JPH08119678A - 撥水防汚性ガラスの製造方法 - Google Patents
撥水防汚性ガラスの製造方法Info
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- JPH08119678A JPH08119678A JP25193594A JP25193594A JPH08119678A JP H08119678 A JPH08119678 A JP H08119678A JP 25193594 A JP25193594 A JP 25193594A JP 25193594 A JP25193594 A JP 25193594A JP H08119678 A JPH08119678 A JP H08119678A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/34—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions
- C03C17/42—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions at least one coating of an organic material and at least one non-metal coating
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- C03C17/3405—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with at least two coatings having different compositions with at least two coatings of organic materials
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 自動車または建築用ガラスとして用いる撥水
防汚性ガラスの製造方法を提供する。 【構成】 ガラス表面にアンモニア及び／またはアミン
類を吸着させ、その後にガラス表面にフルオロアルキル
クロロシランを被覆することを特徴とする撥水防汚性ガ
ラスの製造方法である。
防汚性ガラスの製造方法を提供する。 【構成】 ガラス表面にアンモニア及び／またはアミン
類を吸着させ、その後にガラス表面にフルオロアルキル
クロロシランを被覆することを特徴とする撥水防汚性ガ
ラスの製造方法である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は，自動車または建築用ガ
ラスとして用いる撥水防汚性ガラスの製造方法に関す
る。
ラスとして用いる撥水防汚性ガラスの製造方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】建築，自動車などの風防ガラス，光学部
品レンズその他のガラス製品等に用いられるガラス物品
表面に撥水性を付与すると、１）汚染成分を含んだ水滴
がガラス表面に残存しないため，ガラス汚染防止や焼け
防止効果がある，２）撥水性ガラスを自動車のフロント
ガラスやサイドガラス等に使用した場合、雨天走行時で
も、ガラス表面に付着した雨水が風圧によって吹き飛ば
され、ドライバーの視野が確保され走行安全性が向上す
る，等種々の効果が期待される。
品レンズその他のガラス製品等に用いられるガラス物品
表面に撥水性を付与すると、１）汚染成分を含んだ水滴
がガラス表面に残存しないため，ガラス汚染防止や焼け
防止効果がある，２）撥水性ガラスを自動車のフロント
ガラスやサイドガラス等に使用した場合、雨天走行時で
も、ガラス表面に付着した雨水が風圧によって吹き飛ば
され、ドライバーの視野が確保され走行安全性が向上す
る，等種々の効果が期待される。
【０００３】この様な撥水防汚性ガラスの製造方法とし
ては、ポリジメチルシロキサン系化合物を初めとする有
機シリコーンや含フッ素シリコーン化合物，アルキルシ
ラン化合物，さらにはフルオロアルキルシラン化合物を
