JPH08124862A - プラズマ処理装置 - Google Patents
プラズマ処理装置Info
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- JPH08124862A JPH08124862A JP6262451A JP26245194A JPH08124862A JP H08124862 A JPH08124862 A JP H08124862A JP 6262451 A JP6262451 A JP 6262451A JP 26245194 A JP26245194 A JP 26245194A JP H08124862 A JPH08124862 A JP H08124862A
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
- H01J37/32082—Radio frequency generated discharge
- H01J37/32174—Circuits specially adapted for controlling the RF discharge
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
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- Plasma Technology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】処理容器と、上部電極と、試料台を兼ねた下部
電極と、前記上部電極と前記下部電極との間に高周波を
印加する手段と、高周波の整合をとる手段とを備え、前
記上部電極または前記下部電極の一方の電極に高周波が
印加され、他方の電極および処理容器が接地される構成
のプラズマ処理装置において、接地される電極と処理容
器とが比誘電率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁
される。 【効果】プラズマ処理の再現性を悪化させることなく、
また装置間のプラズマ処理の性能のばらつきも小さくす
ることができる。
電極と、前記上部電極と前記下部電極との間に高周波を
印加する手段と、高周波の整合をとる手段とを備え、前
記上部電極または前記下部電極の一方の電極に高周波が
印加され、他方の電極および処理容器が接地される構成
のプラズマ処理装置において、接地される電極と処理容
器とが比誘電率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁
される。 【効果】プラズマ処理の再現性を悪化させることなく、
また装置間のプラズマ処理の性能のばらつきも小さくす
ることができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は高周波印加により発生さ
せたプラズマ中で成膜あるいはエッチングを行うプラズ
マ処理装置に関する。
せたプラズマ中で成膜あるいはエッチングを行うプラズ
マ処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図1は上部電極と下部電極とを有する平
行平板型のプラズマ処理装置を示す模式的断面図であ
る。処理室11はアルミニウム製の処理容器壁19で形
成されている。処理室11の上方にはアルミニウム製の
シールプレート13に固定されたアルミニウム製の上部
電極12がアルミナ製のシールド部材17及び18に支
持されている。シールプレート13には、プロセスガス
供給路16が形成されており、シールプレート13と上
部電極12との間には拡散空間14が設けられ、また上
部電極12には多数の孔12aが形成されている。プロ
セスガスは、ガス供給源(図示せず)からプロセスガス
供給路16を介し、拡散空間14で拡散され、多数の孔
12aから処理室11に供給されるようになっている。
このようにして供給されたプロセスガスは排気ポンプ
(図示せず)によって排気路26から排気される。上部
電極12の上部には、冷媒循環路15が形成されてお
り、上部電極を冷却するようになっている。
行平板型のプラズマ処理装置を示す模式的断面図であ
る。処理室11はアルミニウム製の処理容器壁19で形
成されている。処理室11の上方にはアルミニウム製の
シールプレート13に固定されたアルミニウム製の上部
電極12がアルミナ製のシールド部材17及び18に支
持されている。シールプレート13には、プロセスガス
供給路16が形成されており、シールプレート13と上
部電極12との間には拡散空間14が設けられ、また上
部電極12には多数の孔12aが形成されている。プロ
