JPH08101497A - ペリクル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 本発明はエアーブローに対する耐性および耐
光性のすぐれたペリクルの提供を目的とするものであ
る。 【構成】 本発明のペリクルは、ノルボルネン誘導体を
含む単量体から重合されたポリマーをペリクル膜材料と
してなることを特徴とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はリソグラフィー用ペリク
ル、特にはＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置あるいは
液晶表示板を製造する際のゴミよけとして使用される、
実質的に 500nm以下の光を用いる露光方式における帯電
防止されたリソグラフィー用ペリクルに関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体装置ある
いは液晶表示板などの製造においては、半導体ウェハー
あるいは液晶用原版に光を照射してパターニングを作成
するのであるが、この場合に用いる露光原版にゴミが付
着していると、このゴミが光を吸収したり、光を曲げて
しまうため、転写したパターニングが変形したり、エッ
ジががさついたものとなるほか、白地が黒く汚れたりし
て、寸法、品質、外観などが損なわれ、半導体装置や液
晶表示板などの性能や歩留まりの低下を来すという問題
があった。

【０００３】このため、これらの作業は通常クリーンル
ームで行われているが、このクリーンルーム内でも露光
原版を常に清浄に保つことが難しいので、露光原版の表
面にゴミよけのための露光用の光を良く通過させるペリ
クルを貼着けする方式が行われている。この場合、ゴミ
は露光原版の表面には直接付着せずペリクル上に付着す
るため、リソグラフィー時に焦点を露光原版のパターン
上に合わせておけば、ペリクル上のゴミは転写に無関係
となるのであるが、このペリクル膜は光をよく通過させ
るニトロセルロース、酢酸セルロースなどからなる透明
な膜がアルミニウム、ステンレス、ポリエチレンなどか
らなるペリクル枠の上部に接着されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】近年パターンの集積化
が進につれ露光光源の短波長化が進み、これに伴いペリ
クル膜の耐光性が問題とされるようになってきたことか
ら、この膜材料には非晶質フッ素系ポリマーが使用され
るようになってきた。しかし、この非晶質フッ素系ポリ
マーは、セルロース系ポリマーと比較して高価であり、
さらにペリクル使用時に行われるエアーブローなどにお
いて膜が伸びやすいという欠点がある。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明はこのような不
利、問題点を解決したペリクルに関するものであり、こ
れはノルボルネン誘導体を含む単量体から重合されたポ
リマーをペリクル膜材料としてなることを特徴とするも
のである。

【０００６】すなわち、本発明者らは非晶質フッ素系ポ
リマーからなるペリクルの不利を解決し得る新種のペリ
クルを開発すべく種々検討した結果、ノルボルネン誘導
体ポリマーからペリクル膜を作成してこの物性をしらべ
たところ、このものは非晶質フッ素系ポリマーに比べて
安価であるし、これはエアーブローに対する耐性もセル
ロース系ポリマー以上の性能を有していることを見出す
と共に、このノルボルネン誘導体からなるポリマーはそ
の水添率を99.0％以上とすると光線透過率および耐光性
が飛躍的に上昇することを確認して本発明を完成させ
た。以下にこれをさらに詳述する。

【０００７】

【作用】本発明は新種のペリクルに関するもので、これ
は前記したようにノルボルネン誘導体を含む単量体から
重合されたポリマーをペリクル膜材料としてなることを
特徴とするものであるが、このものは非晶質フッ素系ポ
リマーに比べて安価であるし、エアーブローに対する耐
性もすぐれており、ガス圧が3.0kgfまでは膜が伸びた
り、破れたりすることもなく、さらには光線透過率、耐
光性もすぐれているので、 350nmよりも長波長の露光光
源のリソグラフィー工程に利用可能で、液晶の一括露光
方式のような大型ペリクルの用途にも好適とされるとい
う有利性をもつものである。

【０００８】本発明で使用されるノルボルネン自体は式
C₇H₁₀で示されるbycyclo [2,2,1]-2-heptene の慣用名
である公知のもので、これはシクロペンタジエンにエチ
レンを付加させるか、２，５−ジクロロノルボルネンを
脱塩素化することによって得ることができるが、このも
のは分子中に反応性に富む二重結合を有しているので、
水素添加、臭化水素、チオクレゾールなどの付加で誘導
体とされるが、このノルボルネン誘導体を含む単量体か
ら重合されたポリマーも各種市販されており、これにつ
いてはZEONEX［日本ゼオン（株）製商品名］などが公知
とされており、本発明のペリクル素材として好ましい物
質とされる。