湿式塗布（１），液相吸着法（２）等を用いて処理する
方法がある。また、同じ液相法としてアルコキシシラン
化合物とフルオロアルキルシラン化合物の加水分解物を
コーティングするゾルゲル法（３）も既に自動車用ガラ
スとして実用化されている。
ては、ポリジメチルシロキサン系化合物を初めとする有
機シリコーンや含フッ素シリコーン化合物，アルキルシ
ラン化合物，さらにはフルオロアルキルシラン化合物を
湿式塗布（１），液相吸着法（２）等を用いて処理する
方法がある。また、同じ液相法としてアルコキシシラン
化合物とフルオロアルキルシラン化合物の加水分解物を
コーティングするゾルゲル法（３）も既に自動車用ガラ
スとして実用化されている。
【０００４】また、本発明者らは気相法によるフルオロ
アルキラン処理により撥水防汚性能に優れた単分子膜が
得られることを見いだしている（（４）特願平６−９５
１１９）。
アルキラン処理により撥水防汚性能に優れた単分子膜が
得られることを見いだしている（（４）特願平６−９５
１１９）。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】一般に、（１）〜
（３）の液相法では，生産時に多量の廃液が発生し，環
境上問題があるばかりでなく，処理のために余分なコス
トがかかる。また，（４）の方法では強固な膜を作製す
るために８０℃程度の加熱が必要である。さらに、
（１）〜（３）の液相法では、耐久性の良好な膜を得る
には１５０℃以上の熱処理が必要である。この熱処理も
コストアップの要因である。
（３）の液相法では，生産時に多量の廃液が発生し，環
境上問題があるばかりでなく，処理のために余分なコス
トがかかる。また，（４）の方法では強固な膜を作製す
るために８０℃程度の加熱が必要である。さらに、
（１）〜（３）の液相法では、耐久性の良好な膜を得る
には１５０℃以上の熱処理が必要である。この熱処理も
コストアップの要因である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは鋭意研究の
結果、第１段階でアンモニア及び／またはアミン類をガ
ラス表面に吸着させ、第２段階でフルオロアルキルクロ
ロシラン処理することにより常温で強固な撥水防汚膜を
ガラス基板上に形成させることができることを見いだし
た。
結果、第１段階でアンモニア及び／またはアミン類をガ
ラス表面に吸着させ、第２段階でフルオロアルキルクロ
ロシラン処理することにより常温で強固な撥水防汚膜を
ガラス基板上に形成させることができることを見いだし
た。
【０００７】この作用機構は次のように説明することが
できる。まず、アンモニア及び／またはアミン類は、シ
リケート系のガラス表面のＳｉ−ＯＨ基に水素結合を介
して吸着する。この時に、（Ｓｉ）Ｏ−Ｈ基の分極が進
む。この状態でフルオロアルキルクロロシランを導入す
ると、基板表面の、前記分極によって活性化した状態の
Ｏ原子がフルオロアルキルクロロシランのＳｉ原子に対
して求核攻撃する性質が高まるために、フルオロアルキ
ルクロロシランの固定化反応が著しく促進されるものと
考えられる。アンモニアまたはアミン類は気体または液
体の形で、ガラスの表面に、常温または例えば５０℃以
下で、数秒間〜数分間接触させることにより吸着させ
る。アンモニアまたはアミン類を気体の形で接触させる
場合、その蒸気圧は１ｍｍＨｇ以上であることが好まし
い。また水または有機溶剤で希釈して液体の形で接触さ
せる場合の濃度は１〜５重量％が好ましい。ガラスの表
面に吸着させるべきアンモニアまたはアミン類の量はご
くわずかでよく、例えばガラスの表面に単分子層で吸着
すれば十分である。
できる。まず、アンモニア及び／またはアミン類は、シ
リケート系のガラス表面のＳｉ−ＯＨ基に水素結合を介
して吸着する。この時に、（Ｓｉ）Ｏ−Ｈ基の分極が進
む。この状態でフルオロアルキルクロロシランを導入す
ると、基板表面の、前記分極によって活性化した状態の
Ｏ原子がフルオロアルキルクロロシランのＳｉ原子に対
して求核攻撃する性質が高まるために、フルオロアルキ
ルクロロシランの固定化反応が著しく促進されるものと
