JPH0796258A - 超音波洗浄装置 - Google Patents
超音波洗浄装置Info
- Publication number
- JPH0796258A JPH0796258A JP24254293A JP24254293A JPH0796258A JP H0796258 A JPH0796258 A JP H0796258A JP 24254293 A JP24254293 A JP 24254293A JP 24254293 A JP24254293 A JP 24254293A JP H0796258 A JPH0796258 A JP H0796258A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquid
- deaeration
- cleaning
- cleaning tank
- dissolved gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Degasification And Air Bubble Elimination (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 液体中の酸素を初めとする溶存気体を除去し
洗浄効率を向上させる。 【構成】 脱気部と超音波発生部を洗浄槽部内に収容し
て、液体中に固体を浸漬し、液体中を進行する超音波で
固体を洗浄するようにした装置である。
洗浄効率を向上させる。 【構成】 脱気部と超音波発生部を洗浄槽部内に収容し
て、液体中に固体を浸漬し、液体中を進行する超音波で
固体を洗浄するようにした装置である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は液体中の溶存気体の脱気
に優れる新規な超音波洗浄装置に関する。
に優れる新規な超音波洗浄装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の超音波洗浄装置は、洗浄槽部内に
超音波発生部を設け、超音波発生部で発生した超音波
を、洗浄槽内の液体中伝搬により洗浄すべき固体に照射
し、更に洗浄効率の向上を目的として、液体中の酸素を
初めとする溶存気体を除去する為、超音波洗浄装置の洗
浄槽部外に脱気部を設けるのが一般的である（特開平４
−３４１３４１号公報等）。
超音波発生部を設け、超音波発生部で発生した超音波
を、洗浄槽内の液体中伝搬により洗浄すべき固体に照射
し、更に洗浄効率の向上を目的として、液体中の酸素を
初めとする溶存気体を除去する為、超音波洗浄装置の洗
浄槽部外に脱気部を設けるのが一般的である（特開平４
−３４１３４１号公報等）。
【０００３】この脱気による洗浄効率の向上は、洗浄槽
部内の液体に対する超音波のキャビテーションによる、
気泡の負圧膨張と次の圧縮の衝撃による固体表面洗浄作
用を有効に利用する為、液体中の溶存気体を脱気するこ
とにより達成する。
部内の液体に対する超音波のキャビテーションによる、
気泡の負圧膨張と次の圧縮の衝撃による固体表面洗浄作
用を有効に利用する為、液体中の溶存気体を脱気するこ
とにより達成する。
【０００４】この脱気により、超音波による投入エネル
ギーが液体中の溶存気体の圧縮、膨張に使われることが
少なくなり、結果として洗浄すべき固体に照射する超音
波エネルギーの割合が増加する。
ギーが液体中の溶存気体の圧縮、膨張に使われることが
少なくなり、結果として洗浄すべき固体に照射する超音
波エネルギーの割合が増加する。
【０００５】然し乍ら、超音波洗浄装置の洗浄槽部外に
脱気部を設ける場合、洗浄槽内の液体を脱気部に送り出
し又戻す為、従来の洗浄槽を改造するか或は新たに脱気
部付きの洗浄槽を製作する必要があった。
脱気部を設ける場合、洗浄槽内の液体を脱気部に送り出
し又戻す為、従来の洗浄槽を改造するか或は新たに脱気
部付きの洗浄槽を製作する必要があった。
【０００６】液体が例えば半導体製造工程で使用する純
水等の場合、洗浄に使用する液体を洗浄槽部外に循環す
る為に、循環経路管内表面積が槽の内表面積に比較して
大きくなる。更に洗浄水中に不純物が混入する危険性が
ある上に、循環経路管内容積分だけ余分な純水を必要と
する等の問題があった。
水等の場合、洗浄に使用する液体を洗浄槽部外に循環す
る為に、循環経路管内表面積が槽の内表面積に比較して
大きくなる。更に洗浄水中に不純物が混入する危険性が
ある上に、循環経路管内容積分だけ余分な純水を必要と
する等の問題があった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明は脱気の為の液
体循環経路の増加を最小限にとどめ乍ら、液体中の酸素
を初めとする溶存気体を除去し、洗浄効率の向上を可能