セスガスは、ガス供給源(図示せず)からプロセスガス
供給路16を介し、拡散空間14で拡散され、多数の孔
12aから処理室11に供給されるようになっている。
このようにして供給されたプロセスガスは排気ポンプ
(図示せず)によって排気路26から排気される。上部
電極12の上部には、冷媒循環路15が形成されてお
り、上部電極を冷却するようになっている。
【0003】処理室11の下部には上部電極12に対向
して所定の距離を保って試料台を兼ねた下部電極21が
ベースプレート22の上に配設されている。下部電極2
1はアルミニウム等の高い熱伝導率を有する金属を用い
て形成されている。下部電極は試料載置面以外の周囲を
上部電極と同様アルミナ製のシールド部材25で覆われ
るとともに、アルミナ製のシールド部材24によって処
理室11と絶縁されている。下部電極21の下部には冷
媒を循環させるための冷媒循環路23が形成されてお
り、下部電極21を冷却するようになっている。
して所定の距離を保って試料台を兼ねた下部電極21が
ベースプレート22の上に配設されている。下部電極2
1はアルミニウム等の高い熱伝導率を有する金属を用い
て形成されている。下部電極は試料載置面以外の周囲を
上部電極と同様アルミナ製のシールド部材25で覆われ
るとともに、アルミナ製のシールド部材24によって処
理室11と絶縁されている。下部電極21の下部には冷
媒を循環させるための冷媒循環路23が形成されてお
り、下部電極21を冷却するようになっている。
【0004】上部電極12にはシールプレート13と高
周波整合器31を介して、下部電極21には高周波整合
器32を介して高周波電源33が接続されており、切り
換え手段34、35及び切り換え手段36によって、上
部電極12に高周波電力を印加し下部電極21を接地す
る場合(プラズマモードと呼ぶ)と、上部電極12を接
地し下部電極21に高周波電力を印加する場合(RIE
モードと呼ぶ)と、を切り換え可能に構成されている。
処理容器壁19は接地されている。図1はプラズマモー
ドの場合であり、切り換え手段34、36によって上部
電極12に高周波電力が印加され、切り換え手段35に
よって下部電極21が接地されている。
周波整合器31を介して、下部電極21には高周波整合
器32を介して高周波電源33が接続されており、切り
換え手段34、35及び切り換え手段36によって、上
部電極12に高周波電力を印加し下部電極21を接地す
る場合(プラズマモードと呼ぶ)と、上部電極12を接
地し下部電極21に高周波電力を印加する場合(RIE
モードと呼ぶ)と、を切り換え可能に構成されている。
処理容器壁19は接地されている。図1はプラズマモー
ドの場合であり、切り換え手段34、36によって上部
電極12に高周波電力が印加され、切り換え手段35に
よって下部電極21が接地されている。
【0005】また、高周波電源の周波数としては13.
56MHzが主に用いられる。
56MHzが主に用いられる。
【0006】このように構成されたプラズマ処理装置を
用いて試料にプラズマ処理を施す場合、まず試料1を下
部電極21上に載置する。次に、上部電極部分全体を降
下させ、電極間距離を設定する。この後、既に所定の圧
力まで排気された処理室11内にプロセスガス供給路1
6を介してプロセスガスを供給し、所定の圧力に設定す
る。そして、プラズマモードの場合、下部電極21を接
地し、高周波電源33から上部電極12に高周波電力を
印加すると、プロセスガスがプラズマ化され、試料にプ
ラズマ処理が施される。この上部電極12に高周波電力
を印加する際には、高周波整合器31により高周波の整
合をとることによって、効率的に高周波が上部電極12
と下部電極21との間に供給できる。
用いて試料にプラズマ処理を施す場合、まず試料1を下
部電極21上に載置する。次に、上部電極部分全体を降
下させ、電極間距離を設定する。この後、既に所定の圧
力まで排気された処理室11内にプロセスガス供給路1
6を介してプロセスガスを供給し、所定の圧力に設定す
る。そして、プラズマモードの場合、下部電極21を接
地し、高周波電源33から上部電極12に高周波電力を
印加すると、プロセスガスがプラズマ化され、試料にプ
ラズマ処理が施される。この上部電極12に高周波電力
を印加する際には、高周波整合器31により高周波の整
合をとることによって、効率的に高周波が上部電極12
と下部電極21との間に供給できる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
高周波を用いたプラズマ処理装置においては、プラズマ
処理の再現性が急に悪くなったり、また装置間のプラズ
マ処理の性能にばらつきが生じるという問題があった。
高周波を用いたプラズマ処理装置においては、プラズマ