考えられる。アンモニアまたはアミン類は気体または液
体の形で、ガラスの表面に、常温または例えば５０℃以
下で、数秒間〜数分間接触させることにより吸着させ
る。アンモニアまたはアミン類を気体の形で接触させる
場合、その蒸気圧は１ｍｍＨｇ以上であることが好まし
い。また水または有機溶剤で希釈して液体の形で接触さ
せる場合の濃度は１〜５重量％が好ましい。ガラスの表
面に吸着させるべきアンモニアまたはアミン類の量はご
くわずかでよく、例えばガラスの表面に単分子層で吸着
すれば十分である。
【０００８】本発明で用いられるアミン類としては、特
に限定はされず、１級−，２級−，３級−アミンいずれ
をも使用することができ、脂肪族アミン、芳香族アミ
ン、アミド、環式アミンのいずれも使用することができ
る。塩基性が強いほどＳｉ−ＯＨ基と強い水素結合が形
成され、より反応性が増すこと、および蒸気圧が低いほ
ど低温で気化させ、基材表面に吸着させることから、塩
基性が強く蒸気圧が低いトリエチルアミンを好適に用い
ることができる。最終的に得られる膜中には、わずかの
アンモニアまたはアミン類の塩酸塩が残留するが、撥水
性能には影響しない。これは２００℃以上に加熱する
か、高真空に引くことにより完全に除去することができ
る。
に限定はされず、１級−，２級−，３級−アミンいずれ
をも使用することができ、脂肪族アミン、芳香族アミ
ン、アミド、環式アミンのいずれも使用することができ
る。塩基性が強いほどＳｉ−ＯＨ基と強い水素結合が形
成され、より反応性が増すこと、および蒸気圧が低いほ
ど低温で気化させ、基材表面に吸着させることから、塩
基性が強く蒸気圧が低いトリエチルアミンを好適に用い
ることができる。最終的に得られる膜中には、わずかの
アンモニアまたはアミン類の塩酸塩が残留するが、撥水
性能には影響しない。これは２００℃以上に加熱する
か、高真空に引くことにより完全に除去することができ
る。
【０００９】一方、撥水防汚膜を形成する材料として
は、化学的耐久性に優れ、低表面自由エネルギー膜が得
られるフルオロアルキルクロロシランを好適に使用する
ことができる。フルオロアルキルクロロシランは（１）
式で示されるような１個のフルオロアルキル基（Ｒ）、
０〜２個のメチル基、および少なくとも１個の官能基
（Ｘ）からなるシランである。 Ｒ−Ｓｉ（ＣＨ3）3-l-m（Ｘ）l（Ｃｌ）m （１） （ただし、Ｒ：フルオロアルキル基、 Ｘ：−ＯＣＨ3、
−ＯＣ2Ｈ5、−ＯＣＯＣＨ3、−ＯＣＯＣ2Ｈ5 、または
−ＯＨであり、ｌは０、１または２であり、ｍは１、２
または３であり、ｌとｍの和は１、２または３である）
は、化学的耐久性に優れ、低表面自由エネルギー膜が得
られるフルオロアルキルクロロシランを好適に使用する
ことができる。フルオロアルキルクロロシランは（１）
式で示されるような１個のフルオロアルキル基（Ｒ）、
０〜２個のメチル基、および少なくとも１個の官能基
（Ｘ）からなるシランである。 Ｒ−Ｓｉ（ＣＨ3）3-l-m（Ｘ）l（Ｃｌ）m （１） （ただし、Ｒ：フルオロアルキル基、 Ｘ：−ＯＣＨ3、
−ＯＣ2Ｈ5、−ＯＣＯＣＨ3、−ＯＣＯＣ2Ｈ5 、または
−ＯＨであり、ｌは０、１または２であり、ｍは１、２
または３であり、ｌとｍの和は１、２または３である）
【００１０】フルオロアルキルクロロシランのメチル基
（−ＣＨ3） は不活性であり、フルオロアルキル基
（Ｒ）の効果に対して大きな影響はないが、官能基
（Ｘ）の数が多いほど固定化されやすいため、メチル基
の個数（３−ｌ−ｍ）は少ないほどよく、（３−ｌ−
ｍ）がゼロであるのが最も好ましい。
（−ＣＨ3） は不活性であり、フルオロアルキル基
（Ｒ）の効果に対して大きな影響はないが、官能基
（Ｘ）の数が多いほど固定化されやすいため、メチル基
の個数（３−ｌ−ｍ）は少ないほどよく、（３−ｌ−
ｍ）がゼロであるのが最も好ましい。
【００１１】上記フルオロアルキル基はアルキル基の水
素原子の一部が弗素原子に置換されたもので、好ましく
は（２）式で示される。 Ｒｆ ： −（ＣＨ2）2（ＣＦ2）nＣＦ3 （２） （ここでｎはゼロまたは正の整数）
素原子の一部が弗素原子に置換されたもので、好ましく
