JPH0810219A - 電子内視鏡用電子シャッタ制御装置 - Google Patents
電子内視鏡用電子シャッタ制御装置Info
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- JPH0810219A JPH0810219A JP6168978A JP16897894A JPH0810219A JP H0810219 A JPH0810219 A JP H0810219A JP 6168978 A JP6168978 A JP 6168978A JP 16897894 A JP16897894 A JP 16897894A JP H0810219 A JPH0810219 A JP H0810219A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 近接撮影等で入射光強度が高くなる場合にお
いても、露出制御の精度を高くし、良好な撮影を行うよ
うにする。 【構成】 入射光強度が所定値よりも高いときモニタ画
面の少なくとも垂直方向外周に所定幅のマスクを形成す
るマスク回路２７を設け、入射光強度が所定値よりも低
いときは、水平同期信号のブランキング期間に生成され
た駆動用パルスにより、電子シャッタ制御の例えば掃出
しパルスを形成し、入射光強度が所定値よりも高いとき
は、上記マスク回路２７でマスクした領域内の水平同期
信号の有効期間内に、例えば１水平同期信号に２５６パ
ルスを有する緻密な掃出しパルスを形成する。これによ
り、近接撮影では高精度の露出制御が行われるので、露
出誤差がなくなる。
いても、露出制御の精度を高くし、良好な撮影を行うよ
うにする。 【構成】 入射光強度が所定値よりも高いときモニタ画
面の少なくとも垂直方向外周に所定幅のマスクを形成す
るマスク回路２７を設け、入射光強度が所定値よりも低
いときは、水平同期信号のブランキング期間に生成され
た駆動用パルスにより、電子シャッタ制御の例えば掃出
しパルスを形成し、入射光強度が所定値よりも高いとき
は、上記マスク回路２７でマスクした領域内の水平同期
信号の有効期間内に、例えば１水平同期信号に２５６パ
ルスを有する緻密な掃出しパルスを形成する。これによ
り、近接撮影では高精度の露出制御が行われるので、露
出誤差がなくなる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子内視鏡装置、特に固
体撮像素子を電子シャッタ制御する制御装置の制御内容
に関する。
体撮像素子を電子シャッタ制御する制御装置の制御内容
に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子内視鏡装置では、固体撮像素子であ
るＣＣＤ（Charge Coupled Device ）の画素情報となる
電荷の蓄積時間を制御する電子シャッタ機能があり、こ
の電子シャッタ機能は、従来から採用されている絞り部
材等を用いたＡＬＣ（Automatic light control)に代え
て、画像形成の際の露出制御を行うことができる。即
ち、上記ＡＬＣでは画像信号の輝度を検出して入射光量
を絞り部材等で制御することになるが、電子シャッタで
は、画像信号の輝度情報に基づき、画像が明るいときは
蓄積時間を短く、画像が暗いときは蓄積時間を長くし、
素子への蓄積電荷量を制御することによって、最適な明
るさの画像を得ることができる。
るＣＣＤ（Charge Coupled Device ）の画素情報となる
電荷の蓄積時間を制御する電子シャッタ機能があり、こ
の電子シャッタ機能は、従来から採用されている絞り部
材等を用いたＡＬＣ（Automatic light control)に代え
て、画像形成の際の露出制御を行うことができる。即
ち、上記ＡＬＣでは画像信号の輝度を検出して入射光量
を絞り部材等で制御することになるが、電子シャッタで
は、画像信号の輝度情報に基づき、画像が明るいときは