【０００９】本発明のペリクルは、このノルボルネン誘
導体を含む単量体から重合されたポリマーをキシレンな
どの溶媒に溶解した溶液を、石英基板上にスピンコータ
ーで塗布して透明膜を形成させ、乾燥することによって
ペリクル膜とし、ついでこれを公知の方法に従ってペリ
クル枠上に貼り合わせてペリクルとすればよい。

【００１０】

【実施例】つぎに本発明の実施例、比較例をあげる。 実施例１ ノルボルネン誘導体より合成された重合体・ZEONEX：TD
001 （水添率99.0％以上）［日本ゼオン（株）製商品
名］をキシレンに溶解し濃度８％の溶液を調製し、この
溶液を直径 200mm、厚さ３mmの表面研磨した石英基板面
に、スピンコーターを用いて膜厚が 1.5μｍの透明膜を
形成させ、 150℃で15分間乾燥してペリクル膜を形成し
た。

【００１１】ついで、ペリクルフレームとしてアルマイ
ト処理をした 120mm角のアルミニウムフレームの上面に
エポキシ系接着剤、アラルダイトXNR3506 ［日本チバガ
イギー（株）製商品名］を塗布し先に得たペリクル膜を
貼り合わせ、そして80℃、１時間で硬化させてペリクル
を作成した。つぎにこのペリクルをノズルの吹き出し口
が直径１mmのようなエアーガンを用いて、ノズル先端か
ら膜までの距離は10mm、ブロー時間10秒、ガス圧を0.5k
gf刻みで上昇させてエアーブローテストを行ない、ブロ
ー後の膜の状態を観察したところ、後記する表１に示し
たとおりの結果が得られ、このものはガス圧3.0kgfまで
変化せず、3.5kgfで膜が破れ、またこれについては垂直
に距離10mmのところに波長 365nmの光線を当て、膜表面
の光線の強度を20mW/cm²として耐光テストを行なったと
ころ、後記する表２に示したとおりの結果が得られ、こ
れは 700時間経過後も変化のないことが確認された。

【００１２】実施例２ 実施例１で使用したZEONEX：TD001 をノルボルネン誘導
体から合成された重合体・ZEONEX250 （水添率99.0％未
満）［日本ゼオン（株）製商品名］としたほかは実施例
１と同様に処理してペリクルを作成し、これについて実
施例１と同じ方法でエアーブローテスト、耐光テストを
行なったところ、後記する表１、表２に示したとおりの
結果が得られた。

【００１３】比較例１〜２ 比較のために実施例１で使用したZEONEX：TD001 の代わ
りに、テトラフルオロエチレンと環状パーフルオロエー
テル基を有する非フッ素系ポリマー・サイトップCTXSタ
イプ［旭硝子（株）製商品名］をその溶剤 CT Solv 180
［旭硝子（株）製商品名］に溶解して濃度６％の溶液を
調製し、これを実施例１と同様に処理して厚さ 1.6μｍ
のペリクル（比較例１）を作成すると共に、プロピオン
酸セルロースを用いて公知の方法で厚さ 1.4μｍのペリ
クル（比較例２）を作成し、これらについて実施例１と
同様の方法でエアーブローテストを行なったところ、つ
ぎの表１に示したとおりの結果が得られ、比較例１のも
のは2.5kgfで膜が伸び、比較例１、比較例２のものはい
ずれも3.0kgfで膜が破れた。

【００１４】

【表１】

【表２】

【００１５】

【発明の効果】本発明はノルボルネン誘導体を含む単量
体から重合されたポリマーをペリクル膜材料としてなる
ペリクルに関するものであるが、このペリクルにはエア
ーブローに対する耐性がすぐれており、耐光性もすぐれ
ているので実用上有用とされるという有利性をもつもの
である。

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ノルボルネン誘導体を含む単量体から重
   合されたポリマーをペリクル膜材料としたことを特徴と
   するペリクル。
2. 【請求項２】 ノルボルネン誘導体を含む単量体から重
   合されたポリマーの水添率が99.0％以上であることを特
   徴とする請求項１に記載のペリクル。