は（２）式で示される。 Ｒｆ ： −（ＣＨ2）2（ＣＦ2）nＣＦ3 （２） （ここでｎはゼロまたは正の整数）
【００１２】すなわち直鎖状のアルキル基においてシリ
コン原子側の２個の炭素原子を除いた末端側の炭素原子
に結合する水素原子が弗素原子に置換されたものがよ
い。例えば−（ＣＨ2）2ＣＦ3、−（ＣＨ2）2（ＣＦ2）
2ＣＦ3、-（ＣＨ2）2（ＣＦ2）5ＣＦ3、−（ＣＨ2）
2（ＣＦ2）7ＣＦ3などが挙げられ、 その中で−（Ｃ
Ｈ2）2（ＣＦ2）5ＣＦ3、−（ＣＨ2）2（ＣＦ2）7ＣＦ3
が特に好ましい。その理由はフルオロアルキル基中のシ
リコン原子側に、−（ＣＨ2）2−が存在することによっ
て化合物が安定に存在しやすいためである。
コン原子側の２個の炭素原子を除いた末端側の炭素原子
に結合する水素原子が弗素原子に置換されたものがよ
い。例えば−（ＣＨ2）2ＣＦ3、−（ＣＨ2）2（ＣＦ2）
2ＣＦ3、-（ＣＨ2）2（ＣＦ2）5ＣＦ3、−（ＣＨ2）
2（ＣＦ2）7ＣＦ3などが挙げられ、 その中で−（Ｃ
Ｈ2）2（ＣＦ2）5ＣＦ3、−（ＣＨ2）2（ＣＦ2）7ＣＦ3
が特に好ましい。その理由はフルオロアルキル基中のシ
リコン原子側に、−（ＣＨ2）2−が存在することによっ
て化合物が安定に存在しやすいためである。
【００１３】上記フルオロアルキル基の分子鎖長が大き
いほど、表面自由エネルギーが小さくなって好ましい
が、分子鎖長があまり大きすぎると蒸気圧は高くなって
気化しやすくなって好ましくないので、１分子当りのＣ
Ｈ2 単位の繰り返し数（ｎ）は３〜９が良く、特にｎ＝
７が最も好適である。本発明に用いることのできる処理
剤は官能基として塩素原子をもっていなければならない
理由は、フルオロアルキルクロロシランが、活性化され
た表面Ｏ原子により求核攻撃を受けたときに、固定化反
応を行わせるためにフルオロアルキルクロロシラン中の
いずれかの原子が容易に脱離する必要があるからであ
る。１分子当りの塩素原子の数（ｍ）は１〜３のいずれ
でも良いが、得られる膜強度を高くするためには分子間
の縮合が可能なｍ＝３が最適である。以上の条件を満足
するものであれば、どの様な処理剤でも使用することが
できるが、中でも前述の理由から、ヘプタデカフルオロ
デシルトリクロロシラン（ＨＦＴＳ）、ヘキサデカフル
オロデシルトリクロロシラン（ＨＤＦＤＴＣＳ）など
の、（２）式におけるｎが３〜９で、（１）式における
ｍが１〜３の物質の中で、ヘプタデカフルオロデシルト
リクロロシラン（ＨＦＴＳ）が最も良い。
いほど、表面自由エネルギーが小さくなって好ましい
が、分子鎖長があまり大きすぎると蒸気圧は高くなって
気化しやすくなって好ましくないので、１分子当りのＣ
Ｈ2 単位の繰り返し数（ｎ）は３〜９が良く、特にｎ＝
７が最も好適である。本発明に用いることのできる処理
剤は官能基として塩素原子をもっていなければならない
理由は、フルオロアルキルクロロシランが、活性化され
た表面Ｏ原子により求核攻撃を受けたときに、固定化反
応を行わせるためにフルオロアルキルクロロシラン中の
いずれかの原子が容易に脱離する必要があるからであ
る。１分子当りの塩素原子の数（ｍ）は１〜３のいずれ
でも良いが、得られる膜強度を高くするためには分子間
の縮合が可能なｍ＝３が最適である。以上の条件を満足
するものであれば、どの様な処理剤でも使用することが
できるが、中でも前述の理由から、ヘプタデカフルオロ
デシルトリクロロシラン（ＨＦＴＳ）、ヘキサデカフル
オロデシルトリクロロシラン（ＨＤＦＤＴＣＳ）など
の、（２）式におけるｎが３〜９で、（１）式における
ｍが１〜３の物質の中で、ヘプタデカフルオロデシルト
リクロロシラン（ＨＦＴＳ）が最も良い。
【００１４】撥水防汚層の膜付け方法としては、特に限
定されず、公知のラビング法、ディッピング法などを用
いることができるが、多孔質内部への均一な膜形成の観
点から、減圧ＣＶＤ法などの気相法が特に有効である。
ＣＶＤ処理時の真空度は、十分なフロロシラン系の材料
の蒸気圧が得られるように設定すれば良い。従って、用
いるフロロシラン系の材料の種類によって異なるが、通
常は１０Ｔｏｒｒ程度で十分である。