蓄積時間を短く、画像が暗いときは蓄積時間を長くし、
素子への蓄積電荷量を制御することによって、最適な明
るさの画像を得ることができる。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た電子シャッタ制御では、電荷蓄積の制御信号、即ち掃
出しパルスや読出しパルスが水平同期信号のブランキン
グ期間に生成されることから、近接撮影等で被観察体が
明るいときに、露出の制御精度が低下し、露出誤差が生
じるという問題がある。
た電子シャッタ制御では、電荷蓄積の制御信号、即ち掃
出しパルスや読出しパルスが水平同期信号のブランキン
グ期間に生成されることから、近接撮影等で被観察体が
明るいときに、露出の制御精度が低下し、露出誤差が生
じるという問題がある。
【０００４】図５には、従来の制御動作を示す波形図が
示されており、制御装置では図（Ａ）に示される垂直走
査期間（１Ｖ）に図（Ｂ）に示される水平同期信号が、
例えば２６２．５個生成される。そして、制御信号等を
水平同期信号の有効期間に形成すると、画像上にノイズ
が発生するという不都合があるため、電子シャッタの制
御パルスは水平同期信号の各ブランキング期間Ｂの間に
形成される。図（Ｃ）の例では、露出制御信号に基づい
て掃出しパルスＰａが水平同期信号１から水平同期信号
１３１のブランキング期間Ｂまで形成され、読出しパル
スＰｂは最後のブランキング期間Ｂでかつ垂直同期信号
のブランキング期間に形成される。そうすると、図
（Ｄ）に示されるように、ＣＣＤの各素子に蓄積された
蓄積信号は上記掃出しパルスＰａで一旦掃き出された後
に更に蓄積され、図示１００の蓄積電荷量が読出しパル
スＰｂで読み出されることになる。
示されており、制御装置では図（Ａ）に示される垂直走
査期間（１Ｖ）に図（Ｂ）に示される水平同期信号が、
例えば２６２．５個生成される。そして、制御信号等を
水平同期信号の有効期間に形成すると、画像上にノイズ
が発生するという不都合があるため、電子シャッタの制
御パルスは水平同期信号の各ブランキング期間Ｂの間に
形成される。図（Ｃ）の例では、露出制御信号に基づい
て掃出しパルスＰａが水平同期信号１から水平同期信号
１３１のブランキング期間Ｂまで形成され、読出しパル
スＰｂは最後のブランキング期間Ｂでかつ垂直同期信号
のブランキング期間に形成される。そうすると、図
（Ｄ）に示されるように、ＣＣＤの各素子に蓄積された
蓄積信号は上記掃出しパルスＰａで一旦掃き出された後
に更に蓄積され、図示１００の蓄積電荷量が読出しパル
スＰｂで読み出されることになる。
【０００５】ここで、上記図（Ｃ），（Ｄ）は電子内視
鏡の先端部が被観察体に近接しておらず、露出時間が長
く設定される場合であり、この場合は最後の掃出しパル
スＰａが破線で示した一つ前の水平同期信号１３０のブ
ランキング期間Ｂに出力されたとしても、この増加分の
電荷量１０１が電荷量１００に与える影響は小さい。し
かしながら、図（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ）に示されるよう
に、電子内視鏡の先端部が被観察体に接近し露出時間が
短くなる場合、即ち水平同期信号２６０のブランキング
期間Ｂまで成された掃出しパルスＰａでは、図示１０２
で示されるように少量の蓄積電荷量１０２となる。この
ため、破線で示した一つ前の水平同期信号２５９の掃出
しパルスＰａの後に蓄積された場合、増加分の電荷量１
０３が電荷量１０２に与える影響は大きくなる。従っ
て、近接撮影をする場合等では、電子シャッタ制御にお
ける露出精度が悪くなり、近接撮影でない場合と比較す
ると、露出誤差が大きくなる。
鏡の先端部が被観察体に近接しておらず、露出時間が長
く設定される場合であり、この場合は最後の掃出しパル
スＰａが破線で示した一つ前の水平同期信号１３０のブ
ランキング期間Ｂに出力されたとしても、この増加分の
電荷量１０１が電荷量１００に与える影響は小さい。し
かしながら、図（Ｅ），（Ｆ），（Ｇ）に示されるよう