とする超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
体循環経路の増加を最小限にとどめ乍ら、液体中の酸素
を初めとする溶存気体を除去し、洗浄効率の向上を可能
とする超音波洗浄装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、洗浄槽
部内に脱気部と超音波発生部を収容したことを特徴とす
る液体中に固体を浸漬し、液体中を進行する超音波で固
体を洗浄する超音波洗浄装置にある。
部内に脱気部と超音波発生部を収容したことを特徴とす
る液体中に固体を浸漬し、液体中を進行する超音波で固
体を洗浄する超音波洗浄装置にある。
【０００９】以下図面により本発明を具体的に説明す
る。図１は、本発明の超音波洗浄装置の一例を示すブロ
ック図である。
る。図１は、本発明の超音波洗浄装置の一例を示すブロ
ック図である。
【００１０】図１に於て、超音波発生部２と脱気部１０
は、洗浄槽部１内にそれぞれ配置されている。脱気部１
０は、液体循環ポンプ１１、脱気ポンプ１２及び脱気モ
ジュール１３からなる。洗浄槽部１内には、更に超音波
による投入エネルギーを洗浄すべき固体に照射するため
の液体３と、洗浄すべき固体５を入れている。
は、洗浄槽部１内にそれぞれ配置されている。脱気部１
０は、液体循環ポンプ１１、脱気ポンプ１２及び脱気モ
ジュール１３からなる。洗浄槽部１内には、更に超音波
による投入エネルギーを洗浄すべき固体に照射するため
の液体３と、洗浄すべき固体５を入れている。
【００１１】ここで超音波発生部２から出射した超音波
エネルギーは、液体３により伝搬され洗浄すべき固体５
に照射される。洗浄すべき固体５を洗浄槽部１内に固定
する為の洗浄フックなどは省略している。
エネルギーは、液体３により伝搬され洗浄すべき固体５
に照射される。洗浄すべき固体５を洗浄槽部１内に固定
する為の洗浄フックなどは省略している。
【００１２】洗浄槽部１内に配置した脱気部１０では、
液体循環ポンプ１１により、洗浄槽部１内の液体３を脱
気部１０内の脱気モジュール１３に内部灌流し循環する
と同時に、脱気ポンプ１２により脱気モジュール１３に
気化した溶存気体４を外部灌流するよう真空吸引し、液
体３内の溶存気体４を液体３外に脱気する。
液体循環ポンプ１１により、洗浄槽部１内の液体３を脱
気部１０内の脱気モジュール１３に内部灌流し循環する
と同時に、脱気ポンプ１２により脱気モジュール１３に
気化した溶存気体４を外部灌流するよう真空吸引し、液
体３内の溶存気体４を液体３外に脱気する。
【００１３】図１には記していないが、脱気部１０内の
脱気モジュール１３に内部灌流し循環する液体３中に含
まれる不純物を取り除く為のフィルタを、脱気モジュー
ル１３内に装備している。
脱気モジュール１３に内部灌流し循環する液体３中に含
まれる不純物を取り除く為のフィルタを、脱気モジュー
ル１３内に装備している。
【００１４】液体３中の溶存気体４についても、脱気部
１０内の溶存気体４の濃度勾配表示以外は表記していな
い（丸印の多少が溶存気体の濃度の大小を表してい
る）。
１０内の溶存気体４の濃度勾配表示以外は表記していな
い（丸印の多少が溶存気体の濃度の大小を表してい
る）。
【００１５】尚脱気部１０内の液体循環ポンプ１１、脱
気ポンプ１２は、ロータリ式水用ポンプ、ダイヤフラム
摺動式真空ポンプを初めとして、他種のポンプ、アスピ
レータ等が使用される。
気ポンプ１２は、ロータリ式水用ポンプ、ダイヤフラム
摺動式真空ポンプを初めとして、他種のポンプ、アスピ
レータ等が使用される。
【００１６】図２は、液体３に純水を使用した時の、脱
気部１０内脱気モジュール１３の内部斜視図である。脱
気用中空糸膜を使用し、洗浄槽部１内の液体３を液体循
環ポンプ１１で内部灌流、気化した液体３（純水）と溶
存気体４を脱気ポンプ１２にて外部灌流するよう真空吸
引する。
気部１０内脱気モジュール１３の内部斜視図である。脱
気用中空糸膜を使用し、洗浄槽部１内の液体３を液体循
環ポンプ１１で内部灌流、気化した液体３（純水）と溶
存気体４を脱気ポンプ１２にて外部灌流するよう真空吸
引する。
【００１７】本発明に用いる脱気用中空糸膜としては、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテ
ン−１等のポリオレフィン；テトラフルオロエチレンや
フッ化ビニリデン等のフッ素系ポリマー；ポリスチレ
ン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリエーテルケトン
等の疎水性高分子よりなる多孔質中空糸膜が好ましい。
この場合中空糸膜の細孔内部に水が侵入するのを防ぐた
めに表面の水の濡れ特性として接触角が大きいほど良