定されず、公知のラビング法、ディッピング法などを用
いることができるが、多孔質内部への均一な膜形成の観
点から、減圧ＣＶＤ法などの気相法が特に有効である。
ＣＶＤ処理時の真空度は、十分なフロロシラン系の材料
の蒸気圧が得られるように設定すれば良い。従って、用
いるフロロシラン系の材料の種類によって異なるが、通
常は１０Ｔｏｒｒ程度で十分である。
【００１５】防汚層と基板表面との反応を常温で進行す
るので、ＣＶＤ処理時に基板を加熱する必要はない。勿
論加熱しても差し支えないが、８０℃以下にすべきであ
る。この反応はＳｉ−ＯＨ基と塩素基を有するフロロシ
ランの脱塩酸反応である。撥水防汚膜の厚みは非常に小
さくても効果があり、単分子膜であることが好ましい。
るので、ＣＶＤ処理時に基板を加熱する必要はない。勿
論加熱しても差し支えないが、８０℃以下にすべきであ
る。この反応はＳｉ−ＯＨ基と塩素基を有するフロロシ
ランの脱塩酸反応である。撥水防汚膜の厚みは非常に小
さくても効果があり、単分子膜であることが好ましい。
【００１６】
実施例１ 厚み３ｍｍで３００ｍｍ×３００ｍｍの寸法のソーダラ
イムガラス基板の表面を清浄化するために、ＵＶ／Ｏ3
洗浄（５０℃−３０分，酸素供給量＝０．１ＮＬ／分，
基板−ランプ間距離＝５ｍｍ，サムコ社製ＵＶオゾンク
リーナー使用）を行った。次にガラス基板をチャンバー
内にセットし、チャンバーに連結したリザーバーの中に
１ｇのトリエチルアミン（ＴＥＡ）を入れておき、リザ
ーバーに超音波照射しながらＮ2 ガスをＴＥＡの上方を
通過させて、チャンバー内にＴＥＡ蒸気をチャンバー内
に約６０秒間導入し、基板表面にＴＥＡ蒸気を接触させ
て吸着させた。未吸着ＴＥＡはチャンバー出口に取り付
けたコールドトラッパーで捕集した。基板をチャンバー
から取り出した後、チャンバー内をエタノールを用いて
十分に洗浄してから再度基板をチャンバー内にセット
し、常温に保ったチャンバー内を約１０Ｔｏｒｒに減圧
してから５０μＬ（５０×１０-3ＣＣ）のヘプタデカフ
ルオロデシルトリクロロシラン（ＨＦＴＳ、純度９８％
以上，東芝シリコーン製）を注射器でチャンバー内空間
に注入した。注入後、１時間真空引きすることにより、
未反応のＨＦＴＳをコールドトラップした。常圧に戻し
てから基板（サンプルＡ）を取り出した。基板表面に付
着したＨＦＴＳの膜厚は約１５オングストロームであ
り、単分子層に相当する。チャンバー内温度は実験中常
に３５℃に保持した。
イムガラス基板の表面を清浄化するために、ＵＶ／Ｏ3
洗浄（５０℃−３０分，酸素供給量＝０．１ＮＬ／分，
基板−ランプ間距離＝５ｍｍ，サムコ社製ＵＶオゾンク
リーナー使用）を行った。次にガラス基板をチャンバー
内にセットし、チャンバーに連結したリザーバーの中に
１ｇのトリエチルアミン（ＴＥＡ）を入れておき、リザ
ーバーに超音波照射しながらＮ2 ガスをＴＥＡの上方を
通過させて、チャンバー内にＴＥＡ蒸気をチャンバー内
に約６０秒間導入し、基板表面にＴＥＡ蒸気を接触させ
て吸着させた。未吸着ＴＥＡはチャンバー出口に取り付
けたコールドトラッパーで捕集した。基板をチャンバー
から取り出した後、チャンバー内をエタノールを用いて
十分に洗浄してから再度基板をチャンバー内にセット
し、常温に保ったチャンバー内を約１０Ｔｏｒｒに減圧
してから５０μＬ（５０×１０-3ＣＣ）のヘプタデカフ
ルオロデシルトリクロロシラン（ＨＦＴＳ、純度９８％
以上，東芝シリコーン製）を注射器でチャンバー内空間
に注入した。注入後、１時間真空引きすることにより、
未反応のＨＦＴＳをコールドトラップした。常圧に戻し
てから基板（サンプルＡ）を取り出した。基板表面に付
着したＨＦＴＳの膜厚は約１５オングストロームであ
り、単分子層に相当する。チャンバー内温度は実験中常
に３５℃に保持した。
【００１７】比較例１ 比較のために、ＴＥＡを吸着させずに、ＨＦＴＳで処理
したサンプルＢ−２を次の様にして作製した。ＵＶ／Ｏ
3 洗浄したガラス基板をチャンバー内にセットしてから
約１０Ｔｏｒｒに減圧した。。８０℃に昇温後、５０μ
ＬのＨＦＴＳを注射器で注入し、１時間加熱した。さら
に、未反応のＨＦＴＳを除去するために、真空引きしな