に、電子内視鏡の先端部が被観察体に接近し露出時間が
短くなる場合、即ち水平同期信号２６０のブランキング
期間Ｂまで成された掃出しパルスＰａでは、図示１０２
で示されるように少量の蓄積電荷量１０２となる。この
ため、破線で示した一つ前の水平同期信号２５９の掃出
しパルスＰａの後に蓄積された場合、増加分の電荷量１
０３が電荷量１０２に与える影響は大きくなる。従っ
て、近接撮影をする場合等では、電子シャッタ制御にお
ける露出精度が悪くなり、近接撮影でない場合と比較す
ると、露出誤差が大きくなる。
【０００６】本発明は上記問題点に鑑みてなされたもの
であり、その目的は、近接撮影等で入射光強度が高くな
る場合においても、露出制御の精度を高くし、良好な撮
影が可能となる電子内視鏡用電子シャッタ制御装置を提
供することにある。
であり、その目的は、近接撮影等で入射光強度が高くな
る場合においても、露出制御の精度を高くし、良好な撮
影が可能となる電子内視鏡用電子シャッタ制御装置を提
供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明は、固体撮像素子を電子シャッタ制御して画
像信号を形成する電子内視鏡装置において、入射光強度
が所定値よりも高いときモニタ画面の少なくとも垂直方
向外周に所定幅のマスクを形成するマスク回路を設け、
入射光強度が所定値よりも低いときは水平同期信号のブ
ランキング期間に生成された駆動用パルスにより電子シ
ャッタの制御パルスを形成し、入射光強度が所定値より
も高いときは上記マスク回路でマスクされる領域内の水
平同期信号の有効期間内に駆動用パルスを生成し、この
駆動用パルスにより電子シャッタの制御パルスを形成す
ることを特徴とする。
に、本発明は、固体撮像素子を電子シャッタ制御して画
像信号を形成する電子内視鏡装置において、入射光強度
が所定値よりも高いときモニタ画面の少なくとも垂直方
向外周に所定幅のマスクを形成するマスク回路を設け、
入射光強度が所定値よりも低いときは水平同期信号のブ
ランキング期間に生成された駆動用パルスにより電子シ
ャッタの制御パルスを形成し、入射光強度が所定値より
も高いときは上記マスク回路でマスクされる領域内の水
平同期信号の有効期間内に駆動用パルスを生成し、この
駆動用パルスにより電子シャッタの制御パルスを形成す
ることを特徴とする。
【０００８】
【作用】上記の構成によれば、入射光強度が所定値より
も高くなる場合は、水平同期信号のブランキング期間だ
けでなく有効期間内にも、駆動用の信号パルスが生成さ
れ、例えば１パルスの水平同期信号の中に、２５６個
（８ビット構成）のパルスが形成される。そして、この
密度の高い信号パルスと露出制御信号によって、掃出し
パルスや読出しパルス等の制御パルスが形成され、これ
によって電子シャッタ動作が実行される。同時に、上記
水平同期信号の有効期間内に駆動用パルスが生成される
領域には、マスクが挿入される。
も高くなる場合は、水平同期信号のブランキング期間だ
けでなく有効期間内にも、駆動用の信号パルスが生成さ
れ、例えば１パルスの水平同期信号の中に、２５６個
（８ビット構成）のパルスが形成される。そして、この
密度の高い信号パルスと露出制御信号によって、掃出し
パルスや読出しパルス等の制御パルスが形成され、これ
によって電子シャッタ動作が実行される。同時に、上記
水平同期信号の有効期間内に駆動用パルスが生成される
領域には、マスクが挿入される。
【０００９】即ち、近接撮影等で被観察体が比較的明る
くなる場合、露出制御は垂直走査期間の最後の方（画面
の下側）で行われる。一方、マスクを形成する場合は、
マスク挿入領域の画像信号が除去されるので、このマス
ク領域においては、水平同期信号の有効期間に制御パル
スを用いても、画像に悪影響を与えることはない。そこ
で、少なくとも下側のマスク領域を形成するようにし、
この領域では水平同期信号の有効期間においても、制御
パルスを形成することとしたものである。従って、近接