く、９０°より大きいことが好ましい。また、多孔質中
空糸膜の細孔径が小さいほど表面張力により孔内に水が
侵入しにくいことから、細孔径が０．０５μｍ以下のも
のが好ましい。
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ４−メチルペンテ
ン−１等のポリオレフィン；テトラフルオロエチレンや
フッ化ビニリデン等のフッ素系ポリマー；ポリスチレ
ン；ポリエーテルエーテルケトン；ポリエーテルケトン
等の疎水性高分子よりなる多孔質中空糸膜が好ましい。
この場合中空糸膜の細孔内部に水が侵入するのを防ぐた
めに表面の水の濡れ特性として接触角が大きいほど良
く、９０°より大きいことが好ましい。また、多孔質中
空糸膜の細孔径が小さいほど表面張力により孔内に水が
侵入しにくいことから、細孔径が０．０５μｍ以下のも
のが好ましい。
【００１８】このような疎水性の多孔質中空糸膜を用い
ても長時間連続して使用すると水蒸気が疎水性中空糸膜
細孔内部に凝縮して細孔内部が完全に水に埋もれてしま
い、その結果水が中空糸膜から漏れてしまう危険性があ
る。従って、多孔質中空糸膜の膜構造としては、均質層
をその両側から多孔質層で挟み込んだ三層構造のものが
より好ましい。この場合、均質層を構成する素材の酸素
透過速度が０．８×１０-5ｃｍ3 （ＳＴＰ）／ｃｍ2 ・
ｓｅｃ・ｃｍＨｇ以上の性能を有するものであることが
好ましい。酸素透過速度が０．８×１０-5ｃｍ3 （ＳＴ
Ｐ）／ｃｍ2 ・ｓｅｃ・ｃｍＨｇ未満では溶存酸素の均
質膜を透過する速度が遅く効率的に溶存酸素を除去する
ことができない。
ても長時間連続して使用すると水蒸気が疎水性中空糸膜
細孔内部に凝縮して細孔内部が完全に水に埋もれてしま
い、その結果水が中空糸膜から漏れてしまう危険性があ
る。従って、多孔質中空糸膜の膜構造としては、均質層
をその両側から多孔質層で挟み込んだ三層構造のものが
より好ましい。この場合、均質層を構成する素材の酸素
透過速度が０．８×１０-5ｃｍ3 （ＳＴＰ）／ｃｍ2 ・
ｓｅｃ・ｃｍＨｇ以上の性能を有するものであることが
好ましい。酸素透過速度が０．８×１０-5ｃｍ3 （ＳＴ
Ｐ）／ｃｍ2 ・ｓｅｃ・ｃｍＨｇ未満では溶存酸素の均
質膜を透過する速度が遅く効率的に溶存酸素を除去する
ことができない。
【００１９】このような複合中空糸膜は、例えば特公平
３−４４８１１号公報等に記載された方法により多重円
筒型の紡糸ノズルを用いて均質層を形成するポリマーと
多孔質層を形成するポリマーとを交互に配置し溶融紡糸
し、次いで均質層を多孔質化することなく多孔質層とな
る部分だけを多孔質化する条件で延伸する方法により製
造される。
３−４４８１１号公報等に記載された方法により多重円
筒型の紡糸ノズルを用いて均質層を形成するポリマーと
多孔質層を形成するポリマーとを交互に配置し溶融紡糸
し、次いで均質層を多孔質化することなく多孔質層とな
る部分だけを多孔質化する条件で延伸する方法により製
造される。
【００２０】均質層を構成するポリマー素材としては、
ガス透過性の優れたシリコンゴム系ポリマーを初めとし
て、ポリジメチルシロキサン、シリコンとポリカーボネ
ートの共重合体等のシリコンゴム系ポリマー、ポリ４−
メチルペンテン−１、低密度ポリエチレン等のポリオレ
フィン系ポリマー、パーフルオロアルキル系ポリマー等
のフッ素含有ポリマー、エチルセルロース等セルロース
系ポリマー、ポリフェニレンオキサイド、ポリ−４−ビ
ニルビリジン、ウレタン系ポリマー及びこれらポリマー
素材の共重合体或はブレンド体等の各種ポリマーを挙げ
ることができる。また、多孔質層を構成するポリマー素
材としては、前述したポリオレフィン等の疎水性高分子
が用いられる。
ガス透過性の優れたシリコンゴム系ポリマーを初めとし
て、ポリジメチルシロキサン、シリコンとポリカーボネ
ートの共重合体等のシリコンゴム系ポリマー、ポリ４−
メチルペンテン−１、低密度ポリエチレン等のポリオレ
フィン系ポリマー、パーフルオロアルキル系ポリマー等
のフッ素含有ポリマー、エチルセルロース等セルロース
系ポリマー、ポリフェニレンオキサイド、ポリ−４−ビ
ニルビリジン、ウレタン系ポリマー及びこれらポリマー
素材の共重合体或はブレンド体等の各種ポリマーを挙げ
ることができる。また、多孔質層を構成するポリマー素
材としては、前述したポリオレフィン等の疎水性高分子
が用いられる。
【００２１】図１に示したように、脱気部１０全体を洗
浄槽部１内にほぼ収容したことにより、本発明は気体の
為の液体循環経路の増加を最小限にとどめた上に、洗浄
効率の向上により液体中の酸素を初めとする溶存気体を
効率よく除去することが可能となる。
浄槽部１内にほぼ収容したことにより、本発明は気体の
為の液体循環経路の増加を最小限にとどめた上に、洗浄