処理の再現性が急に悪くなったり、また装置間のプラズ
マ処理の性能にばらつきが生じるという問題があった。
【0008】本発明は係る問題点に鑑みなされたもので
あって、プラズマ処理の再現性が悪化することなく、ま
た装置間のプラズマ処理の性能のばらつきが小さいプラ
ズマ処理装置を提供することを目的としている。
あって、プラズマ処理の再現性が悪化することなく、ま
た装置間のプラズマ処理の性能のばらつきが小さいプラ
ズマ処理装置を提供することを目的としている。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の装置は、処理容
器と、上部電極と、試料台を兼ねた下部電極と、前記上
部電極と前記下部電極との間に高周波を印加する手段
と、高周波の整合をとる手段とを備え、前記上部電極ま
たは前記下部電極の一方の電極に高周波が印加され、他
方の電極および処理容器が接地される構成のプラズマ処
理装置において、接地される電極と処理容器とが比誘電
率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁されているこ
とを特徴とする。
器と、上部電極と、試料台を兼ねた下部電極と、前記上
部電極と前記下部電極との間に高周波を印加する手段
と、高周波の整合をとる手段とを備え、前記上部電極ま
たは前記下部電極の一方の電極に高周波が印加され、他
方の電極および処理容器が接地される構成のプラズマ処
理装置において、接地される電極と処理容器とが比誘電
率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁されているこ
とを特徴とする。
【0010】
【作用】図3は図1で示されるプラズマ処理装置のプラ
ズマ発生時の高周波等価回路である。下部電極21を接
地し上部電極12に高周波電力を印加する場合(プラズ
マモード)の状態である。
ズマ発生時の高周波等価回路である。下部電極21を接
地し上部電極12に高周波電力を印加する場合(プラズ
マモード)の状態である。
【0011】46と47は上部電極側の高周波整合回路
31内のキャパシタンスCm 及び可変インダクタンスL
m である。41はプラズマを介した上部電極12と下部
電極21との間のインピーダンスZud、45はシールド
部材及びプラズマを介した上部電極12と処理容器壁1
9との間のインピーダンスZucである。42は下部電極
21と処理容器壁19との間のインピーダンスZdcであ
って、43のキャパシタンスCdc及び44のインダクタ
ンスLdcからなる。Zdcは式1で表される。
31内のキャパシタンスCm 及び可変インダクタンスL
m である。41はプラズマを介した上部電極12と下部
電極21との間のインピーダンスZud、45はシールド
部材及びプラズマを介した上部電極12と処理容器壁1
9との間のインピーダンスZucである。42は下部電極
21と処理容器壁19との間のインピーダンスZdcであ
って、43のキャパシタンスCdc及び44のインダクタ
ンスLdcからなる。Zdcは式1で表される。
【0012】 Zdc=2πfLdc/(1−4π2 f2 CdcLdc) ・・・(式1) fは高周波電力の周波数である。
【0013】図1で示されるプラズマ処理装置において
は、この下部電極21と処理容器壁19との間のインピ
ーダンスZdcがプラズマインピーダンスZudに対して直
列に入っており、処理条件によっては、このZdcがZud
に対して無視できない値であるので、この装置使用の経
時変化によるか、または装置作成の際の微妙な差異によ
ってZdcが変動すると、プラズマの発生状態が大きく変
動することになる。
は、この下部電極21と処理容器壁19との間のインピ
ーダンスZdcがプラズマインピーダンスZudに対して直
列に入っており、処理条件によっては、このZdcがZud
に対して無視できない値であるので、この装置使用の経
時変化によるか、または装置作成の際の微妙な差異によ
ってZdcが変動すると、プラズマの発生状態が大きく変
動することになる。
【0014】通常、このZdcの変動は上部電極12側の
高周波整合回路31内の可変インダクタンスLm によっ
て整合をとることができるが、上部電極12と処理容器
壁19との間のインピーダンスZucが無視できない場
合、十分な整合をとることができない。したがって、Z
dcの変動自体を抑える必要がある。
高周波整合回路31内の可変インダクタンスLm によっ
て整合をとることができるが、上部電極12と処理容器
壁19との間のインピーダンスZucが無視できない場
合、十分な整合をとることができない。したがって、Z
dcの変動自体を抑える必要がある。