撮影等で蓄積時間が短くなる場合は、高精度の露出制御
が行われ、良好な画像を得ることができる。
くなる場合、露出制御は垂直走査期間の最後の方（画面
の下側）で行われる。一方、マスクを形成する場合は、
マスク挿入領域の画像信号が除去されるので、このマス
ク領域においては、水平同期信号の有効期間に制御パル
スを用いても、画像に悪影響を与えることはない。そこ
で、少なくとも下側のマスク領域を形成するようにし、
この領域では水平同期信号の有効期間においても、制御
パルスを形成することとしたものである。従って、近接
撮影等で蓄積時間が短くなる場合は、高精度の露出制御
が行われ、良好な画像を得ることができる。
【００１０】
【実施例】図１には、実施例に係る電子シャッタ制御装
置の構成が示されており、ＣＣＤ１０は電子内視鏡の先
端部に配設され、この先端部には撮影のための照射光が
光源部から体腔内等へ供給される。このＣＣＤ１０に
は、増幅、ガンマ補正等の処理をする信号処理回路１１
が接続され、この信号処理回路１１にはビデオ信号をア
ナログ信号へ変換するＡ／Ｄ変換器１２が接続される。
このＡ／Ｄ変換器１２の後段に、画像の明るさを判定す
るレベル比較器１４及びＰＷＭ（パルス幅変調）信号発
生回路１５が接続され、このレベル比較器１４ではビデ
オ信号内の輝度信号と映像レベル設定値とを比較して、
現在の入射光強度が判定される。また、ＰＷＭ信号発生
回路１５はこのレベル比較器１４の出力に基づいた幅の
露出制御信号を形成することになり、この露出制御信号
によって、露出時間であるＣＣＤ１０の電荷蓄積時間が
決定される。
置の構成が示されており、ＣＣＤ１０は電子内視鏡の先
端部に配設され、この先端部には撮影のための照射光が
光源部から体腔内等へ供給される。このＣＣＤ１０に
は、増幅、ガンマ補正等の処理をする信号処理回路１１
が接続され、この信号処理回路１１にはビデオ信号をア
ナログ信号へ変換するＡ／Ｄ変換器１２が接続される。
このＡ／Ｄ変換器１２の後段に、画像の明るさを判定す
るレベル比較器１４及びＰＷＭ（パルス幅変調）信号発
生回路１５が接続され、このレベル比較器１４ではビデ
オ信号内の輝度信号と映像レベル設定値とを比較して、
現在の入射光強度が判定される。また、ＰＷＭ信号発生
回路１５はこのレベル比較器１４の出力に基づいた幅の
露出制御信号を形成することになり、この露出制御信号
によって、露出時間であるＣＣＤ１０の電荷蓄積時間が
決定される。
【００１１】上記ＰＷＭ信号発生回路１５の後段には、
近接撮影以外の電子シャッタ制御をするための混合器１
６が設けられる。また、装置には発振器１７を有するＣ
ＣＤタイミングジュネレータ１８が設けられ、このタイ
ミングジュネレータ１８から水平同期信号のブランキン
グ期間毎に発生する駆動用パルスが上記混合器１６へ供
給される。従って、この駆動用パルスと露出制御信号に
よって近接状態でない撮影の掃出しパルス（サブストレ
ートパルス）Ｐａを形成することになる。
近接撮影以外の電子シャッタ制御をするための混合器１
６が設けられる。また、装置には発振器１７を有するＣ
ＣＤタイミングジュネレータ１８が設けられ、このタイ
ミングジュネレータ１８から水平同期信号のブランキン
グ期間毎に発生する駆動用パルスが上記混合器１６へ供
給される。従って、この駆動用パルスと露出制御信号に
よって近接状態でない撮影の掃出しパルス（サブストレ
ートパルス）Ｐａを形成することになる。
【００１２】一方、近接撮影の制御のために、可変抵抗
２０を有する単安定マルチバイブレータ（モノマルチ）
２１、ＡＮＤ回路２２、混合器２３、周波数ｆ1 のパル
スを得るための分周回路２４が設けられている。このモ
ノマルチ２１は、上記ＣＣＤタイミングジェネレータ１
８から入力した垂直同期信号ＶＤに基づいて、近接撮影
の電子シャッタ制御へ切り換えるための切換え位置信号
を形成している。即ち、この切換え位置信号は後述の図
４（Ｂ）に示されるように、切換え位置Ｅを設定する信