がら１００℃で１時間加熱を続けて、サンプルＢが得ら
れた。
したサンプルＢ−２を次の様にして作製した。ＵＶ／Ｏ
3 洗浄したガラス基板をチャンバー内にセットしてから
約１０Ｔｏｒｒに減圧した。。８０℃に昇温後、５０μ
ＬのＨＦＴＳを注射器で注入し、１時間加熱した。さら
に、未反応のＨＦＴＳを除去するために、真空引きしな
がら１００℃で１時間加熱を続けて、サンプルＢが得ら
れた。
【００１８】さらに比較のために、ＴＥＡを吸着させず
に、それ以外は実施例１と同一の操作によりＨＦＴＳで
処理したサンプルＥを作製した。
に、それ以外は実施例１と同一の操作によりＨＦＴＳで
処理したサンプルＥを作製した。
【００１９】比較例２ 処理剤の官能基による反応性の差異を調べるために、処
理剤としてＨＦＴＳの代わりにヘプタデカフルオロデシ
ルトリメトキシシラン（ＨＦＴＭＳ）を用いた以外は実
施例１と全く同じ操作によりサンプルＣを作製した。ま
た、処理剤として同じＨＦＴＭＳを用いて、比較例１と
同じ操作によってサンプルＤを作製した。
理剤としてＨＦＴＳの代わりにヘプタデカフルオロデシ
ルトリメトキシシラン（ＨＦＴＭＳ）を用いた以外は実
施例１と全く同じ操作によりサンプルＣを作製した。ま
た、処理剤として同じＨＦＴＭＳを用いて、比較例１と
同じ操作によってサンプルＤを作製した。
【００２０】ガラス表面自由エネルギーが小さいほど水
も汚れも付着しにくいと考えられることから、相対的な
撥水度及び汚れ難さの指標として水に対する接触角を採
用した。また、膜の強固さの尺度の１つとして沸騰水中
に浸漬した場合の水に対する接触角の経時変化を調べ
た。図１に結果を示す。沸騰水浸漬時間の増加とともに
全サンプルについて接触角の低下が認められる。しか
し、サンプルＡ（実施例１）は常温で処理したにもかか
わらず、８０〜１００℃で処理したサンプルＢ（比較例
２）よりも接触角の減少速度が小さく、耐久性が優れて
いることがわかる。この結果は、ＴＥＡの前吸着により
ＨＦＴＳの表面固定化反応が著しく促進されたためと考
えられる。一方、サンプルＣ（比較例２）の耐水性はサ
ンプルＤ（比較例２）と同程度である。このことは、撥
水防汚剤の官能基が塩素基ではなくメトキシ基の場合に
はＴＥＡの前吸着の効果が得られないことを示してい
る。なおサンプルＥについての初期接触角は約９５度で
あり、沸騰水浸漬時間が２時間および４時間の接触角は
それぞれ約９０度および８０度以下であった。
も汚れも付着しにくいと考えられることから、相対的な
撥水度及び汚れ難さの指標として水に対する接触角を採
用した。また、膜の強固さの尺度の１つとして沸騰水中
に浸漬した場合の水に対する接触角の経時変化を調べ
た。図１に結果を示す。沸騰水浸漬時間の増加とともに
全サンプルについて接触角の低下が認められる。しか
し、サンプルＡ（実施例１）は常温で処理したにもかか
わらず、８０〜１００℃で処理したサンプルＢ（比較例
２）よりも接触角の減少速度が小さく、耐久性が優れて
いることがわかる。この結果は、ＴＥＡの前吸着により
ＨＦＴＳの表面固定化反応が著しく促進されたためと考
えられる。一方、サンプルＣ（比較例２）の耐水性はサ
ンプルＤ（比較例２）と同程度である。このことは、撥
水防汚剤の官能基が塩素基ではなくメトキシ基の場合に
はＴＥＡの前吸着の効果が得られないことを示してい
る。なおサンプルＥについての初期接触角は約９５度で
あり、沸騰水浸漬時間が２時間および４時間の接触角は
それぞれ約９０度および８０度以下であった。
【００２１】
【発明の効果】以上説明した様に、本発明の撥水防汚性
ガラスの製造方法によれば、常温処理にもかかわらず加
熱処理サンプル以上の耐久性を有する強固な撥水防汚膜
を得ることができる。さらに、膜形成法として減圧ＣＶ
Ｄ法などの気相法を用いた場合には廃液が出ないばかり
でなく、液管理が容易になる。従って、本発明による方
法で作製した撥水防汚性ガラスは、自動車，建築用の風
防ガラスとして好適に使用することが可能である。
ガラスの製造方法によれば、常温処理にもかかわらず加
熱処理サンプル以上の耐久性を有する強固な撥水防汚膜