効率の向上により液体中の酸素を初めとする溶存気体を
効率よく除去することが可能となる。
【００２２】
【発明の効果】本発明によると、脱気の為の液体循環経
路の増加を最小限にとどめることができ、然も液体中の
酸素を初めとする溶存気体を除去できるので、洗浄効率
の向上した超音波洗浄装置を提供することができる。
路の増加を最小限にとどめることができ、然も液体中の
酸素を初めとする溶存気体を除去できるので、洗浄効率
の向上した超音波洗浄装置を提供することができる。
【図１】本発明の超音波洗浄装置の一例を示すブロック
図である。
図である。
【図２】脱気モジュールの内部斜視図である。
【図３】中空糸膜の断面図である。
１ 洗浄槽部 ２ 超音波発生部 ３ 液体 ４ 溶存気体 ５ 洗浄すべき固体 １０ 脱気部 １１ 液体循環ポンプ １２ 脱気ポンプ １３ 脱気モジュール １４ 中空糸膜 １５ 接着部
Claims (1)
- 【請求項１】 洗浄槽部内に脱気部と超音波発生部を収
容したことを特徴とする液体中に固体を浸漬し、液体中
を進行する超音波で固体を洗浄する超音波洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24254293A JPH0796258A (ja) | 1993-09-29 | 1993-09-29 | 超音波洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24254293A JPH0796258A (ja) | 1993-09-29 | 1993-09-29 | 超音波洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0796258A true JPH0796258A (ja) | 1995-04-11 |
Family
ID=17090663
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24254293A Pending JPH0796258A (ja) | 1993-09-29 | 1993-09-29 | 超音波洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0796258A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7111632B2 (en) | 2003-09-22 | 2006-09-26 | Seagate Technology Llc | Ultrasonic cleaning device for removing undesirable particles from an object |
| US7726325B2 (en) * | 2005-06-21 | 2010-06-01 | Kaijo Corporation | Deaeration device and ultrasonic cleaning device using the same |
| JP2016155197A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | コニカミノルタ株式会社 | ワイヤーソー及び切断方法 |
-
1993
- 1993-09-29 JP JP24254293A patent/JPH0796258A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7111632B2 (en) | 2003-09-22 | 2006-09-26 | Seagate Technology Llc | Ultrasonic cleaning device for removing undesirable particles from an object |
| US7726325B2 (en) * | 2005-06-21 | 2010-06-01 | Kaijo Corporation | Deaeration device and ultrasonic cleaning device using the same |
| US8087418B2 (en) | 2005-06-21 | 2012-01-03 | Kaijo Corporation | Deaeration device and ultrasonic cleaning device using the same |
| JP2016155197A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | コニカミノルタ株式会社 | ワイヤーソー及び切断方法 |
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