号であり、また上記垂直走査方向でマスクを発生させる
マスク位置に対応する信号である。この切換え位置Ｅ
は、入射光強度の所定値に対応して、上記可変抵抗器２
０によって任意位置に設定する（例えば２６２．５個の
水平同期信号の２５０個目等）ことになり、上記露出制
御信号が切換え位置Ｅを超えるときに、近接撮影状態と
なる。
２０を有する単安定マルチバイブレータ（モノマルチ）
２１、ＡＮＤ回路２２、混合器２３、周波数ｆ1 のパル
スを得るための分周回路２４が設けられている。このモ
ノマルチ２１は、上記ＣＣＤタイミングジェネレータ１
８から入力した垂直同期信号ＶＤに基づいて、近接撮影
の電子シャッタ制御へ切り換えるための切換え位置信号
を形成している。即ち、この切換え位置信号は後述の図
４（Ｂ）に示されるように、切換え位置Ｅを設定する信
号であり、また上記垂直走査方向でマスクを発生させる
マスク位置に対応する信号である。この切換え位置Ｅ
は、入射光強度の所定値に対応して、上記可変抵抗器２
０によって任意位置に設定する（例えば２６２．５個の
水平同期信号の２５０個目等）ことになり、上記露出制
御信号が切換え位置Ｅを超えるときに、近接撮影状態と
なる。
【００１３】上記ＡＮＤ回路２２には、ＰＭＷ信号発生
回路１５から露出制御信号が入力され、上述したモノマ
ルチ２１から切換え位置信号が反転入力されており、こ
のＡＮＤ回路２２で近接撮影であるか否か（密度の高い
掃出しパルスを出力する状態であるか否か）を判定する
ことになる。即ち、アンド出力は、露出制御信号が切換
え位置を超えた状態、或いはマスク領域で掃出しパルス
が用いられる状態を意味するものであり、このＡＮＤ回
路２２の出力は混合器２３へ供給される。一方、分周回
路２４では上記周波数ｆ1 によって、図２に示されるよ
うに、図（Ａ）の１水平同期信号（１Ｈ）の間に２５６
個（８ビット構成）存在する駆動用パルスが形成され
る。従って、混合器２３ではこの駆動パルスとアンド出
力信号の両者が出力されるときに、近接撮影時の掃出し
パルスＰａを形成することになる。
回路１５から露出制御信号が入力され、上述したモノマ
ルチ２１から切換え位置信号が反転入力されており、こ
のＡＮＤ回路２２で近接撮影であるか否か（密度の高い
掃出しパルスを出力する状態であるか否か）を判定する
ことになる。即ち、アンド出力は、露出制御信号が切換
え位置を超えた状態、或いはマスク領域で掃出しパルス
が用いられる状態を意味するものであり、このＡＮＤ回
路２２の出力は混合器２３へ供給される。一方、分周回
路２４では上記周波数ｆ1 によって、図２に示されるよ
うに、図（Ａ）の１水平同期信号（１Ｈ）の間に２５６
個（８ビット構成）存在する駆動用パルスが形成され
る。従って、混合器２３ではこの駆動パルスとアンド出
力信号の両者が出力されるときに、近接撮影時の掃出し
パルスＰａを形成することになる。
【００１４】上記Ａ／Ｄ変換器１２の出力ラインには、
混合器２６及びマスク回路２７が接続されており、この
マスク回路２７では、上記ＣＣＤタイミングジェネレー
タ１８から入力された垂直同期信号ＶＤ、水平同期信号
ＨＤに基づいて、画面の外周部をマスクするマスク信号
が形成される。そして、このマスク信号は上記混合器２
６によってＡ／Ｄ変換器１２から出力されたビデオ信号
に加えられる。実施例では、図３のモニタ画面５０に示
されるように、近接撮影以外では図（Ａ）のほぼ円形の
画像表示部を残したマスクＭ1 がかけられるが、近接撮
影では図（Ｂ）のマスクＭ2 がかけられる。即ち、この
マスクＭ2 は、上記マスクＭ1 に画面５０の垂直走査方
向の上下に幅Ｄのマスクを加えたものであり、これによ
って上記水平同期信号の有効期間内の制御パルスを出力
する画像領域が完全に遮蔽される。なお、上記垂直方向
のマスクは下側だけ表示させるようにしてもよい（少な
くとも下側のマスクが存在すればよい）。
混合器２６及びマスク回路２７が接続されており、この
マスク回路２７では、上記ＣＣＤタイミングジェネレー
