Display device substrate and liquid crystal display device having same |
| US8605016B2 (en) | 2002-12-27 | 2013-12-10 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display device substrate and liquid crystal display device having the same |
| WO2015172484A1 (en) * | 2014-05-13 | 2015-11-19 | 京东方科技集团股份有限公司 | Array substrate, manufacturing method therefor, and display device |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3083712B2 (en) | 2000-09-04 |
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