【0015】式1において、4π2 f2 CdcLdc=1
(共振条件)のときZdc=∞となるので、この共振条件
を満たすインダクタンスを共振インダクタンスLm とす
ると、LdcがLm に近い場合、Ldcの変化に対するZdc
の変化は非常に大きくなる。
(共振条件)のときZdc=∞となるので、この共振条件
を満たすインダクタンスを共振インダクタンスLm とす
ると、LdcがLm に近い場合、Ldcの変化に対するZdc
の変化は非常に大きくなる。
【0016】一方、4π2 f2 CdcLdc<<1のとき、
すなわちLdc<<Lm の場合、Zdc〜2πfLdcである
のでLdcに対するZdcの変化は小さくかつ直線的とな
る。
すなわちLdc<<Lm の場合、Zdc〜2πfLdcである
のでLdcに対するZdcの変化は小さくかつ直線的とな
る。
【0017】したがって、4π2 f2 CdcLdc=1(共
振条件)に近くLdcの変化に対するZdcの変化が大きい
場合、Cdcを小さくすることにより、4π2 f2 CdcL
dc<<1とし、Ldcの変化に対するZdcの変化を抑える
ことができる。
振条件)に近くLdcの変化に対するZdcの変化が大きい
場合、Cdcを小さくすることにより、4π2 f2 CdcL
dc<<1とし、Ldcの変化に対するZdcの変化を抑える
ことができる。
【0018】以下具体的に測定結果に基づき説明する。
いくつかのプラズマ処理装置について、下部電極21を
接地した状態で、高周波の周波数が13.56MHzの
ときの下部電極21と処理容器壁19とのインダクタン
スLdcをLCRメータを用いて測定した。その結果、下
部電極21と処理容器壁19とのインダクタンスLdcが
400〜1000nHで大きく変動していることが分か
った。これは、高周波整合器内のリレー接点部の接触状
態のばらつき及び高周波系部品組み付け時の接触状態等
によるものである。
いくつかのプラズマ処理装置について、下部電極21を
接地した状態で、高周波の周波数が13.56MHzの
ときの下部電極21と処理容器壁19とのインダクタン
スLdcをLCRメータを用いて測定した。その結果、下
部電極21と処理容器壁19とのインダクタンスLdcが
400〜1000nHで大きく変動していることが分か
った。これは、高周波整合器内のリレー接点部の接触状
態のばらつき及び高周波系部品組み付け時の接触状態等
によるものである。
【0019】これに対して、下部電極21と処理容器壁
19とを絶縁するシールド部材24をアルミナ製のシー
ルド部材とした場合とテフロン(登録商標)製のシール
ド部材とした場合について、下部電極21と処理容器壁
19とのキャパシタンスCdcを測定し、高周波の周波数
が13.56MHzにおける共振インダクタンスLmの
値を求めた結果を表1に示す。
19とを絶縁するシールド部材24をアルミナ製のシー
ルド部材とした場合とテフロン(登録商標)製のシール
ド部材とした場合について、下部電極21と処理容器壁
19とのキャパシタンスCdcを測定し、高周波の周波数
が13.56MHzにおける共振インダクタンスLmの
値を求めた結果を表1に示す。
【0020】
【表1】
【0021】比誘電率が9であるアルミナ製のシールド
部材を使用した場合、共振インダクタンスLm は872
nHであり、下部電極のインダクタンスの変動範囲の中
にある。これに対して、比誘電率が2であるテフロン製
のシールド部材を使用した場合、共振インダクタンスL
m は1195nHであり、下部電極のインダクタンスの
変動範囲外にあることがわかる。
部材を使用した場合、共振インダクタンスLm は872
nHであり、下部電極のインダクタンスの変動範囲の中
にある。これに対して、比誘電率が2であるテフロン製
のシールド部材を使用した場合、共振インダクタンスL
m は1195nHであり、下部電極のインダクタンスの
変動範囲外にあることがわかる。
【0022】また、この結果より、比誘電率4.0のシ
ールド部材を使用した場合の共振インダクタンス値を求
めた。すなわち、キャパシタンス値を以下の内挿の式に
よって求めた。
ールド部材を使用した場合の共振インダクタンス値を求
めた。すなわち、キャパシタンス値を以下の内挿の式に
よって求めた。
【0023】(115×(9−4)+158×(4−
2))/(9−2)=127 そして、この値より共振インダクタンス値を求め、10
80nHを得た。
2))/(9−2)=127 そして、この値より共振インダクタンス値を求め、10
80nHを得た。
【0024】したがって、接地される電極と処理容器と
を比誘電率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁する
ことによって、接地される電極と処理容器との間の共振