タ１８から入力された垂直同期信号ＶＤ、水平同期信号
ＨＤに基づいて、画面の外周部をマスクするマスク信号
が形成される。そして、このマスク信号は上記混合器２
６によってＡ／Ｄ変換器１２から出力されたビデオ信号
に加えられる。実施例では、図３のモニタ画面５０に示
されるように、近接撮影以外では図（Ａ）のほぼ円形の
画像表示部を残したマスクＭ1 がかけられるが、近接撮
影では図（Ｂ）のマスクＭ2 がかけられる。即ち、この
マスクＭ2 は、上記マスクＭ1 に画面５０の垂直走査方
向の上下に幅Ｄのマスクを加えたものであり、これによ
って上記水平同期信号の有効期間内の制御パルスを出力
する画像領域が完全に遮蔽される。なお、上記垂直方向
のマスクは下側だけ表示させるようにしてもよい（少な
くとも下側のマスクが存在すればよい）。
【００１５】実施例は以上の構成からなり、その作用を
図４を参照しながら説明する。図４（Ａ）の垂直同期信
号に対し、上記モノマルチ２１から出力される切換え位
置信号は、図４（Ｂ）の信号となる。まず、電子内視鏡
の先端部が被観察体へ近接していない状態では、輝度信
号（入射光強度）は高くなく、例えば図４（Ｃ）に示さ
れる露出制御信号Ｓ1 が図１のＰＭＷ信号発生回路１５
から出力される。この露出制御信号Ｓ1 は、混合器１６
へ出力されると同時に、ＡＮＤ回路２２へも供給される
が、このＡＮＤ回路２２では、図４（Ｂ）の切換え位置
信号とのアンド条件が満たされないので、混合器１６の
みが働くことになる。
図４を参照しながら説明する。図４（Ａ）の垂直同期信
号に対し、上記モノマルチ２１から出力される切換え位
置信号は、図４（Ｂ）の信号となる。まず、電子内視鏡
の先端部が被観察体へ近接していない状態では、輝度信
号（入射光強度）は高くなく、例えば図４（Ｃ）に示さ
れる露出制御信号Ｓ1 が図１のＰＭＷ信号発生回路１５
から出力される。この露出制御信号Ｓ1 は、混合器１６
へ出力されると同時に、ＡＮＤ回路２２へも供給される
が、このＡＮＤ回路２２では、図４（Ｂ）の切換え位置
信号とのアンド条件が満たされないので、混合器１６の
みが働くことになる。
【００１６】この混合器１６では、タイミングジュネレ
ータ１８から出力された図４（Ｄ）の駆動用パルスと上
記露出制御信号Ｓ1 が混合され、図４（Ｅ）に示される
掃出しパルスＰａが形成され、ＣＣＤ１０へ供給され
る。従って、この場合には図４（Ｆ）に示される電荷量
１１０が蓄積され、これが画像信号として読み出される
ことになる。
ータ１８から出力された図４（Ｄ）の駆動用パルスと上
記露出制御信号Ｓ1 が混合され、図４（Ｅ）に示される
掃出しパルスＰａが形成され、ＣＣＤ１０へ供給され
る。従って、この場合には図４（Ｆ）に示される電荷量
１１０が蓄積され、これが画像信号として読み出される
ことになる。
【００１７】一方、電子内視鏡先端部が被観察体に近接
し、ＰＭＷ信号発生回路１５から図４（Ｇ）に示される
ように、切換え位置Ｅを超える（入射光強度が所定値を
超える）露出制御信号Ｓ2 が出力された場合は、図１の
ＡＮＤ回路２２において、図４（Ｂ）の切換え位置信号
によってアンド条件が満たされ、混合器２３が働くこと
になる。このとき、混合器２３には、分周回路２４から
図３（Ｂ）に示される駆動用パルスが入力されているの
で、この混合器２３からは図４（Ｈ）に示されるよう
に、１水平同期信号の有効期間内に形成された駆動用パ
ルスが混合器１６へ出力される。この結果、混合器１６
からは図４（Ｉ）に示される掃出しパルスＰａがＣＣＤ
１０へ供給される。従って、入射光強度が所定値よりも
大きくなる近接撮影の場合は、入射光強度が小さい場合
に比べて、緻密な掃出し制御が行われ、電子シャッタ動
作により高精度の露出動作が可能となり、露出誤差をな
くすことができる。
し、ＰＭＷ信号発生回路１５から図４（Ｇ）に示される
ように、切換え位置Ｅを超える（入射光強度が所定値を
超える）露出制御信号Ｓ2 が出力された場合は、図１の
ＡＮＤ回路２２において、図４（Ｂ）の切換え位置信号