を得ることができる。さらに、膜形成法として減圧ＣＶ
Ｄ法などの気相法を用いた場合には廃液が出ないばかり
でなく、液管理が容易になる。従って、本発明による方
法で作製した撥水防汚性ガラスは、自動車，建築用の風
防ガラスとして好適に使用することが可能である。
【図１】本発明の１実施例の撥水防汚性ガラスの水に対
する接触角のボイル時間依存性を表わすグラフである。
する接触角のボイル時間依存性を表わすグラフである。
Ａ 本発明の実施例 Ｂ，Ｃ，Ｄ 比較例
Claims (4)
- 【請求項１】 ガラス表面にアンモニア及び／またはア
ミン類を吸着させ、その後にガラス表面にフルオロアル
キルクロロシランを被覆することを特徴とする撥水防汚
性ガラスの製造方法。 - 【請求項２】 前記アミン類がトリエチルアミンである
請求項１記載の撥水防汚性ガラスの製造方法。 - 【請求項３】 前記フルオロアルキルクロロシランがフ
ルオロアルキルトリクロロシランであり、これを気相で
被覆する請求項１記載の撥水防汚性ガラスの製造方法。 - 【請求項４】 前記フルオロアルキルトリクロロシラン
がヘプタデカフルオロデシルトリクロロシランである請
求項３記載の撥水防汚性ガラスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25193594A JPH08119678A (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 撥水防汚性ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25193594A JPH08119678A (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 撥水防汚性ガラスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08119678A true JPH08119678A (ja) | 1996-05-14 |
Family
ID=17230168
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25193594A Pending JPH08119678A (ja) | 1994-10-18 | 1994-10-18 | 撥水防汚性ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08119678A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010074195A (ja) * | 2002-03-28 | 2010-04-02 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 支持体上にフリップ−チップ−マウンティングするための発光ダイオードチップ及びその製造方法 |
| WO2011146306A1 (en) * | 2010-05-17 | 2011-11-24 | Corning Incorporated | Surface treatment and article |
-
1994
- 1994-10-18 JP JP25193594A patent/JPH08119678A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010074195A (ja) * | 2002-03-28 | 2010-04-02 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | 支持体上にフリップ−チップ−マウンティングするための発光ダイオードチップ及びその製造方法 |
| WO2011146306A1 (en) * | 2010-05-17 | 2011-11-24 | Corning Incorporated | Surface treatment and article |
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