インダクタンスLm を1080nH以上とし、これらの
プラズマ処理装置に使用される電極と処理容器壁との間
のインダクタンスの変動範囲である400〜1000n
Hから遠ざけることができるので、インダクタンスがこ
の変動範囲で変動したとしてもインピーダンスの変動を
抑えることができ、高周波が印加される電極と処理容器
壁との間のインピーダンスが無視できない場合であって
も、十分な整合をとることができるので、電極間への高
周波の供給が大きく変動することを抑え、プラズマの発
生状態の変化を抑えることができる。
を比誘電率4.0以下の材質のシールド部材で絶縁する
ことによって、接地される電極と処理容器との間の共振
インダクタンスLm を1080nH以上とし、これらの
プラズマ処理装置に使用される電極と処理容器壁との間
のインダクタンスの変動範囲である400〜1000n
Hから遠ざけることができるので、インダクタンスがこ
の変動範囲で変動したとしてもインピーダンスの変動を
抑えることができ、高周波が印加される電極と処理容器
壁との間のインピーダンスが無視できない場合であって
も、十分な整合をとることができるので、電極間への高
周波の供給が大きく変動することを抑え、プラズマの発
生状態の変化を抑えることができる。
【0025】なお、比誘電率4.0以下のものとして、
PTFEのテフロン以外に全芳香族ポリイミド樹脂のカ
プトン(商品名)、ベスペル(商品名)、及びCTFE
のKEL−F(商品名)等がある。比誘電率は、カプト
ン、ベスペルが3.5、KEL−Fが2.5である。
PTFEのテフロン以外に全芳香族ポリイミド樹脂のカ
プトン(商品名)、ベスペル(商品名)、及びCTFE
のKEL−F(商品名)等がある。比誘電率は、カプト
ン、ベスペルが3.5、KEL−Fが2.5である。
【0026】なお、上部電極が接地される場合にも、上
部電極と処理容器壁との間を上記のように低誘電率のシ
ールド部材で絶縁することにより、同様の効果が得られ
る。
部電極と処理容器壁との間を上記のように低誘電率のシ
ールド部材で絶縁することにより、同様の効果が得られ
る。
【0027】また、接地される電極と処理容器とが絶縁
されている全ての部分が、比誘電率4.0以下の材質の
シールド部材で絶縁される必要はなく、電極と処理容器
との間のインピーダンスに最も影響を与える部分、例え
ば最も近接している部分に用いれば良い。
されている全ての部分が、比誘電率4.0以下の材質の
シールド部材で絶縁される必要はなく、電極と処理容器
との間のインピーダンスに最も影響を与える部分、例え
ば最も近接している部分に用いれば良い。
【0028】
【実施例】以下、本発明のプラズマ処理装置の実施例に
ついて説明する。
ついて説明する。
【0029】本発明の実施例であるプラズマ処理装置は
[従来の技術]の項で説明した装置と同様、図1に示し
た装置であって、プラズマモードのものであり、切り換
え手段34、36によって上部電極12に高周波電力が
印加され、切り換え手段35によって下部電極21が接
地されたものである。シールド部材24にテフロンを用
いた点のみ異なる。
[従来の技術]の項で説明した装置と同様、図1に示し
た装置であって、プラズマモードのものであり、切り換
え手段34、36によって上部電極12に高周波電力が
印加され、切り換え手段35によって下部電極21が接
地されたものである。シールド部材24にテフロンを用
いた点のみ異なる。
【0030】本実施例装置を用いて、ポリシリコン膜を
エッチング特性の下部電極と処理室との間のインダクタ
ンス依存性を測定した。本測定においては、下部電極と
処理室との間の導通をとる銅板の長さを変えることによ
り作為的にインダクタンスを変化させた。比較例とし
て、シールド部材24に従来のアルミナを用いた装置に
ついても測定した。
エッチング特性の下部電極と処理室との間のインダクタ
ンス依存性を測定した。本測定においては、下部電極と
処理室との間の導通をとる銅板の長さを変えることによ
り作為的にインダクタンスを変化させた。比較例とし
て、シールド部材24に従来のアルミナを用いた装置に
ついても測定した。
【0031】測定結果を図4に示す。横軸は下部電極2
1と処理容器壁19との間のインダクタンス、縦軸はポ
リシリコンのエッチングレートである。 本実施例の装
置においては、インダクタンスの変化に対して、ポリシ
リコンのエッチングレートは350nm近くでほぼ安定
していたのに対し、比較例の装置においては、インダク
タンスの変化に対して、ポリシリコンのエッチングレー
トは大きく変化した。
1と処理容器壁19との間のインダクタンス、縦軸はポ
リシリコンのエッチングレートである。 本実施例の装