によってアンド条件が満たされ、混合器２３が働くこと
になる。このとき、混合器２３には、分周回路２４から
図３（Ｂ）に示される駆動用パルスが入力されているの
で、この混合器２３からは図４（Ｈ）に示されるよう
に、１水平同期信号の有効期間内に形成された駆動用パ
ルスが混合器１６へ出力される。この結果、混合器１６
からは図４（Ｉ）に示される掃出しパルスＰａがＣＣＤ
１０へ供給される。従って、入射光強度が所定値よりも
大きくなる近接撮影の場合は、入射光強度が小さい場合
に比べて、緻密な掃出し制御が行われ、電子シャッタ動
作により高精度の露出動作が可能となり、露出誤差をな
くすことができる。
【００１８】また、上記の動作と同時に、ＡＮＤ回路２
２のアンド出力はマスク回路２７へ供給されており、近
接撮影の際には図３（Ｂ）に示されるマスクＭ2 が表示
される。従って、図３に示されるように、上記図４
（Ｈ）の駆動用パルスは、下側のマスク幅Ｄ内で出力さ
れ、ビデオ信号波形２００において波形２０１のような
信号が混入することになるが、画像表示領域内のビデオ
信号に悪影響を及ぼすことはない。
２のアンド出力はマスク回路２７へ供給されており、近
接撮影の際には図３（Ｂ）に示されるマスクＭ2 が表示
される。従って、図３に示されるように、上記図４
（Ｈ）の駆動用パルスは、下側のマスク幅Ｄ内で出力さ
れ、ビデオ信号波形２００において波形２０１のような
信号が混入することになるが、画像表示領域内のビデオ
信号に悪影響を及ぼすことはない。
【００１９】上記実施例では、掃出しパルスを１水平同
期信号の有効期間において出力し、読出しパルスをブラ
ンキング期間に出力する例を示したが、この掃出しパル
スと読出しパルスの形成はその他の方式を採用すること
ができ、例えば掃出しパルスと読出しパルスとの関係を
逆にし、掃出しパルスを垂直同期信号のブランキング期
間に出力し、読出しパルスを垂直同期信号の有効期間に
出力することも可能である。
期信号の有効期間において出力し、読出しパルスをブラ
ンキング期間に出力する例を示したが、この掃出しパル
スと読出しパルスの形成はその他の方式を採用すること
ができ、例えば掃出しパルスと読出しパルスとの関係を
逆にし、掃出しパルスを垂直同期信号のブランキング期
間に出力し、読出しパルスを垂直同期信号の有効期間に
出力することも可能である。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
入射光強度が所定値よりも高いときモニタ画面の少なく
とも垂直方向外周に所定幅のマスクを形成するマスク回
路を設け、入射光強度が所定値よりも低いときは水平同
期信号のブランキング期間に生成された駆動用パルスに
より電子シャッタの掃出しパルスを形成し、入射光強度
が所定値よりも高いときは上記マスク回路でマスクされ
る領域内の水平同期信号の有効期間内に掃出しパルスを
形成するようにしたので、近接撮影等においては、その
他の撮影に比べて露出制御の精度を高くすることがで
き、全体的に露出誤差のない良好な画像表示が可能とな
る。
入射光強度が所定値よりも高いときモニタ画面の少なく
とも垂直方向外周に所定幅のマスクを形成するマスク回
路を設け、入射光強度が所定値よりも低いときは水平同
期信号のブランキング期間に生成された駆動用パルスに
より電子シャッタの掃出しパルスを形成し、入射光強度
が所定値よりも高いときは上記マスク回路でマスクされ
る領域内の水平同期信号の有効期間内に掃出しパルスを
形成するようにしたので、近接撮影等においては、その
他の撮影に比べて露出制御の精度を高くすることがで
き、全体的に露出誤差のない良好な画像表示が可能とな
る。
【図１】本発明の実施例に係る電子内視鏡用電子シャッ
タ制御装置の構成を示すブロック図である。
タ制御装置の構成を示すブロック図である。
【図２】水平同期信号の有効期間内に形成される駆動用
パルスを示す図である。
パルスを示す図である。
【図３】実施例のマスク領域を示す説明図である。
【図４】実施例の動作を示す信号波形図である。
【図５】従来の電子シャッタ制御装置での動作を示す波
形図である。
形図である。
１０ … ＣＣＤ、 １１ … 信号処理回路、 １４ … レベル比較器、 １６，２３，２６ … 混合器、 １８ … ＣＣＤタイミングジュネレータ、 ２０ … レベル比較器、 ２１ … 単安定マルチバイブレータ、 ２２ … ＡＮＤ回路、 ２４ … 分周回路、 ２７ … マスク回路。
Claims (1)
- 【請求項１】 固体撮像素子を電子シャッタ制御して画
像信号を形成する電子内視鏡装置において、入射光強度
が所定値よりも高いときモニタ画面の少なくとも垂直方
向外周に所定幅のマスクを形成するマスク回路を設け、
入射光強度が所定値よりも低いときは水平同期信号のブ
ランキング期間に生成された駆動用パルスにより電子シ
ャッタの制御パルスを形成し、入射光強度が所定値より
も高いときは上記マスク回路でマスクされる領域内の水
平同期信号の有効期間内に駆動用パルスを生成し、この
駆動用パルスにより電子シャッタの制御パルスを形成す
ることを特徴とする電子内視鏡用電子シャッタ制御装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168978A JP2989101B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 電子内視鏡用電子シャッタ制御装置 |
| US08/402,488 US5614949A (en) | 1994-06-28 | 1995-03-10 | Exposure control device for electronic endoscope |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6168978A JP2989101B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 電子内視鏡用電子シャッタ制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0810219A true JPH0810219A (ja) | 1996-01-16 |
| JP2989101B2 JP2989101B2 (ja) | 1999-12-13 |
Family
ID=15878093
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6168978A Expired - Fee Related JP2989101B2 (ja) | 1994-06-28 | 1994-06-28 | 電子内視鏡用電子シャッタ制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2989101B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002209841A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-30 | Asahi Optical Co Ltd | 測光範囲を持つ内視鏡システム |
-
1994
- 1994-06-28 JP JP6168978A patent/JP2989101B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002209841A (ja) * | 2001-01-12 | 2002-07-30 | Asahi Optical Co Ltd | 測光範囲を持つ内視鏡システム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2989101B2 (ja) | 1999-12-13 |
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