置においては、インダクタンスの変化に対して、ポリシ
リコンのエッチングレートは350nm近くでほぼ安定
していたのに対し、比較例の装置においては、インダク
タンスの変化に対して、ポリシリコンのエッチングレー
トは大きく変化した。
【0032】特に、この変化はシールド部材にアルミナ
を用いた場合の共振点(L=872nH)付近で生じて
いるので、インピーダンスの変動がプラズマの発生に大
きく影響していることが確認された。
を用いた場合の共振点(L=872nH)付近で生じて
いるので、インピーダンスの変動がプラズマの発生に大
きく影響していることが確認された。
【0033】そして、本実施例の装置において継続的な
使用を行ったが、従来の装置において見られたようなプ
ラズマ処理の再現性が急に悪くなるという状況の発生回
数は減少した。また、いくつかの装置を作製したが、装
置間のプラズマ処理の性能のばらつきも従来の装置に比
べ抑えられることがわかった。
使用を行ったが、従来の装置において見られたようなプ
ラズマ処理の再現性が急に悪くなるという状況の発生回
数は減少した。また、いくつかの装置を作製したが、装
置間のプラズマ処理の性能のばらつきも従来の装置に比
べ抑えられることがわかった。
【0034】本発明の別の実施例を図2に基づき説明す
る。図2は、RIEモードのものであり、切り換え手段
34によって上部電極12が接地され、切り換え手段3
5、36によって下部電極21に高周波電力が印加され
ている。この場合、シールド部材18にテフロンを用い
た。その他の部分は、[従来の技術]の項で説明した装
置と同様である。本実施例の装置においても、継続的な
使用を行っても、プラズマ処理の再現性が急に悪くなる
という状況の発生回数が減少し、また、装置間のプラズ
マ処理の性能のばらつきも従来の装置に比べ抑えられる
ことがわかった。
る。図2は、RIEモードのものであり、切り換え手段
34によって上部電極12が接地され、切り換え手段3
5、36によって下部電極21に高周波電力が印加され
ている。この場合、シールド部材18にテフロンを用い
た。その他の部分は、[従来の技術]の項で説明した装
置と同様である。本実施例の装置においても、継続的な
使用を行っても、プラズマ処理の再現性が急に悪くなる
という状況の発生回数が減少し、また、装置間のプラズ
マ処理の性能のばらつきも従来の装置に比べ抑えられる
ことがわかった。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のプラズマ
処理装置においては、プラズマ処理の再現性を悪化させ
ることなく、また装置間のプラズマ処理の性能のばらつ
きも小さくすることができる。
処理装置においては、プラズマ処理の再現性を悪化させ
ることなく、また装置間のプラズマ処理の性能のばらつ
きも小さくすることができる。
【図1】プラズマ処理装置(プラズマモード)の模式的
断面図である。
断面図である。
【図2】プラズマ処理装置(RIEモード)の模式的断
面図である。
面図である。
【図3】図1のプラズマ処理装置の高周波等価回路図で
ある。
ある。
【図4】本実施例及び比較例のポリシリコンのエッチン
グレートの測定結果である。
グレートの測定結果である。
1 試料 11 処理室 12 上部電極 12a 孔 13 シールプレート 14 拡散空間 15 冷媒循環路 16 プロセスガス供給路 17 シールド部材 18 シールド部材 19 処理容器壁 21 下部電極 22 ベースプレート 23 冷媒循環路 24 シールド部材 25 シールド部材 26 排気路 31 高周波整合器 32 高周波整合器 33 高周波電源 34 切り換え手段 35 切り換え手段 36 切り換え手段 41 上部電極と下部電極との間のインピーダンス 42 下部電極と処理容器壁との間のインピーダンス 43 下部電極と処理容器壁との間のキャパシタンス 44 下部電極と処理容器壁との間のインダクタンス 45 上部電極と処理容器壁との間のインピーダンス 46 上部電極側の高周波整合回路内のキャパシタンス 47 上部電極側の高周波整合回路内のインダクタンス 48 高周波電源
Claims (1)
- 【請求項1】処理容器と、上部電極と、試料台を兼ねた
下部電極と、前記上部電極と前記下部電極との間に高周
波を印加する手段と、高周波の整合をとる手段とを備
え、前記上部電極または前記下部電極の一方の電極に高
周波が印加され、他方の電極および処理容器が接地され
る構成のプラズマ処理装置において、接地される電極と
処理容器とが比誘電率4.0以下の材質のシールド部材
で絶縁されていることを特徴とするプラズマ処理装置。
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